JP2004063582A - ボンディング方法とボンディング装置 - Google Patents

ボンディング方法とボンディング装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2004063582A
JP2004063582A JP2002216941A JP2002216941A JP2004063582A JP 2004063582 A JP2004063582 A JP 2004063582A JP 2002216941 A JP2002216941 A JP 2002216941A JP 2002216941 A JP2002216941 A JP 2002216941A JP 2004063582 A JP2004063582 A JP 2004063582A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor chip
bonding
vibration
ultrasonic vibration
mount tool
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2002216941A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3860088B2 (ja
Inventor
Yoichiro Kurita
栗田 洋一郎
Jun Nogawa
野川 潤
Masahito Maeda
前田 雅人
Teruji Inomata
猪俣 輝司
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Electronics Corp
Original Assignee
NEC Electronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Electronics Corp filed Critical NEC Electronics Corp
Priority to JP2002216941A priority Critical patent/JP3860088B2/ja
Priority to TW092120364A priority patent/TWI238479B/zh
Priority to US10/626,522 priority patent/US6932262B2/en
Priority to KR10-2003-0051488A priority patent/KR100530724B1/ko
Priority to CNB031438326A priority patent/CN1222027C/zh
Publication of JP2004063582A publication Critical patent/JP2004063582A/ja
Priority to US11/181,861 priority patent/US7370786B2/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3860088B2 publication Critical patent/JP3860088B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K20/00Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating
    • B23K20/10Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating making use of vibrations, e.g. ultrasonic welding
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/60Attaching or detaching leads or other conductive members, to be used for carrying current to or from the device in operation
    • H01L21/607Attaching or detaching leads or other conductive members, to be used for carrying current to or from the device in operation involving the application of mechanical vibrations, e.g. ultrasonic vibrations
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
    • H01L24/75Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L24/81Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/0556Disposition
    • H01L2224/05568Disposition the whole external layer protruding from the surface
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/05573Single external layer
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/11Manufacturing methods
    • H01L2224/113Manufacturing methods by local deposition of the material of the bump connector
    • H01L2224/1133Manufacturing methods by local deposition of the material of the bump connector in solid form
    • H01L2224/1134Stud bumping, i.e. using a wire-bonding apparatus
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001Core members of the bump connector
    • H01L2224/13099Material
    • H01L2224/131Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/13117Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
    • H01L2224/13124Aluminium [Al] as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001Core members of the bump connector
    • H01L2224/13099Material
    • H01L2224/131Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/13138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/13144Gold [Au] as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001Core members of the bump connector
    • H01L2224/13099Material
    • H01L2224/131Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/13138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/13147Copper [Cu] as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
    • H01L2224/75Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
    • H01L2224/75Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
    • H01L2224/759Means for monitoring the connection process
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/81Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
    • H01L2224/818Bonding techniques
    • H01L2224/81801Soldering or alloying
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00013Fully indexed content
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01006Carbon [C]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01013Aluminum [Al]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01023Vanadium [V]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01029Copper [Cu]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01033Arsenic [As]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01079Gold [Au]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01082Lead [Pb]

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Pressure Welding/Diffusion-Bonding (AREA)

Abstract

【課題】マウントツール表面の摩耗を防ぎ、信頼性と生産性を両立する超音波接合工法を用いる半導体チップのボンディング方法および当該方法に用いられるボンディング装置を提供するために、マウントツール表面に発生するワークのすべり摩擦の発生を抑制する手段を提供する。
【解決手段】接合加工を受ける領域に超音波振動が与えつつ、同時に制御管理手段からの情報に基づいて振動軸方向保持力と慣性力を制御し、
(振動軸方向保持力) > (ダイシェア強度)+(慣性力)
なる関係を維持しながら接合加工を行う。
【選択図】図3

Description

【0001】
【発明の属する分野】
本発明は、半導体チップを半導体チップまたは基板に接続することによって得られる半導体チップ実装体の製造方法、およびこの製造に用いられる製造装置に係り、特に、超音波接合加工法による半導体チップ実装体の製造方法、及びこの製造に用いられる製造装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、世界規模で急速に拡大している情報通信ネットワークにおいて、情報通信システムの高機能化・高速化が要求され、半導体チップの実装技術ではこの要求に応えるべく高密度実装技術の開発が行われている。こうした電子デバイスのパフォーマンス向上を実現する高密度実装技術では、多数の接合点を同時に接合するため、信頼性と生産性の両立が重要課題となっている。
この課題の達成に対して、超音波接合技術を用いた半導体チップ実装技術は有望な技術である。超音波接合技術とはチップ上の接合すべき金属面と接合相手部品の接合すべき金属面を接触させ、接触面に平行な方向に超音波振動を加えて両者を結合する技術であり、他の工法に比べ、原理的に短時間で金属結合を作ることができる。
【0003】
上記の利点を生かし、ワイヤボンディングのみならず、フリップチップボンディングやフェイスダウンボンディング、一括ボンディング等のボンディング技術への適用が検討され、小型チップでは実用化が進んでいる。しかし、大型チップへの適用は現在のところまだ進んでいない。これは、チップ大型化に伴って接合すべきピン数が増加すると、接合に必要なエネルギー入力が増大し、小チップではさほど問題にならなかったマウントツールの摩耗が深刻化するためである。
【0004】
図1に示した超音波接合を用いた半導体チップのボンディング装置の概念図をもって、マウントツールの摩耗を説明する。
マウントツールは、接合加工される半導体チップに接触面と垂直方向の保持力を与えてこれを保持しつつ、超音波振動発生手段からの超音波を前記半導体チップを介して接合加工領域に伝達する機能を有し、超音波接合加工装置にとって極めて重要な部品である。
半導体チップ12は、マウントツール11よって保持され、半導体チップ12に接合加工される他方の部品15はステージ16上に接合加工では部品15がステージ16に対して摩擦しない程度に固定されている。両方の接合部(図1中13および14)で接触した状態で超音波振動が開始される。結合部13と14の少なくとも一方は、部品から凸状に突き出した構造を有するバンプであり、他方は前記バンプ又は部品上に平板形状で設置されてなるパッドである場合が一般的である。
接合加工の進行に伴い、接合部13と14とが実効的に結合している領域である接合領域17の面積が増加してくると、マウントツール11と半導体チップ12の界面で滑り摩擦が発生する場合がある。この状態で超音波振動を継続すると、摩擦を受け続けるマウントツール11と半導体チップ12の接触面であるツール/チップ接触面18で両方に摩耗が発生する場合がある。マウントツール11では係る状況が繰返されると前記摩耗が進行する場合があり、この場合は接合不良をもたらしたり、加工を受ける部品に傷をつけるなどの障害を発生させる危険性があるため、マウントツール11の交換が必要となっていた。現状ではこの交換間隔が短く、生産性向上の阻害因子となっていた。
【0005】
この課題を克服するためにこれまでにも多くの発明が提供されている。典型的なものは特開2002−164384に開示される発明で、マウントツール表面材料を特定して摩耗量を低減させることを特徴としている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、このような発明は本質的に摩耗を防止することはできない対処療法的発明なので、上述のマウントツール交換間隔を若干長くすることはできても、生産性と信頼性を向上させるための根本的対策とはなっていない。
【0007】
本願発明は、以上の従来技術が有する問題を鑑みてなされたものである。本発明の目的は、マウントツール表面の摩耗を防ぎ、信頼性と生産性を両立する超音波接合工法を用いる半導体チップのボンディング方法およびその方法の実施に使用するボンディング装置を提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
以上の課題を解決するに当って、本発明者は、マウントツール11と半導体チップ12の摩擦を抑制することでマウントツール表面の摩耗を防ぐことができるという技術的思想に基づき、超音波加工加工中の摩擦について深く考察を行った。
その結果想到したのが、▲1▼マウントツール11のツール/チップ接触面18での摩耗の発生には摩擦面の移動が関与していること、▲2▼超音波振動による慣性力がマウントツール11と半導体チップ12との接触面に摩擦を発生させる外力として働いているという着想である。
【0009】
まず、第一の着想について説明する。
ツール/チップ接触面18でのすべり摩擦は、超音波接合加工開始当初から発生しているのではなく、当初は接合領域17ですべり摩擦が発生している。この摩擦が接合領域17を拡大させるためのエネルギー源となる。この状態では、ツール/チップ接触面18のせん断強さである振動軸方向保持力は接合領域17全体のせん断強さであるダイシェア強度よりも大きいので、超音波振動による往復運動に必要な力は前記ダイシェア強度となる。
しかし、接合加工が進行し、接合領域17の面積が増加すると、前記ダイシェア強度が上昇し、前記超音波振動による往復運動に必要な力が大きくなり、この力は超音波振動中、常にツール/チップ接触面18に摩擦を発生させようとする力として働いている。さらに接合加工が進行して前記ダイシェア強度が前記振動軸方向保持力に匹敵する値になると、すべり摩擦面が接合領域17からツール/チップ接触面18に移動することとなる。
【0010】
上述の関係をグラフに表したのが図2である。この図において、縦軸は各接触面の振動軸方向のせん断強さである。前記ダイシェア強度を示す線21とツール/チップ接触面18のせん断強さである振動軸方向保持力を示す線22を比較して、低いほうの接触部ですべり摩擦が発生する。加工初期は接合領域17での摩擦が優先的に発生するが、点23近傍においてダイシェア強度と振動軸方向保持力とがほぼ同等の値になり、点23近傍以降はツール/チップ接触面18でのすべり摩擦が優先的に発生し、入力される超音波振動のエネルギーの一部はこの界面でのすべり摩擦で消費されることとなり、ダイシェア強度の上昇は加工エネルギー入力が少なくなるため緩やかになり、さらには、このエネルギーが摩耗を引き起こす直接的な原因となる。
【0011】
上記第一の着想から、摩擦面の移動が抑制できれば、ツール表面の摩耗は極めて少なく抑えることができることが導き出される。摩擦面の移動の抑制は、図2から明らかなように、超音波振動を与えている間は前記振動軸方向保持力が常に前記ダイシェア強度より高い状態を維持することで実現できる。
【0012】
次に第二の着想について説明する。
接合加工中、半導体チップ12には、上記のごとく前記ダイシェア強度が半導体チップ12を引き剥がす力として働いているが、この力以外に、振動方向が反転するときに半導体チップ12に対して発生する慣性力が外力として加わっている。
【0013】
したがって、摩擦面の移動を抑えるために必要な前記振動軸方向保持力の条件は、
(振動軸方向保持力) > (ダイシェア強度)+(慣性力)
となる。
【0014】
以上の着想に基づき、上述の課題を解決するために提供する本出願第1の発明は、
超音波振動を発生させる手段、
前記振動軸方向保持力を制御する手段、
前記慣性力を制御する手段、
および、
(振動軸方向保持力) > (ダイシェア強度)+(慣性力)
なる関係を維持することを管理項目に含む制御管理手段
を有することを特徴とする半導体チップのボンディング装置である。
【0015】
ツール/チップ接触面18でのすべり摩擦の発生を抑えるための前記条件式は、本願第1の発明が有する制御管理手段に管理項目として含まれるが、このうち、前記ダイシェア強度は接合加工の結果得られるため制御値とはならず、その他の因子を制御する必要がある。本願第1の発明は前記振動軸方向保持力と前記慣性力を制御する手段を有するため、超音波振動が与えられ、前記ダイシェア強度が上昇している状態でも前記振動軸方向保持力を前記ダイシェア強度と前記慣性力の和よりも高い状態に維持できる。このため、ツール/チップ接触面18でのすべり摩擦の発生を抑えることができ、マウントツール11のツール/チップ接触面18を含む面の摩耗を防ぐことができる。
【0016】
また、本出願第2の発明は、本出願第1の発明であって、
前記振動軸方向保持力の発生手段が、
▲1▼前記マウントツールから前記マウントツールに保持される半導体チップとの接触面に垂直負荷を与える手段、または、
▲2▼前記マウントツール内部に組み込まれた、前記マウントツールに保持される半導体チップの吸着手段、
のいずれか一つ以上から構成されることを特徴とする請求項1記載の半導体チップのボンディング装置である。
【0017】
本出願第2の発明によれば、前記振動軸方向保持力の一部はマウントツール11からツール/チップ接触面18への垂直負荷力と半導体チップ12の吸着力との和にツール/チップ接触面18の摩擦係数を乗することにより与えられる。このように前記振動方向保持力が明解な物理法則にしたがっているため、前記振動方向保持力を容易にかつ精度良く制御することができ、ツール/チップ接触面18でのすべり摩擦の発生を抑える条件を満たすにあたっての制御信頼性を高めることができる。
【0018】
また、本出願第3の発明は、本出願第1の発明であって、
前記慣性力の制御手段が、
▲1▼超音波振動の振動周波数を変動させる手段手段、または、
▲2▼超音波振動の振動振幅を変動させる手段手段、
のいずれか一つ以上から構成されることを特徴とする半導体チップのボンディング装置である。
【0019】
超音波振動による前記慣性力は半導体チップ12の質量と前記超音波振幅、及び前記超音波周波数によって与えられる。本出願第3の発明によれば、このうち振幅と周波数の一つ以上が制御できる。このため、前記慣性力を直接的に制御することができ、ツール/チップ接触面18でのすべり摩擦の発生を抑える条件を満たすにあたっての制御信頼性を高めることができる。
【0020】
また、本出願第4の発明は、本出願第1の発明であって、
前記制御管理手段が、
予め記憶された前記ダイシェア強度の変動に関連するデータを保存した記憶装置を構成要素として含んでいることを特徴とする半導体チップのボンディング装置である。
【0021】
本出願第4の発明によれば、前記ダイシェア強度の変動に関する情報は予め記憶装置内に保存されているので、前記振動方向保持力と前記慣性力の制御方法を予め設定しておくことができる。これより、本願第1の式で管理項目として示した前記条件式を満たすべく制御するにあたっての制御時間遅れが発生しにくく、結果的にツール/チップ接触面18でのすべり摩擦の発生を抑える条件を満たすにあたっての制御信頼性を高めることができる。
【0022】
また、本出願第5の発明は、本出願第1の発明であって、
前記制御管理手段が、
前記ダイシェア強度またはその代用特性を計測する手段
を構成要素として含んでいることを特徴とする半導体チップのボンディング装置である。
【0023】
本出願第5の発明によれば、接合加工ごとにダイシェア強度の変動に関する情報を得ることができる。これにより、前記振動方向保持力と前記慣性力を高精度におこなうことができ、ツール/チップ接触面18でのすべり摩擦の発生を抑える条件を満たすにあたっての制御信頼性を高めることができる。
【0024】
また、本出願第6の発明は、本出願第1の発明であって、
制御管理手段が、
前記振動軸方向保持力またはその代用特性を計測する手段
を構成要素として含んでいることを特徴とする半導体チップのボンディング装置である。
【0025】
本出願第6の発明によれば、制御対象である前記振動方向保持力の実際の制御値に関する情報を接合加工ごとに得ることができる。これにより、前記振動方向保持力の制御を高精度におこなうことができ、ツール/チップ接触面18でのすべり摩擦の発生を抑える条件を満たすにあたっての制御信頼性を高めることができる。
【0026】
また、本出願第7の発明は、前記接触領域に、前記半導体チップを保持するマウントツールを介して超音波振動を与え、
前記振動軸方向保持力と前記慣性力を制御して、
(振動軸方向保持力) > (ダイシェア強度)+(慣性力)
なる関係を維持することを特徴とする半導体チップのボンディング方法である。
【0027】
本願第7の発明によれば、超音波振動が加えられて接合領域17の面積が増加して前記ダイシェア強度が上昇する状態でも、前記振動軸方向保持力と前記慣性力を制御して前記条件式を満たすことで、前記振動軸方向保持力を前記ダイシェア強度と前記慣性力の和よりも高い状態に維持できる。このため、ツール/チップ接触面18でのすべり摩擦の発生を抑えることができ、マウントツール11のツール/チップ接触面18を含む表面の摩耗を防ぐことができる。
【0028】
また、本出願第8の発明は、本願第7の発明の前記慣性力の制御方法として、前記超音波振動を停止させる直前に、
前記接合領域が弾性変形で吸収できる程度の振幅に前記超音波振動を減少させるプロセス
を含むことを特徴とする半導体チップのボンディング方法である。
【0029】
本出願第8の発明によれば、接合加工終了の直前に接合領域17が弾性変形で吸収できる程度の振幅に減少させるプロセスを含むことにより、接合加工に係る領域においてすべり摩擦が発生しない条件を設定することができる。これにより、接合領域における接合不良の発生を防止しつつ、ツール/チップ接触面18でのすべり摩擦の発生を抑えることができ、接合信頼性を向上させつつ、マウントツール11のツール/チップ接触面18を含む表面の摩耗を防ぐことができる。
【0030】
また、本出願第9の発明は、本出願第7の発明の方法であって、
前記接合される二部品の接合部の少なくとも一方の構造体を
先端形状が凸状になった、いわゆるスタッドバンプとし、
前記超音波振動を開始する前に前記接合される二部品の接合部を接触させ、
前記スタッドバンプ先端の凸部の少なくとも一方を塑性変形させて接触面積を増加させるプロセス
を含むことを特徴とする半導体チップのボンディング方法である。
【0031】
本出願第9の発明によれば、超音波振動を与えて接合すべき接触領域を再現性良く用意することができ、超音波振動開始後の前記ダイシェア強度の経時変化である変動プロファイルの再現性が高まる。このため、接合加工ごとに前記変動プロファイルを計測することなく前記振動軸方向保持力と前記慣性力の制御方法を規定して制御を行った場合でも、ツール/チップ接触面18でのすべり摩擦の発生を抑える条件を満たすにあたっての制御信頼性を高めることができる。
【0032】
また、本出願第10の発明は、本出願第7の発明の方法であって、
前記超音波振動を与えている時間の少なくとも一部、望ましくは全部では、
前記接合される二部品の接合部の少なくとも一方が加熱されている
ことを特徴とする半導体チップのボンディング方法である。
【0033】
本出願第10の発明によれば、加熱によって接合部13又は14は塑性変形しやすくなるため、前記ダイシェア強度が低下する。したがって、接合部13又は14の少なくとも一方を加熱することでツール/チップ接触面18でのすべり摩擦の発生を抑える条件を満たすにあたっての制御自由度を拡大し、制御信頼性を高めることができる。
【0034】
また、本出願第11の発明は、本出願第7から9発明の方法であって、
前記マウントツールに保持される半導体チップの接合部の構造体は、金、アルミニウム又は銅の少なくとも一つを最表面の構成材料とするバンプで、
前記接合加工される他方の部品は、金、アルミニウム又は銅の少なくとも一つを最表面の構成材料とするパッドを接合部の構造体とする配線基板である
ことを特徴とする半導体チップのボンディング方法である。
【0035】
また、本出願第12の発明は、本出願第7から9発明の方法であって、
前記マウントツールに保持される半導体チップの接合部の構造体は、金、アルミニウム又は銅の少なくとも一つを最表面の構成材料とするパッドで、
前記接合加工される他方の部品は、金、アルミニウム又は銅の少なくとも一つを最表面の構成材料を接合部の構造体とする配線基板である
ことを特徴とする半導体チップのボンディング方法である。
【0036】
また、本出願第13の発明は、本出願第7から9発明の方法であって、
前記マウントツールに保持される半導体チップの接合部の構造体は、金、アルミニウム又は銅の少なくとも一つを最表面の構成材料とするパッドで、
前記接合加工される他方の部品は、金、アルミニウム又は銅の少なくとも一つを最表面の構成材料とするバンプを接合部の構造体とする半導体チップまたはこれを構成要素として含む部品である
ことを特徴とする半導体チップのボンディング方法である。
【0037】
また、本出願第14の発明は、本出願第7から9発明の方法であって、
前記マウントツールに保持される半導体チップの接合部の構造体は、金、アルミニウム又は銅の少なくとも一つを最表面の構成材料とするバンプで、
前記接合加工される他方の部品は、金、アルミニウム又は銅の少なくとも一つを最表面の構成材料とするパッドを接合部の構造体とする半導体チップまたはこれを構成要素として含む部品である
ことを特徴とする半導体チップのボンディング方法である。
【0038】
また、本出願第15の発明は、本出願第7から9発明の方法であって、
前記マウントツールに保持される半導体チップの接合部の構造体は、金、アルミニウム又は銅の少なくとも一つを最表面の構成材料とするバンプで、
前記接合加工される他方の部品は、金、アルミニウム又は銅の少なくとも一つを最表面の構成材料とするバンプを接合部の構造体とする半導体チップまたはこれを構成要素として含む部品である
ことを特徴とする半導体チップのボンディング方法である。
【0039】
本願第7から9の発明はいずれも接合加工を受ける半導体チップ11又は他方の部品12に特別な制限を加えることなく、ツール/チップ接触面18でのすべり摩擦の発生を抑えることができるため、本願第11から15の発明のように多様な組み合わせにおいても適用することができる。このため、信頼性と生産性とを両立するボンディング方法を多くの組み合わせの部品加工に提供することができる。
【0040】
【発明の実施の形態】
実施例1
以下に本発明の一実施の形態につき図面を参照して説明する。以下は本発明の一実施形態であって本発明を限定するものではない。図3は、本願発明の一実施の形態に係るボンディング装置の概念図である。図1と同様の超音波接合工法の基本構成を備え、振動軸方向保持力の制御手段として、超音波振動発生手段301と振動振幅制御手段302および振動周波数制御手段303、マウントツール11への垂直負荷手段311と負荷力制御手段312、半導体チップ12の吸着保持手段321と吸着力制御手段322、および各制御手段に制御値を与える制御管理手段331とダイシェア強度変動に関連した情報を蓄積保存している記憶手段332が追加されている。
【0041】
本実施例の装置で超音波接合加工が行われているとき、制御管理手段331は記憶装置332からの情報に基づいて、
(振動軸方向保持力) > (ダイシェア強度)+(慣性力)
なる関係を維持すべく、振動振幅制御手段302と振動周波数制御手段303、負荷力制御手段312および吸着力制御手段322に制御情報を与える。前記制御情報を受け取った前記各制御手段は前記制御情報に基づいて超音波振動発生手段301と垂直負荷手段311と吸着保持手段321とを制御する。その結果、前記超音波振動振幅と前記超音波振動周波数、前記垂直負荷、前記吸着力のいずれか一つ以上が経時的に変化し、接合加工中は前記条件式が満たされる。
【0042】
以下に本実施例を更に詳しく説明する。
本実施例における制御を明確にするため、前記条件式において左辺に制御因子をまとめると、
(振動軸方向保持力)−(慣性力) > (ダイシェア強度)
となり、前記振動軸方向保持力は、
{(垂直負荷)+(吸着力)}*(摩擦係数)
なる関係で記述され、前記慣性力は
(半導体チップ12の質量)*(振動振幅)*(振動角周波数)
で示される。このうち、摩擦係数は摩擦材料の影響を強く受けるシステム特性値であり、半導体チップ12の質量も各接合加工では制御不可因子なため、本願発明では制御因子としては除外される。
したがって、残る4つの因子が本実施例の制御対象として用いられている。
上記4因子を制御するにあたって、本実施例では、接合加工中の前記ダイシェア強度変動プロファイルを実験的に測定し、これに基づいて各因子の制御方法を予め決定し、この情報は制御管理手段331の一部として含まれる記憶手段332に保存されている。加工開始後は、制御管理手段331は記憶手段332に適宜アクセスして制御方法を得て、各因子の制御を行い、上記条件式を維持する。このように制御方法を加工前に与えておくことで、制御の遅れを最小限に抑えることができる。
なお、記憶手段332に格納される情報は加工実験結果だけではなく、様々な関連上を入れることが可能である。たとえば、前回以前の接合加工により得られた情報を格納しても良いし、接合加工の回数を重ねることで各制御因子の制御値が変動する場合はその変動に関する情報を格納しても良い。
【0043】
上記制御により、前記振動軸方向保持力から前記慣性力を減じた力である実効的振動軸方向保持力が上昇する前記ダイシェア強度よりも高い状態を維持でき、接合加工プロセスを通じてマウントツール11と半導体チップ12のすべり摩擦の発生を抑制できる。したがって、本実施形態のボンディング装置においてはマウントツール11の摩耗を防止することができ、マウントツール11の交換頻度を従来に比べて少なくすることができるため、従来よりも飛躍的に生産性を高めることができる。また、マウントツールの摩耗が防止されることにより、半導体チップ12のマウントツール11への不完全な保持状態の発生が防止されるため、接合工程の信頼性が向上し、従来の製造方法では適宜必要とされている接合前のマウント位置検査工程を省略できる。さらに、マウントツール11の摩耗が防止されることにより、半導体チップ12が接触するマウントツール11の表面形状の劣化に起因する半導体チップ12の破損の発生が抑えられ、工程の信頼性が向上する。
【0044】
本実施例の装置を用いた接合加工の経時変化をグラフで概念的に示したのが図4である。このグラフでは、本実施例の実施形態の理解を助けるために、変動する前記ダイシェア強度とこれに対抗する前記実効的振動軸方向保持力を比較している。領域41においては、前記垂直負荷のみが制御され、順次42においては前記吸着力を、43においては前記超音波振動振動数を、44においては前記超音波振動振幅を制御因子として追加している。
【0045】
本実施形態では各制御手段を段階的に追加する形で機能させているが、これに限ることなく、一つだけの制御手段を用いることも当然制御管理手段が行う制御の一形態であるし、途中で一つの制御手段を停止することも制御の一形態に含まれる。また、制御値の変化は連続的でも段階的でも本実施例に本質的な変化を与えない。
【0046】
ただし、前記接合加工の最終段階では、前記超音波振動振幅を減少させ、接合部13又は14の塑性変形で吸収できる程度の振幅にする状態を経由して停止することは有益である。超音波接合加工の原理として、接合部13又は14の塑性変形で対応しうる以上の超音波振動振幅が与えられれば、接合領域17では金属結合の破断が発生する。この破断は金属結合面を拡大するには重要ではあるが、破断した状態で超音波振動が停止されると、結果的には接合領域17の金属結合面積を減らすことになり、不足の接触不良をもたらすことになりかねない。
そこで、加工の最終段階では、前記超音波振動振幅を減少させ、接合部13又は14の塑性変形で吸収できる程度の振幅にする状態を経由して停止することで、前記金属結合の破断面の形成を最小限に抑えることができるので、接合領域17の接合信頼性を著しく向上させることができ、信頼性向上と生産性向上の両立にとって際立った効果がある。
【0047】
また、上記のワークのうち、接合部にバンプを有するワークは、当該バンプの少なくとも一方の先端形状が、凸状になった、いわゆるスタッドバンプを用いることで、各バンプの接触面積をほぼ均一にすることができ、接合加工ごとのダイシェア強度の上昇プロファイルを安定させることができる。このため、実効的振動軸保持力の制御範囲が広がり、かつ接合加工前に与えておく制御方法の信頼性が高くなるので、接合加工における信頼性と生産性の両立が極めて高いレベルで実現することができる。
【0048】
さらに、本実施例で示したボンディング方法では、接合加工中に接合部13又は14の少なくとも一方を一時的にでも加熱することは有益である。接合加工では超音波振動が与えられることで金属間結合が形成されるが、その形成メカニズムが凝着部の成長、いわゆるJunction growthの場合は、結合を担う金属の塑性変形のしやすいことは結合面積拡大に効果がある。接合部13又は14の少なくとも一方を加熱することは前記塑性変形しやすさを助長するから、加工を促進し、生産性向上に寄与する。また、加熱によって接合部13又は14を塑性変形しやすくするということは、加熱によって前記ダイシェア強度を低下させることができるということである。したがって、接合部13又は14の少なくとも一方を加工中一時的に、望ましくは加工中すべてに渡って、加熱すると、ツール/チップ接触面18でのすべり摩擦の発生を抑える条件を満たすにあたっての前記進行軸方向保持力と前記慣性力の制御自由度が拡大し、結果的に制御信頼性が高まる。
【0049】
なお、上記の本実施例のボンディング方法では、マウントツール11の摩耗を防止するための本質的かつシステム的な対策を行っているため、半導体チップ12と他方の部品15への制限事項、例えばマウントワークとの接触面への材料指定、が少ない。これが本実施例で摩擦係数や質量を制御因子として除外した効果になる。したがって様々な部品の組合せの接合加工に対応できる。具体的には、組合せとして、以下の組み合わせを選択することができる。
▲1▼ツール接触ワークが金又は銅を最表面の主構成材料としたバンプを接合部とする半導体チップで、対向ワークが金パッドを接合部とする配線基板。
▲2▼ツール接触ワークが金、アルミニウム又は銅を最表面の主構成材料としたパッドを接合部とする半導体チップで、対向ワークが金又は銅を最表面の主構成材料としたバンプを接合部とする配線基板。
▲3▼ツール接触ワークが金、アルミニウム又は銅を最表面の主構成材料としたパッドを接合部とする半導体チップで、対向ワークが金又は銅を最表面の主構成材料としたバンプを接合部とする半導体チップ
▲4▼ツール接触ワークが金、アルミニウム又は銅を最表面の主構成材料としたバンプを接合部とする半導体チップで、対向ワークが金又は銅を最表面の主構成材料としたパッドを接合部とする半導体チップ。
▲5▼ツール接触ワークが金又は銅を最表面の主構成材料としたバンプを接合部とする半導体チップで、対向ワークも金又は銅を最表面の主構成材料としたバンプを接合部とする半導体チップ。
【0050】
実施例2
以下に本発明の別の実施形態を図面を参照して説明する。以下は本発明の一実施形態であって本発明を限定するものではない。図5は、本願発明の一実施の形態に係るボンディング装置の概念図である。図3と同様、超音波接合工法の基本構成、複数の制御手段、前記制御管理手段および前記記憶装置も有するが、本実施例では前記ダイシェア強度またはその代用特性を計測するダイシェア強度計測手段533と前記振動軸方向保持力またはその代用特性を計測する保持力計測手段534が追加要素として制御管理手段531に含まれている。各計測手段を用いることで、接合加工ごとの実データに関連する情報も得ることができる。
【0051】
本実施例では、ダイシェア強度計測手段533または保持力計測手段534の少なくとも一方を用い、これらより加工中に得られる加工中の実際のダイシェア強度又は振動軸方向保持力に関する情報を得て、必要に応じて過去の加工に関する情報を記憶装置532から得て比較することで、制御管理手段531が制御を行う。
【0052】
上記のように、実際の加工中の情報が得られる効果として、不測の事態による前記ダイシェア強度の急変動や振動軸方向保持力の急変動に対しても適切な制御を高精度で行うことができ、ツール/チップ接触面18でのすべり摩擦の発生を抑える条件を維持における制御信頼性を高めることができる。
【0053】
【発明の効果】
超音波接合加工において、前記ダイシェア強度に対応して前記実効的振動軸方向保持力を制御する機構を有した装置を用い、前記ダイシェア強度よりも前記実効的振動軸方向保持力が高い状態を加工中維持することにより、マウントツールとこれに保持される半導体チップの界面でのすべり摩擦の発生を抑制し、マウントツール表面の摩耗を防止することが可能である。
【0054】
【図面の簡単な説明】
【図1】超音波接合を用いた半導体チップ接合加工法の概念図
【図2】ダイシェア強度と振動軸方向保持力との接合加工の経時変化を示すグラフ
【図3】本発明の一実施の形態に係るボンディング装置の概念図
【図4】本発明の一実施の形態に係る、ダイシェア強度と実効的振動軸方向保持力との接合加工の経時変化を示すグラフ
【図5】本発明の別の一実施の形態に係るボンディング装置の概念図
【符号の説明】
11…マウントツール
12…半導体チップ
13…半導体チップの接合部
14…半導体チップに接続される他方の部品の接続部
15…半導体チップに接続される他方の部品
16…ステージ
17…接合される二部品の接続部の接合領域
18…ツール/チップ接触面
21…ダイシェア強度の接合加工中の変化を示す線
22…振動軸方向保持力の接合加工中の変化を示す線
23…ダイシェア強度と振動軸方向保持力がほぼ同一になった点
24…超音波振動開始点
301…超音波振動発生手段
302…振動振幅制御手段
303…周波数制御手段
311…マウントツールへの負荷手段
312…負荷力制御手段
321…半導体チップの吸着保持手段
322…吸着力制御手段
331…制御管理手段
332…記憶装置
41…マウントツールへの負荷のみを制御している領域
42…マウントツールへの負荷と吸着力を制御している領域
43…マウントツールへの負荷と吸着力および超音波周波数を制御している領域44…マウントツールへの負荷と吸着力および超音波振動周波数と振幅を制御している領域
45…超音波振動開始点
46…ダイシェア強度の接合加工中の変化を示す線
47…実効的振動軸方向保持力の接合加工中の変化を示す線
48…加工終了点
501…超音波振動発生手段
502…振動振幅制御手段
503…周波数制御手段
511…マウントツールへの負荷手段
512…負荷力制御手段
521…半導体チップの吸着保持手段
522…吸着力制御手段
531…制御管理手段
532…記憶装置
533…ダイシェア強度の計測手段
534…振動軸方向保持力の計測手段

Claims (15)

  1. 半導体チップの接合部と前記半導体チップに接合加工される他方の部品の接合部とが接触してなる接触領域に、前記半導体チップを保持するマウントツールを介して超音波振動を与え、前記超音波振動によって前記接合される二部品の接合部間に形成される接合領域全体の振動軸方向のせん断強さであるダイシェア強度を上昇させる超音波振動発生手段、
    前記マウントツールに保持される半導体チップと前記マウントツールとの接触界面全体の超音波振動軸方向のせん断強さである振動軸方向保持力を制御する手段、
    前記超音波振動が前記マウントツールに保持される半導体チップに発生させる振動軸方向の慣性力を制御する手段、
    および、
    (振動軸方向保持力) > (ダイシェア強度)+(慣性力)
    なる関係を維持する制御管理手段
    を有することを特徴とする半導体チップのボンディング装置。
  2. 前記振動軸方向保持力の発生手段が、
    ▲1▼前記マウントツールから前記マウントツールに保持される半導体チップとの接触面に垂直負荷を与える手段、または、
    ▲2▼前記マウントツール内部に組み込まれた、前記マウントツールに保持される半導体チップの吸着手段、
    のいずれか一つ以上から構成されることを特徴とする請求項1記載の半導体チップのボンディング装置。
  3. 前記慣性力の制御手段が、
    ▲1▼前記超音波振動の振動周波数を変動させる手段、または、
    ▲2▼前記超音波振動の振動振幅を変動させる手段、
    のいずれか一つ以上から構成されることを特徴とする請求項1記載の半導体チップのボンディング装置。
  4. 前記制御管理手段が、
    予め記憶された前記ダイシェア強度の変動に関連するデータを保存した記憶装置を構成要素として含むことを特徴とする請求項1記載の半導体チップのボンディング装置。
  5. 前記制御管理手段が、
    前記ダイシェア強度またはその代用特性を計測する手段
    を構成要素として含むことを特徴とする請求項1記載の半導体チップのボンディング装置。
  6. 前記制御管理手段が、
    前記振動軸方向保持力またはその代用特性を計測する手段
    を構成要素として含むことを特徴とする請求項1記載の半導体チップのボンディング装置。
  7. 前記接触領域に、前記半導体チップを保持するマウントツールを介して超音波振動を与え、
    前記振動軸方向保持力と前記慣性力を制御して、
    (振動軸方向保持力) > (ダイシェア強度)+(慣性力)
    なる関係を維持することを特徴とする半導体チップのボンディング方法。
  8. 前記超音波振動を停止させる直前に、
    前記接合される二部品の接合部の少なくとも一方の塑性変形で前記超音波振動を吸収できる程度の振幅に前記超音波振動を減少させるプロセス
    を含むことを特徴とする請求項7記載の半導体チップのボンディング方法。
  9. 前記接合される二部品の接合部の少なくとも一方の構造体を
    先端形状が凸状になった、いわゆるスタッドバンプとし、
    前記超音波振動を開始する前に前記接合される二部品の接合部を接触させ、
    前記スタッドバンプ先端の凸部の少なくとも一方を塑性変形させて接触面積を増加させるプロセス
    を含むことを特徴とする請求項7記載の半導体チップのボンディング方法。
  10. 前記超音波振動を与えている時間の少なくとも一部、望ましくは全部では、
    前記接合される二部品の接合部の少なくとも一方が加熱されている
    ことを特徴とする請求項7記載の半導体チップのボンディング方法。
  11. 前記マウントツールに保持される半導体チップの接合部の構造体は、金、アルミニウム又は銅の少なくとも一つを最表面の構成材料とするバンプで、
    前記接合加工される他方の部品は、金、アルミニウム又は銅の少なくとも一つを最表面の構成材料とするパッドを接合部の構造体とする配線基板である
    ことを特徴とする請求項7から10いずれか一つに記載の半導体チップのボンディング方法。
  12. 前記マウントツールに保持される半導体チップの接合部の構造体は、金、アルミニウム又は銅の少なくとも一つを最表面の構成材料とするパッドで、
    前記接合加工される他方の部品は、金、アルミニウム又は銅の少なくとも一つを最表面の構成材料を接合部の構造体とする配線基板である
    ことを特徴とする請求項7から10いずれか一つに記載の半導体チップのボンディング方法。
  13. 前記マウントツールに保持される半導体チップの接合部の構造体は、金、アルミニウム又は銅の少なくとも一つを最表面の構成材料とするパッドで、
    前記接合加工される他方の部品は、金、アルミニウム又は銅の少なくとも一つを最表面の構成材料とするバンプを接合部の構造体とする半導体チップまたはこれを構成要素として含む部品である
    ことを特徴とする請求項7から10いずれか一つに記載の半導体チップのボンディング方法。
  14. 前記マウントツールに保持される半導体チップの接合部の構造体は、金、アルミニウム又は銅の少なくとも一つを最表面の構成材料とするバンプで、
    前記接合加工される他方の部品は、金、アルミニウム又は銅の少なくとも一つを最表面の構成材料とするパッドを接合部の構造体とする半導体チップまたはこれを構成要素として含む部品である
    ことを特徴とする請求項7から10いずれか一つに記載の半導体チップのボンディング方法。
  15. 前記マウントツールに保持される半導体チップの接合部の構造体は、金、アルミニウム又は銅の少なくとも一つを最表面の構成材料とするバンプで、
    前記接合加工される他方の部品は、金、アルミニウム又は銅の少なくとも一つを最表面の構成材料とするバンプを接合部の構造体とする半導体チップまたはこれを構成要素として含む部品である
    ことを特徴とする請求項7から10いずれか一つに記載の半導体チップのボンディング方法。
JP2002216941A 2002-07-25 2002-07-25 ボンディング方法及びボンディング装置 Expired - Fee Related JP3860088B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002216941A JP3860088B2 (ja) 2002-07-25 2002-07-25 ボンディング方法及びボンディング装置
TW092120364A TWI238479B (en) 2002-07-25 2003-07-25 Bonding method and bonding apparatus
US10/626,522 US6932262B2 (en) 2002-07-25 2003-07-25 Bonding method and bonding apparatus
KR10-2003-0051488A KR100530724B1 (ko) 2002-07-25 2003-07-25 접합 방법 및 접합 장치
CNB031438326A CN1222027C (zh) 2002-07-25 2003-07-25 压焊方法和压焊装置
US11/181,861 US7370786B2 (en) 2002-07-25 2005-07-15 Bonding method and bonding apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002216941A JP3860088B2 (ja) 2002-07-25 2002-07-25 ボンディング方法及びボンディング装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004063582A true JP2004063582A (ja) 2004-02-26
JP3860088B2 JP3860088B2 (ja) 2006-12-20

Family

ID=31492076

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002216941A Expired - Fee Related JP3860088B2 (ja) 2002-07-25 2002-07-25 ボンディング方法及びボンディング装置

Country Status (5)

Country Link
US (2) US6932262B2 (ja)
JP (1) JP3860088B2 (ja)
KR (1) KR100530724B1 (ja)
CN (1) CN1222027C (ja)
TW (1) TWI238479B (ja)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5488974B2 (ja) * 2006-05-29 2014-05-14 キルステン,ソルダリング エージー はんだ付けモジュールと、可動性であり、はんだ付けモジュール内に交換可能に挿入できる、少なくとも1つのはんだ付けステーションを備えるはんだ付け装置、および、はんだ付けステーションを収容する待機ステーション
CN101267012B (zh) * 2008-04-30 2010-12-29 晶能光电(江西)有限公司 半导体外延片的压焊方法
US7810699B1 (en) * 2009-04-22 2010-10-12 Gm Global Technology Operations, Inc. Method and system for optimized vibration welding
US8129220B2 (en) * 2009-08-24 2012-03-06 Hong Kong Polytechnic University Method and system for bonding electrical devices using an electrically conductive adhesive
FR2954588B1 (fr) * 2009-12-23 2014-07-25 Commissariat Energie Atomique Procede d'assemblage d'au moins une puce avec un element filaire, puce electronique a element de liaison deformable, procede de fabrication d'une pluralite de puces, et assemblage d'au moins une puce avec un element filaire
US9215809B2 (en) * 2012-08-10 2015-12-15 Smartrac Technology Gmbh Contact bumps methods of making contact bumps
JP6273204B2 (ja) * 2012-09-12 2018-01-31 株式会社Gsユアサ 蓄電素子、及び蓄電素子の製造方法
US9779965B2 (en) 2013-10-08 2017-10-03 Kulicke And Soffa Industries, Inc. Systems and methods for bonding semiconductor elements
US9136240B2 (en) * 2013-10-08 2015-09-15 Kulicke And Soffa Industries, Inc. Systems and methods for bonding semiconductor elements
US9780065B2 (en) 2013-10-08 2017-10-03 Kulicke And Soffa Industries, Inc. Systems and methods for bonding semiconductor elements
US9199158B2 (en) * 2013-11-13 2015-12-01 Dashboards Skimboards Company, Llc Skateboard / longboard truck with improved mechanical advantage
TWI791013B (zh) * 2017-03-13 2023-02-01 美商庫利克和索夫工業公司 用於對半導體元件進行超音波接合的方法
TWI752187B (zh) * 2017-03-14 2022-01-11 美商庫利克和索夫工業公司 用於對半導體元件進行接合的系統及其方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5454506A (en) * 1994-03-01 1995-10-03 International Business Machines Corporation Structure and process for electro/mechanical joint formation
JPH091065A (ja) * 1995-04-19 1997-01-07 Ngk Spark Plug Co Ltd 超音波ホーン
JP3086158B2 (ja) * 1995-07-26 2000-09-11 株式会社日立製作所 超音波ボンディング方法
US5921460A (en) * 1997-06-05 1999-07-13 Ford Motor Company Method of soldering materials supported on low-melting substrates
US6010059A (en) * 1997-09-30 2000-01-04 Siemens Energy & Automation, Inc. Method for ultrasonic joining of electrical parts using a brazing alloy
US6045026A (en) * 1998-02-23 2000-04-04 Micron Technology, Inc. Utilize ultrasonic energy to reduce the initial contact forces in known-good-die or permanent contact systems
EP1010492B1 (en) * 1998-12-10 2004-09-01 Ultex Corporation Ultrasonic vibration bonding method
JP2002164384A (ja) 2000-11-27 2002-06-07 Toshiba Corp 半導体チップ実装体の製造方法、ボンディングツール
US6662992B2 (en) * 2000-12-28 2003-12-16 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method and apparatus for reducing adhesive build-up on ultrasonic bonding surfaces
JP4383684B2 (ja) * 2001-03-16 2009-12-16 矢崎総業株式会社 電線の超音波接合方法

Also Published As

Publication number Publication date
TWI238479B (en) 2005-08-21
TW200405493A (en) 2004-04-01
US20060011706A1 (en) 2006-01-19
US7370786B2 (en) 2008-05-13
US6932262B2 (en) 2005-08-23
KR20040010396A (ko) 2004-01-31
KR100530724B1 (ko) 2005-11-23
CN1222027C (zh) 2005-10-05
CN1474443A (zh) 2004-02-11
JP3860088B2 (ja) 2006-12-20
US20040214406A1 (en) 2004-10-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7370786B2 (en) Bonding method and bonding apparatus
US11462506B2 (en) Ultrasonic transducer systems including tuned resonators, equipment including such systems, and methods of providing the same
CN107615464B (zh) 电力用半导体装置的制造方法以及电力用半导体装置
TWI539586B (zh) 覆晶接合方法、及特徵爲包含該覆晶接合方法之固體攝像裝置之製造方法
JP2003531729A (ja) 効率的なエネルギー移動キャピラリー
US10987753B2 (en) Wedge bonding tools, wedge bonding systems, and related methods
Wang et al. Experimental study of thermosonic gold bump flip-chip bonding with a smooth end tool
US7208059B2 (en) Method of ultrasonic-mounting electronic component and ultrasonic mounting machine
JPH05114800A (ja) 電子部品の実装方法及び実装装置
US6779702B2 (en) Wire bonding apparatus with spurious vibration suppressing structure
JP3591458B2 (ja) 半導体装置の実装構造および半導体装置
JP5506899B1 (ja) 超音波接合方法及び超音波接合装置
JP2000357705A (ja) 電子部品の接続方法
JPS5856971B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP6370041B2 (ja) 振動体の製造方法
JPH05206223A (ja) シングルポイントボンディングツール
JPS5931986B2 (ja) 半導体整流装置
JP2004343142A (ja) 半導体装置の実装構造
JPS58173854A (ja) 半導体素子用冷却装置
JP2007324396A (ja) 半導体装置、およびその製造方法
JP2007324386A (ja) 半導体装置、およびその製造方法
JPH1187426A (ja) フリップチップ接続構造

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050609

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20060517

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060523

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060724

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20060829

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20060920

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090929

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100929

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100929

Year of fee payment: 4

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100929

Year of fee payment: 4

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110929

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120929

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120929

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130929

Year of fee payment: 7

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees