JP2004059596A - 樹脂組成物及びそれを用いたプリント配線板 - Google Patents
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Abstract
【課題】電気特性、難燃性バランスに優れた硬化物を与える、ポリフェニレンオキシドを含有するプリント配線板用に適した樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分；一般式（１）の構成単位を主たる繰り返し単位を有し、該繰り返し単位中に一般式（２）の構成単位を有するポリフェニレンオキシドと、（Ｂ）成分；１分子中に少なくとも１個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂とを必須成分として含有する樹脂組成物。
【化１】
【化２】
〔Ｒ１〜Ｒ１２は各々独立して、アルキル基、アルコキシ基、フェニル基、アミノ基；カルボキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子又は水素原子を示し、Ｘはアルキレン基、カルボニル基、オキシ基、チオ基、スルフィニル基又はスルホニル基、或いは直接結合を示す。〕
【選択図】 なし
【解決手段】（Ａ）成分；一般式（１）の構成単位を主たる繰り返し単位を有し、該繰り返し単位中に一般式（２）の構成単位を有するポリフェニレンオキシドと、（Ｂ）成分；１分子中に少なくとも１個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂とを必須成分として含有する樹脂組成物。
【化１】
【化２】
〔Ｒ１〜Ｒ１２は各々独立して、アルキル基、アルコキシ基、フェニル基、アミノ基；カルボキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子又は水素原子を示し、Ｘはアルキレン基、カルボニル基、オキシ基、チオ基、スルフィニル基又はスルホニル基、或いは直接結合を示す。〕
【選択図】 なし
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ポリフェニレンオキシド及びエポキシ樹脂を含む樹脂組成物及びその組成物を用いたプリント配線板に関するものである。本発明の樹脂組成物は可撓性、電気特性及び難燃性に優れた硬化物を与えるため、プリント回路基板材料、半導体封止材、電気絶縁材料、レジスト材料、コーティング材料及び接着剤等に使用可能であり、特にプリント回路基板材料としてこの樹脂組成物を使用すると高周波領域で優れた特性を有する。
【０００２】
【従来の技術】
エポキシ樹脂は、耐熱性、接着性、耐水性、機械的強度及び電気特性等に優れていることから、様々の分野で使用されている。特に、電気・電子分野では、絶縁注型、積層材料、封止材料等において幅広く使用されている。ところが、近年、電気・電子部品の小型化、精密化、高性能化に伴い、使用されるエポキシ樹脂も成形性、高度な耐湿性及び高度の電気特性が要求されるようになってきた。
特に、プリント配線基板の場合、信号速度向上の目的から樹脂の低誘電率が要求されてきているが、従来の臭素化ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂とジシアンジアミドの組み合わせは誘電率が高いのが欠点であった。そこでエポキシ樹脂と、反応性ポリブタジエン樹脂、ポリテトラフルオロエチレン樹脂等の熱可塑性樹脂を混合することや、アラミド繊維を基材に用いることが提案されている。
【０００３】
しかし、これら従来の技術においては、エポキシ樹脂の誘電率が高いため、望ましい低誘電率を達成するに混合する熱可塑性樹脂の占める割合が大きくなり、エポキシ樹脂の特徴である耐熱性、寸法安定性、耐薬品性が損なわれてしまうという難点がある。
そこで、骨格中に脂環式構造を導入したエポキシ樹脂を使用することが提案されている（特開平０８−３２５３５５号公報参照）。しかし、この場合は、樹脂の難燃性を低下させるために難燃剤をより多く添加する必要が生じ、誘電率の増大が起こるという問題がある。
【０００４】
更に、近年、コンピューターや情報機器端末等では大量のデータを高速で処理する必要があるため、信号の高周波化が進んでいる。このような高周波回路では誘電体損による電力ロスの影響が大きいため、プリント回路基板の低誘電正接（ｔａｎδ）化が特に必要となってきている。このような低誘電正接化に対応するために、ポリフェニレンオキシドと架橋性ポリマー／モノマーの樹脂組成物を使用することが提案されている（特公平５−７７７０５号公報、特公平６−９２５３３号公報参照）。
【０００５】
この方法における樹脂組成物によれば、低誘電正接化は改善されるものの、本来熱可塑性樹脂であるポリフェニレンオキシドを主体としているために、樹脂組成物が有機溶剤に溶解しにくい、溶融粘度が高すぎ流動性が不足するという問題があり、そのため、プリント配線基板をプレス成形する時に高温、高圧が必要となり、微細な回路パターンの溝を埋める必要のある多層印刷配線板を製造するための樹脂組成物としては成形性が悪く適さない。
【０００６】
そこで、高分子のポリフェニレンオキシドとフェノール性化合物をラジカル開始剤の存在下、再分配反応し生成させた変成フェノール化合物から得られる樹脂組成物が提案されている（特開平９−２３５３４９号公報、特開平９−２９１１４８号公報参照）。しかし、この樹脂組成物はラジカル開始剤を多量に用いるため、再分配反応で得られる低分子ポリフェニレンオキシドを同品質で得るのが非常に難しく大量生産に不向きである。更に、ラジカル開始剤がポリフェニレンオキシド中に残存するため、このポリフェニレンオキシドを用いた樹脂組成物をプリント配線基板として成形する時、ラジカル開始剤による更なる分解反応が進行し、良好な製品が得られないという問題を有している。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記問題点を解決し、従来のポリフェニレンオキシドにない優れた取り扱い性を有し、電気特性、難燃性のバランスに優れた硬化物を与えることができる、比較的低分子のポリフェニレンオキシドを含有する樹脂組成物及び該樹脂組成物を使用したプリント配線板を提供することを目的とするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、以下の各発明を包含する。
【０００９】
（１）下記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を必須成分としてなる樹脂組成物。
（Ａ）成分；質量平均分子量が１，０００〜１０，０００のポリフェニレンオキシドであって、下記一般式（１）で表される構成単位を主たる繰り返し単位とし、該繰り返し単位中に下記一般式（２）で表される構成単位を存在させたポリフェニレンオキシド。
【００１０】
【化５】
【化６】
【００１１】
〔一般式（１）及び一般式（２）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１及びＲ１２は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいアミノ基、カルボキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子又は水素原子を示し、Ｘは置換基を有していてもよいアルキレン基、カルボニル基、オキシ基、チオ基、スルフィニル基又はスルホニル基、或いは直接結合を示す。〕
（Ｂ）成分；１分子中に少なくとも１個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂。
【００１２】
（２）前記（Ａ）成分のポリフェニレンオキシドの両末端が水酸基であることを特徴とする、（１）項記載の樹脂組成物。
【００１３】
（３）前記（Ａ）成分のポリフェニレンオキシドは、一般式（１）におけるＲ２、Ｒ４がメチル基、Ｒ１及びＲ３が水素原子であり、一般式（２）におけるＲ５、Ｒ７、Ｒ１０及びＲ１２がメチル基、Ｒ６、Ｒ８、Ｒ９及びＲ１１が水素原子であることを特徴とする、（１）項又は（２）項に記載の樹脂組成物。
【００１４】
（４）前記（Ａ）成分のポリフェニレンオキシドは、一般式（１）及び一般式（２）で表される構成単位よりなるポリフェニレンオキシドの全フェニレン基における１，４−フェニレン基の割合が８０％以上であることを特徴とする、（１）項〜（３）項のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【００１５】
（５）前記一般式（２）で表される構成単位の割合が、ポリフェニレンオキシド全体に対して２〜３０モル％であることを特徴とする、（１）項〜（４）項のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【００１６】
（６）前記ポリフェニレンオキサイドは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算の質量平均分子量が１，０００〜１０，０００、好ましくは１，０００〜６，０００である、（１）項〜（５）項のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【００１７】
（７）前記（Ａ）成分のポリフェニレンオキシドは、前記一般式（２）におけるＸが置換基を有していてもよいアルキレン基であることを特徴とする、（１）項〜（６）項のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【００１８】
（８）前記（Ａ）成分のポリフェニレンオキシドは、前記一般式（２）におけるＸがメチレン基、エチレン基又はジメチルメチレン基のいずれかであることを特徴とする、（１）項〜（７）項のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【００１９】
（９）前記（Ａ）成分のポリフェニレンオキシドは、下記一般式（４）で表される２価フェノール化合物単独で、或いは更に下記一般式（３）で表される１価フェノール化合物と共に、酵素触媒の存在下に重合させて得られるポリフェニレンオキシドであることを特徴とする、（１）項〜（８）項のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【００２０】
【化７】
【化８】
【００２１】
〔一般式（３）及び一般式（４）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１及びＲ１２は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいアミノ基、カルボキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子又は水素原子を示し、Ｘは置換基を有していてもよいアルキレン基、カルボニル基、オキシ基、チオ基、スルフィニル基又はスルホニル基、或いは直接結合を示す。〕
【００２２】
（１０）前記（Ｂ）成分のエポキシ樹脂は、１分子中に少なくとも１個以上のエポキシ基を有する芳香族エポキシ樹脂であることを特徴とする、（１）項〜（９）項のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【００２３】
（１１）前記（Ｂ）成分のエポキシ樹脂のエポキシ当量が１００〜１０００ｇ／当量の範囲内にある芳香族エポキシ樹脂であることを特徴とする、（１）項〜（１０）項のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【００２４】
（１２）前記樹脂組成物における前記（Ａ）成分のポリフェニレンオキシド及び前記（Ｂ）成分エポキシ樹脂の配合割合（質量基準）は、（Ａ）／（Ｂ）＝１００／１〜１００／１００、好ましくは（Ａ）／（Ｂ）＝１００／３〜１００／６０の範囲であることを特徴とする、（１）項〜（１１）項のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【００２５】
（１３）前記（１）項〜（１２）項のいずれか１項に記載された樹脂組成物を有機溶剤に溶解させ、繊維質の補強剤に含浸させた後、成形することにより製造されているプリント配線板。
【００２６】
（１４）前記樹脂組成物中に塩基性硬化触媒を添加し、ポリフェニレンオキシドの水酸基とエポキシ基の反応を促進させながら成形することにより製造されていることを特徴とする、（１３）項記載のプリント配線板。
【００２７】
（１５）前記塩基性硬化触媒が、３級アミン類及び／又はその塩類、イミダゾール類及び／又はその塩類、ジアザビシクロ化合物類、ホスフィン類、ホスホニウム塩類等より選ばれる少なくとも１種であり、塩基性硬化触媒の使用割合は、ポリフェニレンオキシド及びエポキシ樹脂の総和１００質量部に対し、０．０１〜１０質量部の割合で配合されていることを特徴とする、（１４）項記載のプリント配線板。
【００２８】
【発明の実施の形態】
（ポリフェニレンオキシド）
本発明の樹脂組成物における（Ａ）成分のポリフェニレンオキシドは、前記一般式（１）で表される構成単位を主たる繰り返し単位とし、該繰り返し単位中に前記一般式（２）で表される構成単位を存在させることを必須とする。
前記一般式（１）及び一般式（２）において、Ｒ１〜Ｒ１２の置換基を有していてもよいアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基等の直鎖状、分岐状、もしくは環状のものであり、また、アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等がそれぞれ挙げられ、これらのアルキル基、アルコキシ基としては、炭素数１〜４のものが好ましい。また、ハロゲン原子としては、弗素原子、塩素原子、臭素原子及び沃素原子が挙げられる。
また、これらのアルキル基、アルコキシ基、並びに、フェニル基、アミノ基における置換基としては、例えば、炭素数が１〜４のアルキル基、炭素数が１〜４のアルコキシ基、フェニル基、及びハロゲン原子等が挙げられる。
【００２９】
前記一般式（１）及び一般式（２）におけるＲ１〜Ｒ１２としては、以上の基の中で、置換基を有していてもよいアルキル基が好ましく、炭素数が１〜４のアルキル基が更に好ましく、メチル基が特に好ましい。
また、前記一般式（１）及び一般式（２）で示される構成単位としては、Ｒ２とＲ４、Ｒ５とＲ７、及びＲ１０とＲ１２が、前記置換基のいずれかであり、Ｒ１とＲ３、Ｒ６とＲ８、及びＲ９とＲ１１が水素原子であるのが好ましい。
【００３０】
また、前記一般式（２）において、Ｘが置換基を有していてもよいアルキレン基である場合は、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、シクロヘキシレン基等の直鎖状、分岐状、もしくは環状のものが挙げられ、これらのアルキレン基としては、炭素数１〜４のものが好ましい。また、そのアルキレン基における置換基としては、アルキル基、フェニル基等が挙げられる。
前記一般式（２）におけるＸとしては、以上の中で、置換基を有していてもよいアルキレン基が好ましく、炭素数が１〜４のアルキレン基が更に好ましく、メチレン基、エチレン基、ジメチルエチレン基が特に好ましい。
【００３１】
本発明の樹脂組成物における前記（Ａ）成分のポリフェニレンオキシドは、フェニレン基が１，４−フェニレン構造をとっている前記一般式（１）及び一般式（２）で表される構成単位の他に、１，２−フェニレン構造、又は１，３−フェニレン構造をとっている構成単位を含有していてもよい。
また、ポリフェニレンオキシド中の全フェニレン基における１，４−フェニレン構造の割合が８０％以上であると本発明組成物を硬化物とした時にガラス転移温度が上昇するため好ましく、９０％以上であるのが更に好ましく、９５％以上であるのが特に好ましい。
【００３２】
また、前記一般式（２）で表される構成単位の割合がポリフェニレンオキシド全体に対して、１モル％以上であると、ポリフェニレンオキシドを有機溶剤へ溶解した時に溶解性が向上するため好ましく、２〜３０モル％であるのが特に好ましい。また、両末端が水酸基であるポリフェニレンオキシドは、エポキシ樹脂と反応させて硬化物とした時、ガラス転移温度が向上するため好ましい。
【００３３】
本発明のポリフェニレンオキサイドは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算の質量平均分子量が１，０００〜１０，０００のものであり、１，０００〜６，０００であるのが特に好ましい。質量平均分子量が１０００未満であると、本発明樹脂組成物を硬化物とした時に誘電特性の改良効果が少なくなり、また、１０，０００を越えると組成物の溶融粘度が高くなり成形性が悪くなるため好ましくない。
【００３４】
（ポリフェニレンオキシドの製造方法）
本発明のポリフェニレンオキシドは、前記一般式（４）で表される２価フェノール化合物単独を、或いは更に前記一般式（３）で表される１価フェノール化合物と共に、酵素触媒の存在下に重合させることにより製造される。
一般式（４）の２価フェノール化合物は、酵素触媒の存在下における重合反応によって一般式（１）で示される構成単位を主たる構成単位とするポリフェニレンオキシドを生成する。
【００３５】
前記一般式（３）及び一般式（４）におけるＲ１〜Ｒ１２及びＸの定義は、前記一般式（１）及び（２）の場合と同様であり、前記一般式（４）で表される２価フェノール化合物としては、具体的には、以下の各化合物が挙げられる。
【００３６】
ビスフェノールＦ、ジメチルビスフェノールＦ、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（２，３，５−トリメチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３，５，６−トリメチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（２，３，５，６−テトラメチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３，５−ジエチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３，５−ジブチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシ−５−フェニルフェニル）メタン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシ−５−ベンジルフェニル）メタン、ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）メタン。
【００３７】
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（２，３，５，６−テトラメチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、ビスフェノールＡ、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（２，３，５，６−テトラメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−エチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジエチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−イソプロピル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサン等のビス（ヒドロキシフェニル）アルカン類。
【００３８】
ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルプロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，３−ジフェニルプロパン等のビス（ヒドロキシフェニル）フェニルアルカン類。
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン等のビス（ヒドロキシフェニル）シクロアルカン類。
【００３９】
ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトン、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ケトン等のビス（ヒドロキシフェニル）ケトン類、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）エーテル等のビス（ヒドロキシフェニル）エーテル類、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド等のビス（ヒドロキシフェニル）スルフィド類、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン等のビス（ヒドロキシフェニル）スルホン類、ビフェノール、３，３’−ジメチルビフェニル−４，４’−ジオール、３，３’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルビフェニル−４，４’−ジオール、３，３’，５，５’−テトラメチルビフェニル−４，４’−ジオール等のビフェノール類等が挙げられる。
【００４０】
前記２価フェノール化合物の中で、本発明においては、前記一般式（４）におけるオキシ基が結合するフェニレン基の両オルト位の炭素原子についているＲ５とＲ７、及びＲ１０とＲ１２が、いずれかの前記置換基であり、両メタ位のＲ６とＲ８、及びＲ９とＲ１１が、水素原子であるのが好ましい。
【００４１】
また、前記一般式（３）で表される１価フェノール化合物としては、例えば、２−メチルフェノール、２−エチルフェノール、２−プロピルフェノール、２−ブチルフェノール、２，３−ジメチルフェノール、２，６−ジメチルフェノール、２−メチル−６−エチルフェノール、２，６−ジエチルフェノール、２−メチル−６−プロピルフェノール、２，６−ジブチルフェノール、２，３，５，６−テトラメチルフェノール、２−ベンジルフェノール、２，６−ジベンジルフェノール、２−シクロヘキシルフェノール、２−アリルフェノール、２，６−ジアリルフェノール、２−メトキシフェノール、２，６−ジメトキシフェノール、２−エトキシフェノール、２，６−ジエトキシフェノール、２−フェニルフェノール、２−メチル−６−フェニルフェノール、２，６−ジフェニルフェノール、２−クロロフェノール、２，６−ジクロロフェノール、２，６−ジブロモフェノール等が挙げられる。
【００４２】
前記１価フェノール化合物の中で、本発明においては、前記一般式（３）におけるＲ２とＲ４が、前記置換基のいずれかであり、Ｒ１とＲ３が、水素原子であるのが好ましい。
【００４３】
ポリフェニレンオキシドは、前記一般式（４）の２価フェノール化合物を、或いは、更に前記一般式（３）の１価フェノール化合物と共に、一般式（４）の化合物／一般式（３）の化合物の質量割合を、１００／０〜１／９９の範囲として、酵素触媒の存在下、通常、溶媒を用いて重合することにより製造される。
その際の酵素触媒としては、特に限定されるものではないが、ペルオキシターゼ、ラッカーゼ等の酸化重合能を有する酸化酵素が好ましく用いられる。ペルオキシターゼとしては、種々の起源のものが用いられ、植物由来、細菌由来、或いは担子菌由来のものが好ましく、西洋山葵由来、或いは大豆由来が特に好ましい。また、ラッカーゼとしても、種々の起源のものが用いられ、植物由来、細菌由来、或いは担子菌由来のものが好ましく、Ｐｙｃｎｏｐｏｒｕｓ ｃｏｃｃｉｎｅｕｓのものが特に好ましい。
【００４４】
触媒としての前記酵素の使用量は、使用する酵素の力価によって異なるが、前記フェノール化合物に対して０．００１質量％以上とするのが好ましく、０．０１質量％以上が特に好ましい。なお、ペルオキシターゼにおいては、無機或いは有機過酸化物を併用するのが好ましく、その過酸化物としては、過酸化水素が好ましい。過酸化物の使用量は、前記フェノール化合物に対して、通常０．９倍モル以上とし、等モル以上とするのが好ましく、２〜５倍モルとするのが特に好ましい。
【００４５】
また、用いられる溶媒としては、通常、有機溶媒／水の混合溶媒が用いられ、その有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、ｔ−ブタノール等のアルコール類、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ＴＨＦ、ジオキサン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、ジクロルメタン、クロロホルム等のハロゲン類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等の非プロトン性極性溶媒等が挙げられ、それらを単独で、或いは２種以上を混合して、有機溶媒／水の質量割合を、通常、１／１０〜１０／１、好ましくは３／１０〜１０／３として用いられる。
【００４６】
また、重合温度としては、通常０〜９０℃の範囲で、好ましくは１０〜６０℃の範囲である。重合終了後、濾過し、洗浄、乾燥することにより、本発明の樹脂組成物に使用することができる前記（Ａ）成分のポリフェニレンオキシドが得られる。
【００４７】
（エポキシ樹脂）
本発明の樹脂組成物における前記（Ｂ）成分の１分子中に少なくとも１個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂としては、一般のエポキシ樹脂を用いることができ、例えば、次のものが挙げられる。
【００４８】
芳香族ジグリシジルエーテル類；
ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦのジグリシジルエーテル、３，３’，５，５’−テトラメチルビフェノールＡのジグリシジルエーテル、３，３’，５，５’−テトラメチルビフェノールＦのジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳのジグリシジルエーテル、ジヒドロキシフェニルエーテルのジグリシジルエーテル、ビフェノールのジグリシジルエーテル、３，３’，５，５’−テトラメチルビフェノールのジグリシジルエーテル、ナフタレンジオールのジグリシジルエーテル等。
【００４９】
多官能型芳香族エポキシ類；
フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡのノボラック型エポキシ樹脂、トリフェノールメタンから得られるエポキシ樹脂、テトラフェノールエタンから得られるエポキシ樹脂等。
【００５０】
その他；
フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、ダイマー酸等から得られるグリシジルエステル類、アミノフェノール、ジアミノジフェニルメタン等から得られるグリシジルアミン類、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール等から得られる脂肪族エポキシ類、シクロヘキサンジメタノール、水添ビスフェノールＡ等から得られる脂環式エポキシ類、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等のシクロオレフィンと過酢酸から得られる環式脂肪族エポキシ類等。
【００５１】
これらの中で、芳香族エポキシ樹脂が難燃性に優れるため好ましく、更に、エポキシ当量が１００〜１０００の範囲内にある芳香族エポキシ樹脂を用いると、本発明樹脂組成物が高流動性となり、硬化後のガラス転移温度が高くなるためより好ましい。
【００５２】
（配合割合）
本発明の樹脂組成物における前記（Ａ）成分のポリフェニレンオキシド及び前記（Ｂ）成分エポキシ樹脂の配合割合（質量基準）は、（Ａ）／（Ｂ）＝１００／１〜１００／１００、好ましくは（Ａ）／（Ｂ）＝１００／３〜１００／６０の範囲である。
この範囲を外れると未反応のポリフェニレンオキシド又はエポキシ樹脂が残り、硬化物の耐湿性及び耐熱性が悪くなるため好ましくない。
【００５３】
（塩基性硬化触媒）
本発明の樹脂組成物中に塩基性硬化触媒を添加して、ポリフェニレンオキシドの水酸基とエポキシ基の反応を促進することが、成形サイクルを短縮できるため好ましい。使用できる塩基性硬化触媒としては、以下の化合物が挙げられる。
【００５４】
３級アミン類及び／又はその塩類；
トリエチルアミン、トリブチルアミン、ベンジルジメチルアミン、２，４，６−トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、Ｎ−メチルピペラジン等。
イミダゾール類及び／又はその塩類；
２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、２，４−ジシアノ−６−［２−メチルイミダゾリル−（１）］−エチル−Ｓ−トリアジン等。
【００５５】
ジアザビシクロ化合物類；
１，５−ジアザビシクロ（５．４．０）−７−ウンデカン、１，５−ジアザビシクロ（４．３．０）−５−ノネン、１，４−ジアザビシクロ（２．２．２）オクタン等。
ホスフィン類；
トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス（ジメトキシフェニル）ホスフィン、トリス（ヒドロキシプロピル）ホスフィン、トリス（シアノエチル）ホスフィン等。
ホスホニウム塩類；
テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、メチルトリブチルホスホニウムテトラフェニルボレート、メチルトリシアノエチルホスホニウムテトラフェニルボレート等。
【００５６】
上記した塩基性硬化触媒の使用割合は、ポリフェニレンオキシド及びエポキシ樹脂の総和１００質量部に対し、０．０１〜１０質量部の割合で配合されている。塩基性硬化触媒が上記範囲を外れると、硬化物の耐熱性が低下し、耐湿性が悪くなる。
【００５７】
（プリント配線板）
本発明のプリント配線板用樹脂組成物をプリント配線板にする方法は、公知の方法により製造することができる。すなわち本組成物を有機溶剤に溶解させ樹脂ワニスを得た後、繊維質の補強剤に含浸させる。次いで、有機溶剤を熱乾燥させプリプレグとした後、銅箔とを積層加熱成形することによりプリント配線板を得ることができる。
【００５８】
使用できる有機溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、カルビトール等のエーテル系溶剤、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドン等の非プロトン性極性溶剤等が挙げられる。
【００５９】
繊維質の補強剤としては、例えば、ガラス繊維、セラミック繊維、カ−ボンファイバ−、アルミナ繊維、炭化ケイ素繊維、ボロン繊維、ポリエステル繊維及びポリアミド繊維等である。
成形方法は、通常、熱プレス成形が使用され、１５０〜３００℃の温度範囲で、１〜１００ＭＰａの成形圧力、１〜３００分間の時間で成形する。
【００６０】
（任意成分）
本発明の樹脂組成物には、必要に応じて次の成分を添加することができる。
▲１▼粉末状の補強剤や充填剤、例えば、酸化アルミニウム、酸化マグネシウムなどの金属酸化物、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウムなどの金属炭酸塩、ケイソウ土粉、塩基性ケイ酸マグネシウム、焼成クレイ、微粉末シリカ、溶融シリカ、結晶シリカなどのケイ素化合物、水酸化アルミニウムなどの金属水酸化物、その他、カオリン、マイカ、石英粉末、グラファイト、二硫化モリブデン等である。
これらは本発明の樹脂組成物の１００質量部に対して、１０〜９００質量部配合される。
【００６１】
▲２▼着色剤、例えば、二酸化チタン、鉄黒、モリブデン赤、紺青、群青、カドミウム黄及びカドミウム赤等、難燃剤、例えば、三酸化アンチモン、赤燐、リン酸エステル類、ブロム化合物及びトリフェニルホスフェイト等である。
これらは本発明の樹脂組成物の１００質量部に対して、０．１〜３０質量部配合される。
【００６２】
▲３▼さらに、最終的な塗膜、接着層、成形品などにおける樹脂の性質を改善する目的で種々の硬化性モノマ−、オリゴマ−及び合成樹脂を配合することができる。
例えば、モノエポキシ等のエポキシ樹脂用希釈剤、アミン類、酸無水物、ジシアンジアミド等のエポキシ樹脂用硬化剤、フェノ−ル樹脂、フッ素樹脂、アクリル樹脂、シリコ−ン樹脂、ポリエステル樹脂等の１種又は２種以上の組み合わせを挙げることができる。これら樹脂類の配合割合は、本発明の樹脂組成物の本来の性質を損なわない範囲の量、即ち本発明の樹脂組成物の１００質量部に対して、５０質量部以下が好ましい。
本発明のポリフェニレンオキシド、エポキシ樹脂及び任意成分の配合手段としては、加熱溶融混合、ロ−ル、ニーダーによる溶融混練、適当な有機溶剤を用いての湿式混合及び乾式混合等が挙げられる。
【００６３】
【実施例】
以下に、実施例及び比較例を挙げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明は、これらの実施例及び比較例によって限定されるものではない。
＜ポリフェニレンオキシドの製造例１＞
溶媒としてアセトン１Ｌ、０．２Ｍ酢酸緩衝液１Ｌ、２価フェノールとして３，３’，５，５’−テトラメチルビスフェノールＡを８０ｇ、及び触媒として Ｐｙｃｎｏｐｏｒｕｓ ｃｏｃｉｎｅｕｓ 由来のラッカーゼ（高研社製）２００ｍｇを仕込み、３０℃で２４時間重合反応を行った。反応終了後、５Ｌのメタノールを加えてポリマーを析出させ、濾過、次いで蒸留水及びメタノールで洗浄し、真空乾燥することにより、ポリフェニレンオキシド３５．８ｇを得た。得られたポリフェニレンオキシドは、クロロホルム、テトラヒドロフランに可溶であり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定した質量平均分子量が３，３００であった。また、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ及び２次元ＮＭＲの解析により、下記式（５）で表される構成を繰り返し単位とし、下記式（６）で表される構成単位を１個有し、式（５）の構成単位：式（６）の構成単位の平均モル比が７．５：１であり、両末端が水酸基の分子からなるポリフェニレンオキシドであることを確認した。
【００６４】
【化９】
【化１０】
【００６５】
製造例２
２価フェノールとして３，３’，５，５’−テトラメチルビスフェノールＦを用いた以外は、製造例１と同様の操作を行いポリフェニレンオキシド３４．６ｇを得た。得られたポリフェニレンオキシドは、クロロホルム、テトラヒドロフランに可溶であり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定した質量平均分子量が３，４００であった。また、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ及び２次元ＮＭＲの解析により、前記式（５）で表される構成繰り返し単位とし、前記式（６）におけるジメチルメチレン基に代えてメチレン基を有する構成単位を１個有し、前記式（５）の構成単位：前記式（６）のジメチルメチレン基に代えてメチレン基を有する構成単位の平均モル比が２１：１であり、両末端が水酸基の分子からなるポリフェニレンオキシドであることを確認した。
【００６６】
製造例３
溶媒としてアセトン１Ｌ、蒸留水１Ｌ、２価フェノールとして３，３’，５，５’−テトラメチルビスフェノールＦを８０ｇ及び触媒として西洋葵由来のペルオキシターゼ（和光純薬社製）２００ｍｇを仕込み、３０℃で３０％過酸化水素水を滴下しながら２４時間重合反応させた（過酸化水素水は最終的に９２ｍｌを添加した）後、５Ｌのメタノールを加えてポリマーを析出させ、濾過し、次いで蒸留水及びメタノールで洗浄し、真空乾燥することにより、ポリフェニレンオキシド３０．３ｇを製造した。得られたポリフェニレンオキシドは、クロロホルム、テトラヒドロフランに可溶であり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定した質量平均分子量が２，７００であった。また、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ及び２次元ＮＭＲの解析により、前記式（５）で表される構成繰り返し単位とし、前記式（６）におけるジメチルメチレン基に代えてメチレン基を有する構成単位を１個有し、両末端が水酸基の分子からなるポリフェニレンオキシドであることを確認した。
【００６７】
比較製造例１
質量平均分子量が２０，０００のポリフェニレンオキシド（三菱エンジニアリングプラスチック社；ＹＰＸ−１００） １００ｇ、過酸化ベンゾイル ６ｇ及びビスフェノールＡ ６ｇにトルエン３００ｇを添加した後、９０℃で１時間攪拌を継続し、再分配反応を行った。次いで、反応溶液をメタノール２リットル中に添加し変成フェノール生成物を析出させた。この沈殿物を濾過し、メタノール及び水で洗浄した後、７０℃で減圧乾燥してフェノール性水酸基を有する質量平均分子量６７００のポリフェニレンオキシドから成る変成フェノール生成物を得た。
【００６８】
実施例１
製造例１により得られたポリフェニレンオキシド１００ｇ、エポキシ樹脂としてエピコート１０３２Ｈ６０（ジャパンエポキシレジン社商品名；サリチルアルデヒドとフェノールから得られる多官能フェノールのエポキシ樹脂、エポキシ当量；１６８ｇ／当量、）１０ｇ、お及び硬化促進剤としてエピキュアＥＭＩ２４（ジャパンエポキシレジン社商品名；２−エチル−４−メチルイミダゾール）０．１ｇをメチルエチルケトン４５ｇ及びメチルセロソルブ４５ｇの混合溶剤に溶解させて、樹脂含量５５％のプリント配線板用樹脂ワニスを得た。この樹脂ワニスを、予め乾燥させた２００ｍｍ×２００ｍｍのガラスクロスに含浸させた後、１２０℃で８分間、オーブン中で乾燥させプリプレグを作製した。次いで、作成したプリプレグを１５０ｍｍ×１５０ｍｍに裁断し、それを８枚重ね合わせ、１番上に銅箔を乗せプレス成形を行った。プレス成形の条件は、３０分かけて１００℃から１７０℃まで徐々に上げていき、同時に圧力も常圧から５ＭＰａまで３０分程かけて昇圧していく。その後、１７０℃で１時間、５ＭＰａの圧力を維持し、冷却後、プレス成形機から取り出し、プリント配線板を得た。このプリント配線板の物性値を表１に示す。
【００６９】
実施例２〜４、比較例１
ポリフェニレンオキシド、エポキシ樹脂を表１のように変える以外は、実施例１と同様の操作を行い樹脂組成物を得た後、プリント配線板を得た。このプリント配線板の物性値を表１に示す。
【００７０】
【表１】
【００７１】
【発明の効果】
本発明の実施により得られる樹脂組成物は成形性に優れ、その硬化物は誘電率及び誘電損失特性に優れるため、高周波を扱う機器に使用するプリント配線板の用途において有利に使用できる。また、難燃性が発現できるため、ハロゲン含量の低下したプリント配線板用樹脂組成物となり、環境への負荷を軽減することが可能となる。
【発明の属する技術分野】
本発明は、ポリフェニレンオキシド及びエポキシ樹脂を含む樹脂組成物及びその組成物を用いたプリント配線板に関するものである。本発明の樹脂組成物は可撓性、電気特性及び難燃性に優れた硬化物を与えるため、プリント回路基板材料、半導体封止材、電気絶縁材料、レジスト材料、コーティング材料及び接着剤等に使用可能であり、特にプリント回路基板材料としてこの樹脂組成物を使用すると高周波領域で優れた特性を有する。
【０００２】
【従来の技術】
エポキシ樹脂は、耐熱性、接着性、耐水性、機械的強度及び電気特性等に優れていることから、様々の分野で使用されている。特に、電気・電子分野では、絶縁注型、積層材料、封止材料等において幅広く使用されている。ところが、近年、電気・電子部品の小型化、精密化、高性能化に伴い、使用されるエポキシ樹脂も成形性、高度な耐湿性及び高度の電気特性が要求されるようになってきた。
特に、プリント配線基板の場合、信号速度向上の目的から樹脂の低誘電率が要求されてきているが、従来の臭素化ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂とジシアンジアミドの組み合わせは誘電率が高いのが欠点であった。そこでエポキシ樹脂と、反応性ポリブタジエン樹脂、ポリテトラフルオロエチレン樹脂等の熱可塑性樹脂を混合することや、アラミド繊維を基材に用いることが提案されている。
【０００３】
しかし、これら従来の技術においては、エポキシ樹脂の誘電率が高いため、望ましい低誘電率を達成するに混合する熱可塑性樹脂の占める割合が大きくなり、エポキシ樹脂の特徴である耐熱性、寸法安定性、耐薬品性が損なわれてしまうという難点がある。
そこで、骨格中に脂環式構造を導入したエポキシ樹脂を使用することが提案されている（特開平０８−３２５３５５号公報参照）。しかし、この場合は、樹脂の難燃性を低下させるために難燃剤をより多く添加する必要が生じ、誘電率の増大が起こるという問題がある。
【０００４】
更に、近年、コンピューターや情報機器端末等では大量のデータを高速で処理する必要があるため、信号の高周波化が進んでいる。このような高周波回路では誘電体損による電力ロスの影響が大きいため、プリント回路基板の低誘電正接（ｔａｎδ）化が特に必要となってきている。このような低誘電正接化に対応するために、ポリフェニレンオキシドと架橋性ポリマー／モノマーの樹脂組成物を使用することが提案されている（特公平５−７７７０５号公報、特公平６−９２５３３号公報参照）。
【０００５】
この方法における樹脂組成物によれば、低誘電正接化は改善されるものの、本来熱可塑性樹脂であるポリフェニレンオキシドを主体としているために、樹脂組成物が有機溶剤に溶解しにくい、溶融粘度が高すぎ流動性が不足するという問題があり、そのため、プリント配線基板をプレス成形する時に高温、高圧が必要となり、微細な回路パターンの溝を埋める必要のある多層印刷配線板を製造するための樹脂組成物としては成形性が悪く適さない。
【０００６】
そこで、高分子のポリフェニレンオキシドとフェノール性化合物をラジカル開始剤の存在下、再分配反応し生成させた変成フェノール化合物から得られる樹脂組成物が提案されている（特開平９−２３５３４９号公報、特開平９−２９１１４８号公報参照）。しかし、この樹脂組成物はラジカル開始剤を多量に用いるため、再分配反応で得られる低分子ポリフェニレンオキシドを同品質で得るのが非常に難しく大量生産に不向きである。更に、ラジカル開始剤がポリフェニレンオキシド中に残存するため、このポリフェニレンオキシドを用いた樹脂組成物をプリント配線基板として成形する時、ラジカル開始剤による更なる分解反応が進行し、良好な製品が得られないという問題を有している。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記問題点を解決し、従来のポリフェニレンオキシドにない優れた取り扱い性を有し、電気特性、難燃性のバランスに優れた硬化物を与えることができる、比較的低分子のポリフェニレンオキシドを含有する樹脂組成物及び該樹脂組成物を使用したプリント配線板を提供することを目的とするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、以下の各発明を包含する。
【０００９】
（１）下記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を必須成分としてなる樹脂組成物。
（Ａ）成分；質量平均分子量が１，０００〜１０，０００のポリフェニレンオキシドであって、下記一般式（１）で表される構成単位を主たる繰り返し単位とし、該繰り返し単位中に下記一般式（２）で表される構成単位を存在させたポリフェニレンオキシド。
【００１０】
【化５】
〔一般式（１）及び一般式（２）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１及びＲ１２は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいアミノ基、カルボキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子又は水素原子を示し、Ｘは置換基を有していてもよいアルキレン基、カルボニル基、オキシ基、チオ基、スルフィニル基又はスルホニル基、或いは直接結合を示す。〕
（Ｂ）成分；１分子中に少なくとも１個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂。
【００１２】
（２）前記（Ａ）成分のポリフェニレンオキシドの両末端が水酸基であることを特徴とする、（１）項記載の樹脂組成物。
【００１３】
（３）前記（Ａ）成分のポリフェニレンオキシドは、一般式（１）におけるＲ２、Ｒ４がメチル基、Ｒ１及びＲ３が水素原子であり、一般式（２）におけるＲ５、Ｒ７、Ｒ１０及びＲ１２がメチル基、Ｒ６、Ｒ８、Ｒ９及びＲ１１が水素原子であることを特徴とする、（１）項又は（２）項に記載の樹脂組成物。
【００１４】
（４）前記（Ａ）成分のポリフェニレンオキシドは、一般式（１）及び一般式（２）で表される構成単位よりなるポリフェニレンオキシドの全フェニレン基における１，４−フェニレン基の割合が８０％以上であることを特徴とする、（１）項〜（３）項のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【００１５】
（５）前記一般式（２）で表される構成単位の割合が、ポリフェニレンオキシド全体に対して２〜３０モル％であることを特徴とする、（１）項〜（４）項のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【００１６】
（６）前記ポリフェニレンオキサイドは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算の質量平均分子量が１，０００〜１０，０００、好ましくは１，０００〜６，０００である、（１）項〜（５）項のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【００１７】
（７）前記（Ａ）成分のポリフェニレンオキシドは、前記一般式（２）におけるＸが置換基を有していてもよいアルキレン基であることを特徴とする、（１）項〜（６）項のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【００１８】
（８）前記（Ａ）成分のポリフェニレンオキシドは、前記一般式（２）におけるＸがメチレン基、エチレン基又はジメチルメチレン基のいずれかであることを特徴とする、（１）項〜（７）項のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【００１９】
（９）前記（Ａ）成分のポリフェニレンオキシドは、下記一般式（４）で表される２価フェノール化合物単独で、或いは更に下記一般式（３）で表される１価フェノール化合物と共に、酵素触媒の存在下に重合させて得られるポリフェニレンオキシドであることを特徴とする、（１）項〜（８）項のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【００２０】
【化７】
〔一般式（３）及び一般式（４）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１及びＲ１２は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいアミノ基、カルボキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子又は水素原子を示し、Ｘは置換基を有していてもよいアルキレン基、カルボニル基、オキシ基、チオ基、スルフィニル基又はスルホニル基、或いは直接結合を示す。〕
【００２２】
（１０）前記（Ｂ）成分のエポキシ樹脂は、１分子中に少なくとも１個以上のエポキシ基を有する芳香族エポキシ樹脂であることを特徴とする、（１）項〜（９）項のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【００２３】
（１１）前記（Ｂ）成分のエポキシ樹脂のエポキシ当量が１００〜１０００ｇ／当量の範囲内にある芳香族エポキシ樹脂であることを特徴とする、（１）項〜（１０）項のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【００２４】
（１２）前記樹脂組成物における前記（Ａ）成分のポリフェニレンオキシド及び前記（Ｂ）成分エポキシ樹脂の配合割合（質量基準）は、（Ａ）／（Ｂ）＝１００／１〜１００／１００、好ましくは（Ａ）／（Ｂ）＝１００／３〜１００／６０の範囲であることを特徴とする、（１）項〜（１１）項のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
【００２５】
（１３）前記（１）項〜（１２）項のいずれか１項に記載された樹脂組成物を有機溶剤に溶解させ、繊維質の補強剤に含浸させた後、成形することにより製造されているプリント配線板。
【００２６】
（１４）前記樹脂組成物中に塩基性硬化触媒を添加し、ポリフェニレンオキシドの水酸基とエポキシ基の反応を促進させながら成形することにより製造されていることを特徴とする、（１３）項記載のプリント配線板。
【００２７】
（１５）前記塩基性硬化触媒が、３級アミン類及び／又はその塩類、イミダゾール類及び／又はその塩類、ジアザビシクロ化合物類、ホスフィン類、ホスホニウム塩類等より選ばれる少なくとも１種であり、塩基性硬化触媒の使用割合は、ポリフェニレンオキシド及びエポキシ樹脂の総和１００質量部に対し、０．０１〜１０質量部の割合で配合されていることを特徴とする、（１４）項記載のプリント配線板。
【００２８】
【発明の実施の形態】
（ポリフェニレンオキシド）
本発明の樹脂組成物における（Ａ）成分のポリフェニレンオキシドは、前記一般式（１）で表される構成単位を主たる繰り返し単位とし、該繰り返し単位中に前記一般式（２）で表される構成単位を存在させることを必須とする。
前記一般式（１）及び一般式（２）において、Ｒ１〜Ｒ１２の置換基を有していてもよいアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基等の直鎖状、分岐状、もしくは環状のものであり、また、アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等がそれぞれ挙げられ、これらのアルキル基、アルコキシ基としては、炭素数１〜４のものが好ましい。また、ハロゲン原子としては、弗素原子、塩素原子、臭素原子及び沃素原子が挙げられる。
また、これらのアルキル基、アルコキシ基、並びに、フェニル基、アミノ基における置換基としては、例えば、炭素数が１〜４のアルキル基、炭素数が１〜４のアルコキシ基、フェニル基、及びハロゲン原子等が挙げられる。
【００２９】
前記一般式（１）及び一般式（２）におけるＲ１〜Ｒ１２としては、以上の基の中で、置換基を有していてもよいアルキル基が好ましく、炭素数が１〜４のアルキル基が更に好ましく、メチル基が特に好ましい。
また、前記一般式（１）及び一般式（２）で示される構成単位としては、Ｒ２とＲ４、Ｒ５とＲ７、及びＲ１０とＲ１２が、前記置換基のいずれかであり、Ｒ１とＲ３、Ｒ６とＲ８、及びＲ９とＲ１１が水素原子であるのが好ましい。
【００３０】
また、前記一般式（２）において、Ｘが置換基を有していてもよいアルキレン基である場合は、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、シクロヘキシレン基等の直鎖状、分岐状、もしくは環状のものが挙げられ、これらのアルキレン基としては、炭素数１〜４のものが好ましい。また、そのアルキレン基における置換基としては、アルキル基、フェニル基等が挙げられる。
前記一般式（２）におけるＸとしては、以上の中で、置換基を有していてもよいアルキレン基が好ましく、炭素数が１〜４のアルキレン基が更に好ましく、メチレン基、エチレン基、ジメチルエチレン基が特に好ましい。
【００３１】
本発明の樹脂組成物における前記（Ａ）成分のポリフェニレンオキシドは、フェニレン基が１，４−フェニレン構造をとっている前記一般式（１）及び一般式（２）で表される構成単位の他に、１，２−フェニレン構造、又は１，３−フェニレン構造をとっている構成単位を含有していてもよい。
また、ポリフェニレンオキシド中の全フェニレン基における１，４−フェニレン構造の割合が８０％以上であると本発明組成物を硬化物とした時にガラス転移温度が上昇するため好ましく、９０％以上であるのが更に好ましく、９５％以上であるのが特に好ましい。
【００３２】
また、前記一般式（２）で表される構成単位の割合がポリフェニレンオキシド全体に対して、１モル％以上であると、ポリフェニレンオキシドを有機溶剤へ溶解した時に溶解性が向上するため好ましく、２〜３０モル％であるのが特に好ましい。また、両末端が水酸基であるポリフェニレンオキシドは、エポキシ樹脂と反応させて硬化物とした時、ガラス転移温度が向上するため好ましい。
【００３３】
本発明のポリフェニレンオキサイドは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算の質量平均分子量が１，０００〜１０，０００のものであり、１，０００〜６，０００であるのが特に好ましい。質量平均分子量が１０００未満であると、本発明樹脂組成物を硬化物とした時に誘電特性の改良効果が少なくなり、また、１０，０００を越えると組成物の溶融粘度が高くなり成形性が悪くなるため好ましくない。
【００３４】
（ポリフェニレンオキシドの製造方法）
本発明のポリフェニレンオキシドは、前記一般式（４）で表される２価フェノール化合物単独を、或いは更に前記一般式（３）で表される１価フェノール化合物と共に、酵素触媒の存在下に重合させることにより製造される。
一般式（４）の２価フェノール化合物は、酵素触媒の存在下における重合反応によって一般式（１）で示される構成単位を主たる構成単位とするポリフェニレンオキシドを生成する。
【００３５】
前記一般式（３）及び一般式（４）におけるＲ１〜Ｒ１２及びＸの定義は、前記一般式（１）及び（２）の場合と同様であり、前記一般式（４）で表される２価フェノール化合物としては、具体的には、以下の各化合物が挙げられる。
【００３６】
ビスフェノールＦ、ジメチルビスフェノールＦ、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（２，３，５−トリメチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３，５，６−トリメチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（２，３，５，６−テトラメチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３，５−ジエチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３，５−ジブチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシ−５−フェニルフェニル）メタン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシ−５−ベンジルフェニル）メタン、ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）メタン。
【００３７】
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（２，３，５，６−テトラメチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、ビスフェノールＡ、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（２，３，５，６−テトラメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−エチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジエチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−イソプロピル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサン等のビス（ヒドロキシフェニル）アルカン類。
【００３８】
ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルプロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，３−ジフェニルプロパン等のビス（ヒドロキシフェニル）フェニルアルカン類。
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン等のビス（ヒドロキシフェニル）シクロアルカン類。
【００３９】
ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトン、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ケトン等のビス（ヒドロキシフェニル）ケトン類、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）エーテル等のビス（ヒドロキシフェニル）エーテル類、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド等のビス（ヒドロキシフェニル）スルフィド類、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン等のビス（ヒドロキシフェニル）スルホン類、ビフェノール、３，３’−ジメチルビフェニル−４，４’−ジオール、３，３’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルビフェニル−４，４’−ジオール、３，３’，５，５’−テトラメチルビフェニル−４，４’−ジオール等のビフェノール類等が挙げられる。
【００４０】
前記２価フェノール化合物の中で、本発明においては、前記一般式（４）におけるオキシ基が結合するフェニレン基の両オルト位の炭素原子についているＲ５とＲ７、及びＲ１０とＲ１２が、いずれかの前記置換基であり、両メタ位のＲ６とＲ８、及びＲ９とＲ１１が、水素原子であるのが好ましい。
【００４１】
また、前記一般式（３）で表される１価フェノール化合物としては、例えば、２−メチルフェノール、２−エチルフェノール、２−プロピルフェノール、２−ブチルフェノール、２，３−ジメチルフェノール、２，６−ジメチルフェノール、２−メチル−６−エチルフェノール、２，６−ジエチルフェノール、２−メチル−６−プロピルフェノール、２，６−ジブチルフェノール、２，３，５，６−テトラメチルフェノール、２−ベンジルフェノール、２，６−ジベンジルフェノール、２−シクロヘキシルフェノール、２−アリルフェノール、２，６−ジアリルフェノール、２−メトキシフェノール、２，６−ジメトキシフェノール、２−エトキシフェノール、２，６−ジエトキシフェノール、２−フェニルフェノール、２−メチル−６−フェニルフェノール、２，６−ジフェニルフェノール、２−クロロフェノール、２，６−ジクロロフェノール、２，６−ジブロモフェノール等が挙げられる。
【００４２】
前記１価フェノール化合物の中で、本発明においては、前記一般式（３）におけるＲ２とＲ４が、前記置換基のいずれかであり、Ｒ１とＲ３が、水素原子であるのが好ましい。
【００４３】
ポリフェニレンオキシドは、前記一般式（４）の２価フェノール化合物を、或いは、更に前記一般式（３）の１価フェノール化合物と共に、一般式（４）の化合物／一般式（３）の化合物の質量割合を、１００／０〜１／９９の範囲として、酵素触媒の存在下、通常、溶媒を用いて重合することにより製造される。
その際の酵素触媒としては、特に限定されるものではないが、ペルオキシターゼ、ラッカーゼ等の酸化重合能を有する酸化酵素が好ましく用いられる。ペルオキシターゼとしては、種々の起源のものが用いられ、植物由来、細菌由来、或いは担子菌由来のものが好ましく、西洋山葵由来、或いは大豆由来が特に好ましい。また、ラッカーゼとしても、種々の起源のものが用いられ、植物由来、細菌由来、或いは担子菌由来のものが好ましく、Ｐｙｃｎｏｐｏｒｕｓ ｃｏｃｃｉｎｅｕｓのものが特に好ましい。
【００４４】
触媒としての前記酵素の使用量は、使用する酵素の力価によって異なるが、前記フェノール化合物に対して０．００１質量％以上とするのが好ましく、０．０１質量％以上が特に好ましい。なお、ペルオキシターゼにおいては、無機或いは有機過酸化物を併用するのが好ましく、その過酸化物としては、過酸化水素が好ましい。過酸化物の使用量は、前記フェノール化合物に対して、通常０．９倍モル以上とし、等モル以上とするのが好ましく、２〜５倍モルとするのが特に好ましい。
【００４５】
また、用いられる溶媒としては、通常、有機溶媒／水の混合溶媒が用いられ、その有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、ｔ−ブタノール等のアルコール類、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ＴＨＦ、ジオキサン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、ジクロルメタン、クロロホルム等のハロゲン類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等の非プロトン性極性溶媒等が挙げられ、それらを単独で、或いは２種以上を混合して、有機溶媒／水の質量割合を、通常、１／１０〜１０／１、好ましくは３／１０〜１０／３として用いられる。
【００４６】
また、重合温度としては、通常０〜９０℃の範囲で、好ましくは１０〜６０℃の範囲である。重合終了後、濾過し、洗浄、乾燥することにより、本発明の樹脂組成物に使用することができる前記（Ａ）成分のポリフェニレンオキシドが得られる。
【００４７】
（エポキシ樹脂）
本発明の樹脂組成物における前記（Ｂ）成分の１分子中に少なくとも１個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂としては、一般のエポキシ樹脂を用いることができ、例えば、次のものが挙げられる。
【００４８】
芳香族ジグリシジルエーテル類；
ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦのジグリシジルエーテル、３，３’，５，５’−テトラメチルビフェノールＡのジグリシジルエーテル、３，３’，５，５’−テトラメチルビフェノールＦのジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳのジグリシジルエーテル、ジヒドロキシフェニルエーテルのジグリシジルエーテル、ビフェノールのジグリシジルエーテル、３，３’，５，５’−テトラメチルビフェノールのジグリシジルエーテル、ナフタレンジオールのジグリシジルエーテル等。
【００４９】
多官能型芳香族エポキシ類；
フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡのノボラック型エポキシ樹脂、トリフェノールメタンから得られるエポキシ樹脂、テトラフェノールエタンから得られるエポキシ樹脂等。
【００５０】
その他；
フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、ダイマー酸等から得られるグリシジルエステル類、アミノフェノール、ジアミノジフェニルメタン等から得られるグリシジルアミン類、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール等から得られる脂肪族エポキシ類、シクロヘキサンジメタノール、水添ビスフェノールＡ等から得られる脂環式エポキシ類、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等のシクロオレフィンと過酢酸から得られる環式脂肪族エポキシ類等。
【００５１】
これらの中で、芳香族エポキシ樹脂が難燃性に優れるため好ましく、更に、エポキシ当量が１００〜１０００の範囲内にある芳香族エポキシ樹脂を用いると、本発明樹脂組成物が高流動性となり、硬化後のガラス転移温度が高くなるためより好ましい。
【００５２】
（配合割合）
本発明の樹脂組成物における前記（Ａ）成分のポリフェニレンオキシド及び前記（Ｂ）成分エポキシ樹脂の配合割合（質量基準）は、（Ａ）／（Ｂ）＝１００／１〜１００／１００、好ましくは（Ａ）／（Ｂ）＝１００／３〜１００／６０の範囲である。
この範囲を外れると未反応のポリフェニレンオキシド又はエポキシ樹脂が残り、硬化物の耐湿性及び耐熱性が悪くなるため好ましくない。
【００５３】
（塩基性硬化触媒）
本発明の樹脂組成物中に塩基性硬化触媒を添加して、ポリフェニレンオキシドの水酸基とエポキシ基の反応を促進することが、成形サイクルを短縮できるため好ましい。使用できる塩基性硬化触媒としては、以下の化合物が挙げられる。
【００５４】
３級アミン類及び／又はその塩類；
トリエチルアミン、トリブチルアミン、ベンジルジメチルアミン、２，４，６−トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、Ｎ−メチルピペラジン等。
イミダゾール類及び／又はその塩類；
２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、２，４−ジシアノ−６−［２−メチルイミダゾリル−（１）］−エチル−Ｓ−トリアジン等。
【００５５】
ジアザビシクロ化合物類；
１，５−ジアザビシクロ（５．４．０）−７−ウンデカン、１，５−ジアザビシクロ（４．３．０）−５−ノネン、１，４−ジアザビシクロ（２．２．２）オクタン等。
ホスフィン類；
トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス（ジメトキシフェニル）ホスフィン、トリス（ヒドロキシプロピル）ホスフィン、トリス（シアノエチル）ホスフィン等。
ホスホニウム塩類；
テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、メチルトリブチルホスホニウムテトラフェニルボレート、メチルトリシアノエチルホスホニウムテトラフェニルボレート等。
【００５６】
上記した塩基性硬化触媒の使用割合は、ポリフェニレンオキシド及びエポキシ樹脂の総和１００質量部に対し、０．０１〜１０質量部の割合で配合されている。塩基性硬化触媒が上記範囲を外れると、硬化物の耐熱性が低下し、耐湿性が悪くなる。
【００５７】
（プリント配線板）
本発明のプリント配線板用樹脂組成物をプリント配線板にする方法は、公知の方法により製造することができる。すなわち本組成物を有機溶剤に溶解させ樹脂ワニスを得た後、繊維質の補強剤に含浸させる。次いで、有機溶剤を熱乾燥させプリプレグとした後、銅箔とを積層加熱成形することによりプリント配線板を得ることができる。
【００５８】
使用できる有機溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、カルビトール等のエーテル系溶剤、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドン等の非プロトン性極性溶剤等が挙げられる。
【００５９】
繊維質の補強剤としては、例えば、ガラス繊維、セラミック繊維、カ−ボンファイバ−、アルミナ繊維、炭化ケイ素繊維、ボロン繊維、ポリエステル繊維及びポリアミド繊維等である。
成形方法は、通常、熱プレス成形が使用され、１５０〜３００℃の温度範囲で、１〜１００ＭＰａの成形圧力、１〜３００分間の時間で成形する。
【００６０】
（任意成分）
本発明の樹脂組成物には、必要に応じて次の成分を添加することができる。
▲１▼粉末状の補強剤や充填剤、例えば、酸化アルミニウム、酸化マグネシウムなどの金属酸化物、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウムなどの金属炭酸塩、ケイソウ土粉、塩基性ケイ酸マグネシウム、焼成クレイ、微粉末シリカ、溶融シリカ、結晶シリカなどのケイ素化合物、水酸化アルミニウムなどの金属水酸化物、その他、カオリン、マイカ、石英粉末、グラファイト、二硫化モリブデン等である。
これらは本発明の樹脂組成物の１００質量部に対して、１０〜９００質量部配合される。
【００６１】
▲２▼着色剤、例えば、二酸化チタン、鉄黒、モリブデン赤、紺青、群青、カドミウム黄及びカドミウム赤等、難燃剤、例えば、三酸化アンチモン、赤燐、リン酸エステル類、ブロム化合物及びトリフェニルホスフェイト等である。
これらは本発明の樹脂組成物の１００質量部に対して、０．１〜３０質量部配合される。
【００６２】
▲３▼さらに、最終的な塗膜、接着層、成形品などにおける樹脂の性質を改善する目的で種々の硬化性モノマ−、オリゴマ−及び合成樹脂を配合することができる。
例えば、モノエポキシ等のエポキシ樹脂用希釈剤、アミン類、酸無水物、ジシアンジアミド等のエポキシ樹脂用硬化剤、フェノ−ル樹脂、フッ素樹脂、アクリル樹脂、シリコ−ン樹脂、ポリエステル樹脂等の１種又は２種以上の組み合わせを挙げることができる。これら樹脂類の配合割合は、本発明の樹脂組成物の本来の性質を損なわない範囲の量、即ち本発明の樹脂組成物の１００質量部に対して、５０質量部以下が好ましい。
本発明のポリフェニレンオキシド、エポキシ樹脂及び任意成分の配合手段としては、加熱溶融混合、ロ−ル、ニーダーによる溶融混練、適当な有機溶剤を用いての湿式混合及び乾式混合等が挙げられる。
【００６３】
【実施例】
以下に、実施例及び比較例を挙げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明は、これらの実施例及び比較例によって限定されるものではない。
＜ポリフェニレンオキシドの製造例１＞
溶媒としてアセトン１Ｌ、０．２Ｍ酢酸緩衝液１Ｌ、２価フェノールとして３，３’，５，５’−テトラメチルビスフェノールＡを８０ｇ、及び触媒として Ｐｙｃｎｏｐｏｒｕｓ ｃｏｃｉｎｅｕｓ 由来のラッカーゼ（高研社製）２００ｍｇを仕込み、３０℃で２４時間重合反応を行った。反応終了後、５Ｌのメタノールを加えてポリマーを析出させ、濾過、次いで蒸留水及びメタノールで洗浄し、真空乾燥することにより、ポリフェニレンオキシド３５．８ｇを得た。得られたポリフェニレンオキシドは、クロロホルム、テトラヒドロフランに可溶であり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定した質量平均分子量が３，３００であった。また、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ及び２次元ＮＭＲの解析により、下記式（５）で表される構成を繰り返し単位とし、下記式（６）で表される構成単位を１個有し、式（５）の構成単位：式（６）の構成単位の平均モル比が７．５：１であり、両末端が水酸基の分子からなるポリフェニレンオキシドであることを確認した。
【００６４】
【化９】
製造例２
２価フェノールとして３，３’，５，５’−テトラメチルビスフェノールＦを用いた以外は、製造例１と同様の操作を行いポリフェニレンオキシド３４．６ｇを得た。得られたポリフェニレンオキシドは、クロロホルム、テトラヒドロフランに可溶であり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定した質量平均分子量が３，４００であった。また、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ及び２次元ＮＭＲの解析により、前記式（５）で表される構成繰り返し単位とし、前記式（６）におけるジメチルメチレン基に代えてメチレン基を有する構成単位を１個有し、前記式（５）の構成単位：前記式（６）のジメチルメチレン基に代えてメチレン基を有する構成単位の平均モル比が２１：１であり、両末端が水酸基の分子からなるポリフェニレンオキシドであることを確認した。
【００６６】
製造例３
溶媒としてアセトン１Ｌ、蒸留水１Ｌ、２価フェノールとして３，３’，５，５’−テトラメチルビスフェノールＦを８０ｇ及び触媒として西洋葵由来のペルオキシターゼ（和光純薬社製）２００ｍｇを仕込み、３０℃で３０％過酸化水素水を滴下しながら２４時間重合反応させた（過酸化水素水は最終的に９２ｍｌを添加した）後、５Ｌのメタノールを加えてポリマーを析出させ、濾過し、次いで蒸留水及びメタノールで洗浄し、真空乾燥することにより、ポリフェニレンオキシド３０．３ｇを製造した。得られたポリフェニレンオキシドは、クロロホルム、テトラヒドロフランに可溶であり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定した質量平均分子量が２，７００であった。また、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ及び２次元ＮＭＲの解析により、前記式（５）で表される構成繰り返し単位とし、前記式（６）におけるジメチルメチレン基に代えてメチレン基を有する構成単位を１個有し、両末端が水酸基の分子からなるポリフェニレンオキシドであることを確認した。
【００６７】
比較製造例１
質量平均分子量が２０，０００のポリフェニレンオキシド（三菱エンジニアリングプラスチック社；ＹＰＸ−１００） １００ｇ、過酸化ベンゾイル ６ｇ及びビスフェノールＡ ６ｇにトルエン３００ｇを添加した後、９０℃で１時間攪拌を継続し、再分配反応を行った。次いで、反応溶液をメタノール２リットル中に添加し変成フェノール生成物を析出させた。この沈殿物を濾過し、メタノール及び水で洗浄した後、７０℃で減圧乾燥してフェノール性水酸基を有する質量平均分子量６７００のポリフェニレンオキシドから成る変成フェノール生成物を得た。
【００６８】
実施例１
製造例１により得られたポリフェニレンオキシド１００ｇ、エポキシ樹脂としてエピコート１０３２Ｈ６０（ジャパンエポキシレジン社商品名；サリチルアルデヒドとフェノールから得られる多官能フェノールのエポキシ樹脂、エポキシ当量；１６８ｇ／当量、）１０ｇ、お及び硬化促進剤としてエピキュアＥＭＩ２４（ジャパンエポキシレジン社商品名；２−エチル−４−メチルイミダゾール）０．１ｇをメチルエチルケトン４５ｇ及びメチルセロソルブ４５ｇの混合溶剤に溶解させて、樹脂含量５５％のプリント配線板用樹脂ワニスを得た。この樹脂ワニスを、予め乾燥させた２００ｍｍ×２００ｍｍのガラスクロスに含浸させた後、１２０℃で８分間、オーブン中で乾燥させプリプレグを作製した。次いで、作成したプリプレグを１５０ｍｍ×１５０ｍｍに裁断し、それを８枚重ね合わせ、１番上に銅箔を乗せプレス成形を行った。プレス成形の条件は、３０分かけて１００℃から１７０℃まで徐々に上げていき、同時に圧力も常圧から５ＭＰａまで３０分程かけて昇圧していく。その後、１７０℃で１時間、５ＭＰａの圧力を維持し、冷却後、プレス成形機から取り出し、プリント配線板を得た。このプリント配線板の物性値を表１に示す。
【００６９】
実施例２〜４、比較例１
ポリフェニレンオキシド、エポキシ樹脂を表１のように変える以外は、実施例１と同様の操作を行い樹脂組成物を得た後、プリント配線板を得た。このプリント配線板の物性値を表１に示す。
【００７０】
【表１】
【発明の効果】
本発明の実施により得られる樹脂組成物は成形性に優れ、その硬化物は誘電率及び誘電損失特性に優れるため、高周波を扱う機器に使用するプリント配線板の用途において有利に使用できる。また、難燃性が発現できるため、ハロゲン含量の低下したプリント配線板用樹脂組成物となり、環境への負荷を軽減することが可能となる。
Claims (10)
- 下記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を必須成分として成る樹脂組成物。
（Ａ）成分；質量平均分子量が１，０００〜１０，０００のポリフェニレンオキシドであって、下記一般式（１）で表される構成単位を主たる繰り返し単位とし、該繰り返し単位中に下記一般式（２）で表される構成単位を存在させたポリフェニレンオキシド。
（Ｂ）成分；１分子中に少なくとも１個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂。 - 前記（Ａ）成分のポリフェニレンオキシドの両末端が水酸基であることを特徴とする、請求項１記載の樹脂組成物。
- 前記（Ａ）成分のポリフェニレンオキシドは、一般式（１）におけるＲ２及びＲ４がメチル基、Ｒ１及びＲ３が水素原子であり、一般式（２）におけるＲ５、Ｒ７、Ｒ１０及びＲ１２がメチル基、Ｒ６、Ｒ８、Ｒ９及びＲ１１が水素原子であることを特徴とする、請求項１又は２記載の樹脂組成物。
- 前記（Ａ）成分のポリフェニレンオキシドは、一般式（１）及び一般式（２）で表される構成単位よりなるポリフェニレンオキシドの全フェニレン基における１，４−フェニレン基の割合が８０％以上であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
- 前記（Ａ）成分のポリフェニレンオキシドは、前記一般式（２）におけるＸが置換基を有していてもよいアルキレン基であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
- 前記（Ａ）成分のポリフェニレンオキシドは、前記一般式（２）におけるＸがメチレン基、エチレン基又はジメチルメチレン基のいずれかであることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
- 前記（Ａ）成分のポリフェニレンオキシドは、下記一般式（４）で表される２価フェノール化合物単独、或いは更に下記一般式（３）で表される１価フェノール化合物と共に、酵素触媒の存在下に重合させて得られるポリフェニレンオキシドであることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
- 前記（Ｂ）成分のエポキシ樹脂は、１分子中に少なくとも１個以上のエポキシ基を有する芳香族エポキシ樹脂であることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
- 前記（Ｂ）成分のエポキシ樹脂のエポキシ当量が１００〜１０００ｇ／当量の範囲内にある芳香族エポキシ樹脂であることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
- 前記請求項１〜９のいずれか１項に記載された樹脂組成物を有機溶剤に溶解させ、繊維質の補強剤に含浸させた後、成形することにより製造されているプリント配線板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002215403A JP2004059596A (ja) | 2002-07-24 | 2002-07-24 | 樹脂組成物及びそれを用いたプリント配線板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004059596A true JP2004059596A (ja) | 2004-02-26 |
Family
ID=31937442
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002215403A Pending JP2004059596A (ja) | 2002-07-24 | 2002-07-24 | 樹脂組成物及びそれを用いたプリント配線板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2004059596A (ja) |
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2002
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