CN106292185A - 涂布机及光阻涂布方法 - Google Patents

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袁夏梁
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Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
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    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs

Abstract

本发明提供一种涂布机，用于向包括对位标记区的基板上涂布光阻，包括喷头和控制部，所述喷头包括喷头本体，以及排列在所述喷头本体的底面上的多个喷嘴，所述喷头本体用于容纳光阻，所述喷嘴设有开关阀，所述控制部与所述开关阀电连接，所述控制部能够控制所述喷嘴的所述开关阀进行打开或者闭合。根据本发明的涂布机能够有效解决BOA技术中光阻层对位问题，提升BOA产品的对比度。本发明还提供一种光阻涂布方法。

Description

涂布机及光阻涂布方法
技术领域
本发明涉及显示器制作技术领域，尤其是一种涂布机及光阻涂布方法。
背景技术
在现有的TFT-LCD(ThinFilmTransistorLiquid Crystal Display,薄膜晶体管液晶显示器)产品的生产制程中，曝光制程是其必要过程。
在LCD制备过程中，BOA(BM OnArray，阵列上黑色矩阵)技术因其对开口率的提升以及在曲面面板制备中的优势，越来越受到行业内的关注。BOA技术中的BM(Black matrix，黑色矩阵)制程是在色层制备之后才进行，若BM层与常规制程的BM相同的光学密度，则在做曝光制程时，机台对位光源无法穿透BM层进行对位，故目前传统作法是降低BM的光学密度，如降低BM膜厚或光阻的碳含量等，这样会导致产品对比度下降。
发明内容
本发明提供一种涂布机和光阻涂布方法，能够有效解决BOA技术中光阻层对位问题，提升BOA产品的对比度。
本发明提供一种涂布机，用于向包括对位标记区的基板上涂布光阻，其特征在于，包括喷头和控制部，所述喷头包括喷头本体，以及排列在所述喷头本体的底面上的多个喷嘴，所述喷头本体用于容纳所述光阻，所述喷嘴设有开关阀，所述控制部与所述开关阀电连接，所述控制部能够控制所述喷嘴的所述开关阀进行打开或者闭合，以使得所述喷嘴向所述基板上的除所述对位标记区以外的指定区域涂布所述光阻。
其中，所述基板包括指定区域和位于所述指定区域外围的对位标记区，所述控制部包括指令获取单元、分析单元和控制单元，所述指令获取单元获取用户输入的指令，所述指令包括所述基板上的所述指定区域的位置信息，进而将所述指定区域的所述位置信息发送至所述分析单元，所述分析单元分析得出位于所述指定区域上方的所述喷嘴的位置，并且所述喷嘴的位置传递至所述控制单元，所述控制单元打开位于所述指定区域上方的所述开关阀，从而向所述指定区域上涂布所述光阻。
其中，所述多个喷嘴呈线性分布。
其中，所述多个喷嘴呈点阵式分布。
其中，所述对位标记区设有对位标记，所述指定区域为有效显示区，所述喷嘴会向所述有效显示区上涂布光阻。
本发明还提供一种光阻涂布方法，包括以下步骤：提供涂布机和待涂布的基板，所述涂布机通过基板上的对位标记与所述基板进行对位；调整所述涂布机的喷头与所述基板之间的距离；通过控制部对所述喷头的多个喷嘴中的开关阀的控制，所述喷嘴从竖直方向上向水平放置的所述基板上的除定位标记区以外的指定区域上涂布光阻；当所述基板上的所述指定区域上的光阻厚度达到预定值时，所述控制部控制所述喷嘴停止涂布，并将所述喷头向上移动以远离所述基板，从而完成所述光阻的涂布。
其中，所述基板包括指定区域和位于所述指定区域外围的对位标记区，所述控制部包括指令获取单元、分析单元和控制单元，所述指令获取单元获取用户输入的指令，所述指令包括所述基板上的所述指定区域的位置信息，进而将所述指定区域的所述位置信息发送至所述分析单元，所述分析单元分析得出位于所述指定区域上方的所述喷嘴的位置，并且所述喷嘴的位置传递至所述控制单元，所述控制单元打开位于所述指定区域上方的所述开关阀，从而向所述指定区域上涂布所述光阻。
其中，所述多个喷嘴呈线性分布。
其中，所述多个喷嘴呈点阵式分布。
其中，所述对位标记区设有对位标记，所述指定区域为有效显示区，所述喷嘴会向所述有效显示区上涂布光阻。
相较于现有技术，根据本发明的涂布机中的喷头的底面设有多个喷嘴，该多个喷嘴中设有开关阀，通过控制部对开关阀的控制，多个喷嘴能够向基板上除定位标记以外的指定区域上涂布光阻，避免对位标记区被光阻覆盖，无需为了曝光制程中机台对位光源能够穿透光阻层，而降低光阻层的对比度，因而能够有效解决BOA技术中光阻层对位问题，提升BOA产品的对比度。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是根据本发明的涂布机的喷头的一个角度上的立体结构示意图；
图2是根据本发明的涂布机的喷头的另一个角度上的立体结构示意图；
图3是图1和图2的涂布机的控制部的电路结构示意图；
图4是涂布有BM层的基板的平面示意图；
图5是涂布有BM层的另一种基板的平面示意图；
图6是根据本发明的光阻涂布方法的流程图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请一并参阅图1至图4，示出根据本发明的涂布机的喷头1，该喷头1用于向基板2上涂布光阻3，喷头1包括喷头本体101，以及排列在喷头本体101的底面上的多个喷嘴102，喷头本体101用于容纳光阻3，光阻3一般为光刻胶，而基板2包括有效显示区201和对位标记区202，如图所示，有效显示区201用于涂布光阻，而对位标记区202位于有效显示区201的外围，对位标记区202上设有多个对位标记22。涂布机还包括控制部4，该控制部4能够控制多个喷嘴102中的部分喷嘴向基板2的有效显示区201上涂布光阻3，以形成BM层。
具体地，喷嘴102设有开关阀(未示出)，该开关阀与控制部电连接，控制部能够控制喷嘴102的开关阀的打开或闭合。当涂布光阻时，位于基板的对位标记区202上方的喷嘴102闭合，而位于有效显示区201上方的喷嘴102打开，从而完成有效显示区201上方光阻3的涂覆，具体地，如图3所示，控制部4包括指令获取单元401、分析单元402和控制单元403，指令获取单元401获取用户输入的指令，该指令包括基板2上的有效显示区201的位置信息，进而将有效显示区201的位置信息发送至分析单元402，因而确定涂布时位于有效显示区201上方的喷嘴102，并且喷嘴102的位置信息传递至控制单元403，控制单元403会打开位于有效显示区201上方的开关阀，从而向有效显示区201上涂布光阻3。根据本发明的涂布机同时能够避免对位标记区202上的对位标记22被光阻3覆盖，避免现有技术中的整面基板涂布方式，无需为了曝光制程中机台对位光源能够穿透BM层，而降低BM层的对比度，因此，根据本发明的涂布机能够有效地完成基板2的有效显示区201的涂布，并且能够保证有效显示区201上的光阻3的对比度。
当然，指令获取单元401获取的用户指令可以包含位于有效显示区201上方的喷嘴102的位置信息，指令获取单元401进一步将该指令发送至控制单元403，控制单元403会打开位于有效显示区201上方的开关阀，从而向有效显示区201上涂布光阻3。此时，上述分析单元402可以省略。
在图1和图2中，根据本发明的涂布机的喷头1的喷嘴102呈点阵式分布，每一行喷嘴102的数量相同，同一行中的喷嘴102之间的间距相同，并且相邻行的喷嘴102对齐设置，从而能够便于光阻3的均匀涂布。
可选地，喷头1的底面上的喷嘴102呈线性分布，即仅设置一行喷嘴102，其中喷嘴102之间的间距相等，当喷头1在图1所示的箭头表示的涂布方向上，单行喷嘴102也能完成基板2上的光阻3的涂布，单行喷嘴102的设置能够节省喷嘴102的数量，节省成本。
优选地，相邻行的喷嘴102之间交错排布，因而能够进一步确保光阻3涂布的均匀性。
当然，根据实际需要，每一行喷嘴102之间的间距也可以不同，并且喷嘴102也可以为其他排布方式，例如矩形排布等。
参阅图4，示出涂布有BM层的基板2的平面示意图，该基板2包括与图3中的箭头表示的涂布方向平行的对位标记22，该基板2的对位标记区22位于基板2的两端及中间位置。当用涂布机涂布光阻3时，控制部控制对位标记区202上方的喷嘴102中的开关阀闭合，不进行涂布工作，同时控制部控制有效显示区201上方的喷嘴102中的开关阀打开，向基板2的有效显示区201上涂布光阻3，因此能够避免对位标记区202上的对位标记22被光阻3覆盖，避免现有技术中的整面基板涂布方式，无需为了曝光制程中机台对位光源能够穿透BM层，而降低BM层的对比度，所以，根据本发明的涂布机能够有效地完成基板2的有效显示区201的涂布，并且能够保证有效显示区201上的光阻3的对比度。
参阅图5，示出涂布有BM层的另一种基板2’的平面示意图，该基板2’包括与图4的箭头表示的涂布方向平行以及垂直的对位标记22’，当用涂布机涂布光阻3’时，控制部控制对位标记区202’上方的喷嘴102中的开关阀闭合，不进行涂布工作，同时控制部控制有效显示区201’上方的喷嘴102中的开关阀打开，向基板2’的有效显示区201’上涂布光阻3’，因此能够避免对位标记区202’上的对位标记22’被光阻3’覆盖，避免现有技术中的整面基板涂布方式，无需为了曝光制程中机台对位光源能够穿透BM层，而降低BM层的对比度，所以，根据本发明的涂布机能够有效地完成基板2’的有效显示区201’的涂布，并且能够保证有效显示区201’上的光阻3’的对比度。
当然，本实施例中提供的基板2和2’可以为玻璃基板，也可以为其他材料的透明基板，这里不再一一举例。
参阅图6，示出根据本发明的涂布光阻的方法的流程图，该方法包括以下步骤：提供涂布机和待涂布的基板2，涂布机通过基板2上的对位标记22与基板2进行对位；调整涂布机的喷头1与基板2之间的距离；通过控制部对喷头1的多个喷嘴102中的开关阀的控制，喷嘴102从竖直方向上向水平放置的基板2上的除定位标记区202以外的指定区域上涂布光阻；当基板2上的指定区域上的光阻厚度达到预定值时，控制部控制喷嘴102停止涂布，并将喷头1向上移动以远离基板2，从而完成光阻3的涂布。
以上所揭露的仅为本发明较佳实施例而已，当然不能以此来限定本发明之权利范围，本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分流程，并依本发明权利要求所作的等同变化，仍属于发明所涵盖的范围。

Claims (10)

1.一种涂布机，用于向基板上涂布光阻，其特征在于，包括喷头和控制部，所述喷头包括喷头本体，以及排列在所述喷头本体的底面上的多个喷嘴，所述喷头本体用于容纳光阻，所述喷嘴设有开关阀，所述控制部与所述开关阀电连接，所述控制部能够控制所述喷嘴的所述开关阀进行打开或者闭合。
2.如权利要求1所述的涂布机，其特征在于，所述基板包括指定区域和位于所述指定区域外围的对位标记区，所述控制部包括指令获取单元、分析单元和控制单元，所述指令获取单元获取用户输入的指令，所述指令包括所述基板上的所述指定区域的位置信息，进而将所述指定区域的所述位置信息发送至所述分析单元，所述分析单元分析得出位于所述指定区域上方的所述喷嘴的位置，并且所述喷嘴的位置传递至所述控制单元，所述控制单元打开位于所述指定区域上方的所述开关阀，从而向所述指定区域上涂布所述光阻。
3.如权利要求2所述的涂布机，其特征在于，所述多个喷嘴呈线性分布。
4.如权利要求2所述的涂布机，其特征在于，所述多个喷嘴呈点阵式分布。
5.如权利要求1至4任一项所述的涂布机，其特征在于，所述对位标记区设有对位标记，所述指定区域为有效显示区。
6.一种光阻涂布方法，其特征在于，包括以下步骤：
提供涂布机和待涂布的基板，所述涂布机通过基板上的对位标记与所述基板进行对位；
调整所述涂布机的喷头与所述基板之间的距离；
通过控制部对所述喷头的多个喷嘴中的开关阀的控制，所述喷嘴从竖直方向上向水平放置的所述基板上的除定位标记区以外的指定区域上涂布光阻；
当所述基板上的所述指定区域上的光阻厚度达到预定值时，所述控制部控制所述喷嘴停止涂布，并将所述喷头向上移动以远离所述基板，从而完成所述光阻的涂布。
7.如权利要求6所述的光阻涂布方法，其特征在于，所述基板包括指定区域和位于所述指定区域外围的对位标记区，所述控制部包括指令获取单元、分析单元和控制单元，所述控制部包括指令获取单元、分析单元和控制单元，所述指令获取单元获取用户输入的指令，所述指令包括所述基板上的所述指定区域的位置信息，进而将所述指定区域的所述位置信息发送至所述分析单元，所述分析单元分析得出位于所述指定区域上方的所述喷嘴的位置，并且所述喷嘴的位置传递至所述控制单元，所述控制单元打开位于所述指定区域上方的所述开关阀，从而向所述指定区域上涂布所述光阻。
8.如权利要求7所述的光阻涂布方法，其特征在于，所述多个喷嘴呈线性分布。
9.如权利要求7所述的光阻涂布方法，其特征在于，所述多个喷嘴呈点阵式分布。
10.如权利要求6至9任一项所述的光阻涂布方法，其特征在于，所述对位标记区设有对位标记，所述指定区域为有效显示区，所述喷嘴会向所述有效显示区上涂布光阻。
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