JP2004111850A5 - - Google Patents
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(1)本発明は、組成式BaxSr1-xRuO3(式中、0<x<0.3)で表わされ、結晶構造がペロブスカイト型結晶構造を有し、該ペロブスカイト型結晶構造が、擬似立方晶であるとして求めた格子定数が3.930〜3.999Åであるペロブスカイト結晶構造であるバリウム含有ルテニウム酸ストロンチウムにより形成されたバリウム含有ルテニウム酸ストロンチウム電極に関するものである。
(2)本発明はさらに、電極の形成が、CSD法を適用して実施されることを特徴とする前記(1)記載のバリウム含有ルテニウム酸ストロンチウム電極の製造方法に関するものである。
(3)本発明はさらに、電極の形成が、MOCVD法、スパッタリング法または蒸着法を適用して実施されることを特徴とする前記(1)記載のバリウム含有ルテニウム酸ストロンチウム電極の製造方法に関するものである。
(4)本発明はさらに、圧電体素子において、該圧電体素子が下部電極および上部電極に挟持された圧電体を含む圧電体素子であって、該下部電極および上部電極が前記(1)記載のバリウム含有ルテニウム酸ストロンチウム電極であることを特徴とする圧電体素子に関するものである。
(5)本発明はさらに、前記(4)記載の圧電体素子において、下部電極および上部電極が、前記(2)または(3)記載の電極の製造方法により形成されたものであり、圧電体が、CSD法により成膜された、ペロブスカイト型結晶構造を有する、組成式Pb1-xLax(ZryTi1-y)O3(式中、0≦x<1、0≦y≦1)で表される(ランタン含有)チタン酸ジルコニウム酸鉛から構成された圧電体であることを特徴とする圧電体素子に関するものである。
(6)本発明はさらに、薄膜キャパシタにおいて、該薄膜キャパシタが下部電極および上部電極に挟持された誘電体を含む薄膜キャパシタであって、該下部電極および上部電極が前記(1)記載のバリウム含有ルテニウム酸ストロンチウム電極であることを特徴とする薄膜キャパシタに関するものである。
(7)本発明はさらに、前記(6)記載の薄膜キャパシタにおいて、下部電極および上部電極が、前記(2)または(3)記載の電極の製造方法により形成されたものであり、誘電体が、CSD法により形成された、ペロブスカイト型結晶構造を有する、組成式Pb1-xLax(ZryTi1-y)O3(式中、0≦x<1、0≦y≦1)で表される(ランタン含有)チタン酸ジルコニウム酸鉛から構成された誘電体であることを特徴とする薄膜キャパシタに関するものである。
(8)本発明はさらに、少なくとも、圧力室が形成された圧力室基板と、該圧力室の一方の面に設けられた振動板と、該振動板の該圧力室に対応する位置に設けられ該圧力室に体積変化を及ぼすことができるように構成された圧電体素子と、を備えたインクジェット式記録ヘッドにおいて、該圧電体素子が、前記(5)記載の圧電体素子であることを特徴とするインクジェット式記録ヘッドに関するものである。
Claims (8)
- 組成式BaxSr1-xRuO3(式中、0<x<0.3)で表わされ、結晶構造がペロブスカイト型結晶構造を有し、該ペロブスカイト型結晶構造が、擬似立方晶であるとして求めた格子定数が 3.930 〜 3.999 Åであるペロブスカイト結晶構造であるバリウム含有ルテニウム酸ストロンチウムにより形成されたバリウム含有ルテニウム酸ストロンチウム電極。
- 電極の形成が、CSD法を適用して実施されることを特徴とする請求項1記載のバリウム含有ルテニウム酸ストロンチウム電極の製造方法。
- 電極の形成が、MOCVD法、スパッタリング法または蒸着法を適用して実施されることを特徴とする請求項1記載のバリウム含有ルテニウム酸ストロンチウム電極の製造方法。
- 圧電体素子において、該圧電体素子が下部電極および上部電極に挟持された圧電体を含む圧電体素子であって、該下部電極および上部電極が請求項1記載のバリウム含有ルテニウム酸ストロンチウム電極であることを特徴とする圧電体素子。
- 請求項4記載の圧電体素子において、下部電極および上部電極が、請求項2または3記載の電極の製造方法により形成されたものであり、圧電体が、CSD法により成膜された、ペロブスカイト型結晶構造を有する、組成式Pb1-xLax(ZryTi1-y)O3(式中、0≦x<1、0≦y≦1)で表される(ランタン含有)チタン酸ジルコニウム酸鉛から構成された圧電体であることを特徴とする圧電体素子。
- 薄膜キャパシタにおいて、該薄膜キャパシタが下部電極および上部電極に挟持された誘電体を含む薄膜キャパシタであって、該下部電極および上部電極が請求項1記載のバリウム含有ルテニウム酸ストロンチウム電極であることを特徴とする薄膜キャパシタ。
- 請求項6記載の薄膜キャパシタにおいて、下部電極および上部電極が、請求項2または3記載の電極の製造方法により形成されたものであり、誘電体が、CSD法により形成された、ペロブスカイト型結晶構造を有する、組成式Pb1-xLax(ZryTi1-y)O3(式中、0≦x<1、0≦y≦1)で表される(ランタン含有)チタン酸ジルコニウム酸鉛から構成された誘電体であることを特徴とする薄膜キャパシタ。
- 少なくとも、圧力室が形成された圧力室基板と、該圧力室の一方の面に設けられた振動板と、該振動板の該圧力室に対応する位置に設けられ該圧力室に体積変化を及ぼすことができるように構成された圧電体素子と、を備えたインクジェット式記録ヘッドにおいて、該圧電体素子が、請求項5記載の圧電体素子であることを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002275749A JP3847689B2 (ja) | 2002-09-20 | 2002-09-20 | バリウム含有ルテニウム酸ストロンチウム電極を用いた圧電体素子、薄膜キャパシタおよびこれらの製造方法並びに該圧電体素子を用いたインクジェット式記録ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002275749A JP3847689B2 (ja) | 2002-09-20 | 2002-09-20 | バリウム含有ルテニウム酸ストロンチウム電極を用いた圧電体素子、薄膜キャパシタおよびこれらの製造方法並びに該圧電体素子を用いたインクジェット式記録ヘッド |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004111850A JP2004111850A (ja) | 2004-04-08 |
JP2004111850A5 true JP2004111850A5 (ja) | 2005-04-21 |
JP3847689B2 JP3847689B2 (ja) | 2006-11-22 |
Family
ID=32271854
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002275749A Expired - Fee Related JP3847689B2 (ja) | 2002-09-20 | 2002-09-20 | バリウム含有ルテニウム酸ストロンチウム電極を用いた圧電体素子、薄膜キャパシタおよびこれらの製造方法並びに該圧電体素子を用いたインクジェット式記録ヘッド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3847689B2 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3407417B2 (ja) * | 1994-08-02 | 2003-05-19 | 戸田工業株式会社 | 球状複合体粒子粉末及びその製造方法 |
WO2006006406A1 (ja) * | 2004-07-13 | 2006-01-19 | Seiko Epson Corporation | 強誘電体薄膜形成用組成物、強誘電体薄膜及び強誘電体薄膜の製造方法並びに液体噴射ヘッド |
JP4802469B2 (ja) * | 2004-09-14 | 2011-10-26 | 富士ゼロックス株式会社 | 液滴吐出装置 |
WO2007023985A1 (ja) * | 2005-08-23 | 2007-03-01 | Canon Kabushiki Kaisha | 圧電体素子、それを用いた液体吐出ヘッド、および液体吐出装置 |
JP5328007B2 (ja) * | 2007-03-30 | 2013-10-30 | パナソニック株式会社 | 圧電体素子及びその製造方法 |
EP1997637B1 (en) * | 2007-05-30 | 2012-09-12 | Océ-Technologies B.V. | Method of manufacturing a piezoelectric ink jet device |
EP1997638B1 (en) | 2007-05-30 | 2012-11-21 | Océ-Technologies B.V. | Method of forming an array of piezoelectric actuators on a membrane |
JP5338239B2 (ja) * | 2008-10-06 | 2013-11-13 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びに圧電アクチュエータ |
JP5327977B2 (ja) * | 2010-04-21 | 2013-10-30 | 独立行政法人科学技術振興機構 | 導電性膜形成用組成物および導電性膜の形成方法 |
JP5892406B2 (ja) | 2011-06-30 | 2016-03-23 | 株式会社リコー | 電気機械変換素子、液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置 |
JP6160295B2 (ja) * | 2013-06-25 | 2017-07-12 | 株式会社リコー | 強誘電体膜の成膜方法並びに成膜装置 |
-
2002
- 2002-09-20 JP JP2002275749A patent/JP3847689B2/ja not_active Expired - Fee Related
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