JP3974096B2 - 圧電体素子及びインクジェット記録ヘッド - Google Patents
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Description
SrRuO3に相当する組成のストロンチウム2,4ペンタンジオナートとルテニウム2,4ペンタンジオナートを2-メトキシエタノール中で加熱溶解した。希塩酸で加水分解しSrRuO3の10%(酸化物換算濃度)塗工液を得た。
Sr0.5La0.5CoO3に相当する組成のストロンチウム2,4ペンタンジオナート、ランタンイソプロポキシド、コバルト2,4ペンタンジオナートをイソプロピルアルコール中で加熱溶解した。希塩酸で加水分解しSr0.5La0.5CoO3の10%(酸化物換算濃度)塗工液を得た。圧電体薄膜用の塗工液としてPb1.1La0.01Zr0.52Ti0.48の金属組成の塗工液を作製した。
Pb1.1La0.01Zr0.52Ti0.48に相当する組成の酢酸鉛、ランタンイソプロポキシド、ジルコニウムブトキシド、チタンイソプロポキシドを2-メトキシエタノール中で加熱溶解した。希塩酸で加水分解しPb1.1La0.01Zr0.52Ti0.48の10%(酸化物換算濃度)塗工液を得た。また下記の市販のPZT塗工液を用いた。
圧電体素子およびその製造方法の実施例を実施例1〜6に示す。
図3、図4に示すような裏面の一部がくり抜かれたジルコニアの基板の表面に下部電極として上記A液をスピンコーターにより塗工した。100℃のホットプレートで5分乾燥後、膜厚は10nmであった。薄膜圧電体としてD液を同様にスピンコーターで塗工した。100℃で5分乾燥後に700℃の電気炉で10分間焼成した。この膜厚は0.1μmであった。さらにD液を塗工、乾燥、焼成を10回繰り返した後D液を塗工、乾燥した。この圧電体の総厚さは1μmであった。
実施例1と同様の基板に下部電極として上記A液をスピンコーターにより塗工した。100℃のホットプレートで5分乾燥後、500℃で10分焼成した。さらにA液をスピンコーターにより塗工した。100℃のホットプレートで5分乾燥後この時の下部電極の厚みは20nm)であった。さらに、薄膜圧電体としてD液を同様にスピンコーターで塗工した。100℃で5分乾燥後に700℃の電気炉で10分間焼成した。さらにD液を塗工、乾燥、焼成を10回繰り返した。この時の圧電体の厚みは1μmであった。さらにD液を塗工、乾燥した。その上にA液を塗工し乾燥後、700℃の電気炉で10分間焼成した。さらにA液を塗工し乾燥後500℃で10分間焼成し本発明の圧電体素子を得た。圧電体薄膜の中間部の金属組成を分析したところPb1.0Zr0.52Ti0.48であった。
実施例1と同様の基板の表面に下部電極として上記B液をスピンコーターにより塗工した。100℃のホットプレートで5分乾燥後、薄膜圧電体としてC液を同様にスピンコーターで塗工した。100℃で5分乾燥後に700℃の電気炉で10分間焼成した。さらにC液を塗工、乾燥、焼成を15回繰り返した後C液を塗工、乾燥した。その上にB液を塗工し乾燥後、700℃の電気炉で10分間焼成し本発明の圧電体素子を得た。圧電体薄膜の中間部の金属組成を分析したところPb0.99La0.01Zr0.52Ti0.48であった。
実施例1と同様の基板の表面に下部電極として上記B液をスピンコーターにより塗工した。100℃のホットプレートで5分乾燥後、500℃で10分焼成した。さらにB液をスピンコーターにより塗工した。100℃のホットプレートで5分乾燥後、薄膜圧電体としてC液を同様にスピンコーターで塗工した。100℃で5分乾燥後に700℃の電気炉で10分間焼成した。さらにC液を塗工、乾燥、焼成を10回繰り返した後C液を塗工、乾燥した。その上にB液を塗工し乾燥後、700℃の電気炉で10分間焼成した。さらにB液を塗工し乾燥後500℃で10分間焼成し本発明の圧電体素子を得た。圧電体薄膜の中間部の組成を分析したところPb0.99La0.01Zr0.52Ti0.48であった。
実施例1において基板をジルコニア製からSiウエハーに変更した以外は同様に製造した(図5)。
実施例1においてジルコニア基板の上に白金を0.2μmスパッタ法により積層してから用いた。他は同様に製造した。
実施例1と同様の基板の表面に下部電極として上記A液をスピンコーターにより塗工した。100℃のホットプレートで5分乾燥後、500℃で10分間焼成した。その上に薄膜圧電体としてD液を同様にスピンコーターで塗工した。100℃で5分乾燥後に700℃の電気炉で10分間焼成した。さらにD液を塗工、乾燥、焼成を11回繰り返した。最後にA液を塗工し乾燥後、700℃の電気炉で10分間焼成し本発明の圧電体素子を得た。圧電体薄膜の中間部の金属組成を分析したところPb1.0Zr0.52Ti0.48であった。
実施例1と同様の基板の表面に下部電極として上記B液をスピンコーターにより塗工した。100℃のホットプレートで5分乾燥後、500℃で10分間焼成した。その上に薄膜圧電体としてC液を同様にスピンコーターで塗工した。100℃で5分乾燥後に700℃の電気炉で10分間焼成した。さらにC液を塗工、乾燥、焼成を16回繰り返した。最後にB液を塗工し乾燥後、700℃の電気炉で10分間焼成し本発明の圧電体素子を得た。圧電体薄膜の中間部の組成を分析したところPb0.99La0.01Zr0.52Ti0.48であった。
実施例1〜6、比較例1〜2を以下のように評価した。上部電極から下部電極までの断面を透過顕微鏡(TEM)で観察し、電極と圧電体薄膜の接触界面の構造を見た。X線回折装置によりペロブスカイト構造を有するかどうかを調べた。また上部電極と下部電極間に10kHz、10Vの交流を印加しながら変位量をレーザードップラー法により測定し圧電体としての特性を評価した。結果を表1に示す。表1よりわかるように比較例にくらべ変位量が大きいことがわかりかつ720時間の耐久試験後も良好に動作していることがわかる。
実施例1、比較例1で作製した圧電体素子における印加電界に対する分極特性を測定した。測定はRadiants社製HVS−6000を用いて素子に20V印加しヒステリシス曲線を得た。これを図8に示す。この図より実施例1は比較例1に比べて残留分極が大きいことがわかる。このような顕著なヒステリシス特性は記憶素子となり得るため、複数並べて個別に電圧を印可可能にすることでメモリとして用いることも可能である。即ち記録したい情報にあわせて駆動信号を供給して書き込みを行い、分極方向を検出して読みとりを行うことにより、書き換え可能なメモリとして使用することが可能である。このようなメモリとして用いる場合の圧電体薄膜の膜厚は0.1μm〜2μmが好ましい。
Claims (5)
- 下部電極および上部電極に挟まれた圧電体膜を備える圧電体素子において、前記下部電極および/または前記上部電極と前記圧電体膜とがペロブスカイト型酸化物よりなり、前記下部電極および/または前記上部電極と前記圧電体膜との接合界面は存在せず、かつ前記下部電極および/または前記上部電極と前記圧電体膜との間に前記下部電極および/または前記上部電極の結晶と前記圧電体膜の結晶とが混合した領域が存在することを特徴とする圧電体素子。
- 前記混合された領域がペロブスカイト構造であることを特徴とする請求項1に記載の圧電体素子。
- 前記下部電極、前記上部電極及び前記圧電体膜がゾルゲル法により製造されたペロブスカイト型酸化物よりなることを特徴とする請求項1または2に記載の圧電体素子。
- 前記下部電極及び前記上部電極が一般式M1RuO3(M1はSr、Ba、およびCaから選ばれる少なくとも1種を示す。)、またはSr(1-x)M2 (x)CoO3(M2はLa、Pr、SmおよびNdから選ばれる少なくとも1種を示し、xは0≦x<1である)で表され、前記圧電体膜が一般式Pb(1-x)Lax(ZryTi1-y)O3(式中、0≦x<1、0≦y≦1)で表されるものであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の圧電体素子。
- インク吐出口に連通する圧力室と、該圧力室に対応して設けられた振動板と、該振動板に対応して設けられ下部電極および上部電極に挟まれた圧電体膜を備える圧電体素子とを有し、該圧電体素子により生じる前記圧力室内の体積変化によって該圧力室内のインクを前記インク吐出口から吐出するインクジェット記録ヘッドにおいて、
前記下部電極および/または前記上部電極と前記圧電体膜とがペロブスカイト型酸化物よりなり、前記下部電極および/または前記上部電極と前記圧電体膜との接合界面は存在せず、かつ前記下部電極および/または前記上部電極と前記圧電体膜との間に前記下部電極および/または前記上部電極の結晶と前記圧電体膜の結晶とが混合された領域が存在することを特徴とするインクジェット記録ヘッド。
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