JP2004142982A - 磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスおよび磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスおよび磁気ヘッド Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004142982A JP2004142982A JP2002308206A JP2002308206A JP2004142982A JP 2004142982 A JP2004142982 A JP 2004142982A JP 2002308206 A JP2002308206 A JP 2002308206A JP 2002308206 A JP2002308206 A JP 2002308206A JP 2004142982 A JP2004142982 A JP 2004142982A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- gap
- glass
- magnetic head
- weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/23—Gap features
- G11B5/235—Selection of material for gap filler
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/062—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
- C03C3/064—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing boron
- C03C3/066—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing boron containing zinc
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/24—Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions, i.e. for use as seals between dissimilar materials, e.g. glass and metal; Glass solders
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
【課題】磁気ヘッドの磁気ギャップを形成する際に、高温による磁気特性劣化防止のため、ＰｂＯを成分とする低融点ガラス３を使用しているが、ＰｂＯを成分とする低融点ガラスは耐水性が劣り、ギャップ材同士の接合強度の信頼性に問題があった。
【解決手段】磁気ギャップを、ＰｂＯを成分としない低融点のホウケイ酸ビスマスガラス３を使用して接合することにより、高温による磁気特性の劣化がない、しかも耐水性に優れているので、耐久性等の信頼性に優れている磁気ヘッドを提供する。
【選択図】 図１
【解決手段】磁気ギャップを、ＰｂＯを成分としない低融点のホウケイ酸ビスマスガラス３を使用して接合することにより、高温による磁気特性の劣化がない、しかも耐水性に優れているので、耐久性等の信頼性に優れている磁気ヘッドを提供する。
【選択図】 図１
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気記録媒体に対する磁気情報の記録・再生に適した磁気ヘッドに関するものであり、磁気ヘッドを構成する磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスに関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、磁気ヘッドは、磁気特性劣化防止の点で、より低温で磁気ギャップを形成できることが望まれている。
【０００３】
一般に、磁気ヘッドはコイルを巻いたリング状の高透磁率磁性体（ヘッドコア）に非常に狭い隙間（磁気ギャップ）を設けたものである。磁気ヘッドの磁気ギャップ部分は、間隙を有する高透磁率磁性体と、この間隙に充填された非磁性材料とで構成されている。
【０００４】
また、ビデオテープレコーダー用磁気ヘッドでは、高透磁率磁性体として、Ｍｎ−Ｚｎフェライト等の酸化物材料、Ｍｎ−Ｚｎフェライトやセラミックス等の酸化物材料と金属磁性薄膜が複合されたもの等が、使用されている。また、間隙の充填材（磁気ギャップ材）として、非磁性金属、金属酸化物、石英ガラス等の高融点ガラス等が、使用されている。
【０００５】
磁気ギャップ形成の一方法として、高透磁率磁性体表面に、非磁性ギャップ材をスパッタまたは、蒸着法で薄膜状に形成して、一対の磁気コア半体とし、さらに、前記一対の磁気コア半体を、ギャップ材同士をつき合わせて接合する方法がある。
【０００６】
磁気コア半体の接合は、ギャップ材同士が融着する温度で行なわれる。この時、高温で融着を行なうと、高透磁率磁性体の特性劣化とギャップ材の変形とが発生し、磁気ヘッド特性が劣化する。そのため、高温による磁気特性劣化の発生を防止する為に、一般に、ギャップ材として図１に示すものがある。図１は磁気コア半体の接合面近傍の要部拡大断面図である。図１に示すように、高透磁率磁性体１に少なくとも第一層目に非磁性物質層２、第二層目にガラス層３を積層し、ガラス層３同士を熱融着により接合し、磁気ギャップを形成する方法が用いられている（例えば特許文献１参照）。
【０００７】
従来、ガラス層３に使用する、接合ガラスとして、ＰｂＯを成分とするガラスが用いられていた。
【０００８】
【特許文献１】
特開平９−２１９００９号公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、ＰｂＯを成分とするガラスは、耐水性が低いという問題点があった。
【００１０】
上述のように、高透磁率磁性体１に少なくとも第一層目に非磁性物質層２、第二層目にガラス層３を積層し、第二層目のガラス層３同士を熱融着により接合してなる、磁気ギャップを有する磁気ヘッドにおいて、ガラス層３にＰｂＯを成分とするガラスを使用した場合、低温で磁気ギャップを形成することができ、高温による磁気特性の劣化の発生を防止することができるが、耐水性が劣り、ギャップ材同士の接合強度の信頼性に問題があった。
【００１１】
本発明は、かかる従来の実状に鑑みて提案されたものであって、磁気ギャップを形成する際の高温による磁気特性劣化の発生を防止することができ、しかも接合強度の点で信頼性に優れた磁気ヘッド用ギャップ接合ガラス及び磁気ヘッドを提供することを目的とするものである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明の磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスは、酸化物換算で、ＳｉＯ２を０．５〜１４重量％、Ｂ２Ｏ３を３〜１５重量％、ＺｎＯを４〜２２重量％、Ｂｉ２Ｏ３を５５〜９０重量％、Ａｌ２Ｏ３を０〜４重量％、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏから選ばれる少なくとも一種を０〜５重量％、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯから選ばれる少なくとも一種を０〜１２重量％含む組成を有するものである。
【００１３】
これにより、磁気ギャップを形成する際の高温による磁気特性劣化の発生を防止することができ、しかも接合強度の点で信頼性に優れた磁気ヘッド用ギャップ接合ガラス及び磁気ヘッドを提供するものである。
【００１４】
【発明の実施の形態】
本発明の請求項１に記載の発明は、酸化物換算で、ＳｉＯ２を０．５〜１４重量％、Ｂ２Ｏ３を３〜１５重量％、ＺｎＯを４〜２２重量％、Ｂｉ２Ｏ３を５５〜９０重量％、Ａｌ２Ｏ３を０〜４重量％、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏから選ばれる少なくとも一種を０〜５重量％、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯから選ばれる少なくとも一種を０〜１２重量％含む組成を有することを特徴とする磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスであって、磁気ギャップを形成する際の高温による磁気特性劣化の発生を防止することができ、しかも接合強度の点で信頼性に優れた磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスを提供するという作用を有する。
【００１５】
本発明の請求項２に記載の発明は、酸化物換算で、ＳｉＯ２を０．５〜１４重量％、Ｂ２Ｏ３を３〜１５重量％、ＺｎＯを４〜２２重量％、Ｂｉ２Ｏ３を５５〜９０重量％、Ａｌ２Ｏ３を０〜４重量％、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏから選ばれる少なくとも一種を０〜５重量％、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯから選ばれる少なくとも一種を０〜１２重量％、Ｓｃ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、ＣｅＯ２、Ｐｒ２Ｏ３、Ｎｄ２Ｏ３、Ｓｍ２Ｏ３、Ｅｕ２Ｏ３、Ｇｄ２Ｏ３、Ｔｂ２Ｏ３、Ｄｙ２Ｏ３、Ｈｏ２Ｏ３、Ｅｒ２Ｏ３、Ｔｍ２Ｏ３、Ｙｂ２Ｏ３およびＬｕ２Ｏ３から選ばれる少なくとも一種を０．１〜１０重量％含む組成を有することを特徴とする磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスであって、磁気ギャップを形成する際の高温による磁気特性劣化の発生を防止することができ、しかも接合強度の点で信頼性に優れた磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスを提供するという作用を有する。
【００１６】
本発明の請求項３に記載の発明は、酸化物換算で、ＳｉＯ２を０．５〜１２重量％、Ｂ２Ｏ３を３〜９重量％、ＺｎＯを４〜１９重量％、Ｂｉ２Ｏ３を５５〜８５重量％、Ａｌ２Ｏ３を０．１〜４重量％、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏから選ばれる少なくとも一種を０〜４重量％（ただし、Ｌｉ２Ｏを０〜２重量％、Ｎａ２Ｏを０〜３重量％、Ｋ２Ｏを０〜４重量％）、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯから選ばれる少なくとも一種を０〜１０重量％（ただし、ＭｇＯを０〜５重量％、ＣａＯを０〜６重量％、ＳｒＯを０〜８重量％、ＢａＯを０〜１０重量％）、Ｓｃ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、ＣｅＯ２、Ｐｒ２Ｏ３、Ｎｄ２Ｏ３、Ｓｍ２Ｏ３、Ｅｕ２Ｏ３、Ｇｄ２Ｏ３、Ｔｂ２Ｏ３、Ｄｙ２Ｏ３、Ｈｏ２Ｏ３、Ｅｒ２Ｏ３、Ｔｍ２Ｏ３、Ｙｂ２Ｏ３およびＬｕ２Ｏ３から選ばれる少なくとも一種を０．１〜１０重量％含む組成を有することを特徴とする磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスであって、磁気ギャップを形成する際の高温による磁気特性劣化の発生を防止することができ、しかも接合強度の点で信頼性に優れた磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスを提供するという作用を有する。
【００１７】
本発明の請求項４に記載の発明は、酸化物換算で、ＺｎＯとＢ２Ｏ３の重量比（ＺｎＯ／Ｂ２Ｏ３）を０．８〜２．８とすることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスあって、磁気ギャップを形成する際の高温による磁気特性劣化の発生を防止することができ、しかも接合強度の点で信頼性に優れた磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスを提供するという作用を有する。
【００１８】
本発明の請求項５に記載の発明は、酸化物換算で、Ａｌ２Ｏ３とＳｉＯ２の重量比（Ａｌ２Ｏ３／ＳｉＯ２）を０．５以下とすることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスであって、磁気ギャップを形成する際の高温による磁気特性劣化の発生を防止することができ、しかも接合強度の点で信頼性に優れた磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスを提供するという作用を有する。
【００１９】
本発明の請求項６に記載の発明は、少なくとも一方に巻線溝を設けた一対の磁気コア半体を、磁気ギャップ材を介して突き合わせ、接合した構造を有する磁気ヘッドであって、前記一対の磁気コア半体が、ギャップ対向面に設けた請求項１〜５のいずれかに記載の磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスで接合されていることを特徴とする磁気ヘッドであって、ＰｂＯを主成分としない低融点のホウケイ酸ガラスを使用して接合されているので、磁気ギャップを形成する際の高温による磁気特性劣化の発生を防止することができ、しかも接合強度の点で信頼性に優れた磁気ヘッドを提供するという作用を有する。
【００２０】
本発明の請求項７に記載の発明は、少なくとも一方に巻線用溝を設け、少なくとも一方のギャップ対向面に金属磁性膜を形成した一対の磁気コア半体を、磁気ギャップ材を介して前記ギャップ対向面を突き合わせ、接合した構造を有する磁気ヘッドであって、前記一対の磁気コア半体が、ギャップ対向面に設けた請求項１〜５のいずれかに記載の磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスで接合されていることを特徴とする磁気ヘッドであって、ＰｂＯを主成分としない低融点のホウケイ酸ガラスを使用して接合されているので、磁気ギャップを形成する際の高温による磁気特性劣化の発生を防止することができ、しかも接合強度の点で信頼性に優れた磁気ヘッドを提供するという作用を有する。
【００２１】
本発明の請求項８に記載の発明は、少なくとも一方に巻線溝を設け、非磁性基板により金属磁性膜を挟み込んでなる一対の磁気コア半体を、磁気ギャップ材を介して前記両金属磁性膜の端面を突き合わせ、接合した構造を有する磁気ヘッドであって、前記一対の磁気コア半体が、ギャップ対向面に設けた請求項１〜５のいずれかに記載の磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスで接合されていることを特徴とする磁気ヘッドであって、ＰｂＯを主成分としない低融点のホウケイ酸ガラスを使用して接合されているので、磁気ギャップを形成する際の高温による磁気特性劣化の発生を防止することができ、しかも接合強度の点で信頼性に優れた磁気ヘッドを提供するという作用を有する。
【００２２】
以下、本発明の磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスおよび磁気ヘッドの実施の形態について説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
【００２３】
（実施の形態１）
（表１）〜（表１３）は、本発明の請求項１、２、３、４及び５に記載の磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスの一例を示すものである。それぞれの成分の含有量の範囲を上記のように限定した理由は、実施例において詳細に説明する。
【００２４】
なお、以上の磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスにおける構成成分以外の成分については、本発明の効果を損なわない範囲で、ある種の改質のために添加させることができる。
【００２５】
（実施の形態２）
図２は、本発明の請求項６に記載の磁気ヘッドの一例を示すものであり、少なくとも一方に巻線溝４を設けた一対の磁気コア半体５を、磁気ギャップ材６を介して突き合わせ、接合した構造を有する磁気ヘッドであって、一対の磁気コア半体５が、ギャップ対向面に設けた磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスで接合されているものである。
【００２６】
図３は、本発明の請求項７に記載の磁気ヘッドの一例を示すものであり、少なくとも一方に巻線溝４を設け、少なくとも一方のギャップ対向面に金属磁性膜を形成した一対の磁気コア半体５を、磁気ギャップ材６を介してギャップ対向面を突き合わせ、接合した構造を有する磁気ヘッドであって、一対の磁気コア半体５が、ギャップ対向面に設けた磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスで接合されているものである。
【００２７】
図４は、本発明の請求項８に記載の磁気ヘッドの一例を示すものであり、少なくとも一方に巻線溝４を設け、非磁性基板により金属磁性膜を挟み込んでなる一対の磁気コア半体５を、磁気ギャップ材６を介して両金属磁性膜の端面を突き合わせ、接合した構造を有する磁気ヘッドであって、一対の磁気コア半体５が、ギャップ対向面に設けた磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスで接合されているものである。
【００２８】
図２〜図４の磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスで使用される成分は、実施の形態１に示すものである。
【００２９】
以上のような本実施の形態の磁気ヘッドは、いずれも耐水性に優れた本発明の磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスを使用しているので、信頼性の高い磁気ヘッドとして供給することができる。
【００３０】
なお、以上の磁気ヘッドにおける、高透磁率磁性体、金属磁性膜、非磁性基板等には、基本的に従来から用いられてきた材料を用いることができる。
【００３１】
また、本発明における磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスは、以上の磁気ヘッド以外の構造を有する磁気ヘッドにも使用することができる。
【００３２】
（実施例１〜８３及び比較例１〜４６）
以下、本発明を実施例により詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００３３】
まず、表中の実施例１〜８３および比較例１〜４６について説明する。
【００３４】
本発明の磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスの実施例および比較例として、（表１）〜（表１３）に示す組成のガラス組成物を作製した。
【００３５】
所定の原料を調合および混合した後、得られた混合物を白金るつぼに入れ、電気炉にて９００〜１３００℃で１時間溶融させた。次いで、得られた溶融ガラスをローラーで急冷することによってガラス組成物を作製した。得られたガラス組成物の組成、ガラスの安定性、作業点、熱膨張係数、強度および耐水性を（表１）〜（表１３）に示した。
【００３６】
ここで、ガラスの安定性、作業点、熱膨張係数、強度および耐水性は以下のようにして評価した。
【００３７】
ガラスの安定性は、作製時に失透せず、作業点での熱処理において結晶が析出しなかったものを○、作製時には失透しなかったものの、作業点での熱処理において結晶が析出したものを△、作製時に失透し、ガラスが得られなかったものを×で示した。磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスとして使用する際には流動性などの面で非晶質であることが好ましい。しかし、クラックが発生したり、強度が低下したりするなどの問題がなければ、封着後のガラスに結晶が析出していてもよい。
【００３８】
ガラスの作業点は、溶融したガラスの粘度を測定し、粘度が１０３Ｐａ・ｓとなる温度より求めた。磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスとして使用する際には、この作業点付近の温度で軟化、流動させて接着すると良いが、磁気ヘッドの製造方法によっては、それぞれに適合した粘度を有する温度で使用してもよい。磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスとしては、作業点が６５０℃以下であることが好ましい。
【００３９】
熱膨張係数は、直径４ｍｍ、長さ２０ｍｍのガラスロッドを１０℃／ｍｉｎで昇温したときの線膨張率を測定し、３０〜３００℃における平均熱膨張係数を算出した。磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスとしては、熱膨張係数が７０×１０−７〜１３０×１０−７／℃であることが好ましい。
【００４０】
機械的強度は、三点曲げ法により測定した。直径１ｍｍ、長さ３０ｍｍのガラスロッドの中央部を２０ｍｍの間隔で水平に二点支持し、支持二点間の中央に上部からロードセルにより１ｍｍ／ｍｉｎの速度で荷重を印加し、ガラスロッドが破断した荷重より強度を算出した。
【００４１】
耐水性は、一辺が１０ｍｍの立方体のガラス試料を沸騰したイオン交換水中に１時間浸漬し、単位面積あたりの重量減少の値で示した。磁気ヘッドに供するためには、この値が１．０ｍｇ／ｃｍ２以下であることが望ましい。
【００４２】
（表１）に本発明におけるＳｉＯ２の含有量を検討するために作製したガラス組成物の実施例１〜４および比較例１〜２を示した。
【００４３】
【表１】
【００４４】
（表１）より明らかなように、ＳｉＯ２の含有量が０．５重量％より少ないとガラス作製時に失透して安定なガラスが得られず、１４重量％より多いと作業点が６５０℃を超えてしまうため、０．５〜１４重量％であることが好ましい。
さらに、ＳｉＯ２の含有量が多いと、使用時の熱処理においてガラス中に結晶が析出し易くなることから、これを低減するためには０．５〜１２重量％であることがより好ましい。
【００４５】
次に、（表２）に本発明におけるＢ２Ｏ３の含有量を検討するために作製したガラス組成物の実施例５〜８および比較例３〜４を示した。
【００４６】
【表２】
【００４７】
（表２）より明らかなように、Ｂ２Ｏ３の含有量が３重量％より少ないと熱膨張係数が１３０×１０−７／℃より大きくなり、１５重量％より多いとガラス作製時に失透して安定なガラスが得られないため、３〜１５重量％であることが好ましい。さらに、Ｂ２Ｏ３の含有量が多いと、使用時の熱処理においてガラス中に結晶が析出し易くなることから、これを低減するためには３〜９重量％であることがより好ましい。
【００４８】
次に、（表３）に本発明におけるＺｎＯの含有量を検討するために作製したガラス組成物の実施例９〜１２および比較例５〜６を示した。
【００４９】
【表３】
【００５０】
（表３）より明らかなように、ＺｎＯの含有量が４重量％より少ないと、重量減少が１．０ｍｇ／ｃｍ２を超えて耐水性が低下し、２２重量％より多いとガラス作製時に失透して安定なガラスが得られないため、４〜２２重量％であることが好ましい。さらに、ＺｎＯの含有量が多いと、使用時の熱処理においてガラス中に結晶が析出し易くなることから、これを低減するためには４〜１９重量％であることがより好ましい。
【００５１】
次に、（表４）に本発明におけるＢｉ２Ｏ３の含有量を検討するために作製したガラス組成物の実施例１３〜１６および比較例７〜８を示した。
【００５２】
【表４】
【００５３】
（表４）より明らかなように、Ｂｉ２Ｏ３の含有量が５５重量％より少ないと作業点が６５０℃を超え、９０重量％より多いとガラス作製時に失透して安定なガラスが得られないため、５５〜９０重量％であることが好ましい。さらに、Ｂｉ２Ｏ３の含有量が多いと、使用時の熱処理においてガラス中に結晶が析出し易くなることから、これを低減するためには５５〜８５重量％であることがより好ましい。
【００５４】
次に、（表５）に本発明におけるＡｌ２Ｏ３の含有量を検討するために作製したガラス組成物の実施例１７〜２０および比較例９を示した。
【００５５】
【表５】
【００５６】
Ａｌ２Ｏ３は必ずしも必須の成分ではないが、ガラス化を促進させ、耐水性を向上させる働きがある。しかし、表５より明らかに、４重量％より多いと作業点が６５０℃を超えるため、０〜４重量％であることが好ましい。さらに、使用時の熱処理においてガラス中に析出する結晶を低減するためには、０．１重量％以上含有することがより好ましい。
【００５７】
次に、（表６）に本発明におけるＬｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの含有量を検討するために作製したガラス組成物の実施例２１〜３１および比較例１０〜１３を示した。
【００５８】
【表６】
【００５９】
Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏは必ずしも必須の成分ではないが、これらのうちの一種以上を含有することにより作業点を低下させることができる。しかし、表６より明らかに、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの合計量が５重量％を超えると熱膨張係数が大きくなり、耐水性も低下するため、０〜５重量％であることが好ましい。さらに、これらの含有量が多いと、使用時の熱処理においてガラス中に結晶が析出し易くなることから、これを低減するためにはＬｉ２Ｏは０〜２重量％、Ｎａ２Ｏは０〜３重量％、Ｋ２Ｏは０〜４重量％であり、さらに、これらの合計量は０〜４重量％であることがより好ましい。
【００６０】
次に、（表７）に本発明におけるＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの含有量を検討するために作製したガラス組成物の実施例３２〜４５および比較例１４〜１８を示した。
【００６１】
【表７】
【００６２】
ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯは必ずしも必須の成分ではないが、これらのうちの一種以上を含有することにより安定なガラスが得られる。しかし、表７より明らかに、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの合計量が１２重量％を超えるとガラス作製時に失透するので、０〜１２重量％であることが好ましい。さらに、これらの含有量が多いと、使用時の熱処理においてガラス中に結晶が析出し易くなることから、これを低減するためにはＭｇＯは０〜５重量％、ＣａＯは０〜６重量％、ＳｒＯは０〜８重量％、ＢａＯは０〜１０重量％であり、さらに、これらの合計量は０〜１０重量％であることがより好ましい。
【００６３】
次に、（表８）〜（表１０）に本発明におけるＳｃ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、ＣｅＯ２、Ｐｒ２Ｏ３、Ｎｄ２Ｏ３、Ｓｍ２Ｏ３、Ｅｕ２Ｏ３、Ｇｄ２Ｏ３、Ｔｂ２Ｏ３、Ｄｙ２Ｏ３、Ｈｏ２Ｏ３、Ｅｒ２Ｏ３、Ｔｍ２Ｏ３、Ｙｂ２Ｏ３およびＬｕ２Ｏ３ の含有量を検討するために作製したガラス組成物の実施例４６〜７７および比較例１９〜３５を示した。
【００６４】
【表８】
【００６５】
【表９】
【００６６】
【表１０】
【００６７】
（表１０）より明らかなように、Ｓｃ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、ＣｅＯ２、Ｐｒ２Ｏ３、Ｎｄ２Ｏ３、Ｓｍ２Ｏ３、Ｅｕ２Ｏ３、Ｇｄ２Ｏ３、Ｔｂ２Ｏ３、Ｄｙ２Ｏ３、Ｈｏ２Ｏ３、Ｅｒ２Ｏ３、Ｔｍ２Ｏ３、Ｙｂ２Ｏ３およびＬｕ２Ｏ３ は機械的強度を向上させる働きがあり、これらの少なくとも一種の含有量が０．１重量％以上であるとこの効果が発揮される。しかし、１０重量％より多いと、作製時に失透して安定なガラスが得られないため、０．１〜１０重量％であることが好ましい。
【００６８】
次に、（表１１）に本発明におけるＺｎＯとＢ２Ｏ３の重量比（ＺｎＯ／Ｂ２Ｏ３）を検討するために作製したガラス組成物の実施例７８〜８０および比較例３６〜３７を示した。
【００６９】
【表１１】
【００７０】
（表１１）より明らかなように、さらに、使用時の熱処理において結晶が析出し難い安定なガラスを得るためには、ＺｎＯとＢ２Ｏ３の重量比（ＺｎＯ／Ｂ２Ｏ３）が０．８〜２．８であることがより好ましい。
【００７１】
次に、（表１２）に本発明におけるＡｌ２Ｏ３とＳｉＯ２の重量比（Ａｌ２Ｏ３／ＳｉＯ２）を検討するために作製したガラス組成物の実施例８１〜８３および比較例３８〜３９を示した。
【００７２】
【表１２】
【００７３】
（表１２）より明らかなように、さらに、使用時の熱処理において結晶が析出し難い安定なガラスを得るためには、Ａｌ２Ｏ３とＳｉＯ２の重量比（Ａｌ２Ｏ３／ＳｉＯ２）が０．５以下あることがより好ましい。
【００７４】
次に、（表１３）に本発明における磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスと比較するために作製した鉛ガラス組成物の比較例４０〜４６を示した。
【００７５】
【表１３】
【００７６】
（表１３）より明らかなように、本発明の磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスは鉛を含有することなく、作業点が６５０℃以下であり、かつ熱膨張係数が７０×１０−７〜１３０×１０−７／℃であり、鉛ガラス組成物と同等の機械的強度を有しながら、耐水性に優れたものであることがわかる。
【００７７】
なお、以上の磁気ギャップ材は、バルク、粉末、ファイバーまたは薄膜などの形状にして磁気ヘッドの製造に用いることができる。その他の形状にしてもよい。さらに、これらの磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスは、ガラス組成物単独からなる材料、またはガラス組成物と他の材料との複合材料として使用することができる。
【００７８】
また、これらの磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスは、熱処理などによって結晶化させたり、他の材料との複合材料として使用したりすることによって、７０×１０−７〜１３０×１０−７／℃の範囲を超えた熱膨張係数を有する材料として使用することができる。
【００７９】
さらに、これらの磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスを使用する際の熱処理温度は６５０℃以下の作業点に限るものではなく、用途に応じて適した粘性を有する温度で使用できることは言うまでもない。
【００８０】
また、これらの磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスはセラミック、ガラスおよび金属などの各種材料の接着材料、封着材料、被覆材料、または種々の機能を有するペースト材料として、電子機器用の各種部品をはじめ、あらゆる用途において従来使用されていたガラス材料に代えて使用することができる。例えば、各種ＬＣＲ部品、半導体パッケージ、その他の電子部品、ＣＲＴ、蛍光表示管、プラズマディスプレイパネルなどの表示デバイスに使用することができる。さらに照明用の管球製品、ホーロー製品および陶磁器製品などにおいても使用することができる。
【００８１】
（実施例８４）
次に、本発明の実施例８４について説明する。
【００８２】
本発明の一実施例として、図２に示したフェライトヘッドを作製し、これを用いた磁気ヘッドを作製した。
【００８３】
高透磁率磁性体としてＭｎ−Ｚｎ単結晶フェライトを、磁気ギャップ材として第１層目にＳｉＯ２を、第２層目に（表３）中の実施例１０のガラスをスパッタして一対の磁気コア半体５をなし、一対の磁気コア半体５を第２のガラス層を着き合わせて、ちっ素雰囲気中で６１０℃で熱融着させ、一対の磁気コア半体５を互いに接合し、磁気ギャップ６を形成した。
【００８４】
なお、高透磁率磁性体としてＭｎ−Ｚｎ単結晶フェライトを磁気ギャップ材として第１層目にＳｉＯ２を用いる場合を説明したが、本発明は、これらの実施例に限定されるものではない。
【００８５】
（実施例８５）
次に、本発明の実施例８５について説明する。
【００８６】
本発明の一実施例として、図３に示したＭＩＧヘッド（Ｍｅｔａｌ ｉｎ Ｇａｐヘッド）を作製し、これを用いた磁気ヘッドを作製した。
【００８７】
高透磁率磁性体としてＭｎ−Ｚｎ単結晶フェライトを、金属磁性膜として飽和磁束密度（Ｂｓ）が１．６ＴのＦｅ−Ｔａ−Ｎ膜を用い、磁気ギャップ材として第１層目にＳｉＯ２を、第２層目に（表１）中の実施例２のガラスをスパッタして一対の磁気コア半体５をなし、前記一対の磁気コア半体５を第２のガラス層を着き合わせて、前記一対の磁気コア半体５を互いに接合し、ちっ素雰囲気中で５１０℃で熱融着させ、磁気ギャップ６を形成した。
【００８８】
なお、高透磁率磁性体としてＭｎ−Ｚｎ単結晶フェライトを、金属磁性膜として飽和磁束密度（Ｂｓ）が１．６ＴのＦｅ−Ｔａ−Ｎ膜を、非磁性ギャップ材として第１層目にＳｉＯ２を用いる場合を説明したが、本発明は、これらの実施例に限定されるものではない。
【００８９】
（実施例８６）
次に、本発明の実施例８６について説明する。
【００９０】
本発明の一実施例として、図４に示した積層型ヘッドを作製し、これを用いた磁気ヘッドを作製した。
【００９１】
非磁性基板にＴｉ−Ｍｇ−Ｎｉ焼結体を、金属磁性膜にＣｏ−Ｚｒ−Ｎｂ−Ｔａアモルファス磁性材料を用い、磁気ギャップ材として第１層目にパイレックス（Ｒ）ガラスを、第２層目に（表１）中の実施例２のガラスをスパッタして一対の磁気コア半体５となし、一対の磁気コア半体５を前記第２のガラス層を着き合わせて、ちっ素雰囲気中で４８０℃で熱融着させ、前記一対の磁気コア半体５を互いに接合し、磁気ギャップ６を形成した。
【００９２】
なお、非磁性基板にＴｉ−Ｍｇ−Ｎｉ焼結体を、金属磁性膜にＣｏ−Ｚｒ−Ｎｂ−Ｔａアモルファス磁性材料を用い、非磁性ギャップ材として第１層目にパイレックス（Ｒ）ガラスを用いる場合を説明したが、本発明は、これらの実施例に限定されるものではない。
【００９３】
【発明の効果】
以上のように本発明の磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスは、ＰｂＯを成分としないホウケイ酸ビスマスガラスであるため、作業点が６５０℃以下であり、かつ熱膨張係数が７０×１０−７〜１３０×１０−７／℃であり、鉛ガラス組成物と同等の機械的強度を有しながら、耐水性に優れているという効果を奏するものである。
【００９４】
また、本発明の磁気ヘッドは、磁気ギャップを形成する際の高温による磁気特性劣化の発生を防止することができ、しかも耐水性に優れているので接合強度の点で信頼性に優れたものとなるという効果を奏するものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態によって得られる磁気ヘッドのギャップ部分を示す要部断面図
【図２】本発明の実施の形態による磁気ヘッドの概略を示す斜視図
【図３】本発明の実施の形態による磁気へッドの概略を示す斜視図
【図４】本発明の実施の形態による磁気ヘッドの概略を示す斜視図
【符号の説明】
１ 高透磁率磁性体
２ 非磁性体層
３ ガラス層
４ 巻線溝
５ 一対の磁気コア半体
６ 磁気ギャップ
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気記録媒体に対する磁気情報の記録・再生に適した磁気ヘッドに関するものであり、磁気ヘッドを構成する磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスに関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、磁気ヘッドは、磁気特性劣化防止の点で、より低温で磁気ギャップを形成できることが望まれている。
【０００３】
一般に、磁気ヘッドはコイルを巻いたリング状の高透磁率磁性体（ヘッドコア）に非常に狭い隙間（磁気ギャップ）を設けたものである。磁気ヘッドの磁気ギャップ部分は、間隙を有する高透磁率磁性体と、この間隙に充填された非磁性材料とで構成されている。
【０００４】
また、ビデオテープレコーダー用磁気ヘッドでは、高透磁率磁性体として、Ｍｎ−Ｚｎフェライト等の酸化物材料、Ｍｎ−Ｚｎフェライトやセラミックス等の酸化物材料と金属磁性薄膜が複合されたもの等が、使用されている。また、間隙の充填材（磁気ギャップ材）として、非磁性金属、金属酸化物、石英ガラス等の高融点ガラス等が、使用されている。
【０００５】
磁気ギャップ形成の一方法として、高透磁率磁性体表面に、非磁性ギャップ材をスパッタまたは、蒸着法で薄膜状に形成して、一対の磁気コア半体とし、さらに、前記一対の磁気コア半体を、ギャップ材同士をつき合わせて接合する方法がある。
【０００６】
磁気コア半体の接合は、ギャップ材同士が融着する温度で行なわれる。この時、高温で融着を行なうと、高透磁率磁性体の特性劣化とギャップ材の変形とが発生し、磁気ヘッド特性が劣化する。そのため、高温による磁気特性劣化の発生を防止する為に、一般に、ギャップ材として図１に示すものがある。図１は磁気コア半体の接合面近傍の要部拡大断面図である。図１に示すように、高透磁率磁性体１に少なくとも第一層目に非磁性物質層２、第二層目にガラス層３を積層し、ガラス層３同士を熱融着により接合し、磁気ギャップを形成する方法が用いられている（例えば特許文献１参照）。
【０００７】
従来、ガラス層３に使用する、接合ガラスとして、ＰｂＯを成分とするガラスが用いられていた。
【０００８】
【特許文献１】
特開平９−２１９００９号公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、ＰｂＯを成分とするガラスは、耐水性が低いという問題点があった。
【００１０】
上述のように、高透磁率磁性体１に少なくとも第一層目に非磁性物質層２、第二層目にガラス層３を積層し、第二層目のガラス層３同士を熱融着により接合してなる、磁気ギャップを有する磁気ヘッドにおいて、ガラス層３にＰｂＯを成分とするガラスを使用した場合、低温で磁気ギャップを形成することができ、高温による磁気特性の劣化の発生を防止することができるが、耐水性が劣り、ギャップ材同士の接合強度の信頼性に問題があった。
【００１１】
本発明は、かかる従来の実状に鑑みて提案されたものであって、磁気ギャップを形成する際の高温による磁気特性劣化の発生を防止することができ、しかも接合強度の点で信頼性に優れた磁気ヘッド用ギャップ接合ガラス及び磁気ヘッドを提供することを目的とするものである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明の磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスは、酸化物換算で、ＳｉＯ２を０．５〜１４重量％、Ｂ２Ｏ３を３〜１５重量％、ＺｎＯを４〜２２重量％、Ｂｉ２Ｏ３を５５〜９０重量％、Ａｌ２Ｏ３を０〜４重量％、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏから選ばれる少なくとも一種を０〜５重量％、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯから選ばれる少なくとも一種を０〜１２重量％含む組成を有するものである。
【００１３】
これにより、磁気ギャップを形成する際の高温による磁気特性劣化の発生を防止することができ、しかも接合強度の点で信頼性に優れた磁気ヘッド用ギャップ接合ガラス及び磁気ヘッドを提供するものである。
【００１４】
【発明の実施の形態】
本発明の請求項１に記載の発明は、酸化物換算で、ＳｉＯ２を０．５〜１４重量％、Ｂ２Ｏ３を３〜１５重量％、ＺｎＯを４〜２２重量％、Ｂｉ２Ｏ３を５５〜９０重量％、Ａｌ２Ｏ３を０〜４重量％、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏから選ばれる少なくとも一種を０〜５重量％、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯから選ばれる少なくとも一種を０〜１２重量％含む組成を有することを特徴とする磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスであって、磁気ギャップを形成する際の高温による磁気特性劣化の発生を防止することができ、しかも接合強度の点で信頼性に優れた磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスを提供するという作用を有する。
【００１５】
本発明の請求項２に記載の発明は、酸化物換算で、ＳｉＯ２を０．５〜１４重量％、Ｂ２Ｏ３を３〜１５重量％、ＺｎＯを４〜２２重量％、Ｂｉ２Ｏ３を５５〜９０重量％、Ａｌ２Ｏ３を０〜４重量％、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏから選ばれる少なくとも一種を０〜５重量％、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯから選ばれる少なくとも一種を０〜１２重量％、Ｓｃ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、ＣｅＯ２、Ｐｒ２Ｏ３、Ｎｄ２Ｏ３、Ｓｍ２Ｏ３、Ｅｕ２Ｏ３、Ｇｄ２Ｏ３、Ｔｂ２Ｏ３、Ｄｙ２Ｏ３、Ｈｏ２Ｏ３、Ｅｒ２Ｏ３、Ｔｍ２Ｏ３、Ｙｂ２Ｏ３およびＬｕ２Ｏ３から選ばれる少なくとも一種を０．１〜１０重量％含む組成を有することを特徴とする磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスであって、磁気ギャップを形成する際の高温による磁気特性劣化の発生を防止することができ、しかも接合強度の点で信頼性に優れた磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスを提供するという作用を有する。
【００１６】
本発明の請求項３に記載の発明は、酸化物換算で、ＳｉＯ２を０．５〜１２重量％、Ｂ２Ｏ３を３〜９重量％、ＺｎＯを４〜１９重量％、Ｂｉ２Ｏ３を５５〜８５重量％、Ａｌ２Ｏ３を０．１〜４重量％、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏから選ばれる少なくとも一種を０〜４重量％（ただし、Ｌｉ２Ｏを０〜２重量％、Ｎａ２Ｏを０〜３重量％、Ｋ２Ｏを０〜４重量％）、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯから選ばれる少なくとも一種を０〜１０重量％（ただし、ＭｇＯを０〜５重量％、ＣａＯを０〜６重量％、ＳｒＯを０〜８重量％、ＢａＯを０〜１０重量％）、Ｓｃ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、ＣｅＯ２、Ｐｒ２Ｏ３、Ｎｄ２Ｏ３、Ｓｍ２Ｏ３、Ｅｕ２Ｏ３、Ｇｄ２Ｏ３、Ｔｂ２Ｏ３、Ｄｙ２Ｏ３、Ｈｏ２Ｏ３、Ｅｒ２Ｏ３、Ｔｍ２Ｏ３、Ｙｂ２Ｏ３およびＬｕ２Ｏ３から選ばれる少なくとも一種を０．１〜１０重量％含む組成を有することを特徴とする磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスであって、磁気ギャップを形成する際の高温による磁気特性劣化の発生を防止することができ、しかも接合強度の点で信頼性に優れた磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスを提供するという作用を有する。
【００１７】
本発明の請求項４に記載の発明は、酸化物換算で、ＺｎＯとＢ２Ｏ３の重量比（ＺｎＯ／Ｂ２Ｏ３）を０．８〜２．８とすることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスあって、磁気ギャップを形成する際の高温による磁気特性劣化の発生を防止することができ、しかも接合強度の点で信頼性に優れた磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスを提供するという作用を有する。
【００１８】
本発明の請求項５に記載の発明は、酸化物換算で、Ａｌ２Ｏ３とＳｉＯ２の重量比（Ａｌ２Ｏ３／ＳｉＯ２）を０．５以下とすることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスであって、磁気ギャップを形成する際の高温による磁気特性劣化の発生を防止することができ、しかも接合強度の点で信頼性に優れた磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスを提供するという作用を有する。
【００１９】
本発明の請求項６に記載の発明は、少なくとも一方に巻線溝を設けた一対の磁気コア半体を、磁気ギャップ材を介して突き合わせ、接合した構造を有する磁気ヘッドであって、前記一対の磁気コア半体が、ギャップ対向面に設けた請求項１〜５のいずれかに記載の磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスで接合されていることを特徴とする磁気ヘッドであって、ＰｂＯを主成分としない低融点のホウケイ酸ガラスを使用して接合されているので、磁気ギャップを形成する際の高温による磁気特性劣化の発生を防止することができ、しかも接合強度の点で信頼性に優れた磁気ヘッドを提供するという作用を有する。
【００２０】
本発明の請求項７に記載の発明は、少なくとも一方に巻線用溝を設け、少なくとも一方のギャップ対向面に金属磁性膜を形成した一対の磁気コア半体を、磁気ギャップ材を介して前記ギャップ対向面を突き合わせ、接合した構造を有する磁気ヘッドであって、前記一対の磁気コア半体が、ギャップ対向面に設けた請求項１〜５のいずれかに記載の磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスで接合されていることを特徴とする磁気ヘッドであって、ＰｂＯを主成分としない低融点のホウケイ酸ガラスを使用して接合されているので、磁気ギャップを形成する際の高温による磁気特性劣化の発生を防止することができ、しかも接合強度の点で信頼性に優れた磁気ヘッドを提供するという作用を有する。
【００２１】
本発明の請求項８に記載の発明は、少なくとも一方に巻線溝を設け、非磁性基板により金属磁性膜を挟み込んでなる一対の磁気コア半体を、磁気ギャップ材を介して前記両金属磁性膜の端面を突き合わせ、接合した構造を有する磁気ヘッドであって、前記一対の磁気コア半体が、ギャップ対向面に設けた請求項１〜５のいずれかに記載の磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスで接合されていることを特徴とする磁気ヘッドであって、ＰｂＯを主成分としない低融点のホウケイ酸ガラスを使用して接合されているので、磁気ギャップを形成する際の高温による磁気特性劣化の発生を防止することができ、しかも接合強度の点で信頼性に優れた磁気ヘッドを提供するという作用を有する。
【００２２】
以下、本発明の磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスおよび磁気ヘッドの実施の形態について説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
【００２３】
（実施の形態１）
（表１）〜（表１３）は、本発明の請求項１、２、３、４及び５に記載の磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスの一例を示すものである。それぞれの成分の含有量の範囲を上記のように限定した理由は、実施例において詳細に説明する。
【００２４】
なお、以上の磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスにおける構成成分以外の成分については、本発明の効果を損なわない範囲で、ある種の改質のために添加させることができる。
【００２５】
（実施の形態２）
図２は、本発明の請求項６に記載の磁気ヘッドの一例を示すものであり、少なくとも一方に巻線溝４を設けた一対の磁気コア半体５を、磁気ギャップ材６を介して突き合わせ、接合した構造を有する磁気ヘッドであって、一対の磁気コア半体５が、ギャップ対向面に設けた磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスで接合されているものである。
【００２６】
図３は、本発明の請求項７に記載の磁気ヘッドの一例を示すものであり、少なくとも一方に巻線溝４を設け、少なくとも一方のギャップ対向面に金属磁性膜を形成した一対の磁気コア半体５を、磁気ギャップ材６を介してギャップ対向面を突き合わせ、接合した構造を有する磁気ヘッドであって、一対の磁気コア半体５が、ギャップ対向面に設けた磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスで接合されているものである。
【００２７】
図４は、本発明の請求項８に記載の磁気ヘッドの一例を示すものであり、少なくとも一方に巻線溝４を設け、非磁性基板により金属磁性膜を挟み込んでなる一対の磁気コア半体５を、磁気ギャップ材６を介して両金属磁性膜の端面を突き合わせ、接合した構造を有する磁気ヘッドであって、一対の磁気コア半体５が、ギャップ対向面に設けた磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスで接合されているものである。
【００２８】
図２〜図４の磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスで使用される成分は、実施の形態１に示すものである。
【００２９】
以上のような本実施の形態の磁気ヘッドは、いずれも耐水性に優れた本発明の磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスを使用しているので、信頼性の高い磁気ヘッドとして供給することができる。
【００３０】
なお、以上の磁気ヘッドにおける、高透磁率磁性体、金属磁性膜、非磁性基板等には、基本的に従来から用いられてきた材料を用いることができる。
【００３１】
また、本発明における磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスは、以上の磁気ヘッド以外の構造を有する磁気ヘッドにも使用することができる。
【００３２】
（実施例１〜８３及び比較例１〜４６）
以下、本発明を実施例により詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００３３】
まず、表中の実施例１〜８３および比較例１〜４６について説明する。
【００３４】
本発明の磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスの実施例および比較例として、（表１）〜（表１３）に示す組成のガラス組成物を作製した。
【００３５】
所定の原料を調合および混合した後、得られた混合物を白金るつぼに入れ、電気炉にて９００〜１３００℃で１時間溶融させた。次いで、得られた溶融ガラスをローラーで急冷することによってガラス組成物を作製した。得られたガラス組成物の組成、ガラスの安定性、作業点、熱膨張係数、強度および耐水性を（表１）〜（表１３）に示した。
【００３６】
ここで、ガラスの安定性、作業点、熱膨張係数、強度および耐水性は以下のようにして評価した。
【００３７】
ガラスの安定性は、作製時に失透せず、作業点での熱処理において結晶が析出しなかったものを○、作製時には失透しなかったものの、作業点での熱処理において結晶が析出したものを△、作製時に失透し、ガラスが得られなかったものを×で示した。磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスとして使用する際には流動性などの面で非晶質であることが好ましい。しかし、クラックが発生したり、強度が低下したりするなどの問題がなければ、封着後のガラスに結晶が析出していてもよい。
【００３８】
ガラスの作業点は、溶融したガラスの粘度を測定し、粘度が１０３Ｐａ・ｓとなる温度より求めた。磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスとして使用する際には、この作業点付近の温度で軟化、流動させて接着すると良いが、磁気ヘッドの製造方法によっては、それぞれに適合した粘度を有する温度で使用してもよい。磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスとしては、作業点が６５０℃以下であることが好ましい。
【００３９】
熱膨張係数は、直径４ｍｍ、長さ２０ｍｍのガラスロッドを１０℃／ｍｉｎで昇温したときの線膨張率を測定し、３０〜３００℃における平均熱膨張係数を算出した。磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスとしては、熱膨張係数が７０×１０−７〜１３０×１０−７／℃であることが好ましい。
【００４０】
機械的強度は、三点曲げ法により測定した。直径１ｍｍ、長さ３０ｍｍのガラスロッドの中央部を２０ｍｍの間隔で水平に二点支持し、支持二点間の中央に上部からロードセルにより１ｍｍ／ｍｉｎの速度で荷重を印加し、ガラスロッドが破断した荷重より強度を算出した。
【００４１】
耐水性は、一辺が１０ｍｍの立方体のガラス試料を沸騰したイオン交換水中に１時間浸漬し、単位面積あたりの重量減少の値で示した。磁気ヘッドに供するためには、この値が１．０ｍｇ／ｃｍ２以下であることが望ましい。
【００４２】
（表１）に本発明におけるＳｉＯ２の含有量を検討するために作製したガラス組成物の実施例１〜４および比較例１〜２を示した。
【００４３】
【表１】
（表１）より明らかなように、ＳｉＯ２の含有量が０．５重量％より少ないとガラス作製時に失透して安定なガラスが得られず、１４重量％より多いと作業点が６５０℃を超えてしまうため、０．５〜１４重量％であることが好ましい。
さらに、ＳｉＯ２の含有量が多いと、使用時の熱処理においてガラス中に結晶が析出し易くなることから、これを低減するためには０．５〜１２重量％であることがより好ましい。
【００４５】
次に、（表２）に本発明におけるＢ２Ｏ３の含有量を検討するために作製したガラス組成物の実施例５〜８および比較例３〜４を示した。
【００４６】
【表２】
（表２）より明らかなように、Ｂ２Ｏ３の含有量が３重量％より少ないと熱膨張係数が１３０×１０−７／℃より大きくなり、１５重量％より多いとガラス作製時に失透して安定なガラスが得られないため、３〜１５重量％であることが好ましい。さらに、Ｂ２Ｏ３の含有量が多いと、使用時の熱処理においてガラス中に結晶が析出し易くなることから、これを低減するためには３〜９重量％であることがより好ましい。
【００４８】
次に、（表３）に本発明におけるＺｎＯの含有量を検討するために作製したガラス組成物の実施例９〜１２および比較例５〜６を示した。
【００４９】
【表３】
（表３）より明らかなように、ＺｎＯの含有量が４重量％より少ないと、重量減少が１．０ｍｇ／ｃｍ２を超えて耐水性が低下し、２２重量％より多いとガラス作製時に失透して安定なガラスが得られないため、４〜２２重量％であることが好ましい。さらに、ＺｎＯの含有量が多いと、使用時の熱処理においてガラス中に結晶が析出し易くなることから、これを低減するためには４〜１９重量％であることがより好ましい。
【００５１】
次に、（表４）に本発明におけるＢｉ２Ｏ３の含有量を検討するために作製したガラス組成物の実施例１３〜１６および比較例７〜８を示した。
【００５２】
【表４】
（表４）より明らかなように、Ｂｉ２Ｏ３の含有量が５５重量％より少ないと作業点が６５０℃を超え、９０重量％より多いとガラス作製時に失透して安定なガラスが得られないため、５５〜９０重量％であることが好ましい。さらに、Ｂｉ２Ｏ３の含有量が多いと、使用時の熱処理においてガラス中に結晶が析出し易くなることから、これを低減するためには５５〜８５重量％であることがより好ましい。
【００５４】
次に、（表５）に本発明におけるＡｌ２Ｏ３の含有量を検討するために作製したガラス組成物の実施例１７〜２０および比較例９を示した。
【００５５】
【表５】
Ａｌ２Ｏ３は必ずしも必須の成分ではないが、ガラス化を促進させ、耐水性を向上させる働きがある。しかし、表５より明らかに、４重量％より多いと作業点が６５０℃を超えるため、０〜４重量％であることが好ましい。さらに、使用時の熱処理においてガラス中に析出する結晶を低減するためには、０．１重量％以上含有することがより好ましい。
【００５７】
次に、（表６）に本発明におけるＬｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの含有量を検討するために作製したガラス組成物の実施例２１〜３１および比較例１０〜１３を示した。
【００５８】
【表６】
Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏは必ずしも必須の成分ではないが、これらのうちの一種以上を含有することにより作業点を低下させることができる。しかし、表６より明らかに、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの合計量が５重量％を超えると熱膨張係数が大きくなり、耐水性も低下するため、０〜５重量％であることが好ましい。さらに、これらの含有量が多いと、使用時の熱処理においてガラス中に結晶が析出し易くなることから、これを低減するためにはＬｉ２Ｏは０〜２重量％、Ｎａ２Ｏは０〜３重量％、Ｋ２Ｏは０〜４重量％であり、さらに、これらの合計量は０〜４重量％であることがより好ましい。
【００６０】
次に、（表７）に本発明におけるＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの含有量を検討するために作製したガラス組成物の実施例３２〜４５および比較例１４〜１８を示した。
【００６１】
【表７】
ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯは必ずしも必須の成分ではないが、これらのうちの一種以上を含有することにより安定なガラスが得られる。しかし、表７より明らかに、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの合計量が１２重量％を超えるとガラス作製時に失透するので、０〜１２重量％であることが好ましい。さらに、これらの含有量が多いと、使用時の熱処理においてガラス中に結晶が析出し易くなることから、これを低減するためにはＭｇＯは０〜５重量％、ＣａＯは０〜６重量％、ＳｒＯは０〜８重量％、ＢａＯは０〜１０重量％であり、さらに、これらの合計量は０〜１０重量％であることがより好ましい。
【００６３】
次に、（表８）〜（表１０）に本発明におけるＳｃ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、ＣｅＯ２、Ｐｒ２Ｏ３、Ｎｄ２Ｏ３、Ｓｍ２Ｏ３、Ｅｕ２Ｏ３、Ｇｄ２Ｏ３、Ｔｂ２Ｏ３、Ｄｙ２Ｏ３、Ｈｏ２Ｏ３、Ｅｒ２Ｏ３、Ｔｍ２Ｏ３、Ｙｂ２Ｏ３およびＬｕ２Ｏ３ の含有量を検討するために作製したガラス組成物の実施例４６〜７７および比較例１９〜３５を示した。
【００６４】
【表８】
【表９】
【表１０】
（表１０）より明らかなように、Ｓｃ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、ＣｅＯ２、Ｐｒ２Ｏ３、Ｎｄ２Ｏ３、Ｓｍ２Ｏ３、Ｅｕ２Ｏ３、Ｇｄ２Ｏ３、Ｔｂ２Ｏ３、Ｄｙ２Ｏ３、Ｈｏ２Ｏ３、Ｅｒ２Ｏ３、Ｔｍ２Ｏ３、Ｙｂ２Ｏ３およびＬｕ２Ｏ３ は機械的強度を向上させる働きがあり、これらの少なくとも一種の含有量が０．１重量％以上であるとこの効果が発揮される。しかし、１０重量％より多いと、作製時に失透して安定なガラスが得られないため、０．１〜１０重量％であることが好ましい。
【００６８】
次に、（表１１）に本発明におけるＺｎＯとＢ２Ｏ３の重量比（ＺｎＯ／Ｂ２Ｏ３）を検討するために作製したガラス組成物の実施例７８〜８０および比較例３６〜３７を示した。
【００６９】
【表１１】
（表１１）より明らかなように、さらに、使用時の熱処理において結晶が析出し難い安定なガラスを得るためには、ＺｎＯとＢ２Ｏ３の重量比（ＺｎＯ／Ｂ２Ｏ３）が０．８〜２．８であることがより好ましい。
【００７１】
次に、（表１２）に本発明におけるＡｌ２Ｏ３とＳｉＯ２の重量比（Ａｌ２Ｏ３／ＳｉＯ２）を検討するために作製したガラス組成物の実施例８１〜８３および比較例３８〜３９を示した。
【００７２】
【表１２】
（表１２）より明らかなように、さらに、使用時の熱処理において結晶が析出し難い安定なガラスを得るためには、Ａｌ２Ｏ３とＳｉＯ２の重量比（Ａｌ２Ｏ３／ＳｉＯ２）が０．５以下あることがより好ましい。
【００７４】
次に、（表１３）に本発明における磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスと比較するために作製した鉛ガラス組成物の比較例４０〜４６を示した。
【００７５】
【表１３】
（表１３）より明らかなように、本発明の磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスは鉛を含有することなく、作業点が６５０℃以下であり、かつ熱膨張係数が７０×１０−７〜１３０×１０−７／℃であり、鉛ガラス組成物と同等の機械的強度を有しながら、耐水性に優れたものであることがわかる。
【００７７】
なお、以上の磁気ギャップ材は、バルク、粉末、ファイバーまたは薄膜などの形状にして磁気ヘッドの製造に用いることができる。その他の形状にしてもよい。さらに、これらの磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスは、ガラス組成物単独からなる材料、またはガラス組成物と他の材料との複合材料として使用することができる。
【００７８】
また、これらの磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスは、熱処理などによって結晶化させたり、他の材料との複合材料として使用したりすることによって、７０×１０−７〜１３０×１０−７／℃の範囲を超えた熱膨張係数を有する材料として使用することができる。
【００７９】
さらに、これらの磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスを使用する際の熱処理温度は６５０℃以下の作業点に限るものではなく、用途に応じて適した粘性を有する温度で使用できることは言うまでもない。
【００８０】
また、これらの磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスはセラミック、ガラスおよび金属などの各種材料の接着材料、封着材料、被覆材料、または種々の機能を有するペースト材料として、電子機器用の各種部品をはじめ、あらゆる用途において従来使用されていたガラス材料に代えて使用することができる。例えば、各種ＬＣＲ部品、半導体パッケージ、その他の電子部品、ＣＲＴ、蛍光表示管、プラズマディスプレイパネルなどの表示デバイスに使用することができる。さらに照明用の管球製品、ホーロー製品および陶磁器製品などにおいても使用することができる。
【００８１】
（実施例８４）
次に、本発明の実施例８４について説明する。
【００８２】
本発明の一実施例として、図２に示したフェライトヘッドを作製し、これを用いた磁気ヘッドを作製した。
【００８３】
高透磁率磁性体としてＭｎ−Ｚｎ単結晶フェライトを、磁気ギャップ材として第１層目にＳｉＯ２を、第２層目に（表３）中の実施例１０のガラスをスパッタして一対の磁気コア半体５をなし、一対の磁気コア半体５を第２のガラス層を着き合わせて、ちっ素雰囲気中で６１０℃で熱融着させ、一対の磁気コア半体５を互いに接合し、磁気ギャップ６を形成した。
【００８４】
なお、高透磁率磁性体としてＭｎ−Ｚｎ単結晶フェライトを磁気ギャップ材として第１層目にＳｉＯ２を用いる場合を説明したが、本発明は、これらの実施例に限定されるものではない。
【００８５】
（実施例８５）
次に、本発明の実施例８５について説明する。
【００８６】
本発明の一実施例として、図３に示したＭＩＧヘッド（Ｍｅｔａｌ ｉｎ Ｇａｐヘッド）を作製し、これを用いた磁気ヘッドを作製した。
【００８７】
高透磁率磁性体としてＭｎ−Ｚｎ単結晶フェライトを、金属磁性膜として飽和磁束密度（Ｂｓ）が１．６ＴのＦｅ−Ｔａ−Ｎ膜を用い、磁気ギャップ材として第１層目にＳｉＯ２を、第２層目に（表１）中の実施例２のガラスをスパッタして一対の磁気コア半体５をなし、前記一対の磁気コア半体５を第２のガラス層を着き合わせて、前記一対の磁気コア半体５を互いに接合し、ちっ素雰囲気中で５１０℃で熱融着させ、磁気ギャップ６を形成した。
【００８８】
なお、高透磁率磁性体としてＭｎ−Ｚｎ単結晶フェライトを、金属磁性膜として飽和磁束密度（Ｂｓ）が１．６ＴのＦｅ−Ｔａ−Ｎ膜を、非磁性ギャップ材として第１層目にＳｉＯ２を用いる場合を説明したが、本発明は、これらの実施例に限定されるものではない。
【００８９】
（実施例８６）
次に、本発明の実施例８６について説明する。
【００９０】
本発明の一実施例として、図４に示した積層型ヘッドを作製し、これを用いた磁気ヘッドを作製した。
【００９１】
非磁性基板にＴｉ−Ｍｇ−Ｎｉ焼結体を、金属磁性膜にＣｏ−Ｚｒ−Ｎｂ−Ｔａアモルファス磁性材料を用い、磁気ギャップ材として第１層目にパイレックス（Ｒ）ガラスを、第２層目に（表１）中の実施例２のガラスをスパッタして一対の磁気コア半体５となし、一対の磁気コア半体５を前記第２のガラス層を着き合わせて、ちっ素雰囲気中で４８０℃で熱融着させ、前記一対の磁気コア半体５を互いに接合し、磁気ギャップ６を形成した。
【００９２】
なお、非磁性基板にＴｉ−Ｍｇ−Ｎｉ焼結体を、金属磁性膜にＣｏ−Ｚｒ−Ｎｂ−Ｔａアモルファス磁性材料を用い、非磁性ギャップ材として第１層目にパイレックス（Ｒ）ガラスを用いる場合を説明したが、本発明は、これらの実施例に限定されるものではない。
【００９３】
【発明の効果】
以上のように本発明の磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスは、ＰｂＯを成分としないホウケイ酸ビスマスガラスであるため、作業点が６５０℃以下であり、かつ熱膨張係数が７０×１０−７〜１３０×１０−７／℃であり、鉛ガラス組成物と同等の機械的強度を有しながら、耐水性に優れているという効果を奏するものである。
【００９４】
また、本発明の磁気ヘッドは、磁気ギャップを形成する際の高温による磁気特性劣化の発生を防止することができ、しかも耐水性に優れているので接合強度の点で信頼性に優れたものとなるという効果を奏するものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態によって得られる磁気ヘッドのギャップ部分を示す要部断面図
【図２】本発明の実施の形態による磁気ヘッドの概略を示す斜視図
【図３】本発明の実施の形態による磁気へッドの概略を示す斜視図
【図４】本発明の実施の形態による磁気ヘッドの概略を示す斜視図
【符号の説明】
１ 高透磁率磁性体
２ 非磁性体層
３ ガラス層
４ 巻線溝
５ 一対の磁気コア半体
６ 磁気ギャップ
Claims (8)
- 酸化物換算で、ＳｉＯ２を０．５〜１４重量％、Ｂ２Ｏ３を３〜１５重量％、ＺｎＯを４〜２２重量％、Ｂｉ２Ｏ３を５５〜９０重量％、Ａｌ２Ｏ３を０〜４重量％、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏから選ばれる少なくとも一種を０〜５重量％、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯから選ばれる少なくとも一種を０〜１２重量％含む組成を有することを特徴とする磁気ヘッド用ギャップ接合ガラス。
- 酸化物換算で、ＳｉＯ２を０．５〜１４重量％、Ｂ２Ｏ３を３〜１５重量％、ＺｎＯを４〜２２重量％、Ｂｉ２Ｏ３を５５〜９０重量％、Ａｌ２Ｏ３を０〜４重量％、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏから選ばれる少なくとも一種を０〜５重量％、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯから選ばれる少なくとも一種を０〜１２重量％、Ｓｃ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、ＣｅＯ２、Ｐｒ２Ｏ３、Ｎｄ２Ｏ３、Ｓｍ２Ｏ３、Ｅｕ２Ｏ３、Ｇｄ２Ｏ３、Ｔｂ２Ｏ３、Ｄｙ２Ｏ３、Ｈｏ２Ｏ３、Ｅｒ２Ｏ３、Ｔｍ２Ｏ３、Ｙｂ２Ｏ３およびＬｕ２Ｏ３から選ばれる少なくとも一種を０．１〜１０重量％含む組成を有することを特徴とする磁気ヘッド用ギャップ接合ガラス。
- 酸化物換算で、ＳｉＯ２を０．５〜１２重量％、Ｂ２Ｏ３を３〜９重量％、ＺｎＯを４〜１９重量％、Ｂｉ２Ｏ３を５５〜８５重量％、Ａｌ２Ｏ３を０．１〜４重量％、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏから選ばれる少なくとも一種を０〜４重量％（ただし、Ｌｉ２Ｏを０〜２重量％、Ｎａ２Ｏを０〜３重量％、Ｋ２Ｏを０〜４重量％）、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯから選ばれる少なくとも一種を０〜１０重量％（ただし、ＭｇＯを０〜５重量％、ＣａＯを０〜６重量％、ＳｒＯを０〜８重量％、ＢａＯを０〜１０重量％）、Ｓｃ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、ＣｅＯ２、Ｐｒ２Ｏ３、Ｎｄ２Ｏ３、Ｓｍ２Ｏ３、Ｅｕ２Ｏ３、Ｇｄ２Ｏ３、Ｔｂ２Ｏ３、Ｄｙ２Ｏ３、Ｈｏ２Ｏ３、Ｅｒ２Ｏ３、Ｔｍ２Ｏ３、Ｙｂ２Ｏ３およびＬｕ２Ｏ３から選ばれる少なくとも一種を０．１〜１０重量％含む組成を有することを特徴とする磁気ヘッド用ギャップ接合ガラス。
- 酸化物換算で、ＺｎＯとＢ２Ｏ３の重量比（ＺｎＯ／Ｂ２Ｏ３）を０．８〜２．８とすることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の磁気ヘッド用ギャップ接合ガラス。
- 酸化物換算で、Ａｌ２Ｏ３とＳｉＯ２の重量比（Ａｌ２Ｏ３／ＳｉＯ２）を０．５以下とすることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の磁気ヘッド用ギャップ接合ガラス。
- 少なくとも一方に巻線用溝を設けた一対の磁気コア半体を、対向面を非磁性ギャップ材として突き合わせ、接合した構造を有する磁気ヘッドであって、前記一対の磁気コア半体が請求項１〜５のいずれかに記載の磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスで接合されていることを特徴とする磁気ヘッド。
- 少なくとも一方に巻線用溝を設け、少なくとも一方のギャップ対向面に金属磁性膜を形成した一対の磁気コア半体を、対向面を非磁性ギャップ材として前記ギャップ対向面を突き合わせ、接合した構造を有する磁気ヘッドであって、前記一対の磁気コア半体が請求項１〜５のいずれかに記載の磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスで接合されていることを特徴とする磁気ヘッド。
- 少なくとも一方に巻線用溝を設け、非磁性基板により金属磁性膜を挟み込んでなる一対の磁気コア半体を、非磁性ギャップ材を介して前記両金属磁性膜の端面を突き合わせ、接合した構造を有する磁気ヘッドであって、前記一対の磁気コア半体が請求項１〜５のいずれかに記載の磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスで接合されていることを特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002308206A JP4415535B2 (ja) | 2002-10-23 | 2002-10-23 | 磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスおよび磁気ヘッド |
| PCT/JP2003/013339 WO2004037736A1 (ja) | 2002-10-23 | 2003-10-17 | 磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスおよび磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002308206A JP4415535B2 (ja) | 2002-10-23 | 2002-10-23 | 磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスおよび磁気ヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004142982A true JP2004142982A (ja) | 2004-05-20 |
| JP4415535B2 JP4415535B2 (ja) | 2010-02-17 |
Family
ID=32170966
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002308206A Expired - Fee Related JP4415535B2 (ja) | 2002-10-23 | 2002-10-23 | 磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスおよび磁気ヘッド |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4415535B2 (ja) |
| WO (1) | WO2004037736A1 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006160599A (ja) * | 2004-11-11 | 2006-06-22 | Sony Corp | 無鉛ガラス組成物及び磁気ヘッド |
| JP2007031258A (ja) * | 2005-06-23 | 2007-02-08 | Asahi Techno Glass Corp | 低融点ガラスおよび封着用組成物ならびに封着用ペースト |
| JP2007210880A (ja) * | 2006-01-16 | 2007-08-23 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ビスマス系ガラス組成物およびビスマス系封着材料 |
| JP2008230943A (ja) * | 2007-03-23 | 2008-10-02 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 結晶性ビスマス系ガラス組成物および結晶性ビスマス系材料 |
| JP2008303076A (ja) * | 2007-06-05 | 2008-12-18 | Central Glass Co Ltd | 無鉛絶縁性被膜材料 |
| JP2010018502A (ja) * | 2008-07-14 | 2010-01-28 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ビスマス系ガラス組成物および封着材料 |
| WO2010032706A1 (ja) * | 2008-09-19 | 2010-03-25 | セントラル硝子株式会社 | 無鉛低融点ガラス |
| JP2013541488A (ja) * | 2010-09-16 | 2013-11-14 | ダウニア・ソーラー・セル・ソシエタ・ア・レスポンサビリタ・リミタータ | 電子デバイスの調製に有用な低軟化温度をもつシール剤 |
| CN108793756A (zh) * | 2018-06-22 | 2018-11-13 | 贵州佰博新材料科技有限公司 | 一种用于铁硅铝磁粉芯绝缘包覆的玻璃粉及其制备方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2168927A4 (en) * | 2007-07-20 | 2012-01-11 | Nippon Electric Glass Co | SEALING MATERIAL, SEALING COMPRESSOR AND GLASS COMPOSITION FOR SEALED SEALING |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07121819A (ja) * | 1993-10-21 | 1995-05-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘッド |
| JPH07282415A (ja) * | 1994-04-13 | 1995-10-27 | Mitsubishi Electric Corp | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
| JP3814810B2 (ja) * | 1996-04-05 | 2006-08-30 | 日本電気硝子株式会社 | ビスマス系ガラス組成物 |
| JPH11353609A (ja) * | 1998-06-10 | 1999-12-24 | Sony Corp | 磁気ヘッドとその作製方法 |
| US6255239B1 (en) * | 1998-12-04 | 2001-07-03 | Cerdec Corporation | Lead-free alkali metal-free glass compositions |
| JP2002241143A (ja) * | 2001-02-09 | 2002-08-28 | Ngk Insulators Ltd | 封着用組成物 |
-
2002
- 2002-10-23 JP JP2002308206A patent/JP4415535B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-10-17 WO PCT/JP2003/013339 patent/WO2004037736A1/ja unknown
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006160599A (ja) * | 2004-11-11 | 2006-06-22 | Sony Corp | 無鉛ガラス組成物及び磁気ヘッド |
| JP2007031258A (ja) * | 2005-06-23 | 2007-02-08 | Asahi Techno Glass Corp | 低融点ガラスおよび封着用組成物ならびに封着用ペースト |
| JP2007210880A (ja) * | 2006-01-16 | 2007-08-23 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ビスマス系ガラス組成物およびビスマス系封着材料 |
| JP2008230943A (ja) * | 2007-03-23 | 2008-10-02 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 結晶性ビスマス系ガラス組成物および結晶性ビスマス系材料 |
| JP2008303076A (ja) * | 2007-06-05 | 2008-12-18 | Central Glass Co Ltd | 無鉛絶縁性被膜材料 |
| JP2010018502A (ja) * | 2008-07-14 | 2010-01-28 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ビスマス系ガラス組成物および封着材料 |
| WO2010032706A1 (ja) * | 2008-09-19 | 2010-03-25 | セントラル硝子株式会社 | 無鉛低融点ガラス |
| JP2010070426A (ja) * | 2008-09-19 | 2010-04-02 | Central Glass Co Ltd | 無鉛低融点ガラス |
| JP2013541488A (ja) * | 2010-09-16 | 2013-11-14 | ダウニア・ソーラー・セル・ソシエタ・ア・レスポンサビリタ・リミタータ | 電子デバイスの調製に有用な低軟化温度をもつシール剤 |
| CN108793756A (zh) * | 2018-06-22 | 2018-11-13 | 贵州佰博新材料科技有限公司 | 一种用于铁硅铝磁粉芯绝缘包覆的玻璃粉及其制备方法 |
| CN108793756B (zh) * | 2018-06-22 | 2021-12-03 | 贵州佰博新材料科技有限公司 | 一种用于铁硅铝磁粉芯绝缘包覆的玻璃粉及其制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2004037736A1 (ja) | 2004-05-06 |
| JP4415535B2 (ja) | 2010-02-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1291329B1 (en) | Glass composition, sealing glass for magnetic head and magnetic head | |
| JP4313067B2 (ja) | ビスマス系ガラス組成物、ならびにそれを封着部材として用いた磁気ヘッドおよびプラズマディスプレイパネル | |
| JP4016507B2 (ja) | ビスマス系ガラス組成物 | |
| US7407902B2 (en) | Bismuth glass composition, and magnetic head and plasma display panel including the same as sealing member | |
| JPWO2004031088A1 (ja) | 封着用ガラスフリット | |
| JP4415535B2 (ja) | 磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスおよび磁気ヘッド | |
| JP4537092B2 (ja) | ガラス組成物及び磁気ヘッド | |
| JPH0462408B2 (ja) | ||
| JP4266109B2 (ja) | 封着用ガラスフリット | |
| JPH03218943A (ja) | 封着ガラス | |
| JPS63156034A (ja) | 封着用ガラス | |
| JP2006160599A (ja) | 無鉛ガラス組成物及び磁気ヘッド | |
| US5245492A (en) | Magnetic head | |
| JP2007161524A (ja) | ビスマス系ガラス組成物 | |
| JP4621995B2 (ja) | ビスマス系ガラス組成物およびビスマス系材料 | |
| JP4276129B2 (ja) | 磁気ヘッド用ガラス組成物および磁気ヘッド | |
| JP2821182B2 (ja) | 電子部品の製造方法 | |
| JPH0431338A (ja) | ガラスおよび磁気ヘッド | |
| JP3151855B2 (ja) | 磁気ヘッド | |
| JP2022041894A (ja) | 高熱膨張係数の無機組成物 | |
| EP0538852B1 (en) | Magnetic head | |
| JPH0437627A (ja) | ガラスおよび磁気ヘッド | |
| JP2000173010A (ja) | 磁気ヘッド用封着ガラス、磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| JPH08165135A (ja) | 磁気ヘッド用ガラス組成物および磁気ヘッド | |
| JPH03257038A (ja) | ガラスおよび磁気ヘッド |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050520 |
|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20050614 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080415 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090908 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091005 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20091104 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091117 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121204 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131204 Year of fee payment: 4 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |