JP2004146651A5 - - Google Patents
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本発明の一態様として、基板がフラットパネルディスプレイ用の多面取り型マザー基板である場合は、基板上の各パネル領域に対応させて塗布領域を設定してよい。別の態様として、基板が各画素毎に薄膜トランジスタ(TFT)を有するTFT液晶ディスプレイ用の基板である場合は、基板上の各TFT領域に対応させて塗布領域を設定してよい。さらに、基板が各画素毎に赤色、緑色もしくは青色の着色層を有するカラーフィルタ用の基板である場合は、各々の着色層毎に基板上の各画素領域に対応させて塗布領域を設定してよい。
また、本発明の別の観点によるレジスト塗布方法は、長尺状のインクジェットノズルを走査させつつ前記インクジェットノズルからレジスト液を吐出してフラットパネルディスプレイ用の多面取り型マザー基板上にレジスト液を塗布するレジスト塗布方法であって、前記基板上の複数のパネル領域にそれぞれ対応し、かつ各々が各対応するパネル領域より僅かにはみ出て隣同士では隙間を形成する複数の塗布領域を設定し、各々の前記塗布領域内でレジスト液をほぼ均一な膜厚で塗布する。このレジスト塗布方法によれば、各々の塗布領域内のレジスト液の移動やより戻しを小さくして、膜厚の均一性を向上させることができる。なお、各塗布領域は1つまたは複数のパネル領域と対応することができる。
上記レジスト塗布方法の好ましい一態様によれば、前記インクジェットノズルの走査方向後方にレジスト液を乾燥させるための乾燥手段を配置し、前記インクジェットノズルと一緒に前記乾燥手段を走査させて塗布直後のレジスト液を乾燥させる。このように、レジスト塗布工程の中で塗布直後のレジスト液をある程度まで乾かすことにより、後続の乾燥処理における乾燥時間を短縮することができる。
インタフェースステーション(I/F)18は、隣接する露光装置12と基板Gのやりとりを行うための搬送装置104を有し、その周囲にバッファ・ステージ(BUF)106、エクステンション・クーリングステージ(EXT・COL)108および周辺装置110を配置している。バッファ・ステージ(BUF)106には定置型のバッファカセット(図示せず)が置かれる。エクステンション・クーリングステージ(EXT・COL)108は、冷却機能を備えた基板受け渡し用のステージであり、プロセスステーション(P/S)16側と基板Gをやりとりする際に用いられる。周辺装置110は、たとえばタイトラー(TITLER)と周辺露光装置(EE)とを上下に積み重ねた構成であってよい。搬送装置104は、基板Gを保持できる手段としてたとえば搬送アーム104aを有し、隣接する露光装置12や各ユニット(BUF)106、(EXT・COL)108、(TITLER/EE)110と基板Gの受け渡しを行えるようになっている。
プロセスステーション(P/S)16では、第2の熱的処理部30において搬送機構90がエクステンション・クーリングステージ(EXT・COL)108より露光済の基板Gを受け取り、プロセスラインB側の多段ユニット部(TB)92内のパスユニット(PASS)を介して現像プロセス部32へ受け渡す。
減圧乾燥ユニット(VD)84は、上面が開口しているトレーまたは底浅容器型の下部チャンバ118と、この下部チャンバ118の上面に気密に密着または嵌合可能に構成された蓋状の上部チャンバ120とを有している。下部チャンバ118はほぼ四角形で、中心部には基板Gを水平に載置して支持するためのステージ122が配設され、底面の四隅には排気口126が設けられている。下部チャンバ118の下から各排気口126に接続する排気管128は真空ポンプ(図示せず)に通じている。下部チャンバ118に上部チャンバ120を被せた状態で、両チャンバ118,120内の処理空間を該真空ポンプにより所定の真空度まで減圧できるようになっている。
図14に示すように、TFT液晶ディスプレイにおいてはガラス基板上の各画素領域内にフォトリソグラフィー技術を用いてTFT(Thin Film Transistor)からなるアクティブ素子161とITO(Indium Tin Oxide)からなる透明電極163とが設けられる。アクティブ素子領域またはTFT領域には、アモルファスシリコン膜またはポリシリコン膜からなるSi薄膜が形成されるとともに、このSi薄膜の上または下にゲート絶縁膜を介してゲート電極が形成され、ゲート電極の左右両側にてシリコン薄膜中に不純物拡散領域(ソース・ドレイン)が作り込まれる。
図16に、本発明のレジスト塗布方法を用いて基板G上の各TFT領域にSi薄膜を形成するフォトリソグラフィー工程の手順を模式的に示す。図16の(A)に示すように、主面全体にSi薄膜165が形成されている基板Gに対して本発明のレジスト塗布工程により各TFT領域をカバーする塗布領域Eにだけ限定的にレジスト膜Rを形成する。次に、露光工程では、図16の(B)に示すように、基板G上の離散的な各レジスト膜Rに限定してフォトマスク167のパターンを露光する。ここで、フォトマスク167のパターンは、各レジスト膜Rの領域内にTFT領域を区画するように設定される。したがって、現像処理を行うと、図16の(C)に示すように、基板G上には各TFT領域の区画に対応する離散的なレジスト膜R'が残る。これにより、エッチング工程では、図16の(D)に示すように、このレジスト膜R'をマスクとして下地層のSi膜165がエッチングされる。最後に、アッシングによってレジストマスクR'を剥離すると、図16の(E)に示すように、基板G上には各TFT領域の区画に対応する離散的なSi膜領域165'が形成される。
従来は、基板上に塗布するに際して基板全面にカラーレジスト液を塗布した。しかし、本発明によれば、図17の(A)に示すように、たとえば赤色のカラーレジスト液を塗布するときは基板G上に各赤色画素の領域をカバーする離散的な塗布領域Eを設定し、塗布領域Eにのみ限定的または局所的にカラーレジスト液を塗布する。露光工程では、図17の(B)に示すように、フォトマスク169を介して赤色画素の領域を区画するパターンを塗布領域Eに露光する。その結果、図17の(C)に示すように、基板G上の赤色画素領域に赤色画素R'が形成される。同様にして、緑色および青色の画素も形成される(図17の(D))。
Claims (13)
- フォトリソグラフィー工程において被処理基板上にレジスト液を塗布するレジスト塗布方法であって、
前記基板上に実質的に分離独立した複数の塗布領域を設定する工程と、
前記基板に対して前記塗布領域に限定してレジスト液を塗布する工程と
を有するレジスト塗布方法。 - 前記塗布領域内では前記レジスト液をほぼ一定の膜厚で領域全体を覆うように塗布する請求項1に記載のレジスト塗布方法。
- 前記基板がフラットパネルディスプレイ用の多面取り型のマザー基板であり、前記塗布領域設定工程では前記基板上の各パネル領域に対応させて前記塗布領域が設定される請求項1または2に記載のレジスト塗布方法。
- 前記基板が各画素毎に薄膜トランジスタ(TFT)を有するTFT液晶ディスプレイ用の基板であり、前記塗布領域設定工程では前記基板上の各TFT領域に対応させて前記塗布領域が設定される請求項1または2に記載のレジスト塗布方法。
- 前記基板が各画素毎に赤色、緑色もしくは青色の着色層を有するカラーフィルタ用の基板であり、前記塗布領域設定工程では各々の着色層毎に前記基板上の各画素領域に対応させて前記塗布領域が設定される請求項1または2に記載のレジスト塗布方法。
- レジスト液吐出動作を各々独立して制御できるように構成された複数のノズル部を一定間隔で配置してなるレジストノズルヘッドと、
被処理基板に対して前記レジストノズルヘッドを相対的に走査移動させる走査手段と、
前記基板上に実質的に分離独立した複数の塗布領域を設定する塗布領域設定手段と、
前記基板に対して前記塗布領域に限定してレジスト液を塗布するように前記レジストノズルヘッドにおける前記ノズル部のレジスト液吐出動作を制御するレジスト液吐出制御手段と
を有するレジスト塗布装置。 - 前記走査手段が、前記基板に対して前記レジストノズルヘッドを前記ノズル部の配列方向と直交する第1の方向に相対的に移動させる第1の走査部と、前記基板に対して前記レジストノズルヘッドを前記ノズル部の配列方向と平行な第2の方向に相対的に移動させる第2の走査部とを有する請求項6に記載のレジスト塗布装置。
- 前記基板上に塗布された直後のレジスト液を加熱して乾燥させる乾燥手段を有し、前記乾燥手段を前記走査手段により前記レジストノズルヘッドと一緒に走査移動させる請求項6または7に記載のレジスト塗布装置。
- 前記基板がフラットパネルディスプレイ用の多面取り型マザー基板であり、前記塗布領域設定手段が前記基板上の各パネル領域に対応させて前記塗布領域を設定する請求項6〜8のいずれか一項に記載のレジスト塗布装置。
- 前記基板が各画素毎に薄膜トランジスタ(TFT)を有するTFT液晶ディスプレイ用の基板であり、前記塗布領域設定手段が前記基板上の各TFT領域に対応させて前記塗布領域を設定する請求項6〜8のいずれか一項記載のレジスト塗布装置。
- 前記基板が各画素毎に赤色、緑色もしくは青色の着色層を有するカラーフィルタ用の基板であり、前記塗布領域設定手段が各々の着色層毎に前記基板上の各画素領域に対応させて前記塗布領域を設定する請求項6〜8のいずれか一項に記載のレジスト塗布装置。
- 長尺状のインクジェットノズルを走査させつつ前記インクジェットノズルからレジスト液を吐出してフラットパネルディスプレイ用の多面取り型マザー基板上にレジスト液を塗布するレジスト塗布方法であって、
前記基板上の複数のパネル領域にそれぞれ対応し、かつ各々が各対応するパネル領域より僅かにはみ出て隣同士では隙間を形成する複数の塗布領域を設定し、各々の前記塗布領域内でレジスト液をほぼ一定の膜厚で塗布するレジスト塗布方法。 - 前記インクジェットノズルの走査方向後方にレジスト液を乾燥させる ための乾燥手段を配置し、前記インクジェットノズルと一緒に前記乾燥手段を走査させて塗布直後のレジスト液を乾燥させる請求項12に記載のレジスト塗布方法。
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