JP2004113934A - スリットノズル洗浄装置及び洗浄方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】スリットノズルの周辺部が汚れることなく、かつ少量の洗浄液でスリットノズルの先端部を洗浄する装置及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】所定幅の塗布液吐出口が開口したスリットノズル先端を、スリットノズルの長手方向に沿って移動しながら洗浄する装置において、この装置は、前記スリットノズルの長手方向に沿った幅より短く設定され、且つミスト状の洗浄液を生成する洗浄液吐出手段及び生成したミスト状洗浄液を前記スリットノズル先端の傾斜部に対して噴き付ける洗浄液噴出口と、前記洗浄液噴出口の上部に位置する気体噴出口及び前記気体を噴出する気体噴出手段とが設けられている。
【選択図】 図１
【解決手段】所定幅の塗布液吐出口が開口したスリットノズル先端を、スリットノズルの長手方向に沿って移動しながら洗浄する装置において、この装置は、前記スリットノズルの長手方向に沿った幅より短く設定され、且つミスト状の洗浄液を生成する洗浄液吐出手段及び生成したミスト状洗浄液を前記スリットノズル先端の傾斜部に対して噴き付ける洗浄液噴出口と、前記洗浄液噴出口の上部に位置する気体噴出口及び前記気体を噴出する気体噴出手段とが設けられている。
【選択図】 図１
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体ウェーハやガラス基板等の板状被処理物表面に塗布液を一定幅で塗布するためのスリットノズルを洗浄する装置及び洗浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来にあって、半導体ウェーハやガラス基板等の板状被処理物表面にレジスト液等を塗布するには、スピンナー上に載置した被処理物の中心部にノズルから塗布液を滴下し、スピンナーによって被処理物を回転させることで発生する遠心力で塗布液を外方に向けて拡散せしめている。この方法では、被処理物表面に残る塗布液が僅かであり、殆どが飛散してしまうので無駄がある。
【０００３】
そこで、スピンナー塗布の代わりにノズル自体に所定幅の塗布液吐出口を開口せしめ、被処理物に対しノズルを相対的に移動することで被処理物表面に所定幅で塗布液を塗布するスリットノズルが知られている。
【０００４】
上述した所定幅の塗布液吐出口を有するスリットノズルを用いれば、塗布液の無駄をなくし且つ効率的に塗布を行えるのであるが、幅広となる分、ノズル先端の周辺部に塗布液の回り込み量も多く、これが乾燥すると大量の異物発生の原因となる。したがって、塗布後の洗浄によってノズル先端及びその周辺部の塗布液を除去しなければならない。
【０００５】
ノズルの先端を洗浄する方法としては、洗浄液が付着したローラにてノズル先端の異物を除去する方法、若しくは洗浄液の吐出穴を有する洗浄装置にてノズル先端全体を一度洗浄する方法が用いられた。
【０００６】
しかしながら、ローラによる洗浄は、異物を溶解した洗浄液が再び洗浄液留まりに戻って、洗浄液を汚してしまうおそれがあり、洗浄液の吐出穴を有する装置を用いる洗浄は、全ての吐出穴に均一な圧力で洗浄液を供給することが困難であり、均一な洗浄ができなくなるおそれがあった。
【０００７】
そこで、ノズルの幅よりも短い洗浄装置をノズルに沿って移動させながら、ノズル先端を洗浄する方法が特開２００１−２５２６０３号公報に開示されている。
【０００８】
特開２００１−２５２６０３号公報には、洗浄ユニットを塗布ヘッド（スリットノズル）の長手方向に沿って移動させながら、塗布液を溶解する溶媒を塗布ヘッドの吐出口周辺に接触させる溶媒吐出手段と、残存している付着物及び溶媒を気体との衝突で除去する気体吐出手段とを設けることで、塗布ヘッドを洗浄する方法が開示されている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記先行技術には、「溶媒吐出手段では、下側溶剤ノズルからの溶剤吐出は吐出された溶剤がスリットダイの下面だけではなく、斜面にも達する程度の吐出速度で行う。この状態で清浄化ユニットをスリットダイのもといた端部（図９の左側端部）にむけて移動する。」と記載されている（公報の段落【００６１】を参照）。この場合では塗布ヘッドの幅が長くなるにつれて多量の洗浄液が必要とし、さらに洗浄中に洗浄液が吹き上がることで、逆に塗布ヘッドを含むスリットダイ全体が異物を溶解した洗浄液で汚れてしまう問題がある。
【００１０】
本発明は、上記の問題に鑑みてなされたものであり、スリットノズルの周辺部が汚れることなく、かつ少量の洗浄液でスリットノズルの先端部を洗浄する装置及び洗浄方法を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決すべく本発明に係る所定幅の塗布液吐出口が開口したスリットノズル先端を、スリットノズルの長手方向に沿って移動しながら洗浄する装置は、前記スリットノズルの長手方向に沿った幅より短く設定され、且つミスト状の洗浄液を生成する洗浄液吐出手段及び生成したミスト状洗浄液を前記スリットノズル先端の傾斜部に対して噴き付ける洗浄液噴出口と、前記洗浄液噴出口の上部に位置する気体噴出口及び前記気体を噴出する気体噴出手段とが設けられている。
【００１２】
また、前記洗浄液吐出手段は、一端が前記洗浄液噴出口となった液体通路と、前記洗浄液噴出口の近傍で前記液体通路に開口する洗浄液供給通路と、この洗浄液供給通路の開口よりも前記洗浄液噴出口から離れた位置で前記液体通路に開口する気体供給通路とから構成され、前記気体噴出手段は、一端が前記気体噴出口となった気体通路と、この気体通路に開口する気体供給通路とを有している。
【００１３】
したがって、洗浄液に気体を加えることで、洗浄液がミスト状となり、洗浄液の表面積を大きくして、スリットノズル先端部に付着している付着物に接触し、付着物の溶解と除去という洗浄効果が向上する上に、洗浄液の使用量も節約することができる。さらに、洗浄液噴出口の上方に気体噴出口を設けることで、洗浄液の吹き上げを抑制することができる。
【００１４】
また、前記スリットノズル先端が所定の位置で停止した状態で、前記スリットノズル洗浄装置と前記スリットノズル先端の傾斜部との隙間は、前記スリットノズルの根元から先端まで均一である。或いは前記スリットノズルの根元から先端にかけて除々に広くなっている。このような構成にすることで、ミスト洗浄液の吹き上げを効率よく防止することができる。
【００１５】
さらに、上記のスリットノズル洗浄装置を利用する洗浄方法は、ミスト状の洗浄液と気体とを同時に供給することで前記スリットノズルの先端部の洗浄を行い、さらに、前記スリットノズルの洗浄を終了した後、気体を供給して前記スリットノズルの先端部を乾燥させるようにする。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明する。第１図は本発明に係るスリットノズル洗浄装置の一実施例の縦断面図であり、図中、支持体１の上には一対の洗浄ブロック２が、支持体１の下方には排出ブロック３が設けられている。また、洗浄ブロック２の上方にスリットノズル４が、上下動自由に取り付けられている。
【００１７】
スリットノズル４には、上記一対の洗浄ブロック２の形状に合わせて、根元５，６から傾斜部７，８が形成され、先細形状をなすとともに、下部９に塗布液の吐出部が形成されている。
【００１８】
また、一対の洗浄ブロック２には、スリットノズル４の傾斜部７，８に対して、水平方向に角度θ（θ：１〜２０°）をなす液体通路１０が穿設されている。液体通路１０の傾斜部７，８に向けられている一端は、液体噴出口１１が形成されている。液体通路１０の液体噴出口１１の近傍に洗浄液供給通路１２が開口し、この開口よりも液体噴出口１１から離れた位置に気体供給通路１３が開口している。
【００１９】
なお、液体通路１０、液体噴出口１１、洗浄液供給通路１２、及び気体供給通路１３によって洗浄液吐出手段が構成される。また、図２は図１のＡ方向の簡略図を示し、この図に示すように液体噴出口１１は、一本の長孔（図２（Ａ））か、又は複数の丸孔（図２（Ｂ））にて構成される。
【００２０】
さらに、上記の一対の洗浄ブロック２には、スリットノズル４の傾斜部７，８に対して、水平方向に角度θ（θ：１〜２０°）をなす気体通路１４が液体通路１０の上部に穿設されている。気体通路１４の傾斜部７，８に向けられている一端は、気体（例えば、エア、窒素、アルゴン等）噴出口１５が形成されて、気体通路１１の気体噴出口１５から離れた位置に気体供給通路１６が開口している。
【００２１】
なお、気体通路１４、気体噴出口１５、及び気体供給通路１６によって気体噴出手段が構成される。また、図２に示すように、気体噴出口１５は、一本の長孔（図２（Ａ））か、又は複数の丸孔（図２（Ｂ））にて構成される。さらに、長孔の液体噴出口１１と複数の丸孔の気体噴出口１５との組み合わせ、或いは複数の丸孔の液体噴出口１１と長孔の気体噴出口１５との組み合わせも可能である。
【００２２】
以上の如き洗浄装置を用いてスリットノズル４を洗浄する方法を説明する。図３は、支持体１を省略した洗浄装置の動作図であり、洗浄装置（或いは洗浄ブロック２）は、その幅Ｗ１がスリットノズル４の長手方向に沿った幅Ｗ２より短く、スリットノズル４に沿って往復動することで、スリットノズル４先端の洗浄及び乾燥を行う。また、スリットノズルは、洗浄装置に対して上下動作することができる。
【００２３】
まず、スリットノズル４を洗浄装置に対して、スリットノズル４先端の傾斜部と洗浄ブロック２との隙間が１．５ｍｍになるように下降させる。この場合に、洗浄ブロック２のスリットノズル４の傾斜部７，８に対する傾斜面の勾配が、傾斜部７，８のと同じである。
【００２４】
次いで、洗浄装置を２５０ｍｍ／ｓの速度でスリットノズル４に沿って移動させながら洗浄処理を開始する。この洗浄装置の移動と同時に、ミスト状洗浄液及びエアをも同時にスリットノズル４の傾斜部７，８に対して噴出して洗浄する。
【００２５】
具体的には、液体噴出口１１と気体噴出口１５とは、両方とも長孔状で、その開口幅が０．３ｍｍである。０．２〜０．６ｌ／ｍｉｎの速度で洗浄液供給通路１２に供給しながら、エアを２００〜５００ｋＰａの圧力で、８０〜１５０ｌ／ｍｉｎの速度で気体供給通路１３に供給する。こうすることによって、洗浄液噴出口１１からはミスト状の洗浄液が噴出され、スリットノズルの先端部を洗浄する。この時スリットノズル４先端の傾斜部７，８に供給されたミスト状洗浄液や洗い流された付着物が、スリットノズル４の傾斜部７，８と洗浄ブロック２の隙間から噴出してしまわないように、気体供給通路１６に２００〜５００ｋＰａの圧力で、８０〜１５０ｌ／ｍｉｎの速度でエアを供給して、気体噴出口１５からエアを噴き出し、洗浄液の洗浄ブロック２とスリットノズル４の傾斜部７，８との隙間から外部への噴出しを防止する。
【００２６】
また、洗浄ブロック２が移動する際に、排出ブロック３は常に２５０〜５００ｋＰａまで排気が行われているので、洗浄液や洗い流された付着物は排気ブロック３から排出されるようになる。
【００２７】
さらに、洗浄装置（或いは洗浄ブロック２）は、スリットノズル４の終端に到着したら、ミスト状洗浄液およびエアの供給を停止し、排気ブロック３のみを作動させ、乾燥しながらスリットノズル４の始端に戻ってくる。なお、洗浄装置はスリットノズル４の始端に戻る際に、排気ブロック３で排気するとともに、気体噴出手段も作動させると、乾燥が一層促進できる。また、乾燥処理におけるノズルの移動速度は、洗浄処理におけるノズルの移動速度よりも遅くすることで、乾燥を促進させることができる。なお、洗浄ブロック２は、複数回往復して洗浄を行うことが可能である。
【００２８】
図４にスリットノズル洗浄装置の他の実施例を示す。上記の実施例においてはスリットノズル４先端の傾斜部と洗浄ブロック２との隙間を一定にしたが、この実施例においては、図４の影部分で示したように、スリットノズル４′の傾斜部７′、８′の根元５′、６′からスリットノズル４の下部９′にかけて徐々に広げていく構造としている。この時、傾斜部７′、８′の根元５′、６′と洗浄ブロック２′との一番近づいた距離を１．５ｍｍに設定する。
【００２９】
【発明の効果】
以上に説明した如く本発明に係るスリットノズル洗浄装置及ぶ洗浄方法によれば、スリットノズルの先端を洗浄するのに、ミスト状洗浄液を使用することで、洗浄液の使用量を削減することができるうえに、洗浄液の表面積を大きくして付着物に接触し付着物の溶解と除去をしやすく洗浄しやすい。さらに、液体噴出口の上方に気体噴出口を設けることで、洗浄液の吹き上げを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明にかかる洗浄装置の縦断面図
【図２】図１におけるＡ方向からの簡略図
【図３】図１における洗浄装置の動作図、（Ａ）正面側簡略図（Ｂ）側面側簡略図
【図４】本発明に係る洗浄装置の他の実施例における縦断面図
【符号の説明】
１、１′…支持体、 ２、２′…洗浄ブロック、 ３、３′…排出ブロック、４、４′…スリットノズル、 ５、６…スリットノズルの根元、 ７，８…スリットノズルの傾斜部、 ９…スリットノズルの下部、 １０、１０′…液体通路、 １１、１１′…液体噴出口、 １２、１２′…洗浄液供給通路、 １３、１３′…気体供給通路、 １４、１４′…気体通路、 １５、１５′…気体噴出口、 １６、１６′…気体供給通路。
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体ウェーハやガラス基板等の板状被処理物表面に塗布液を一定幅で塗布するためのスリットノズルを洗浄する装置及び洗浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来にあって、半導体ウェーハやガラス基板等の板状被処理物表面にレジスト液等を塗布するには、スピンナー上に載置した被処理物の中心部にノズルから塗布液を滴下し、スピンナーによって被処理物を回転させることで発生する遠心力で塗布液を外方に向けて拡散せしめている。この方法では、被処理物表面に残る塗布液が僅かであり、殆どが飛散してしまうので無駄がある。
【０００３】
そこで、スピンナー塗布の代わりにノズル自体に所定幅の塗布液吐出口を開口せしめ、被処理物に対しノズルを相対的に移動することで被処理物表面に所定幅で塗布液を塗布するスリットノズルが知られている。
【０００４】
上述した所定幅の塗布液吐出口を有するスリットノズルを用いれば、塗布液の無駄をなくし且つ効率的に塗布を行えるのであるが、幅広となる分、ノズル先端の周辺部に塗布液の回り込み量も多く、これが乾燥すると大量の異物発生の原因となる。したがって、塗布後の洗浄によってノズル先端及びその周辺部の塗布液を除去しなければならない。
【０００５】
ノズルの先端を洗浄する方法としては、洗浄液が付着したローラにてノズル先端の異物を除去する方法、若しくは洗浄液の吐出穴を有する洗浄装置にてノズル先端全体を一度洗浄する方法が用いられた。
【０００６】
しかしながら、ローラによる洗浄は、異物を溶解した洗浄液が再び洗浄液留まりに戻って、洗浄液を汚してしまうおそれがあり、洗浄液の吐出穴を有する装置を用いる洗浄は、全ての吐出穴に均一な圧力で洗浄液を供給することが困難であり、均一な洗浄ができなくなるおそれがあった。
【０００７】
そこで、ノズルの幅よりも短い洗浄装置をノズルに沿って移動させながら、ノズル先端を洗浄する方法が特開２００１−２５２６０３号公報に開示されている。
【０００８】
特開２００１−２５２６０３号公報には、洗浄ユニットを塗布ヘッド（スリットノズル）の長手方向に沿って移動させながら、塗布液を溶解する溶媒を塗布ヘッドの吐出口周辺に接触させる溶媒吐出手段と、残存している付着物及び溶媒を気体との衝突で除去する気体吐出手段とを設けることで、塗布ヘッドを洗浄する方法が開示されている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記先行技術には、「溶媒吐出手段では、下側溶剤ノズルからの溶剤吐出は吐出された溶剤がスリットダイの下面だけではなく、斜面にも達する程度の吐出速度で行う。この状態で清浄化ユニットをスリットダイのもといた端部（図９の左側端部）にむけて移動する。」と記載されている（公報の段落【００６１】を参照）。この場合では塗布ヘッドの幅が長くなるにつれて多量の洗浄液が必要とし、さらに洗浄中に洗浄液が吹き上がることで、逆に塗布ヘッドを含むスリットダイ全体が異物を溶解した洗浄液で汚れてしまう問題がある。
【００１０】
本発明は、上記の問題に鑑みてなされたものであり、スリットノズルの周辺部が汚れることなく、かつ少量の洗浄液でスリットノズルの先端部を洗浄する装置及び洗浄方法を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決すべく本発明に係る所定幅の塗布液吐出口が開口したスリットノズル先端を、スリットノズルの長手方向に沿って移動しながら洗浄する装置は、前記スリットノズルの長手方向に沿った幅より短く設定され、且つミスト状の洗浄液を生成する洗浄液吐出手段及び生成したミスト状洗浄液を前記スリットノズル先端の傾斜部に対して噴き付ける洗浄液噴出口と、前記洗浄液噴出口の上部に位置する気体噴出口及び前記気体を噴出する気体噴出手段とが設けられている。
【００１２】
また、前記洗浄液吐出手段は、一端が前記洗浄液噴出口となった液体通路と、前記洗浄液噴出口の近傍で前記液体通路に開口する洗浄液供給通路と、この洗浄液供給通路の開口よりも前記洗浄液噴出口から離れた位置で前記液体通路に開口する気体供給通路とから構成され、前記気体噴出手段は、一端が前記気体噴出口となった気体通路と、この気体通路に開口する気体供給通路とを有している。
【００１３】
したがって、洗浄液に気体を加えることで、洗浄液がミスト状となり、洗浄液の表面積を大きくして、スリットノズル先端部に付着している付着物に接触し、付着物の溶解と除去という洗浄効果が向上する上に、洗浄液の使用量も節約することができる。さらに、洗浄液噴出口の上方に気体噴出口を設けることで、洗浄液の吹き上げを抑制することができる。
【００１４】
また、前記スリットノズル先端が所定の位置で停止した状態で、前記スリットノズル洗浄装置と前記スリットノズル先端の傾斜部との隙間は、前記スリットノズルの根元から先端まで均一である。或いは前記スリットノズルの根元から先端にかけて除々に広くなっている。このような構成にすることで、ミスト洗浄液の吹き上げを効率よく防止することができる。
【００１５】
さらに、上記のスリットノズル洗浄装置を利用する洗浄方法は、ミスト状の洗浄液と気体とを同時に供給することで前記スリットノズルの先端部の洗浄を行い、さらに、前記スリットノズルの洗浄を終了した後、気体を供給して前記スリットノズルの先端部を乾燥させるようにする。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明する。第１図は本発明に係るスリットノズル洗浄装置の一実施例の縦断面図であり、図中、支持体１の上には一対の洗浄ブロック２が、支持体１の下方には排出ブロック３が設けられている。また、洗浄ブロック２の上方にスリットノズル４が、上下動自由に取り付けられている。
【００１７】
スリットノズル４には、上記一対の洗浄ブロック２の形状に合わせて、根元５，６から傾斜部７，８が形成され、先細形状をなすとともに、下部９に塗布液の吐出部が形成されている。
【００１８】
また、一対の洗浄ブロック２には、スリットノズル４の傾斜部７，８に対して、水平方向に角度θ（θ：１〜２０°）をなす液体通路１０が穿設されている。液体通路１０の傾斜部７，８に向けられている一端は、液体噴出口１１が形成されている。液体通路１０の液体噴出口１１の近傍に洗浄液供給通路１２が開口し、この開口よりも液体噴出口１１から離れた位置に気体供給通路１３が開口している。
【００１９】
なお、液体通路１０、液体噴出口１１、洗浄液供給通路１２、及び気体供給通路１３によって洗浄液吐出手段が構成される。また、図２は図１のＡ方向の簡略図を示し、この図に示すように液体噴出口１１は、一本の長孔（図２（Ａ））か、又は複数の丸孔（図２（Ｂ））にて構成される。
【００２０】
さらに、上記の一対の洗浄ブロック２には、スリットノズル４の傾斜部７，８に対して、水平方向に角度θ（θ：１〜２０°）をなす気体通路１４が液体通路１０の上部に穿設されている。気体通路１４の傾斜部７，８に向けられている一端は、気体（例えば、エア、窒素、アルゴン等）噴出口１５が形成されて、気体通路１１の気体噴出口１５から離れた位置に気体供給通路１６が開口している。
【００２１】
なお、気体通路１４、気体噴出口１５、及び気体供給通路１６によって気体噴出手段が構成される。また、図２に示すように、気体噴出口１５は、一本の長孔（図２（Ａ））か、又は複数の丸孔（図２（Ｂ））にて構成される。さらに、長孔の液体噴出口１１と複数の丸孔の気体噴出口１５との組み合わせ、或いは複数の丸孔の液体噴出口１１と長孔の気体噴出口１５との組み合わせも可能である。
【００２２】
以上の如き洗浄装置を用いてスリットノズル４を洗浄する方法を説明する。図３は、支持体１を省略した洗浄装置の動作図であり、洗浄装置（或いは洗浄ブロック２）は、その幅Ｗ１がスリットノズル４の長手方向に沿った幅Ｗ２より短く、スリットノズル４に沿って往復動することで、スリットノズル４先端の洗浄及び乾燥を行う。また、スリットノズルは、洗浄装置に対して上下動作することができる。
【００２３】
まず、スリットノズル４を洗浄装置に対して、スリットノズル４先端の傾斜部と洗浄ブロック２との隙間が１．５ｍｍになるように下降させる。この場合に、洗浄ブロック２のスリットノズル４の傾斜部７，８に対する傾斜面の勾配が、傾斜部７，８のと同じである。
【００２４】
次いで、洗浄装置を２５０ｍｍ／ｓの速度でスリットノズル４に沿って移動させながら洗浄処理を開始する。この洗浄装置の移動と同時に、ミスト状洗浄液及びエアをも同時にスリットノズル４の傾斜部７，８に対して噴出して洗浄する。
【００２５】
具体的には、液体噴出口１１と気体噴出口１５とは、両方とも長孔状で、その開口幅が０．３ｍｍである。０．２〜０．６ｌ／ｍｉｎの速度で洗浄液供給通路１２に供給しながら、エアを２００〜５００ｋＰａの圧力で、８０〜１５０ｌ／ｍｉｎの速度で気体供給通路１３に供給する。こうすることによって、洗浄液噴出口１１からはミスト状の洗浄液が噴出され、スリットノズルの先端部を洗浄する。この時スリットノズル４先端の傾斜部７，８に供給されたミスト状洗浄液や洗い流された付着物が、スリットノズル４の傾斜部７，８と洗浄ブロック２の隙間から噴出してしまわないように、気体供給通路１６に２００〜５００ｋＰａの圧力で、８０〜１５０ｌ／ｍｉｎの速度でエアを供給して、気体噴出口１５からエアを噴き出し、洗浄液の洗浄ブロック２とスリットノズル４の傾斜部７，８との隙間から外部への噴出しを防止する。
【００２６】
また、洗浄ブロック２が移動する際に、排出ブロック３は常に２５０〜５００ｋＰａまで排気が行われているので、洗浄液や洗い流された付着物は排気ブロック３から排出されるようになる。
【００２７】
さらに、洗浄装置（或いは洗浄ブロック２）は、スリットノズル４の終端に到着したら、ミスト状洗浄液およびエアの供給を停止し、排気ブロック３のみを作動させ、乾燥しながらスリットノズル４の始端に戻ってくる。なお、洗浄装置はスリットノズル４の始端に戻る際に、排気ブロック３で排気するとともに、気体噴出手段も作動させると、乾燥が一層促進できる。また、乾燥処理におけるノズルの移動速度は、洗浄処理におけるノズルの移動速度よりも遅くすることで、乾燥を促進させることができる。なお、洗浄ブロック２は、複数回往復して洗浄を行うことが可能である。
【００２８】
図４にスリットノズル洗浄装置の他の実施例を示す。上記の実施例においてはスリットノズル４先端の傾斜部と洗浄ブロック２との隙間を一定にしたが、この実施例においては、図４の影部分で示したように、スリットノズル４′の傾斜部７′、８′の根元５′、６′からスリットノズル４の下部９′にかけて徐々に広げていく構造としている。この時、傾斜部７′、８′の根元５′、６′と洗浄ブロック２′との一番近づいた距離を１．５ｍｍに設定する。
【００２９】
【発明の効果】
以上に説明した如く本発明に係るスリットノズル洗浄装置及ぶ洗浄方法によれば、スリットノズルの先端を洗浄するのに、ミスト状洗浄液を使用することで、洗浄液の使用量を削減することができるうえに、洗浄液の表面積を大きくして付着物に接触し付着物の溶解と除去をしやすく洗浄しやすい。さらに、液体噴出口の上方に気体噴出口を設けることで、洗浄液の吹き上げを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明にかかる洗浄装置の縦断面図
【図２】図１におけるＡ方向からの簡略図
【図３】図１における洗浄装置の動作図、（Ａ）正面側簡略図（Ｂ）側面側簡略図
【図４】本発明に係る洗浄装置の他の実施例における縦断面図
【符号の説明】
１、１′…支持体、 ２、２′…洗浄ブロック、 ３、３′…排出ブロック、４、４′…スリットノズル、 ５、６…スリットノズルの根元、 ７，８…スリットノズルの傾斜部、 ９…スリットノズルの下部、 １０、１０′…液体通路、 １１、１１′…液体噴出口、 １２、１２′…洗浄液供給通路、 １３、１３′…気体供給通路、 １４、１４′…気体通路、 １５、１５′…気体噴出口、 １６、１６′…気体供給通路。
Claims (7)
- 所定幅の塗布液吐出口が開口したスリットノズル先端を、スリットノズルの長手方向に沿って移動しながら洗浄する装置において、この装置は、前記スリットノズルの長手方向に沿った幅より短く設定され、且つミスト状の洗浄液を生成する洗浄液吐出手段及び生成したミスト状洗浄液を前記スリットノズル先端の傾斜部に対して噴き付ける洗浄液噴出口と、前記洗浄液噴出口の上部に位置する気体噴出口及び前記気体を噴出する気体噴出手段とが設けられていることを特徴とするスリットノズルの洗浄装置。
- 請求項１に記載のスリットノズルの洗浄装置において、前記洗浄液吐出手段は、一端が前記洗浄液噴出口となった液体通路と、前記洗浄液噴出口の近傍で前記液体通路に開口する洗浄液供給通路と、この洗浄液供給通路の開口よりも前記洗浄液噴出口から離れた位置で前記液体通路に開口する気体供給通路とから構成されていることを特徴とするスリットノズルの洗浄装置。
- 請求項１又は２に記載のスリットノズルの洗浄装置において、前記気体噴出手段は、一端が前記気体噴出口となった気体通路と、この気体通路に開口する気体供給通路とを有していることを特徴とするスリットノズルの洗浄装置。
- 請求項１乃至３のいずれか１項に記載のスリットノズルの洗浄装置において、前記スリットノズル先端が所定の位置で停止した状態で、前記スリットノズル洗浄装置と前記スリットノズル先端の傾斜部との隙間は、前記スリットノズルの根元から先端まで均一であることを特徴とするスリットノズルの洗浄装置。
- 請求項１乃至３のいずれか１項に記載のスリットノズルの洗浄装置において、前記スリットノズル先端が所定の位置で停止した状態で、前記スリットノズル洗浄装置と前記スリットノズル先端の傾斜部との隙間は、前記スリットノズルの根元から先端にかけて除々に広くなっていることを特徴とするスリットノズルの洗浄装置。
- 請求項１に記載のスリットノズルの洗浄装置を用いた洗浄方法において、ミスト状の洗浄液と気体とを同時に供給することで前記スリットノズルの先端部の洗浄を行うことを特徴とするスリットノズルの洗浄方法。
- 前記スリットノズルの洗浄を終了した後、気体を供給して前記スリットノズルの先端部を乾燥させることを特徴とする請求項５に記載のスリットノズルの洗浄方法。
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