KR102418555B1

KR102418555B1 - 분사형 세정 건조 장치

Info

Publication number: KR102418555B1
Application number: KR1020200098745A
Authority: KR
Inventors: 이건영
Original assignee: (주)디바이스이엔지
Priority date: 2020-08-06
Filing date: 2020-08-06
Publication date: 2022-07-08
Also published as: KR20220018335A

Abstract

본 발명은 분사형 세정 건조 장치에 관한 것으로서, 대상물이 통과하기 위한 제1 중공이 형성되며 내주면에는 상기 제1 중공의 내부를 향해 세정액을 분사하는 분사공이 형성되는 링 타입 세정액 분사 유닛, 및 상기 대상물의 진행방향으로 상기 링 타입 세정액 분사 유닛에 이어서 설치되며 내주면에는 상기 대상물이 통과하기 위한 제2 중공이 형성되고 상기 제2 중공의 내부를 향해 압축 공기를 분사하기 위한 분사 슬릿이 형성되는 링 타입 에어 나이프 유닛을 포함하여 구성되어 있어, 대상물이 복잡한 형상으로 이루어진 경우에도 사각 구역이 발생하는 경우가 없이 빈틈없는 세정 및 건조가 가능하게 된다는 이점이 있다.

Description

분사형 세정 건조 장치{Cleaning and Drying Apparatus of Shooting Type}

본 발명은 분사형 세정 건조 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 형상이 복잡한 건조 및 세정 대상물(이하, "대상물"이라 함)의 사각(死角) 구역을 최소화하여 빈틈없이 세정하고 남김없이 건조할 수 있는 분사형 세정 건조 장치에 관한 것이다.

고도화된 정보화 산업의 급격한 발달과 함께 초고속의 정보전달은 시간과 장소의 제한 없이 문자, 음성, 화상 등의 정보를 주고받을 수 있는 사회에 이르렀다.

이러한 정보전달의 매개체는 CRT를 시발점으로 발전을 거듭하여 왔고 이제는 인간공학적, 고기능화 등에 부합할 수 있는 LCD, PDP, LED, UHD, OLED 등의 대형 평판디스플레이와 초고속 이동통신 단말기, PDA 및 Web Pad 등의 소형디스플레이로 빠르게 바뀌고 있으며 편리함에 따른 수요 폭등에 따라 디스플레이 시장은 끊임없이 발전되고 있다.

평판디스플레이의 고품질, 저전력 소비 등을 기초하여 다양한 어플리케이션 시장이 더욱 활발해지고 있으며, 특히 OLED(Organic Light Emitting Diodes, 유기발광 다이오드)는 LCD, PDP에 이어서 차세대 디스플레이로 각광을 받고 있다.

OLED는 1987년 Eastman Kodak의 Tang이 적층 구조의 유기물질에서 고휘도로 빛을 내는 데 성공한 것을 시작으로 현재까지 많은 기술적인 진보가 이루어졌다.

OLED는 밝기, 명암비, 응답속도, 색 재현율, 시인성 등에서 뛰어난 화질과 제조공정이 단순해 저렴하다는 장점 등을 가지며 소위 ‘꿈의 디스플레이’로 여겨져 왔다.

그러나 짧은 수명, 낮은 수율 등으로 인하여 상용화에 어려움을 겪었으며 LCD 관련 기술의 빠른 진전으로 OLED의 시장 진입을 위한 입지를 상당히 좁게 만들어 상용화가 지연되었다.

최근 전 세계 디스플레이업계에서 상당 부분의 기술적 문제를 해결함에 따라 한국을 비롯한 일본, 대만의 관련업체들이 양산을 시작하고 있다.

OLED는 유기 박막에 양극과 음극을 통하여 주입된 정공(Hole)과 전자(Electron)가 재결합하여 여기자(Exciton)를 형성하고, 여기자가 다시 안정된 상태로 돌아오면서 방출되는 에너지가 빛으로 변하여 발광하는 자체 발광형 디스플레이 소자이다.

가장 간단한 구조의 OLED는 전자를 주입하는 음극, 정공을 주입하는 양극, 발광이 일어나는 유기 박막으로 이루어지며, 캐리어의 재결합 및 발광 특성 향상을 위해 전자 또는 정공의 주입 및 전달을 도와주는 기능층을 추가적으로 포함한다.

유기박막형성 기술은 FMM(Fine Metal Mask)와 같은 마스크를 이용한 증착기술, 레이저를 이용한 패터닝 기술, 액체기반의 잉크화 재료를 이용한 프린팅 기술 등이 있다.

이중, 마스크를 이용한 증착기술에서는 기판을 선택적으로 스크리닝(screening)하는 과정에서 마스크의 표면에도 유기 물질이 증착되기 때문에, 일정한 공정 횟수가 지난 이후에는 마스크를 세정하는 것이 필수적으로 요구되어 진다.

종래의 마스크 세정은 DIW(초순수 증류수, Di-Ionize Water)나 탄화수소용액과 같은 세정액에 침지하는 방법이 대표적이다.

예컨대, 도 1에 도시한 바와 같이, 통상의 침지식 마스크 세정장치는 통상 세정조(10) 내에 수용된 세정액(11)에 마스크(20)를 침지하여 세정하는 것으로, 상기 마스크(20)는 대면적이므로 세정시 마스크를 이동시켜 상기 세정조(10)에 침지시키기 위한 마스크 운송용 지그(30)를 사용하고 있다.

또한, OLED 디스플레이의 제조 과정에서 유기 박막을 증착하기 위해 이용되는 마스크의 세정은 상기 마스크를 세정액이 들어 있는 세정조에 침지한 후에 초음파를 적용하기도 한다.

한편, OLED 디스플레이의 제조 과정에서 유기 박막을 증착하기 위해 이용되는 마스크의 다른 세정 방법으로, 전해액 속에 마스크를 넣고 전해 방식으로 마스크 표면의 오염물과 불순물을 제거하는 방법도 개시되어 있다.

그러나, 이와 같은 세정 방법에 따르면, 세정액과 마스크 사이에 상대적인 동적 거동이 없기 때문에 여전히 마스크 표면에 이물질이 잔류하게 되는 단점이 있었다.

이러한 문제를 해결하기 위해, 한국공개특허공보 제10-2012-0005577호(이하, "선행문헌 1"이라 함)에 개시된 마스크용 세정기는, 마스크가 인출입되는 프레임, 상기 프레임에 구비되며 마스크로 세정액을 분사시키는 세정 분사공, 상기 세정분사공과 이격 설치되며 상기 세정액이 적셔진 마스크를 브러싱하는 브러시, 및 상기 브러시와 이격 설치되며 상기 브러싱되는 마스크를 건조시키는 에어 분사공을 개시하고 있다.

그러나, 하기 선행문헌 1의 마스크용 세정기에 따르면, 마스크 등 건조 대상물을 사이에 두고 양측면에 세정 분사공과 에어 분사공을 설치한 구성으로 되어 있을 뿐이어서, 건조 대상물이 복잡한 형상으로 이루어진 경우에는 세정 및 건조에 있어서 사각 구역이 발생할 수밖에 없고, 이에 따라 세정 및 건조 성능이 크게 저하하게 되는 단점이 있었다.

또한, 사각 구역까지 미치도록 세정액이나 압축 공기를 과도하게 강하게 분사하는 경우 건조 대상물에 워터마크 등 손상을 발생시키는 경우도 있었다.

선행문헌 1. 한국공개특허공보 제10-2012-0005577호 (2012.01.17)

본 발명은 전술한 종래기술의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 마스크 등 대상물이 복잡한 형상으로 이루어진 경우에도 사각 구역이 발생하는 경우가 없어 세정 및 건조 성능이 크게 향상되는 분사형 세정 건조 장치를 제공하는데 있다.

또한, 본 발명의 목적은 에어 카이프 유닛을 배치하여 세정 후 남아 있는 이물질과 세정액을 압축 공기의 분사를 통해 완전히 제거하고 건조까지 수행할 수 있도록 하는 분사형 세정 건조 장치를 제공하는데 있다.

전술한 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 따른 분사형 세정 건조 장치는,

대상물이 통과하기 위한 제1 중공이 형성되며 내주면에는 상기 제1 중공의 내부를 향해 세정액을 분사하는 분사공이 형성되는 링 타입 세정액 분사 유닛;

상기 대상물의 진행방향으로 상기 링 타입 세정액 분사 유닛에 이어서 설치되며, 내주면에는 상기 대상물이 통과하기 위한 제2 중공이 형성되고 상기 제2 중공의 내부를 향해 압축 공기를 분사하기 위한 분사 슬릿이 형성되는 링 타입 에어 나이프 유닛;

을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.

상기 링 타입 세정액 분사 유닛과 링 타입 에어 나이프 유닛의 분사 방향은 상기 대상물의 이동 방향과 반대방향의 성분을 가지며, 상기 분사 방향은 대상물의 진행 방향과 둔각을 형성하는 것을 특징으로 한다.

상기 링 타입 세정액 분사 유닛을 종단면에서 바라볼 때, 상기 링 타입 세정액 분사 유닛은 상기 대상물 진행방향과 예각을 이루는 제1 경사면과, 상기 제1 경사면의 상단에서 상기 제1 중공의 내부쪽으로 돌출되는 제1 돌출 턱부를 포함하는 것을 특징으로 한다.

상기 분사공은 상기 제1 경사면과 상기 제1 돌출 턱부 사이의 경계 상에 형성되는 것을 특징으로 한다.

상기 링 타입 에어 나이프 유닛을 종단면에서 바라볼 때, 상기 링 타입 에어 나이프 유닛은 상기 대상물 진행방향과 예각을 이루는 제2 경사면과, 상기 제2 경사면의 상단에서 상기 제2 중공의 내부쪽으로 돌출되는 제2 돌출 턱부를 포함하는 것을 특징으로 한다.

상기 분사 슬릿은 상기 제2 경사면과 상기 제2 돌출 턱부 사이의 경계 상에 형성되는 것을 특징으로 한다.

상기 분사 방향과 이동 방향은 120도~170도 사이의 범위에 형성되는 것을 특징으로 한다.

상기 링 타입 세정액 분사 유닛과 링 타입 에어 나이프 유닛은 인접하여 배치되는 것을 특징으로 한다.

전술한 바와 같은 구성의 본 발명에 따르면, 대상물이 통과하기 위한 제1 중공이 형성되며 내주면에는 상기 제1 중공의 내부를 향해 세정액을 분사하는 분사공이 형성되는 링 타입 세정액 분사 유닛, 및 상기 대상물의 진행방향으로 상기 링 타입 세정액 분사 유닛에 이어서 설치되며 내주면에는 상기 대상물이 통과하기 위한 제2 중공이 형성되고 상기 제2 중공의 내부를 향해 압축 공기를 분사하기 위한 분사 슬릿이 형성되는 링 타입 에어 나이프 유닛을 포함하여 구성되어 있어, 대상물이 복잡한 형상으로 이루어진 경우에도 사각 구역이 발생하는 경우가 없이 빈틈없는 세정 및 남김없는 건조가 가능하게 된다는 이점이 있다.

특히 본 발명에 따르면, 링 타입 에어 나이프 유닛을 통해 대상물의 표면에 압축 공기를 균일하고 강하게 분사할 수 있어, 세정액 분사 유닛을 통과한 대상물의 표면에 남아 있는 세정액 및 약간의 이물질을 완벽하게 제거 및 건조할 수 있다는 장점이 있다.

또한 본 발명에 따르면, 링 타입 세정액 분사 유닛과 링 타입 에어 나이프 유닛의 분사 방향을 대상물의 이동 방향과 반대방향의 성분을 가지도록 하고 약간 경사지도록 함으로써 대상물의 표면에 붙은 이물질과 오염물을 한층 확실하게 제거할 수 있을 뿐만 아니라 에어 나이프 유닛을 통해 이물질의 점도와 부착력에 관계없이 세정액과 함께 거의 남김 없이 밀어내어 확실한 건조 성능을 얻을 수 있게 된다는 장점도 있다.

또한 본 발명에 따르면, 링 타입 세정액 분사 유닛을 종단면에서 바라볼 때, 상기 링 타입 세정액 분사 유닛은 대상물의 진행방향과 예각을 이루는 제1 경사면과, 상기 제1 경사면의 상단에서 제1 중공의 내부쪽으로 돌출되는 제1 돌출 턱부를 포함하고 있어, 상기 분사공이 대상물을 직접 향하지 않고 제1 경사면을 향하는 경우에도 세정액이 상기 제1 경사면을 따라 대상물의 표면에 효과적으로 분사되어 이물질이나 오염물을 제거할 수 있으므로 상기 분사공의 위치를 비교적 자유롭게 선택할 수 있는 등 제조가 한층 용이해진다는 이점이 있다.

또한 본 발명에 따르면, 상기 분사공은 상기 제1 경사면과 상기 제1 돌출 턱부 사이의 경계 상에 형성되어, 세정액이 상기 제1 경사면과 평행하게 분사되는 경우 세정액이 상기 제1 경사면을 따라 미끄러지듯이 분사되므로 상기 세정액이 아래쪽으로 확산되는 것과 제1 경사면에 충돌하여 비산되는 것을 방지할 수 있고 집중적으로 대상물 표면을 세정하는 것이 가능하게 된다.

또한 본 발명에 따르면, 상기 링 타입 세정액 분사 유닛과 링 타입 에어 나이프 유닛은 대상물의 이동 방향을 따라 차례로 인접하여 배치되는 구성에 의해 분사형 세정 건조 장치의 제조를 위한 공간과 공정수를 크게 줄일 수 있다는 효과가 있다.

도 1은 종래기술에 따른 세정 장치의 일 예를 나타내는 도면이다.
도 2는 본 발명에 따른 분사형 세정 건조 장치의 사시도이다.
도 3은 본 발명에 따른 분사형 세정 건조 장치의 부분 단면 사시도이다.
도 4는 본 발명에 따른 분사형 세정 건조 장치의 평면도이다.
도 5는 도 4에서 A-A에서 바라본 단면도이다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.

도 2 내지 도 5에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 분사형 세정 건조 장치(1000)는, 대상물(900)이 통과하기 위한 제1 중공(110)이 형성되며 내주면에는 상기 제1 중공(110)의 내부를 향해 초순수 등의 세정액을 분사하는 분사공(120)이 형성되는 링 타입 세정액 분사 유닛(100), 상기 대상물(900)의 진행방향으로 상기 링 타입 세정액 분사 유닛(100)에 이어서 설치되며 상기 대상물(900)이 통과하기 위한 제2 중공(210)이 형성되고 내주면에는 상기 제2 중공(210)의 내부를 향해 압축 공기를 분사하기 위한 분사 슬릿(220)이 형성되는 링 타입 에어 나이프 유닛(200)을 포함하여 구성된다.

이와 같이, 상기 세정액 분사 유닛(100)에는 제1 중공(110)이 형성되는 링 타입으로 형성되어 있고 내주면의 분사공(120)을 통해 세정액을 분사하게 되어 있으므로 대상물(900)이 복잡한 형상으로 이루어진 경우에도 사각 구역이 발생하는 경우가 없이 빈틈없는 세정이 가능하게 된다.

상기 분사공(120)은 제1 중공(110)의 내주면을 따라 다수 개가 균등한 간격으로 형성되는 것이 바람직하나, 내주면을 따라 끊김없는 슬릿 형태로 제작되는 것도 가능하다.

마찬가지로, 상기 에어 나이프 유닛(200)에는 제2 중공(210)이 형성되는 링 타입으로 형성되어 있고 내주면의 분사 슬릿(220)을 통해 압축 공기를 분사하게 되어 있으므로 대상물(900)이 복잡한 형상으로 이루어진 경우에도 사각 구역이 발생하는 경우가 없이 빈틈없는 건조가 가능하게 된다.

상기 분사 슬릿(220)은 제2 중공(210)의 내주면을 따라 끊김없는 슬릿 형태로 제작되는 것이 바람직하나, 다수 개가 촘첨하게 균등한 간격으로 형성되는 것도 가능하다.

상기 에어 나이프 유닛(200)의 분사 슬릿(220)은 제2 중공(210)의 내주면을 따라 연장되는 가늘고 긴 형태를 가지고 있어 액절(에어 나이프) 방식으로 대상물(900) 표면을 압축 공기로 균일하고 강하게 밀어낼 수 있기 때문에 세정액 분사 유닛(100)을 통과한 대상물(900)의 표면에 남아 있는 세정액 및 약간의 이물질을 완벽하게 제거 및 건조할 수 있다.

특히, 상기 링 타입 세정액 분사 유닛(100)과 링 타입 에어 나이프 유닛(200)의 분사 방향은 상기 대상물(900)의 이동 방향과 반대방향의 성분을 가지며, 상기 분사 방향은 대상물(900)의 진행 방향과 둔각을 형성하는 것이 바람직하다.

상기 분사 방향과 이동 방향은 120도~170도 사이의 범위에 형성될 수 있으나 그 범위를 다소 초과해도 무방하다.

더욱 바람직하게는, 상기 대상물(900)은 상방으로 이동하고 상기 분사 방향은 상기 대상물(900)을 향해 하방을 향하도록 하여 상기 대상물(900)의 이동 방향에 대하여 경사지게 구성할 수 있다.

이와 같이, 상기 링 타입 세정액 분사 유닛(100)과 링 타입 에어 나이프 유닛(200)의 분사 방향을 대상물(900)의 이동 방향과 반대방향의 성분을 가지도록 하고 약간 경사지도록 함으로써 대상물(900)의 표면에 붙은 이물질과 오염물을 한층 확실하게 제거할 수 있을 뿐만 아니라 에어 나이프 유닛(200)을 통해 세정액도 거의 남김 없이 밀어내어 확실한 건조 성능을 얻을 수 있게 된다.

이러한 기능을 위한 바람직한 구성예로서, 상기 링 타입 세정액 분사 유닛(100)을 종단면에서 바라볼 때, 상기 링 타입 세정액 분사 유닛(100)은 상기 대상물(900)의 진행방향과 예각을 이루는 제1 경사면(130)과, 상기 제1 경사면(130)의 상단에서 상기 제1 중공(110)의 내부쪽으로 돌출되는 제1 돌출 턱부(140)를 포함할 수 있다.

이러한 구성에 따라, 상기 분사공(120)이 상기 대상물(900)을 직접 향하지 않고 상기 제1 경사면(130)을 향하는 경우에도 세정액이 상기 제1 경사면(130)을 따라 대상물(900)의 표면에 효과적으로 분사되어 이물질이나 오염물을 제거할 수 있다는 이점이 있으므로, 상기 분사공(120)의 위치를 비교적 자유롭게 선택할 수 있는 등 제조가 한층 용이해진다는 이점이 있다.

또한, 상기 분사공(120)은 상기 제1 경사면(130)과 상기 제1 돌출 턱부(140) 사이의 경계 상에 형성되어 세정액이 상기 제1 경사면(130)과 평행하게 분사되도록 하는 것이 바람직하다.

이에 따라, 세정액이 상기 제1 경사면(130)을 따라 미끄러지듯이 분사되므로 상기 세정액이 아래쪽으로 확산되거나 제1 경사면(130)과 충돌하여 비산되는 것을 최소화할 수 있고, 집중적으로 대상물(900) 표면을 세정하는 것이 가능하게 된다.

상기 예각은 10도~60도 사이의 범위에 있는 것이 바람직하다.

그러나, 상기 제1 경사면(130)과 세정액의 분사 방향이 반드시 동일할 필요는 없다.

마찬가지로, 상기 링 타입 에어 나이프 유닛(200)을 종단면에서 바라볼 때, 상기 링 타입 에어 나이프 유닛(200)은 상기 대상물(900) 진행방향과 예각을 이루는 제2 경사면(230)과, 상기 제2 경사면(230)의 상단에서 상기 제2 중공(210)의 내부쪽으로 돌출되는 제2 돌출 턱부(240)를 포함할 수 있다.

이러한 구성에 따라, 상기 분사 슬릿(220)이 상기 대상물(900)을 직접 향하지 않고 상기 제2 경사면(230)을 향하는 경우에도 압축 공기가 상기 제2 경사면(230)을 따라 대상물(900)의 표면에 효과적으로 분사되어 세정액을 효과적으로 밀어내면서 잔류한 세정액을 효과적으로 건조시킬 수 있게 되므로, 상기 분사 슬릿(220)의 위치를 비교적 자유롭게 선택할 수 있는 등 제조가 한층 용이해진다는 이점이 있다.

또한, 상기 분사 슬릿(220)은 상기 제2 경사면(230)과 상기 제2 돌출 턱부(240) 사이의 경계 상에 형성되어 압축 공기가 상기 제2 경사면(230)과 평행하게 분사되도록 하는 것이 바람직하다.

이에 따라, 압축 공기가 상기 제2 경사면(230)을 따라 미끄러지듯이 분사되므로 상기 압축 공기가 아래쪽으로 확산되는 것과 제2 경사면(230)에 충돌하여 난류가 발생하는 최소화할 수 있고, 집중적으로 대상물(900) 표면을 건조하는 것이 가능하게 된다.

상기 예각은 10도~60도 사이의 범위에 있는 것이 바람직하다.

그러나, 상기 제2 경사면(230)과 압축 공기의 분사 방향이 반드시 동일할 필요는 없다.

한편, 상기 링 타입 세정액 분사 유닛(100)과 링 타입 에어 나이프 유닛(200)은 대상물(900)의 이동 방향을 따라 차례로 인접하여 배치되는 것이 바람직하다.

이 경우, 상기 링 타입 세정액 분사 유닛(100)과 링 타입 에어 나이프 유닛(200)은 독립된 유닛이 접착되는 구조로 구성할 수도 있고, 단일한 몸체로 형성될 수도 있다.

이에 따라, 분사형 세정 건조 장치(1000)의 제조를 위한 공간과 공정수를 크게 줄일 수 있다는 효과가 있다.

상기 링 타입 세정액 분사 유닛(100)과 링 타입 에어 나이프 유닛(200)의 형태는 원형이 가장 바람직하나, 타원이나 다각형 등 그 형상에 있어서 특별히 제한될 필요는 없다.
또한 도 5에 도시한 바와 같이, 상기 제1 돌출 턱부(140)의 내주면은 상기 대상물 진행방향과 예각을 이루는 제1 보조 경사면(141)이 형성되고, 제2 돌출 턱부(240)의 내주면은 상기 대상물 진행방향과 예각을 이루는 제2 보조 경사면(241)이 형성된다.
상기 링 타입 세정액 분사 유닛(100)과 링 타입 에어 나이프 유닛(200)을 종단면에서 바라볼 때, 상기 제1 보조 경사면(241)의 상단으로부터 수평하게 형성되는 상기 링 타입 세정액 분사 유닛(100)의 상단면의 폭(W1)은 상기 링 타입 에어 나이프 유닛(200)의 수평한 하단면 폭(W2)보다 작게 형성되어 있다.

본 발명의 실시예는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 하기의 특허청구범위 내에서 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다.

100... 링 타입 세정액 분사 유닛
110... 제1 중공
120... 분사공
130... 제1 경사면
140... 제1 돌출 턱부
200... 링 타입 에어 나이프 유닛
210... 제2 중공
220... 분사 슬릿
230... 제2 경사면
240... 제2 돌출 턱부
900... 대상물
1000... 본 발명에 따른 분사형 세정 건조 장치

Claims

대상물이 통과하기 위한 제1 중공이 형성되며 내주면에는 상기 제1 중공의 내부를 향해 세정액을 분사하는 분사공이 형성되는 링 타입 세정액 분사 유닛;
상기 대상물의 진행방향으로 상기 링 타입 세정액 분사 유닛에 이어서 설치되며, 내주면에는 상기 대상물이 통과하기 위한 제2 중공이 형성되고 상기 제2 중공의 내부를 향해 압축 공기를 분사하기 위한 분사 슬릿이 형성되는 링 타입 에어 나이프 유닛;
을 포함하여 구성되되,
상기 링 타입 세정액 분사 유닛과 링 타입 에어 나이프 유닛은 서로 분리된 상태에서 상호 결합되어 이루어지고,
상기 링 타입 세정액 분사 유닛을 종단면에서 바라볼 때, 상기 링 타입 세정액 분사 유닛은 상기 대상물 진행방향과 예각을 이루는 제1 경사면과, 상기 제1 경사면의 상단에서 상기 제1 중공의 내부쪽으로 돌출되되 내주면은 상기 대상물 진행방향과 예각을 이루는 제1 보조 경사면이 형성되는 제1 돌출 턱부를 포함하고,
상기 분사공은 상기 제1 경사면과 상기 제1 돌출 턱부 사이의 경계 상에 형성되며,
상기 링 타입 에어 나이프 유닛을 종단면에서 바라볼 때, 상기 링 타입 에어 나이프 유닛은 상기 대상물 진행방향과 예각을 이루는 제2 경사면과, 상기 제2 경사면의 상단에서 상기 제2 중공의 내부쪽으로 돌출되되 내주면은 상기 대상물 진행방향과 예각을 이루는 제2 보조 경사면이 형성되는 제2 돌출 턱부를 포함하고,
상기 분사 슬릿은 상기 제2 경사면과 상기 제2 돌출 턱부 사이의 경계 상에 형성되며,
상기 링 타입 세정액 분사 유닛과 링 타입 에어 나이프 유닛을 종단면에서 바라볼 때, 상기 제1 보조 경사면의 상단으로부터 수평하게 형성되는 상기 링 타입 세정액 분사 유닛의 상단면의 폭은 상기 링 타입 에어 나이프 유닛의 수평한 하단면 폭보다 작게 형성되는 것을 특징으로 하는 분사형 세정 건조 장치.
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제1항에 있어서,
분사 방향과 이동 방향은 120도~170도 사이의 범위에 형성되는 것을 특징으로 하는 분사형 세정 건조 장치.
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