JP2004115777A - 抗菌性高分子及びその製造方法、抗菌性高分子被膜及びその作製方法、並びにこの被膜を表面に有する物品 - Google Patents

抗菌性高分子及びその製造方法、抗菌性高分子被膜及びその作製方法、並びにこの被膜を表面に有する物品 Download PDF

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Yoshikazu Takahashi
高橋　善和
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Abstract

【課題】　　抗菌性高分子及びその製造方法、抗菌性高分子被膜及びその作製方法、並びに抗菌性高分子被膜の適用された物品の提供。
【解決手段】ジアミノ安息香酸モノマー又はハロゲン元素含有ジアミンモノマーとこれらのモノマーと反応し得るモノマーとの蒸着重合反応生成物であるポリイミド、ポリアミド、ポリ尿素、又はポリアゾメチン。ジアミノ安息香酸モノマー又はハロゲン元素含有ジアミンモノマーを蒸発させて得たガスと、これらのモノマーと反応し得るモノマーを蒸発させて得たガスとを、真空中で物品表面上で蒸着重合させる。
【選択図】　図１

Description

　本発明は、抗菌性高分子及びその製造方法、抗菌性高分子被膜及びその作製方法、並びにこの抗菌性高分子被膜を表面に有する物品に関する。
　抗菌性プラスチックの作製方法として、一般に、プラスチックの加熱溶融による抗菌剤の練込み加工がある。この練込み加工においては、使用されるプラスチックの種類や加工方法によっても若干の違いはあるが、通常２５０〜３００℃以上の耐熱性を有する抗菌剤を使用することが要求される。これは、加工温度における抗菌剤成分の揮発、分解、含有水分の放出等により、抗菌剤の重量変化や変色や抗菌効果の低下等が生じないようにするためである。使用されるプラスチックには、ポリエチレン、ポリスチレン、塩化ビニル、ポリプロピレン等がある。例えば、抗菌剤を５〜３０％程度の高濃度で含有したプラスチックペレットであるマスターバッチを使用し、これを目的とするプラスチックに添加、混合し、成形して製品を得る。最終製品への抗菌剤添加量は０．３〜２％程度で主に実施されている。上記練込み加工の従来技術の一つとして、例えば、ポリカーボネート樹脂に溶解性ガラスからなる抗菌剤を添加して練込むことにより得られた抗菌性樹脂製品が知られている（例えば、特許文献１参照）。
　また、真空中で（ａ）４,４'−ジアミノジフェニルメタン等の特定のジアミン成分と（ｂ）ジイソシアナート成分とを別々の蒸発源から蒸発させ、これを基板上で蒸着重合することによりポリ尿素膜を形成し、ついで、このポリ尿素膜に紫外線及び／又は電子線を照射することにより、レジスト用又は電気絶縁用ポリ尿素を製造する方法も知られている（例えば、特許文献２参照）。
　さらに、ポリイミド系樹脂組成物の一成分として、ジアミノ安息香酸と無水ピロメリト酸との溶液重合により形成されたポリイミド系樹脂も知られている（例えば、特許文献３参照）。
　さらにまた、３,３',４,４'−ビスフェニルテトラカルボン酸無水物等の特定の酸無水物と２,２−ビス[４−(４−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン等の特定のジアミンとの蒸着重合により形成されたポリイミド蒸着重合膜も知られている（例えば、特許文献４参照）。
特許第３２７１８８８号公報（請求項１） 特開平７−２５８３７０号公報（請求項１、第１−２頁） 特開２００１−１０６９１１号公報（請求項５、第１０−１１頁） 特開平１１−２３６４４７号公報（請求項１−２）
　上記特許文献１〜４には、ジアミノ安息香酸とこれと反応し得るモノマーとを蒸着重合せしめることにより、抗菌性高分子を形成することができるという記載も示唆もない。
　また、金属やセラミックスからなる部品や製品等の物品への抗菌性付与には，粘着剤等により抗菌性プラスチックフィルムを表面に適用して使用する例が多い。このため、複雑形状の部品や製品等の物品の全面に均一に抗菌剤を適用することは困難であるという問題があり、複雑な表面形状を有する物品の表面にも適用可能な抗菌性高分子の開発が望まれている。
　本発明の課題は、上記従来技術の問題点を解決し、従来技術にはない抗菌性蒸着重合反応生成物を開発することにあり、特に、抗菌性高分子及びその製造方法、抗菌性高分子被膜及びその作製方法、並びに抗菌性高分子被膜を表面に有する物品を提供することにある。例えば、金属やセラミックスで構成される部材や製品等の物品の複雑な表面に抗菌性高分子被膜を形成する技術を提供することにある。
　本発明者等は、前記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、蒸着重合によって形成される高分子膜の中でも、ジアミノ安息香酸モノマーを用いて製造した高分子膜が抗菌性を有することを見い出し、本発明を完成するに至った。
　かかる知見に基づいてなされた本発明の抗菌性高分子に係る発明は、ジアミノ安息香酸モノマー又はハロゲン元素含有ジアミンモノマーとこれらジアミノ安息香酸モノマー又はハロゲン元素含有ジアミンモノマーと反応し得るモノマーとの蒸着重合反応生成物からなる。
　ジアミノ安息香酸モノマーは、２,３−ジアミノ安息香酸、２,４−ジアミノ安息香酸、２,５−ジアミノ安息香酸、３,４−ジアミノ安息香酸及び３,５−ジアミノ安息香酸から選ばれたモノマーであることを特徴とする。
　ハロゲン元素は、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素から選ばれた元素であることを特徴とする。
　ハロゲン元素含有ジアミンモノマーは、４,４'−メチレンビス(２−クロロベンゼンアミン)、３,３'−ジクロロ−４,４'−ジアミノジフェニルエーテル、５−クロロ−ｍ−フェニレンジアミンから選ばれたモノマーであることを特徴とする。
　ジアミノ安息香酸モノマー又はハロゲン元素含有ジアミンモノマーと反応し得るモノマーは、テトラカルボン酸二無水物、ジイソシアナート、酸塩化物、及びアルデヒドから選ばれたモノマーであることを特徴とする。　
　上記抗菌性高分子は、ポリイミド、ポリアミド、ポリ尿素、又はポリアゾメチンであり、このポリイミドは、下記一般式、
Figure 2004115777
 （式中、Ａｒ及びＡｒ’は、フェニル基、トリル基又はフェネチル基等から選ばれた芳香族基又は脂肪族基であり、Ｒは、ＣＯＯＨ、又はフッ素、塩素、臭素、及びヨウ素から選ばれたハロゲン元素である。）によって表される１種以上の構造単位からなる共重合体であり、ポリアミドは、下記一般式、
Figure 2004115777
 （式中、Ａｒ及びＡｒ’は、フェニル基、トリル基又はフェネチル基等から選ばれた芳香族基又は脂肪族基であり、Ｒは、ＣＯＯＨ、又はフッ素、塩素、臭素、及びヨウ素から選ばれたハロゲン元素である。）によって表される１種以上の構造単位からなる共重合体であり、ポリ尿素は、下記一般式、
Figure 2004115777
 （式中、Ａｒ及びＡｒ’は、フェニル基、トリル基又はフェネチル基等から選ばれ芳香族基又は脂肪族基であり、Ｒは、ＣＯＯＨ、又はフッ素、塩素、臭素、及びヨウ素から選ばれたハロゲン元素である。）によって表される１種以上の構造単位からなる共重合体であり、また、ポ
リアゾメチンは、下記一般式、
Figure 2004115777
 （式中、Ａｒ及びＡｒ’は、フェニル基、トリル基又はフェネチル基等から選ばれた芳香族基又は脂肪族基であり、Ｒは、ＣＯＯＨ、又はフッ素、塩素、臭素、及びヨウ素から選ばれたハロゲン元素である。）によって表される１種以上の構造単位からなる共重合体である。
　本発明の抗菌性高分子の製造方法は、ジアミノ安息香酸モノマー又はハロゲン元素含有ジアミンモノマーを蒸発させて得たガスと、これらジアミノ安息香酸モノマー又はハロゲン元素含有ジアミンモノマーと反応し得るモノマーを蒸発させて得たガスとを、真空中で蒸着重合させて抗菌性高分子を製造することを特徴とする。
　この製造方法で用いるジアミノ安息香酸モノマーや、ハロゲン元素含有ジアミンモノマーや、これらジアミノ安息香酸モノマー又はハロゲン元素含有ジアミンモノマーと反応し得るモノマー、及び得られる抗菌性高分子であるポリイミド、ポリアミド、ポリ尿素、また、ポリアゾメチンは、上記の通りである。
　本発明の抗菌性高分子被膜は、上記抗菌性高分子からなる。
　この抗菌性高分子被膜の作製方法は、ジアミノ安息香酸モノマー又はハロゲン元素含有ジアミンモノマーを蒸発させて得たガスと、これらジアミノ安息香酸モノマー又はハロゲン元素含有ジアミンモノマーと反応し得るモノマー成分を蒸発させて得たガスとを、真空中、基体上で蒸着重合させて抗菌性高分子被膜を作製することを特徴とする。ここで用いるジアミノ安息香酸モノマーや、ハロゲン元素含有ジアミンモノマーや、これらジアミノ安息香酸モノマー又はハロゲン元素含有ジアミンモノマーと反応し得るモノマー、及び得られる抗菌性高分子等は、上記の通りである。
　基体上に蒸着膜を形成した後に、蒸着重合反応が不十分である時、必要により、所定の温度で加熱処理を行うことが好ましい。この加熱処理を行うことによって不十分な重合反応が完了するため、得られた膜の耐熱性が向上する。
　さらに、本発明の物品は、上記抗菌性高分子を含む抗菌性高分子被膜を表面に有する部材や製品である。
　本発明によれば、ジアミノ安息香酸モノマー又はハロゲン元素含有ジアミンモノマーとこれらジアミノ安息香酸モノマー又ハロゲン元素含有ジアミンモノマーと反応し得るモノマーとを蒸着重合反応させることにより、抗菌性高分子を得ることができた。この抗菌性高分子からなる被膜の作製方法は、蒸着重合反応によるものであるため、例えば熱交換器等の複雑形状の表面に対しても所望の膜厚の被膜を形成することができる。
　以下、本発明に係る抗菌性高分子及びその製造方法、抗菌性高分子の被膜及びその作製方法、並びにこの被膜を表面に有する物品についての実施の最良の形態を説明する。
　本発明によれば、ジアミノ安息香酸モノマー又はハロゲン元素含有ジアミンモノマーとこれらモノマーと反応し得るモノマーとを蒸着重合反応せしめて抗菌性高分子を得ている。
　ジアミノ安息香酸モノマーは上記の通りであり、ハロゲン元素含有ジアミンモノマーは上記したもの以外に次の化合物を列挙することができる。
　追加のハロゲン元素含有ジアミンモノマーとしては、例えば、Ｎ,Ｎ'−ビスクロロアセチルエチレンジアミン、Ｎ−アセチル−Ｎ'−クロロアセチルエチレンジアミン、Ｎ,Ｎ'−ビス−(３−クロロプロピオニル)エチレンジアミン、Ｎ−プロピオニル−Ｎ'−(α−ブロモイソバレリル)エチレンジアミン、Ｎ,Ｎ'−ビスクロロアセチルトリメチレンジアミン、Ｎ,Ｎ'−ビスクロロアセチルテトラメチレンジアミン、Ｎ,Ｎ'−ビス(２−ブロモプロピオニル)テトラメチレンジアミン、Ｎ−(２−ブロモエチル)ペンタメチレンジアミン、Ｎ−(３−ブロモプロピル)ペンタメチレンジアミン、Ｎ,Ｎ'−ビスクロロアセチルペンタメチレンジアミン、Ｎ,Ｎ'−ビス−(３−クロロプロピオニル)ヘキサメチレンジアミン、及びＮ,Ｎ'−ビス−(１１−ブロモウンデカノイル)ヘキサメチレンジアミン等のようなハロゲン元素含有脂肪族系ジアミン、並びにＮ−(o−クロロフェニル)−ｏ−フェニレンジアミン、４−クロロ−ｏ−フェニレンジアミン、３,５−ジクロロ−ｏ−フェニレンジアミン、３,６−ジクロロ−ｏ−フェニレンジアミン、４−ブロモ−ｏ−フェニレンジアミン、３,５−ジブロモ−ｏ−フェニレンジアミン、３,６−ジブロモ−ｏ−フェニレンジアミン、４,５−ジブロモ−ｏ−フェニレンジアミン、３,４,５−トリブロモ−ｏ−フェニレンジアミン、４−クロロ−ｍ−フェニレンジアミン、２,５−ジクロロ−ｍ−フェニレンジアミン、４,６−ジクロロ−ｍ−フェニレンジアミン、４−ブロモ−ｍ−フェニレンジアミン、５−ブロモ−ｍ−フェニレンジアミン、４,６−ジブロモ−ｍ−フェニレンジアミン、２,４,６−トリブロモ−ｍ−フェニレンジアミン、２,４,５,６−テトラブロモ−ｍ−フェニレンジアミン、４,６−ジヨード−ｍ−フェニレンジアミン、Ｎ−４−クロロフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−４−ブロモフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、２,５−ジクロロ−ｐ−フェニレンジアミン、２,６−ジクロロ−ｐ−フェニレンジアミン、２,３,５,６−テトラクロロ−ｐ−フェニレンジアミン、２,５−ジブロモ−ｐ−フェニレンジアミン、２,６−ジブロモ−ｐ−フェニレンジアミン、２,６−ジヨード−ｐ−フェニレンジアミン、２−クロロ−３,５−ジアミノトルエン、２,４−ジクロロ−３,５−ジアミノトルエン、２,６ジクロロ−３,５−ジアミノトルエン、５−クロロ−２,４'−ジアミノジフェニル、５−ブロモ−２,４'−ジアミノジフェニル、２,２'−ジクロロベンジジン、３,３'−ジクロロベンジジン、２,２'−ジブロモベンジジン、３,５,３',５'−テトラブロモベンジジン、２,２'−ジクロロ−３,３'−ジメチルベンジジン、５,５'−ジクロロ−３,３'−ジメチルベンジジン、２",５"−ジクロロ−４,４'−ジアミノトリフェニルメタン、３−クロロ−２,５−ジアミノヒドロキノン、３,６−ジクロロ−２,５−ジアミノヒドロキノン、２−クロロ−４,６−ジアミノレゾルシン、２,２'−ビス(トリフロロメチル)ベンジジン、及び２,２'−ビス−(ｐ−アミノフェニル)−１,１,１,３,３,３−ヘキサフロロプロパン等のようなハロゲン元素含有芳香族系ジアミンを挙げることができる。
　上記ジアミノ安息香酸モノマー又はハロゲン元素含有ジアミンモノマーと反応し得るモノマーには、テトラカルボン酸二無水物として、ピロメリト酸二無水物、オキシジフタル酸二無水物、ビフェニル−３,４,３',４'−テトラカルボン酸二無水物等を使用することができ、ジイソシアナートとして、４,４'−メチレンビス(イソシアン酸フェニル)、ヘキサメチレンジイソシアナート、３,３'−ジメチルジフェニル−４,４'−ジイソシアナート等を使用することができ、酸塩化物として、二塩化テレフタロイル、二塩化イソフタロイル等を使用することができ、また、アルデヒドとして、テレフタルアルデヒド、イソフタルアルデヒド等を使用することができる。これらのモノマーのうち、ピロメリト酸二無水物、オキシジフタル酸二無水物、４,４'−メチレンビス(イソシアン酸フェニル)、二塩化テレフタロイル、テレフタルアルデヒドが好ましい。
　蒸着重合反応により上記抗菌性高分子の被膜を被処理物品の表面に形成する際には、例えば、図１に模式的に示す蒸着重合装置を用いることができる。この蒸着重合装置１には、それぞれのガス導入バルブを介して各モノマーガスを導入するための一対の第１ガス導入口２及び第２ガス導入口３が側壁の所定の位置に設けられ、また、油拡散ポンプに連なる排気バルブ（図示せず）を介して排気作動を行うための真空排気口４が対向する側壁の所定の位置に設けられている。
　ガス導入バルブは加熱手段により所定の温度を維持できるように構成する。
　この蒸着重合装置１の内部には、蒸着重合装置１の天井部１ａから必要な張力に充分耐え得る索条６により懸吊される等して、被処理物品５が配置される。この場合、被処理物品５を載置するための適当なホルダー等を装置１の内部に配置してもよい。被処理物品５は、抗菌処理すべきいずれの面も遮蔽されることなく装置１内で露出されるようにして配置することが必要である。
　また、蒸着重合装置１は、内部の温度を制御できる温度制御手段を備えており、蒸着重合反応に必要な熱を供給できるように構成されている。そして、被処理物品５の表面は、上記した温度制御手段により加熱された装置１の内壁からの輻射熱で全体が均等に加熱される。この場合、被処理物品自体又はその表面を直接加熱する手段を設けてもよい。
　上記のように構成された蒸着重合装置１を用い、その内部に被処理物品５を配置した状態で、最初に真空排気口４に連なる排気バルブにより真空排気を作動させ、装置１の内部圧力を蒸着重合反応に好適な圧力、例えば１０＋１〜１０−５、好ましくは１０−２〜１０−３まで減圧する。この圧力状態を保ちながら、温度制御手段により装置内部を蒸着重合反応に好適な反応温度、例えば２００℃に加熱し、この状態を保持する。そして、あらかじめ所定の温度に加熱した容器内の気体状態のジアミノ安息香酸（例えば、３,５−ジアミノ安息香酸(ＤＢＡ)等）を第１ガス導入口２から、また、あらかじめ所定の温度に加熱した容器内の気体状態のジアミノ安息香酸と反応し得るモノマー（例えば、ピロメリト酸二無水物(ＰＭＤＡ)等）を第２ガス導入口３から装置内へ同時に導入する。この状態で、被処理物品５の表面で蒸着重合反応を所定の時間（例えば、１時間）に亘って進行させ、被処理物品５の表面全体に所定の膜厚の抗菌性高分子被膜を均等に形成する。
　上記蒸着重合プロセスにおける装置内圧力と温度とは、減圧操作と加熱操作とを同時に行うことにより設定してもよい。
　上記蒸着重合装置では、気体状態の各モノマーを装置外部から各ガス導入バルブを介して導入するように構成したが、装置内部に各モノマーの蒸発源を設け、この蒸発源から発生する気体状態の各モノマーを原料として用いて同様の条件で蒸着重合してもよい。
　上記被処理物品は、特に制限されるものではなく、本発明の抗菌性高分子被膜は、例えばドアノブ等の金属製物品や病院内における金属製物品や航空機用金属製物品等のように、不特定多数の人間が触れたり、使用したりする多種類の製品に適用可能である。
　以下、本発明の実施例について説明するが、これらの実施例で用いた蒸着重合反応条件により本発明が限定されるものではない。
　図１に示す蒸着重合装置を用いて、蒸着重合により被処理物品としての空調機用熱交換器５の表面に抗菌性高分子被膜を被覆させた。この熱交換器５は、その放熱板５ａを前面にして装置内に配置した。この熱交換器５は、蒸着重合装置１の天井部１ａから必要な張力に充分耐え得る索条６により懸吊し、そのいずれの面も遮蔽されることなく装置１内に露出されるように配置した。
　この蒸着重合装置１を用い、その内部に熱交換器５を配置した状態で、最初に真空排気口４に連なる排気バルブにより真空排気を作動させ、装置１の内部圧力を１０−２Ｐａに減圧した。この圧力状態を保ちながら、温度制御手段によりその装置内部を２００℃に加熱し、この状態を保持した。そして、予め２００℃に加熱した容器内の気体状態の３,５−ジアミノ安息香酸（ＤＢＡ）を第１ガス導入口２から、また、予め１９０．５℃に加熱した容器内の気体状態のピロメリト酸二無水物（ＰＭＤＡ）を第２ガス導入口３から装置内へ同時に導入し、この状態で、熱交換器５の表面で蒸着重合反応を１時間に亘って進行させた。蒸着重合反応の終了後、熱交換器５の表面全体は、１μｍの膜厚の抗菌性ポリイミド膜で均等に被覆されていた。得られた抗菌性高分子膜の熱物性は、熱分解開始温度が５３０℃と高く、耐熱性の高い膜であることが確認できた。
　かくして得られた抗菌性ポリイミド被膜の抗菌効果を比較するために、ジアミノ安息香酸（ＤＢＡ）の替りにオキシジアニリン（ＯＤＡ）を用いて、上記方法と同様にポリイミド被膜を形成した熱交換器及び無被覆の熱交換器を対象として、ＪＩＳ Ｚ ２８０１に従った試験方法により、黄色ブドウ状菌及び大腸菌に対する抗菌性試験を実施した。結果を表１に示す。
（表１：抗菌性試験結果）
Figure 2004115777
　表１から明らかなように、本発明の抗菌性ポリイミド被膜は、明らかに黄色ブドウ球菌及び大腸菌に対して良好な抗菌性を示すことが分かる。
　抗菌性高分子被膜を形成させる場合の一方の成分、即ち、第１ガス導入口２から導入すべきジアミノ安息香酸モノマーとして、実施例１のＤＢＡの替わりに、２,３−ジアミノ安息香酸、２,４−ジアミノ安息香酸、２,５−ジアミノ安息香酸、及び３,４−ジアミノ安息香酸を用いて、実施例１記載の蒸着重合反応を繰り返し、それぞれのジアミノ安息香酸モノマーに対応する高分子被膜を得た。得られた高分子被膜に対して、実施例１の場合と同様の抗菌性試験を行ったところ、各被膜とも良好な抗菌性を示した。
　第１ガス導入口２から導入するモノマーとして、実施例１のジアミノ安息香酸モノマーの替わりに、４,４'−メチレンビス(２−クロロベンゼンアミン)、３,３'−ジクロロ−４,４'−ジアミノジフェニルエーテル、５−クロロ−ｍ−フェニレンジアミンを用いて実施例１記載の蒸着重合反応を繰り返し、それぞれのモノマーに対応する高分子被膜を得た。得られた高分子被膜に対して、実施例１の場合と同様の抗菌性試験を行ったところ、各被膜とも良好な抗菌性を示した。
　抗菌性高分子被膜を形成させる場合の他方の成分、即ち、第２ガス導入口３から導入すべきモノマーとして、酸二無水物であるオキシジフタル酸二無水物、ジイソシアナートである４,４'−メチレンビス（イソシアン酸フェニル）、酸塩化物である二塩化テレフタロイル、及びアルデヒドであるテレフタルアルデヒドを用いて、実施例１記載の蒸着重合反応を繰り返し、それぞれのモノマーに対応する高分子被膜を得た。得られた高分子被膜に対して、実施例１の場合と同様の抗菌性試験を行ったところ、各被膜とも良好な抗菌性を示した。
　本発明によれば、抗菌性高分子からなる被膜は、蒸着重合反応により作製できるため、例えば、住宅資材や空調機の熱交換器等に用いられる部材や製品である物品の複雑な形状の表面に対しても所望の膜厚の抗菌性高分子被膜を適用することができる。
本発明の抗菌性高分子被膜を作製するための蒸着重合装置の一構成例を示す模式的断面図。
符号の説明
　１　蒸着重合装置　　　　　　　　　　２　第１ガス導入口
　３　第２ガス導入口　　　　　　　　　４　真空排気口
　５　熱交換器　　　　　　　　　　　　５ａ　放熱板
　６　索条

Claims (13)

  1. 　ジアミノ安息香酸モノマー又はハロゲン元素含有ジアミンモノマーとこれらジアミノ安息香酸モノマー又はハロゲン元素含有ジアミンモノマーと反応し得るモノマーとの蒸着重合反応生成物からなる抗菌性高分子。
  2. 　前記ジアミノ安息香酸モノマーが、２,３−ジアミノ安息香酸、２,４−ジアミノ安息香酸、２,５−ジアミノ安息香酸、３,４−ジアミノ安息香酸及び３,５−ジアミノ安息香酸から選ばれたモノマーであることを特徴とする請求項１記載の抗菌性高分子。
  3. 　前記ハロゲン元素が、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素から選ばれた元素であることを特徴とする請求項１記載の抗菌性高分子。
  4. 　前記ハロゲン元素含有ジアミンモノマーが、４,４'−メチレンビス(２−クロロベンゼンアミン)、３,３'−ジクロロ−４,４'−ジアミノジフェニルエーテル、５−クロロ−ｍ−フェニレンジアミンから選ばれたモノマーであることを特徴とする請求項１記載の抗菌性高分子。
  5. 　前記ジアミノ安息香酸モノマー又はハロゲン元素含有ジアミンモノマーと反応し得るモノマーが、テトラカルボン酸二無水物、ジイソシアナート、酸塩化物、及びアルデヒドから選ばれたモノマーであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の抗菌性高分子。　
  6. 　前記抗菌性高分子が、ポリイミド、ポリアミド、ポリ尿素、又はポリアゾメチンであり、
    該ポリイミドが、下記一般式、
    Figure 2004115777
     （式中、Ａｒ及びＡｒ’は、芳香族基又は脂肪族基であり、Ｒは、ＣＯＯＨ、又はフッ素、塩素、臭素、及びヨウ素から選ばれたハロゲン元素である。）によって表される１種以上の構造単位からなる共重合体であり、
    該ポリアミドが、下記一般式、
    Figure 2004115777
     （式中、Ａｒ及びＡｒ’は、芳香族基又は脂肪族基であり、Ｒは、ＣＯＯＨ、又はフッ素、塩素、臭素、及びヨウ素から選ばれたハロゲン元素である。）によって表される１種以上の構造単位からなる共重合体であり、
    該ポリ尿素が、下記一般式、
    Figure 2004115777
     （式中、Ａｒ及びＡｒ’は、芳香族基又は脂肪族基であり、Ｒは、ＣＯＯＨ、又はフッ素、塩素、臭素、及びヨウ素から選ばれたハロゲン元素である。）によって表される１種以上の構造単位からなる共重合体であり、また、
    該ポリアゾメチンが、下記一般式、
    Figure 2004115777
     （式中、Ａｒ及びＡｒ’は、芳香族基又は脂肪族基であり、Ｒは、ＣＯＯＨ、又はフッ素、塩素、臭素、及びヨウ素から選ばれたハロゲン元素である。）によって表される１種以上の構造単位からなる共重合体であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の抗菌性高分子。
  7. 　ジアミノ安息香酸モノマー又はハロゲン元素含有ジアミンモノマーを蒸発させて得たガスと、これらジアミノ安息香酸モノマー又はハロゲン元素含有ジアミンモノマーと反応し得るモノマーを蒸発させて得たガスとを、真空中で蒸着重合させて抗菌性高分子を製造することを特徴とする抗菌性高分子の製造方法。
  8. 　前記ジアミノ安息香酸モノマーが、２,３−ジアミノ安息香酸、２,４−ジアミノ安息香酸、２,５−ジアミノ安息香酸、３,４−ジアミノ安息香酸及び３,５−ジアミノ安息香酸から選ばれたモノマーであり、前記ハロゲン元素含有ジアミンモノマーが、４,４'−メチレンビス(２−クロロベンゼンアミン)、３,３'−ジクロロ−４,４'−ジアミノジフェニルエーテル、５−クロロ−ｍ−フェニレンジアミンから選ばれたモノマーであり、これらジアミノ安息香酸モノマー又はハロゲン元素含有ジアミンモノマーと反応し得るモノマーが、テトラカルボン酸二無水物、ジイソシアナート、酸塩化物、及びアルデヒドから選ばれたモノマーであり、そして前記抗菌性高分子が、ポリイミド、ポリアミド、ポリ尿素、又はポリアゾメチンであることを特徴とする請求項７記載の抗菌性高分子の製造方法。
  9. 　前記ポリイミドが、下記一般式、
    Figure 2004115777
     （式中、Ａｒ及びＡｒ’は、芳香族基又は脂肪族基であり、Ｒは、ＣＯＯＨ、又はフッ素、塩素、臭素、及びヨウ素から選ばれたハロゲン元素である。）によって表される１種以上の構造単位からなる共重合体であり、
    前記ポリアミドが、下記一般式、
    Figure 2004115777
     （式中、Ａｒ及びＡｒ’は、芳香族基又は脂肪族基であり、Ｒは、ＣＯＯＨ、又はフッ素、塩素、臭素、及びヨウ素から選ばれたハロゲン元素である。）によって表される１種以上の構造単位からなる共重合体であり、
    前記ポリ尿素が、下記一般式、
    Figure 2004115777
     （式中、Ａｒ及びＡｒ’は、芳香族基又は脂肪族基であり、Ｒは、ＣＯＯＨ、又はフッ素、塩素、臭素、及びヨウ素から選ばれたハロゲン元素である。）によって表される１種以上の構造単位からなる共重合体であり、また、
    前記ポリアゾメチンが、下記一般式、
    Figure 2004115777
     （式中、Ａｒ及びＡｒ’は、芳香族基又は脂肪族基であり、Ｒは、又はＣＯＯＨ、フッ素、塩素、臭素、及びヨウ素から選ばれたハロゲン元素である。）によって表される１種以上の構造単位からなる共重合体であることを特徴とする請求項７又は８に記載の抗菌性高分子の製造方法。
  10. 　請求項１〜６のいずれかに記載の抗菌性高分子からなる抗菌性高分子被膜。
  11. 　ジアミノ安息香酸モノマー又はハロゲン元素含有ジアミンモノマーを蒸発させて得たガスと、これらジアミノ安息香酸モノマー又はハロゲン元素含有ジアミンモノマーと反応し得るモノマー成分を蒸発させて得たガスとを、真空中、基体上で蒸着重合させて抗菌性高分子被膜を作製することを特徴とする抗菌性高分子被膜の作製方法。
  12. 　前記ジアミノ安息香酸モノマーが、２,３−ジアミノ安息香酸、２,４−ジアミノ安息香酸、２,５−ジアミノ安息香酸、３,４−ジアミノ安息香酸及び３,５−ジアミノ安息香酸から選ばれたモノマーであり、前記ハロゲン元素含有ジアミンモノマーが、４,４'−メチレンビス(２−クロロベンゼンアミン)、３,３'−ジクロロ−４,４'−ジアミノジフェニルエーテル、５−クロロ−ｍ−フェニレンジアミンから選ばれたモノマーであり、これらジアミノ安息香酸モノマー又はハロゲン元素含有ジアミンモノマーと反応し得るモノマーが、テトラカルボン酸二無水物、ジイソシアナート、酸塩化物、及びアルデヒドから選ばれたモノマーであり、そして前記抗菌性高分子が、ポリイミド、ポリアミド、ポリ尿素、又はポリアゾメチンであることを特徴とする請求項１１記載の抗菌性高分子被膜の作製方法。
  13. 　請求項１〜６のいずれかに記載の抗菌性高分子を含む抗菌性高分子被膜を表面に有する物品。
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EP03405646A EP1396514B9 (en) 2002-09-06 2003-09-04 Anti-bacterial polymer and method for the preparation thereof, anti-bacterial polymer film and method for the preparation thereof, and article having such a film on the surface thereof
DE60323191T DE60323191D1 (de) 2002-09-06 2003-09-04 Antibakterielles Polymer, antibakterielle Polymerfolie, Verfahren zu ihrer Herstellung und beschichteter Gegenstand
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CNB031554210A CN100482715C (zh) 2002-09-06 2003-09-05 抗菌性高分子及其制造方法、抗菌性高分子覆膜及其制作方法、以及表面有该覆膜的物品
US10/655,568 US7279543B2 (en) 2002-09-06 2003-09-05 Anti-bacterial polymer and method for the preparation thereof, anti-bacterial polymer film and method for the preparation thereof, and article having such a film on the surface thereof

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006224033A (ja) * 2005-02-18 2006-08-31 Ulvac Japan Ltd 多孔質部材の抗菌処理方法及び抗菌性フィルター
JP2011137061A (ja) * 2009-12-28 2011-07-14 Manac Inc ヨウ素担持ポリイミド
JPWO2018230222A1 (ja) * 2017-06-12 2020-03-19 Jsr株式会社 組成物、液晶配向膜、位相差板、偏光板、配向膜の製造方法及び液晶素子
WO2024034647A1 (ja) * 2022-08-10 2024-02-15 積水化学工業株式会社 抗菌抗ウイルス剤、樹脂組成物及び抗菌抗ウイルス性部材

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004115777A (ja) * 2002-09-06 2004-04-15 Ulvac Japan Ltd 抗菌性高分子及びその製造方法、抗菌性高分子被膜及びその作製方法、並びにこの被膜を表面に有する物品
JP2006141821A (ja) * 2004-11-22 2006-06-08 Ulvac Japan Ltd 防食方法
US20100041863A1 (en) * 2008-08-18 2010-02-18 Xerox Corporation Semiconducting polymers
TWI437622B (zh) * 2008-11-26 2014-05-11 Ind Tech Res Inst 氣體噴灑模組
WO2011026498A1 (en) 2009-09-01 2011-03-10 Medovent Gmbh Chitosan tissue dressing
CN103159954B (zh) * 2013-04-10 2015-02-04 莱芜金鼎电子材料有限公司 一种聚酰亚胺树脂的制备方法及在二层无粘结剂挠性覆铜箔中的应用
CN103589153B (zh) * 2013-11-08 2016-03-02 苏州市相城区明达复合材料厂 一种抑菌复合膜材料的制备方法
CN112661921A (zh) * 2020-12-18 2021-04-16 苏州华裕佳和新材料科技有限公司 一种新型抗菌剂、制备方法及应用
US11828189B1 (en) * 2021-12-20 2023-11-28 General Electric Company System and method for restraining heat exchanger with cable in tension

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2393673A (en) * 1943-01-20 1946-01-29 Wallace & Tiernan Inc Substituted 4-amino benzoic acid
US4180614A (en) * 1975-01-20 1979-12-25 E. I. Du Pont De Nemours And Company Gas-barrier coated films, sheets or foils and method of preparation
EP0155823B1 (en) * 1984-03-21 1989-07-26 Nihon Shinku Gijutsu Kabushiki Kaisha Improvements in or relating to the covering of substrates with synthetic resin films
DE3782983T2 (de) * 1986-07-30 1993-04-08 Hitachi Ltd Verfahren zur herstellung eines polyimidfilms durch chemische ablagerung aus der dampfphase.
US4746566A (en) * 1987-05-06 1988-05-24 E. I. Dupont De Nemours And Company Optically anisotropic melt forming aromatic copolyesters based on t-butyl-4-hydroxybenzoic acid
JPH02178630A (ja) * 1988-12-29 1990-07-11 Sharp Corp ポリイミド薄膜の製法及びその装置
JP2834198B2 (ja) * 1989-07-18 1998-12-09 松下電器産業株式会社 コンデンサ
JPH07258370A (ja) * 1994-03-28 1995-10-09 Ulvac Japan Ltd ポリ尿素膜の製造方法
JP3271888B2 (ja) 1996-02-09 2002-04-08 石塚硝子株式会社 抗菌性を有するポリカーボネート樹脂製品
JPH11106506A (ja) * 1997-10-03 1999-04-20 Ulvac Corp 低比誘電性高分子膜及びその形成方法並びに層間絶縁膜
JPH11199864A (ja) * 1997-10-10 1999-07-27 Koto Gijutsu Kenkyuin Kenkyu Kumiai 電気発光素子の製造方法
JPH11236447A (ja) 1998-02-24 1999-08-31 Matsushita Electric Works Ltd ポリイミド蒸着重合膜
JP2001106911A (ja) 1999-10-06 2001-04-17 Hitachi Chem Co Ltd ポリイミド系樹脂組成物及びそれを用いた成形体
JP2003292039A (ja) * 2002-04-04 2003-10-15 Oh Industrial Co Ltd 商品包装体
JP2004115777A (ja) * 2002-09-06 2004-04-15 Ulvac Japan Ltd 抗菌性高分子及びその製造方法、抗菌性高分子被膜及びその作製方法、並びにこの被膜を表面に有する物品

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006224033A (ja) * 2005-02-18 2006-08-31 Ulvac Japan Ltd 多孔質部材の抗菌処理方法及び抗菌性フィルター
JP4669714B2 (ja) * 2005-02-18 2011-04-13 株式会社アルバック 多孔質部材の抗菌処理方法及び抗菌性フィルター
JP2011137061A (ja) * 2009-12-28 2011-07-14 Manac Inc ヨウ素担持ポリイミド
JPWO2018230222A1 (ja) * 2017-06-12 2020-03-19 Jsr株式会社 組成物、液晶配向膜、位相差板、偏光板、配向膜の製造方法及び液晶素子
JP7067555B2 (ja) 2017-06-12 2022-05-16 Jsr株式会社 組成物、液晶配向膜、位相差板、偏光板、配向膜の製造方法及び液晶素子
WO2024034647A1 (ja) * 2022-08-10 2024-02-15 積水化学工業株式会社 抗菌抗ウイルス剤、樹脂組成物及び抗菌抗ウイルス性部材

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