JP2821182B2 - 電子部品の製造方法 - Google Patents
電子部品の製造方法Info
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- JP2821182B2 JP2821182B2 JP17280389A JP17280389A JP2821182B2 JP 2821182 B2 JP2821182 B2 JP 2821182B2 JP 17280389 A JP17280389 A JP 17280389A JP 17280389 A JP17280389 A JP 17280389A JP 2821182 B2 JP2821182 B2 JP 2821182B2
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- crystallized glass
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、電子部品、特に磁性材料間に非磁性層を有
し、精密な寸法精度が要求される磁気ヘッドのような電
子部品を製造する方法に関するものである。
し、精密な寸法精度が要求される磁気ヘッドのような電
子部品を製造する方法に関するものである。
［従来の技術］ 磁気ヘッドは、二枚の磁性材料の間に磁路を遮断する
非磁性層を設けた構造を一ないし複数有している。一般
に非磁性層は、セラミックスや結晶化ガラスからなる非
磁性材料を接着ガラスを用いて磁性材料に接着すること
によって形成されたり、磁性材料の間に非磁性層となり
うる封着ガラスを流し込むことによって形成されたり、
あるいはSiO2等からなる非磁性材料を磁性材料の表面に
スパッタすることによって形成される。
非磁性層を設けた構造を一ないし複数有している。一般
に非磁性層は、セラミックスや結晶化ガラスからなる非
磁性材料を接着ガラスを用いて磁性材料に接着すること
によって形成されたり、磁性材料の間に非磁性層となり
うる封着ガラスを流し込むことによって形成されたり、
あるいはSiO2等からなる非磁性材料を磁性材料の表面に
スパッタすることによって形成される。
［発明が解決しようとする問題点］ ところで、磁気ヘッドの非磁性層の厚みは、磁気ヘッ
ドの種類や位置する箇所により0.1〜200μｍとさまざま
であり、その厚みによって非磁性層の形成方法が選択さ
れるが、いずれの方法によっても５〜70μｍの非磁性層
を形成することは、困難である。
ドの種類や位置する箇所により0.1〜200μｍとさまざま
であり、その厚みによって非磁性層の形成方法が選択さ
れるが、いずれの方法によっても５〜70μｍの非磁性層
を形成することは、困難である。
すなわち二つの磁性材料の間に封着ガラスを流し込ん
で封着ガラス自体を非磁性層とする方法は、非磁性層の
厚みを70μｍ以下になるように磁性材料の間隔を狭める
と封着ガラスを流し込む際の温度を高くする必要があ
り、そのため磁性材料と封着ガラスが反応して磁性材料
の特性が劣化したり、ガラス中に発泡が生じやすくな
る。
で封着ガラス自体を非磁性層とする方法は、非磁性層の
厚みを70μｍ以下になるように磁性材料の間隔を狭める
と封着ガラスを流し込む際の温度を高くする必要があ
り、そのため磁性材料と封着ガラスが反応して磁性材料
の特性が劣化したり、ガラス中に発泡が生じやすくな
る。
またセラミックスや結晶化ガラスを接着ガラスを用い
て磁性材料に接着する方法の場合、それらの単体を接着
前に研磨して70μｍ以下の厚みにしようとすると強度が
不足して研磨時に破壊したり、研磨後の取り扱いに細心
の注意をはらう必要があり、作業性が悪くなるという問
題がある。特にセラミックスは、それを構成する結晶粒
子が大きいため、70μｍ以下の厚みにすることが難し
く、且つ加工後にもろくなるという問題がある。
て磁性材料に接着する方法の場合、それらの単体を接着
前に研磨して70μｍ以下の厚みにしようとすると強度が
不足して研磨時に破壊したり、研磨後の取り扱いに細心
の注意をはらう必要があり、作業性が悪くなるという問
題がある。特にセラミックスは、それを構成する結晶粒
子が大きいため、70μｍ以下の厚みにすることが難し
く、且つ加工後にもろくなるという問題がある。
加えて封着ガラスを用いる方法やセラミックス、結晶
化ガラスを接着する方法のいずれの場合でも、封着ガラ
スや接着ガラスの熱膨張係数が磁性材料のそれと大きく
異なると歪みが発生するので磁性材料の熱膨張係数に近
似した比較的高い熱膨張係数を有することが要求される
が、そのためにはガラス中にアルカリ成分を多重含有さ
せる必要があり、化学的耐久性が悪化しやすいという問
題がある。
化ガラスを接着する方法のいずれの場合でも、封着ガラ
スや接着ガラスの熱膨張係数が磁性材料のそれと大きく
異なると歪みが発生するので磁性材料の熱膨張係数に近
似した比較的高い熱膨張係数を有することが要求される
が、そのためにはガラス中にアルカリ成分を多重含有さ
せる必要があり、化学的耐久性が悪化しやすいという問
題がある。
さらにスパッタによって非磁性層を形成する方法は、
単位時間あたりの形成量が少ないため、５μｍ以上の非
磁性層を形成する場合非常に多くの時間を要し、効率が
悪いという問題がある。
単位時間あたりの形成量が少ないため、５μｍ以上の非
磁性層を形成する場合非常に多くの時間を要し、効率が
悪いという問題がある。
本発明は上記事情に鑑みなされたもので、複数の磁性
材料の間に所望の厚みの非磁性層を有する磁気ヘッドの
ような電子部品を、作業性良く且つ磁性材料の特性を損
なうことなく、精密な寸法精度で製造する方法を提供す
ることを目的とするものである。
材料の間に所望の厚みの非磁性層を有する磁気ヘッドの
ような電子部品を、作業性良く且つ磁性材料の特性を損
なうことなく、精密な寸法精度で製造する方法を提供す
ることを目的とするものである。
［問題点を解決するための手段］ 本発明の電子部品の製造方法は、非磁性層を形成する
熱圧着が可能な結晶化ガラスを所望の形状に加工した
後、その一面に磁性材料を熱圧着する工程、該結晶化ガ
ラスの他面を所望の肉厚に研磨する工程、該結晶化ガラ
スの研磨面に他の磁性材料を熱圧着する工程からなるこ
とを特徴とする。
熱圧着が可能な結晶化ガラスを所望の形状に加工した
後、その一面に磁性材料を熱圧着する工程、該結晶化ガ
ラスの他面を所望の肉厚に研磨する工程、該結晶化ガラ
スの研磨面に他の磁性材料を熱圧着する工程からなるこ
とを特徴とする。
本発明において用いる結晶化ガラスには、重量百分率
でSiO2 60〜85％,Li2O 6〜15％,K2O 1〜７％,Na2O 0.1
〜７％,K2O＋Na2O 2〜14％,P2O5 0.1〜５％,Al2O3 1〜1
0％,PbO 0〜15％,ZrO2 0〜10％からなり、ガラスマトリ
ックス相が全容量の20〜60％を占め、残りが結晶相であ
ることを特徴とする。この結晶化ガラスは、磁性材料を
接触関係に置いた後、加圧しながら結晶化ガラスの軟化
点以下の温度で熱処理することにより、表面部のガラス
マトリックス相に接着作用を付与せしめることが可能で
ある。
でSiO2 60〜85％,Li2O 6〜15％,K2O 1〜７％,Na2O 0.1
〜７％,K2O＋Na2O 2〜14％,P2O5 0.1〜５％,Al2O3 1〜1
0％,PbO 0〜15％,ZrO2 0〜10％からなり、ガラスマトリ
ックス相が全容量の20〜60％を占め、残りが結晶相であ
ることを特徴とする。この結晶化ガラスは、磁性材料を
接触関係に置いた後、加圧しながら結晶化ガラスの軟化
点以下の温度で熱処理することにより、表面部のガラス
マトリックス相に接着作用を付与せしめることが可能で
ある。
また本発明において用いる磁性材料としては酸化物磁
性材料あるいは金属磁性材料があり、酸化物磁性材料と
してはフェライト、金属磁性材料としてはアモルファス
金属、パーマロイ、センダストがある。
性材料あるいは金属磁性材料があり、酸化物磁性材料と
してはフェライト、金属磁性材料としてはアモルファス
金属、パーマロイ、センダストがある。
［作用］ 先記した成分及び含有量からなる結晶化ガラスは、主
結晶相としてLi2O・2SiO2を析出するため形状変化を起
こしにくく、一方ガラスマトリックス相は、SiO2が少な
く、且つK2O,Na2O等のアルカリ成分が多いため熱を受け
るとガラスマトリックス相が溶けて、接着性を示す特性
を有している。この結晶且ガラスと磁性材料とをその表
面同志が接触関係になるように配置した後加圧しながら
結晶化ガラスの軟化点以下の温度で熱処理する、いわゆ
る熱圧着すると、結晶化ガラスの表面部のガラスマトリ
ックス相が薄膜状に溶けて磁性材料との接触界面を被
い、これによって結晶化ガラスと磁性材料とが強固に接
着する。
結晶相としてLi2O・2SiO2を析出するため形状変化を起
こしにくく、一方ガラスマトリックス相は、SiO2が少な
く、且つK2O,Na2O等のアルカリ成分が多いため熱を受け
るとガラスマトリックス相が溶けて、接着性を示す特性
を有している。この結晶且ガラスと磁性材料とをその表
面同志が接触関係になるように配置した後加圧しながら
結晶化ガラスの軟化点以下の温度で熱処理する、いわゆ
る熱圧着すると、結晶化ガラスの表面部のガラスマトリ
ックス相が薄膜状に溶けて磁性材料との接触界面を被
い、これによって結晶化ガラスと磁性材料とが強固に接
着する。
本発明においては結晶化ガラスの一面に磁性材料を熱
圧着した後、結晶化ガラスの他面を研磨するので、結晶
化ガラス単体を研磨する場合に比べて破壊し難くなり、
作業性が良く５〜70μｍの肉厚に研磨することが可能で
ある。
圧着した後、結晶化ガラスの他面を研磨するので、結晶
化ガラス単体を研磨する場合に比べて破壊し難くなり、
作業性が良く５〜70μｍの肉厚に研磨することが可能で
ある。
また本発明で使用する結晶化ガラスは、Na2O,K2Oのア
ルカリ成分の含有量が14％以下であるため化学的耐久性
も良好であり、且つ80〜150x10-7/℃の磁性材料に合わ
せた熱膨張係数を選択できるため磁性材料と接着しても
歪みが発生することはない。
ルカリ成分の含有量が14％以下であるため化学的耐久性
も良好であり、且つ80〜150x10-7/℃の磁性材料に合わ
せた熱膨張係数を選択できるため磁性材料と接着しても
歪みが発生することはない。
［実施例］ 以下本発明を磁気ヘッドの製作に適用した実施例に基
づいて説明する。
づいて説明する。
重量百分率でSiO2 75％,Li2O 8％,K2O 5％,Na2O 3％,
Al2O3 6％,P2O5 3％のガラス組成になるようにガラス原
料を調合し、白金るつぼを用いて約1450℃で溶融した後
カーボン鋳型に流し込んで成形し、これを徐冷炉に入れ
室温まで炉冷することによって結晶化可能なガラス成形
品を得た。その後このガラスを電気炉に入れ120℃／時
の昇温速度で約550℃まで加熱して１時間保持し、次い
で40℃／時の昇温速度で約800℃まで加熱して２時間保
持した後室温まで炉冷した。これによってLi2O・2SiO2
結晶を析出し、ガラスマトリックス相が約25容量％を占
め熱膨張係数が約120×10-7/℃、屈伏点が約730℃の結
晶化ガラスが得られた。
Al2O3 6％,P2O5 3％のガラス組成になるようにガラス原
料を調合し、白金るつぼを用いて約1450℃で溶融した後
カーボン鋳型に流し込んで成形し、これを徐冷炉に入れ
室温まで炉冷することによって結晶化可能なガラス成形
品を得た。その後このガラスを電気炉に入れ120℃／時
の昇温速度で約550℃まで加熱して１時間保持し、次い
で40℃／時の昇温速度で約800℃まで加熱して２時間保
持した後室温まで炉冷した。これによってLi2O・2SiO2
結晶を析出し、ガラスマトリックス相が約25容量％を占
め熱膨張係数が約120×10-7/℃、屈伏点が約730℃の結
晶化ガラスが得られた。
次に、この結晶化ガラスを縦7mm、横10mmで厚さが200
μｍの寸法に加工した後、これの一面に縦7mm、横10mm
で厚さ4mmの寸法を有し、表面を鏡面研磨した熱膨張係
数が約120×10-7/℃のフェライトを載せて接触させ、さ
らにその上に約2Kg/cm2の圧力になるように荷重をか
け、それを電気炉中にセットし、フェライトの酸化防止
のためN2ガス雰囲気中において常温から600℃／時の昇
温速度で約710℃まで加熱し、この温度に１時間保持し
た後、常温まで炉冷することによって結晶化ガラスにフ
ェライトを接着した。
μｍの寸法に加工した後、これの一面に縦7mm、横10mm
で厚さ4mmの寸法を有し、表面を鏡面研磨した熱膨張係
数が約120×10-7/℃のフェライトを載せて接触させ、さ
らにその上に約2Kg/cm2の圧力になるように荷重をか
け、それを電気炉中にセットし、フェライトの酸化防止
のためN2ガス雰囲気中において常温から600℃／時の昇
温速度で約710℃まで加熱し、この温度に１時間保持し
た後、常温まで炉冷することによって結晶化ガラスにフ
ェライトを接着した。
その後、結晶化ガラスの他面の表面を研磨してその肉
厚を40μｍにし、次いでその表面に上記したフェライト
と同じ寸法、特性を有するフェライトを載せて接触さ
せ、上記と同じ条件で処理することによって結晶化ガラ
スの研磨面にフェライトを接着し、これによって二枚の
フェライトの間に40μｍの肉厚を有する結晶化ガラスを
備えた磁気ヘッドを製作した。
厚を40μｍにし、次いでその表面に上記したフェライト
と同じ寸法、特性を有するフェライトを載せて接触さ
せ、上記と同じ条件で処理することによって結晶化ガラ
スの研磨面にフェライトを接着し、これによって二枚の
フェライトの間に40μｍの肉厚を有する結晶化ガラスを
備えた磁気ヘッドを製作した。
上記のように製作した磁気ヘッドの接着面に対して垂
直にダイアモンドカッターで切断し、その切断面を鏡面
研磨して顕微鏡で観察したところ、接着部分にクラック
や気泡は認められず、結晶化ガラスと二枚のフェライト
は強固に接着しており、且つフェライト同志は40μｍの
間隔で良好な平行度を保っていた。
直にダイアモンドカッターで切断し、その切断面を鏡面
研磨して顕微鏡で観察したところ、接着部分にクラック
や気泡は認められず、結晶化ガラスと二枚のフェライト
は強固に接着しており、且つフェライト同志は40μｍの
間隔で良好な平行度を保っていた。
［発明の効果］ 以上のように、本発明によれば所望の厚みの非磁性層
を作業性良く良好に磁性材料の間に形成することが可能
であるため特に精密な寸法精度が要求される磁気ヘッド
の製造に好適であり、またそれ以外にも磁性材料と非磁
性材料の多層構造を有する電子部品の分野において幅広
く適応することが可能である。
を作業性良く良好に磁性材料の間に形成することが可能
であるため特に精密な寸法精度が要求される磁気ヘッド
の製造に好適であり、またそれ以外にも磁性材料と非磁
性材料の多層構造を有する電子部品の分野において幅広
く適応することが可能である。
Claims (4)
- 【請求項１】非磁性層を形成する熱圧着が可能な結晶化
ガラスを所望の形状に加工した後、その一面に磁性材料
を熱圧着する工程、該結晶化ガラスの他面を所望の肉厚
に研磨する工程、該結晶化ガラスの研磨面に他の磁性材
料を熱圧着する工程からなることを特徴とする電子部品
の製造方法。 - 【請求項２】結晶化ガラスが重量百分率でSiO2 60〜85
％,Li2O 6〜15％,K2O 1〜７％,Na2O 0.1〜７％,K2O＋Na
2O 2〜14％,P2O5 0.1〜５％,Al2O3 1〜10％,PbO 0〜15
％,ZrO2 0〜10％からなり、ガラスマトリックス相が全
容量の20〜60％を占め、残りが結晶相であることを特徴
とする特許請求の範囲第一項記載の電子部品の製造方
法。 - 【請求項３】磁性材料が、酸化物磁性材料あるいは金属
磁性材料からなることを特徴とする特許請求の範囲第一
項記載の電子部品の製造方法。 - 【請求項４】研磨した後の結晶化ガラスの肉厚が、５〜
70μｍであることを特徴とする特許請求の範囲第一項記
載の電子部品の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17280389A JP2821182B2 (ja) | 1989-07-04 | 1989-07-04 | 電子部品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17280389A JP2821182B2 (ja) | 1989-07-04 | 1989-07-04 | 電子部品の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0346308A JPH0346308A (ja) | 1991-02-27 |
| JP2821182B2 true JP2821182B2 (ja) | 1998-11-05 |
Family
ID=15948662
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17280389A Expired - Lifetime JP2821182B2 (ja) | 1989-07-04 | 1989-07-04 | 電子部品の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2821182B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4467597B2 (ja) | 2007-04-06 | 2010-05-26 | 株式会社オハラ | 無機組成物物品 |
| WO2014055840A2 (en) | 2012-10-04 | 2014-04-10 | Corning Incorporated | Compressively stressed laminated glass article via photosensitive glass and method of making the article |
| WO2014055834A1 (en) | 2012-10-04 | 2014-04-10 | Corning Incorporated | Article with glass layer and glass-ceramic layer and method of making the article |
-
1989
- 1989-07-04 JP JP17280389A patent/JP2821182B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0346308A (ja) | 1991-02-27 |
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