JP2000193815A - カラ―フィルタの製造方法およびカラ―フィルタ - Google Patents
カラ―フィルタの製造方法およびカラ―フィルタInfo
- Publication number
- JP2000193815A JP2000193815A JP36926498A JP36926498A JP2000193815A JP 2000193815 A JP2000193815 A JP 2000193815A JP 36926498 A JP36926498 A JP 36926498A JP 36926498 A JP36926498 A JP 36926498A JP 2000193815 A JP2000193815 A JP 2000193815A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- color filter
- application
- black matrix
- coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/201—Filters in the form of arrays
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 カラーフィルタの材料コストの低減および耐
久性の向上を図る。 【解決手段】 一枚の基板上に複数枚のカラーフィルタ
を形成する工程において前記基板上に塗布材料を塗布す
る際、該塗布材料を前記基板のスクライブラインで区割
りされる区画の内側部分などの有効部にのみ塗布する。
久性の向上を図る。 【解決手段】 一枚の基板上に複数枚のカラーフィルタ
を形成する工程において前記基板上に塗布材料を塗布す
る際、該塗布材料を前記基板のスクライブラインで区割
りされる区画の内側部分などの有効部にのみ塗布する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、カラーテレビ、パ
ーソナルコンピュータ、パチンコ遊戯台等に使用される
カラーフィルタの製造方法に関する。
ーソナルコンピュータ、パチンコ遊戯台等に使用される
カラーフィルタの製造方法に関する。
【０００２】
【従来技術】従来は、特開平８−２６４９２３号公報の
ようにスピンコートした基板の周辺部を、有機溶剤等で
洗浄し、周辺処理を行なっていた。この場合、端面処理
装置等の別装置が必要となるとともに、別プロセスも必
要となるため、カラーフィルタの製造コストアップとな
るとともに、歩留まりを低下させる原因となる。
ようにスピンコートした基板の周辺部を、有機溶剤等で
洗浄し、周辺処理を行なっていた。この場合、端面処理
装置等の別装置が必要となるとともに、別プロセスも必
要となるため、カラーフィルタの製造コストアップとな
るとともに、歩留まりを低下させる原因となる。
【０００３】また、特開平９−１８７７１０号公報のよ
うにスリットコータを用いた塗布は、必然的に端部を額
縁状に残した形で、材料を塗布するため、上記端面処理
が不必要となる。しかし、カラーフィルタ形成後の基板
を切断し、所定の大きさのカラーフィルタを得る場合、
切断された不要部の表面にも塗布膜が形成されており、
材料の無駄が多い。また、切り離したガラスを再処理す
るとき、材料によっては環境に悪影響のあるガスを発生
する可能性がある。また、多層に積層された構成のカラ
ーフィルタは、切断面に下層材料の断面が露出するた
め、下層材料の耐久性が劣る場合は、製品としての不具
合を生じかねない。
うにスリットコータを用いた塗布は、必然的に端部を額
縁状に残した形で、材料を塗布するため、上記端面処理
が不必要となる。しかし、カラーフィルタ形成後の基板
を切断し、所定の大きさのカラーフィルタを得る場合、
切断された不要部の表面にも塗布膜が形成されており、
材料の無駄が多い。また、切り離したガラスを再処理す
るとき、材料によっては環境に悪影響のあるガスを発生
する可能性がある。また、多層に積層された構成のカラ
ーフィルタは、切断面に下層材料の断面が露出するた
め、下層材料の耐久性が劣る場合は、製品としての不具
合を生じかねない。
【０００４】このほか、カラーフィルタをパネル化する
際に、液晶駆動基板とカラーフィルタ基板を張り合わせ
る必要が有る。この時、一般的な接着剤は、ガラスに対
して接着性が高いが保護層などの有機皮膜に対しては接
着力が低い。そこで、特開平６−１０９９２０号公報で
は、シール領域を研磨して、感光性樹脂の残渣を除去す
る方法が取られている。この方法では、材料の無駄が発
生するとともに、研磨を行なう際、水を使用するため、
染料等の水溶性物質を使用したカラーフィルタには展開
が難しい。
際に、液晶駆動基板とカラーフィルタ基板を張り合わせ
る必要が有る。この時、一般的な接着剤は、ガラスに対
して接着性が高いが保護層などの有機皮膜に対しては接
着力が低い。そこで、特開平６−１０９９２０号公報で
は、シール領域を研磨して、感光性樹脂の残渣を除去す
る方法が取られている。この方法では、材料の無駄が発
生するとともに、研磨を行なう際、水を使用するため、
染料等の水溶性物質を使用したカラーフィルタには展開
が難しい。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述の従来
例における問題点に鑑みてなされたもので、カラーフィ
ルタの材料コストの低減および耐久性の向上を図ること
を目的とする。
例における問題点に鑑みてなされたもので、カラーフィ
ルタの材料コストの低減および耐久性の向上を図ること
を目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明では、一枚の基板上に複数枚のカラーフィルタを
形成する工程において前記基板上に塗布材料を塗布する
際、該塗布材料を前記基板の有効部にのみ塗布すること
を特徴とする。
本発明では、一枚の基板上に複数枚のカラーフィルタを
形成する工程において前記基板上に塗布材料を塗布する
際、該塗布材料を前記基板の有効部にのみ塗布すること
を特徴とする。
【０００７】
【作用】上記構成によれば、塗布材料を有効部にのみ塗
布するため、パネル化する際、張り合わせ面に付着した
塗布材料を除去する工程が不要であり、かつ材料の無駄
がない。また、複数層からなるカラーフィルタであって
もスクライブした際に切断面に下側または内側の露出す
れば耐久性に欠ける層が露出しないため、カラーフィル
タとしての耐久性が向上する。
布するため、パネル化する際、張り合わせ面に付着した
塗布材料を除去する工程が不要であり、かつ材料の無駄
がない。また、複数層からなるカラーフィルタであって
もスクライブした際に切断面に下側または内側の露出す
れば耐久性に欠ける層が露出しないため、カラーフィル
タとしての耐久性が向上する。
【０００８】
【発明の実施の形態】上記目的を達成するため本発明の
実施の一形態では、クロムもしくは樹脂製のブラックマ
トリクスが形成されたガラス基板上に顔料分散カラーレ
ジストもしくは保護層材料等を塗布する工程において、
または基板上に樹脂ブラックマトリクスレジストを塗布
する工程において、塗布材料を基板の有効部にのみ塗布
することを特徴とする。有効部とは、例えばブラックマ
トリクスが形成された部分、基板を切断するための基準
マーク（スクライブマーク）によって区割りされた各区
画の内側部分である。
実施の一形態では、クロムもしくは樹脂製のブラックマ
トリクスが形成されたガラス基板上に顔料分散カラーレ
ジストもしくは保護層材料等を塗布する工程において、
または基板上に樹脂ブラックマトリクスレジストを塗布
する工程において、塗布材料を基板の有効部にのみ塗布
することを特徴とする。有効部とは、例えばブラックマ
トリクスが形成された部分、基板を切断するための基準
マーク（スクライブマーク）によって区割りされた各区
画の内側部分である。
【０００９】塗布は、好ましくはスリットコータを用
い、塗布スリットに画像認識機構を設けてスクライブマ
ークまたはブラックマトリクスパターンのエッジを認識
することにより、基板の有効部を判別して塗布する。上
記画像認識機構はスリットコータと基板の相対進行方向
に対して、スリットの進行方向に配置する。
い、塗布スリットに画像認識機構を設けてスクライブマ
ークまたはブラックマトリクスパターンのエッジを認識
することにより、基板の有効部を判別して塗布する。上
記画像認識機構はスリットコータと基板の相対進行方向
に対して、スリットの進行方向に配置する。
【００１０】スリットコータは、基板とスリットの隙間
間隔を調整することにより、塗布方向の塗布膜の有り無
しを決定することが出来る。また、塗布幅方向の塗布膜
の有り無しは、スリットの形状で制御することが可能で
ある。
間隔を調整することにより、塗布方向の塗布膜の有り無
しを決定することが出来る。また、塗布幅方向の塗布膜
の有り無しは、スリットの形状で制御することが可能で
ある。
【００１１】以下、本発明の実施の形態をさらに詳しく
説明する。図１は本発明の好ましい実施の形態に係るカ
ラーフィルタの模式断面図を示す。同図において、１は
ガラス基板、２はブラックマトリクス（非画素領域）、
３は樹脂層（インク受容層）、３ａは樹脂層のインク受
容層部分より硬化した部分、４は混色防止層、５はイン
クである。
説明する。図１は本発明の好ましい実施の形態に係るカ
ラーフィルタの模式断面図を示す。同図において、１は
ガラス基板、２はブラックマトリクス（非画素領域）、
３は樹脂層（インク受容層）、３ａは樹脂層のインク受
容層部分より硬化した部分、４は混色防止層、５はイン
クである。
【００１２】図２は図１のカラーフィルタの製造工程図
である。まず、フォトリソ技術を用いてガラス基板１上
の非画素領域に黒色含量を分散した樹脂またはＣｒ等の
遮光材によるブラックマトリクス（ＢＭ）２を形成す
る。次に、所定の樹脂組成物を塗布し、必要に応じてプ
リベークし、インク受容層３および混色防止壁４を構成
するための樹脂層を形成する。上記樹脂組成物は、光照
射または光照射と加熱によって硬化または変性可能で、
硬化または変性の程度に応じてインク受容性が低下する
もので、例えばアクリル系樹脂、エポキシ樹脂、シリコ
ン樹脂、ならびにヒドロキシプロピルセルロース、ヒド
ロキシエチルセルロース、メチルセルロースおよびカル
ボキシメチルセルロース等のセルロース誘導体またはそ
の変性物等を用いることができる。
である。まず、フォトリソ技術を用いてガラス基板１上
の非画素領域に黒色含量を分散した樹脂またはＣｒ等の
遮光材によるブラックマトリクス（ＢＭ）２を形成す
る。次に、所定の樹脂組成物を塗布し、必要に応じてプ
リベークし、インク受容層３および混色防止壁４を構成
するための樹脂層を形成する。上記樹脂組成物は、光照
射または光照射と加熱によって硬化または変性可能で、
硬化または変性の程度に応じてインク受容性が低下する
もので、例えばアクリル系樹脂、エポキシ樹脂、シリコ
ン樹脂、ならびにヒドロキシプロピルセルロース、ヒド
ロキシエチルセルロース、メチルセルロースおよびカル
ボキシメチルセルロース等のセルロース誘導体またはそ
の変性物等を用いることができる。
【００１３】次に、ブラックマトリクス２により遮光さ
れる部分の樹脂層をフォトマスクを使用してパターン露
光し、さらに加熱（ＰＥＢ）処理して混色防止壁４を形
成する。ここで、露光されなかった部分がインク受容層
３となる。
れる部分の樹脂層をフォトマスクを使用してパターン露
光し、さらに加熱（ＰＥＢ）処理して混色防止壁４を形
成する。ここで、露光されなかった部分がインク受容層
３となる。
【００１４】その後、インクジェットヘッドを用いて
Ｒ、Ｇ、Ｂの各色のインクをそれぞれの画素に対応する
インク受容層３上に付与すると図１の状態になる。さら
に、インクを乾燥、定着して、その上に保護層（不図
示）を塗布してカラーフィルタを形成する。
Ｒ、Ｇ、Ｂの各色のインクをそれぞれの画素に対応する
インク受容層３上に付与すると図１の状態になる。さら
に、インクを乾燥、定着して、その上に保護層（不図
示）を塗布してカラーフィルタを形成する。
【００１５】本発明は、図３に示すように、１枚の基板
上に複数枚のカラーフィルタを形成する際の、上記イン
ク受容層および保護層等の塗布材料を塗布する方法に係
るものである。また、ブラックマトリクス２を形成する
ためのレジストを塗布する際にも本発明は適用すること
ができる。
上に複数枚のカラーフィルタを形成する際の、上記イン
ク受容層および保護層等の塗布材料を塗布する方法に係
るものである。また、ブラックマトリクス２を形成する
ためのレジストを塗布する際にも本発明は適用すること
ができる。
【００１６】図５は本発明に係る塗布方法を実施する際
好ましく用いられるスリットコータの構成を示す。塗布
液は塗布液タンク１１から定量ポンプ１５によって塗布
ヘッド５０に供給される。この定量ポンプとはギヤポン
プ、ダイヤフラムポンプ、シリンジポンプなどの容積式
ポンプを示している。またポンプのほかの塗布液供給機
構として塗布液タンクを加圧容器に入れ、この加圧容器
に対して加圧ポンプにより加圧された気体（空気あるい
は窒素など）を供給することによって塗布液を押し出す
形式も可能である。
好ましく用いられるスリットコータの構成を示す。塗布
液は塗布液タンク１１から定量ポンプ１５によって塗布
ヘッド５０に供給される。この定量ポンプとはギヤポン
プ、ダイヤフラムポンプ、シリンジポンプなどの容積式
ポンプを示している。またポンプのほかの塗布液供給機
構として塗布液タンクを加圧容器に入れ、この加圧容器
に対して加圧ポンプにより加圧された気体（空気あるい
は窒素など）を供給することによって塗布液を押し出す
形式も可能である。
【００１７】また塗布液タンク１１から定量ポンプ１５
までの配管１２の経路には必要に応じて開閉弁１３、フ
ィルタ１４を設けても良い。
までの配管１２の経路には必要に応じて開閉弁１３、フ
ィルタ１４を設けても良い。
【００１８】フロントリップ５１およびリアリップ５２
からなる塗布ヘッド５０には塗布液供給口および塗布液
が塗布液供給口から塗布液スリット５４へと流れる間に
塗布液の圧力分布を均一とさせるためのマニホールド５
３を備えている。
からなる塗布ヘッド５０には塗布液供給口および塗布液
が塗布液供給口から塗布液スリット５４へと流れる間に
塗布液の圧力分布を均一とさせるためのマニホールド５
３を備えている。
【００１９】塗布ヘッド５０に一定の開隙（クリアラン
ス）を介して被塗布基板７を相対して設置する。このク
リアランスは５００μｍから２０μｍの範囲が好まし
い。
ス）を介して被塗布基板７を相対して設置する。このク
リアランスは５００μｍから２０μｍの範囲が好まし
い。
【００２０】基板７は平坦な搬送ステージ８上に設置さ
れており、塗布中にずれることのないよう真空吸着され
ている。
れており、塗布中にずれることのないよう真空吸着され
ている。
【００２１】図１の搬送ステージ８に基板７が搭載され
ると、定量ポンプ１５から塗布ヘッド５０に塗布液の供
給を開始し、直ちにまたは一定時間経過後塗布ヘッド５
０または搬送ステージ８を平行移動する。そして図３の
画像観察系３４が基板７上の１番目のアライメントマー
ク３３ａを検出すると、搬送ステージ８がそこからさら
に所定距離動いて塗布ヘッド５０が塗布開始位置に達し
た時点で、塗布ヘッド５０を所定のクリアランス位置ま
で下降して第１列目のカラーフィルタ３１ａの保護層３
２ａの塗布を開始する。塗布を開始した後、搬送ステー
ジ８が所定の塗布距離を通過すると、塗布ヘッド５０を
上昇して塗布を中断する。さらに２番目のアライメント
マーク３３ｂを検出すると、第１列目のカラーフィルタ
と同様にして第２列目のカラーフィルタの保護層３２ｂ
を塗布し、続いて第３列目のカラーフィルタ３１ｃも同
様にして保護層３２ｃを塗布する。第３列目の塗布終了
直前に定量ポンプ１５からの塗布液の供給を停止し、塗
布終了と同時に塗布ヘッド５０を上昇し、搬送ステージ
８を基板受け渡し位置に移動する。こうして均一な膜厚
分布の保護層（塗膜６）が有効部にのみ塗布される。な
お、塗布ヘッド５０のスリット形状は各行の保護層の幅
のみ塗布が行なわれるように、中央と両端を塞いだ形状
となっている。
ると、定量ポンプ１５から塗布ヘッド５０に塗布液の供
給を開始し、直ちにまたは一定時間経過後塗布ヘッド５
０または搬送ステージ８を平行移動する。そして図３の
画像観察系３４が基板７上の１番目のアライメントマー
ク３３ａを検出すると、搬送ステージ８がそこからさら
に所定距離動いて塗布ヘッド５０が塗布開始位置に達し
た時点で、塗布ヘッド５０を所定のクリアランス位置ま
で下降して第１列目のカラーフィルタ３１ａの保護層３
２ａの塗布を開始する。塗布を開始した後、搬送ステー
ジ８が所定の塗布距離を通過すると、塗布ヘッド５０を
上昇して塗布を中断する。さらに２番目のアライメント
マーク３３ｂを検出すると、第１列目のカラーフィルタ
と同様にして第２列目のカラーフィルタの保護層３２ｂ
を塗布し、続いて第３列目のカラーフィルタ３１ｃも同
様にして保護層３２ｃを塗布する。第３列目の塗布終了
直前に定量ポンプ１５からの塗布液の供給を停止し、塗
布終了と同時に塗布ヘッド５０を上昇し、搬送ステージ
８を基板受け渡し位置に移動する。こうして均一な膜厚
分布の保護層（塗膜６）が有効部にのみ塗布される。な
お、塗布ヘッド５０のスリット形状は各行の保護層の幅
のみ塗布が行なわれるように、中央と両端を塞いだ形状
となっている。
【００２２】なお、上述においては、画像観察系３４に
よりアライメントマークを検出して、有効部を判別して
いるが、図４に示すように、ブラックマトリクスパター
ンのエッジを認識することにより、基板の有効部を判別
するようにしてもよい。例えば、図４において、ブラッ
クマトリクス２の移動方向およびそれと直角方向のエッ
ジを認識し、移動方向のエッジＡ，Ａと直角方向のエッ
ジＢ，Ｂの中心線を基準位置としてコーナ部の位置検出
を行ない、ヘッド５またはステージ８をコントロールす
る。
よりアライメントマークを検出して、有効部を判別して
いるが、図４に示すように、ブラックマトリクスパター
ンのエッジを認識することにより、基板の有効部を判別
するようにしてもよい。例えば、図４において、ブラッ
クマトリクス２の移動方向およびそれと直角方向のエッ
ジを認識し、移動方向のエッジＡ，Ａと直角方向のエッ
ジＢ，Ｂの中心線を基準位置としてコーナ部の位置検出
を行ない、ヘッド５またはステージ８をコントロールす
る。
【００２３】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。 （実施例１）日本合成ゴム株式会社製オプトマ−ＳＳ０
６９９Ｇエポキシ系重合体からなる熱硬化性樹脂組成物
を塗料として採用し、５５０ｍｍ×６５０ｍｍ×０．７
ｍｍの無アルカリガラス基板１７３７（コーニング製）
に十字マークのアライメントマークを設けたクロムマト
リクス基板に、インクジェット法にてカラーフィルタを
形成した基板を、被塗布材として使用し、スリットギャ
ップを５０μｍ、クリアランスを７５μｍに設定して塗
布を行なった。クロムマトリクス基板は１２．１”のカ
ラーフィルタを６面取りとした。定量ポンプ１５として
はダイヤフラムポンプを用いた。
６９９Ｇエポキシ系重合体からなる熱硬化性樹脂組成物
を塗料として採用し、５５０ｍｍ×６５０ｍｍ×０．７
ｍｍの無アルカリガラス基板１７３７（コーニング製）
に十字マークのアライメントマークを設けたクロムマト
リクス基板に、インクジェット法にてカラーフィルタを
形成した基板を、被塗布材として使用し、スリットギャ
ップを５０μｍ、クリアランスを７５μｍに設定して塗
布を行なった。クロムマトリクス基板は１２．１”のカ
ラーフィルタを６面取りとした。定量ポンプ１５として
はダイヤフラムポンプを用いた。
【００２４】基板搬送ステージ８の駆動には高精度サー
ボモータを採用した。前述のオーバーコート用塗料を塗
料タンク１１に仕込み、予め口金に至るまでの送液路内
を塗料で満たした。口金のフロントリップ面、リアリッ
プ面の幅はともに０．５ｍｍのものを用いた。
ボモータを採用した。前述のオーバーコート用塗料を塗
料タンク１１に仕込み、予め口金に至るまでの送液路内
を塗料で満たした。口金のフロントリップ面、リアリッ
プ面の幅はともに０．５ｍｍのものを用いた。
【００２５】あらかじめ、画像観察系３５によりアライ
メントマーク３３（３３ａ〜３３ｂ）を自動認識させ、
塗り始め位置を記憶させる。そこへ、基板７を移動さ
せ、熱硬化性樹脂を塗布する。
メントマーク３３（３３ａ〜３３ｂ）を自動認識させ、
塗り始め位置を記憶させる。そこへ、基板７を移動さ
せ、熱硬化性樹脂を塗布する。
【００２６】基板搬送速度１２ｍｍ／ｓｅｃ、３２．８
μｌ／ｓｅｃの吐出レートとし、塗布開始点および終了
点が基板端部より１．０ｍｍ内側となるように塗布し
た。
μｌ／ｓｅｃの吐出レートとし、塗布開始点および終了
点が基板端部より１．０ｍｍ内側となるように塗布し
た。
【００２７】その後、１２．１”ブラックマトリクス幅
を塗布した後、塗布へッドを上部に逃がし、第２のアラ
イメントマーク３３ｂを認識させる。
を塗布した後、塗布へッドを上部に逃がし、第２のアラ
イメントマーク３３ｂを認識させる。
【００２８】以上の工程を繰り返し、第３のブラックマ
トリクスエリア３１ｃを塗布した後、得られた塗布基板
をホットプレートにて９０℃で２０分焼成を行ない塗膜
を得た。 （実施例２）新日鐵化学社製樹脂ブラックレジストＢＫ
−７３９Ｐを塗料として採用し、５５０ｍｍ×６５０ｍ
ｍ×０．７ｍｍの無アルカリガラス基板１７３７（コー
ニング製）を被塗布材として使用し、スリットギャップ
を５０μｍ、クリアランスを７５μｍに設定して塗布を
行なった。
トリクスエリア３１ｃを塗布した後、得られた塗布基板
をホットプレートにて９０℃で２０分焼成を行ない塗膜
を得た。 （実施例２）新日鐵化学社製樹脂ブラックレジストＢＫ
−７３９Ｐを塗料として採用し、５５０ｍｍ×６５０ｍ
ｍ×０．７ｍｍの無アルカリガラス基板１７３７（コー
ニング製）を被塗布材として使用し、スリットギャップ
を５０μｍ、クリアランスを７５μｍに設定して塗布を
行なった。
【００２９】塗布領域は、あらかじめ１２．１”６面取
りの配置を記憶させ塗布領域に対して、塗布へッド５を
基板に近接し、また、非塗布領域に対してはへッド５を
上部に逃がし、ブラックマトリクス形成部のみ塗布を行
なった。その後、乾燥、露光、現像工程を経てブラック
マトリクス基板を得た。
りの配置を記憶させ塗布領域に対して、塗布へッド５を
基板に近接し、また、非塗布領域に対してはへッド５を
上部に逃がし、ブラックマトリクス形成部のみ塗布を行
なった。その後、乾燥、露光、現像工程を経てブラック
マトリクス基板を得た。
【００３０】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、塗布材料
を有効部にのみ塗布するようにしたため、材料コストを
低減することができ、さらに、スクライブによって保護
層が切断されず耐久性を向上させることができた。
を有効部にのみ塗布するようにしたため、材料コストを
低減することができ、さらに、スクライブによって保護
層が切断されず耐久性を向上させることができた。
【図１】 本発明の好ましい実施の形態に係るカラーフ
ィルタの模式断面図である。
ィルタの模式断面図である。
【図２】 図１のカラーフィルタの製造工程図である。
【図３】 本発明の一実施例に係る塗布方法の説明図で
ある。
ある。
【図４】 本発明の他の実施例に係る塗布方法の説明図
である。
である。
【図５】 上記実施例で用いられるスリットコータの構
成図である。
成図である。
１：ガラス基板、２：ブラックマトリクス（非画素領
域）、３：インク受容層、４：混色防止壁、５：イン
ク、６：塗膜、７：被塗工材、８：搬送ステージ、１
１：塗布液タンク、１２：配管、１３：開閉弁、１４：
フィルタ、１５：定量ポンプ、５０：塗布ヘッド、５
１：フロントリップ、５２：リアリップ、５３：マニホ
ールド、５４：スリット。
域）、３：インク受容層、４：混色防止壁、５：イン
ク、６：塗膜、７：被塗工材、８：搬送ステージ、１
１：塗布液タンク、１２：配管、１３：開閉弁、１４：
フィルタ、１５：定量ポンプ、５０：塗布ヘッド、５
１：フロントリップ、５２：リアリップ、５３：マニホ
ールド、５４：スリット。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小久保 智 東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノ ン株式会社内 (72)発明者 小佐野 永人 東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノ ン株式会社内 Ｆターム(参考） 2H025 AB13 AD01 CC12 DA19 DA39 DA40 EA04 FA37 2H048 BA45 BA64 BB02 BB14 BB23 BB37 BB42 4D075 AC02 AD02 CA48 DB13 DC21 EA45
Claims (8)
- 【請求項１】 一枚の基板上に複数枚のカラーフィルタ
を形成する工程において前記基板上に塗布材料を塗布す
る際、該塗布材料を前記基板の有効部にのみ塗布するこ
とを特徴とするカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項２】 前記基板はクロムまたは樹脂製のブラッ
クマトリクスが形成されたガラス基板であり、前記有効
部が該ブラックマトリクスが形成された部分であり、前
記塗布材料が顔料分散カラーレジストまたは保護層材料
であることを特徴とする請求項１記載の製造方法。 - 【請求項３】 前記基板がガラス基板であり、前記有効
部が該ガラス基板上に樹脂製のブラックマトリクスを製
造する工程において該ブラックマトリクスを設ける部分
であり、前記塗布材料がレジスト材料であることを特徴
とする請求項１記載の製造方法。 - 【請求項４】 スリットコータを用い、該スリットコー
タの塗布スリットに画像認識機構を設け、前記ブラック
マトリクスパターンのエッジを認識することにより、基
板の有効部を判別して塗布することを特徴とする請求項
１または２記載の製造方法。 - 【請求項５】 上記有効部が、基板を切断するための基
準マークによって区割りされた各区画の内側部分である
ことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の製造
方法。 - 【請求項６】 スリットコータを用い、該スリットコー
タの塗布スリットに画像認識機構を設け、前記基準マー
クを認識することにより、基板の有効部を判別して塗布
することを特徴とする請求項５記載の製造方法。 - 【請求項７】 前記画像認識機構はスリットコータと基
板の相対進行方向に対して、スリットの進行方向に配置
することを特徴とする請求項４または６記載の製造方
法。 - 【請求項８】 請求項１〜７のいずれかに記載の方法に
より製造されたことを特徴とするカラーフィルタ。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36926498A JP2000193815A (ja) | 1998-12-25 | 1998-12-25 | カラ―フィルタの製造方法およびカラ―フィルタ |
| US09/468,865 US20020119246A1 (en) | 1998-12-25 | 1999-12-21 | Method for producing color filter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36926498A JP2000193815A (ja) | 1998-12-25 | 1998-12-25 | カラ―フィルタの製造方法およびカラ―フィルタ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000193815A true JP2000193815A (ja) | 2000-07-14 |
Family
ID=18493989
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36926498A Pending JP2000193815A (ja) | 1998-12-25 | 1998-12-25 | カラ―フィルタの製造方法およびカラ―フィルタ |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20020119246A1 (ja) |
| JP (1) | JP2000193815A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20040036534A (ko) * | 2002-10-25 | 2004-04-30 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 레지스트 도포방법 및 레지스트 도포장치 |
| JP2005000887A (ja) * | 2003-06-16 | 2005-01-06 | Inoue Kinzoku Kogyo Co Ltd | 塗工方法及び塗工装置 |
| JP2008170967A (ja) * | 2007-11-30 | 2008-07-24 | Seiko Epson Corp | 吐出装置、液状体の吐出方法、ならびに光学部材の製造方法 |
| JP2009101354A (ja) * | 2008-12-01 | 2009-05-14 | Seiko Epson Corp | 光学部材の製造装置 |
| CN110658681A (zh) * | 2018-06-29 | 2020-01-07 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 光刻方法以及光刻系统 |
| CN113524906A (zh) * | 2020-04-17 | 2021-10-22 | 松下知识产权经营株式会社 | 工作台装置及印刷装置 |
| US11513083B2 (en) | 2018-06-29 | 2022-11-29 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Photolithography method and photolithography system |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2379412A (en) * | 2001-09-10 | 2003-03-12 | Seiko Epson Corp | Deposition of soluble materials |
| JP2003246632A (ja) * | 2002-02-25 | 2003-09-02 | Canon Inc | 波長より微細な周期構造の製造方法及び光学素子 |
| TWI244941B (en) * | 2005-02-01 | 2005-12-11 | Univ Tsinghua | Apparatus and process for block coating |
| TWI439739B (zh) * | 2011-11-17 | 2014-06-01 | E Ink Holdings Inc | 彩色濾光片及顯示裝置 |
| CN102436151B (zh) * | 2011-12-22 | 2015-02-25 | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 | 光刻版图的形成方法 |
| TWI625248B (zh) * | 2014-06-30 | 2018-06-01 | 石井表記股份有限公司 | 噴墨塗佈液控制裝置 |
-
1998
- 1998-12-25 JP JP36926498A patent/JP2000193815A/ja active Pending
-
1999
- 1999-12-21 US US09/468,865 patent/US20020119246A1/en not_active Abandoned
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20040036534A (ko) * | 2002-10-25 | 2004-04-30 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 레지스트 도포방법 및 레지스트 도포장치 |
| JP2005000887A (ja) * | 2003-06-16 | 2005-01-06 | Inoue Kinzoku Kogyo Co Ltd | 塗工方法及び塗工装置 |
| JP2008170967A (ja) * | 2007-11-30 | 2008-07-24 | Seiko Epson Corp | 吐出装置、液状体の吐出方法、ならびに光学部材の製造方法 |
| JP2009101354A (ja) * | 2008-12-01 | 2009-05-14 | Seiko Epson Corp | 光学部材の製造装置 |
| CN110658681A (zh) * | 2018-06-29 | 2020-01-07 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 光刻方法以及光刻系统 |
| CN110658681B (zh) * | 2018-06-29 | 2022-10-11 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 光刻方法以及光刻系统 |
| US11513083B2 (en) | 2018-06-29 | 2022-11-29 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Photolithography method and photolithography system |
| US11959864B2 (en) | 2018-06-29 | 2024-04-16 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Photolithography method and photolithography system |
| CN113524906A (zh) * | 2020-04-17 | 2021-10-22 | 松下知识产权经营株式会社 | 工作台装置及印刷装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20020119246A1 (en) | 2002-08-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2000193815A (ja) | カラ―フィルタの製造方法およびカラ―フィルタ | |
| US6277529B1 (en) | Color filter manufacture method and liquid crystal display using color filters manufactured by the method | |
| JPH0558898B2 (ja) | ||
| US20080000374A1 (en) | Printing apparatus, patterning method, and method of fabricating liquid crystal display device using the same | |
| US8601945B2 (en) | Printing device, patterning method using the same, and method of fabricating a liquid crystal display device using the same | |
| JP2003066218A (ja) | カラーフィルタの欠陥修復方法 | |
| KR20070057494A (ko) | 액정표시장치의 컬러필터와 배향막 통합형성장치 및통합형성방법 | |
| JP4169476B2 (ja) | 画像の凸版印刷を行なうための複合印刷版 | |
| KR100352962B1 (ko) | 칼라 필터의 제조 방법 및 이 제조 방법으로 제조된 칼라 필터를 구비한 액정 소자 | |
| JPH09127327A (ja) | カラーフィルタの製造方法及びそれを用いた液晶表示素子 | |
| JP2001091724A (ja) | カラーフィルタおよびその製造方法 | |
| JP2001272526A (ja) | カラーフィルタおよびその製造方法 | |
| US6386084B1 (en) | Method for cutting substrate | |
| JPH0895024A (ja) | カラーフィルター、その製造方法、及び同カラーフィルターを組込んだ液晶表示パネル | |
| JP2882376B2 (ja) | 液晶パネルの封孔方法 | |
| KR101921741B1 (ko) | 다층 유기박막 코팅용 슬롯 다이 헤드 및 그 제조 방법 | |
| JP2000280234A (ja) | 基板の切断方法 | |
| JPH07152038A (ja) | 液晶パネル用スペーサーの形成方法 | |
| JP2001166316A (ja) | カラーフィルタとその製造方法、該カラーフィルタを用いた液晶素子 | |
| JP2001272527A (ja) | カラーフィルタおよびその製造方法 | |
| US6287636B1 (en) | Coating apparatus and method utilizing a diluent and a method for producing a color filter substrate | |
| US11926157B2 (en) | Photoresist imaging and development for enhanced nozzle plate adhesion | |
| JPH0990117A (ja) | カラーフィルタの製造方法 | |
| JP2001272528A (ja) | カラーフィルタおよびその製造方法 | |
| JP2000157907A (ja) | 枚葉塗工方法及び枚葉塗工装置、カラーフィルタの製造方法 |