JP2004047574A - 多層配線基板、光トランシーバ、およびトランスポンダ - Google Patents
多層配線基板、光トランシーバ、およびトランスポンダ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004047574A JP2004047574A JP2002200347A JP2002200347A JP2004047574A JP 2004047574 A JP2004047574 A JP 2004047574A JP 2002200347 A JP2002200347 A JP 2002200347A JP 2002200347 A JP2002200347 A JP 2002200347A JP 2004047574 A JP2004047574 A JP 2004047574A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ground
- signal transmission
- wiring board
- multilayer wiring
- signal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/0213—Electrical arrangements not otherwise provided for
- H05K1/0216—Reduction of cross-talk, noise or electromagnetic interference
- H05K1/0218—Reduction of cross-talk, noise or electromagnetic interference by printed shielding conductors, ground planes or power plane
- H05K1/0219—Printed shielding conductors for shielding around or between signal conductors, e.g. coplanar or coaxial printed shielding conductors
- H05K1/0222—Printed shielding conductors for shielding around or between signal conductors, e.g. coplanar or coaxial printed shielding conductors for shielding around a single via or around a group of vias, e.g. coaxial vias or vias surrounded by a grounded via fence
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01P—WAVEGUIDES; RESONATORS, LINES, OR OTHER DEVICES OF THE WAVEGUIDE TYPE
- H01P1/00—Auxiliary devices
- H01P1/04—Fixed joints
- H01P1/047—Strip line joints
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/0213—Electrical arrangements not otherwise provided for
- H05K1/0237—High frequency adaptations
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/0213—Electrical arrangements not otherwise provided for
- H05K1/0237—High frequency adaptations
- H05K1/025—Impedance arrangements, e.g. impedance matching, reduction of parasitic impedance
- H05K1/0251—Impedance arrangements, e.g. impedance matching, reduction of parasitic impedance related to vias or transitions between vias and transmission lines
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/11—Printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K1/115—Via connections; Lands around holes or via connections
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/09—Shape and layout
- H05K2201/09209—Shape and layout details of conductors
- H05K2201/0929—Conductive planes
- H05K2201/09336—Signal conductors in same plane as power plane
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/09—Shape and layout
- H05K2201/09209—Shape and layout details of conductors
- H05K2201/095—Conductive through-holes or vias
- H05K2201/09618—Via fence, i.e. one-dimensional array of vias
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/09—Shape and layout
- H05K2201/09209—Shape and layout details of conductors
- H05K2201/09654—Shape and layout details of conductors covering at least two types of conductors provided for in H05K2201/09218 - H05K2201/095
- H05K2201/09718—Clearance holes
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/09—Shape and layout
- H05K2201/09209—Shape and layout details of conductors
- H05K2201/09654—Shape and layout details of conductors covering at least two types of conductors provided for in H05K2201/09218 - H05K2201/095
- H05K2201/09809—Coaxial layout
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/40—Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K3/42—Plated through-holes or plated via connections
- H05K3/429—Plated through-holes specially for multilayer circuits, e.g. having connections to inner circuit layers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24802—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24802—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
- Y10T428/24917—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.] including metal layer
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
- Structure Of Printed Boards (AREA)
Abstract
【課題】信号ビアの近傍における特性インピーダンスの調整を行うことにより全体としての特性インピーダンスの安定化を図った多層配線基板を提供する。
【解決手段】多層配線基板1の第1階層L1の表面側に第1信号伝送路11が形成され、第2階層L2には第1信号伝送路11と対をなす第1グランド層15が形成されている。第3階層L3には、第2信号伝送路12が形成されており、第1信号伝送路11と第2信号伝送路12は、信号ビア13によって互いに接続されている。信号ビア13の側方には、第1グランドビア18A配設されており、第1グランド層15における第1信号伝送路11と対をなす部位は、第1グランドビア18Aよりも信号ビア13側に張り出す張り出し部15Dとされ、信号ビア13近傍の特性インピーダンスの調整を行っている。
【選択図】 図1
【解決手段】多層配線基板1の第1階層L1の表面側に第1信号伝送路11が形成され、第2階層L2には第1信号伝送路11と対をなす第1グランド層15が形成されている。第3階層L3には、第2信号伝送路12が形成されており、第1信号伝送路11と第2信号伝送路12は、信号ビア13によって互いに接続されている。信号ビア13の側方には、第1グランドビア18A配設されており、第1グランド層15における第1信号伝送路11と対をなす部位は、第1グランドビア18Aよりも信号ビア13側に張り出す張り出し部15Dとされ、信号ビア13近傍の特性インピーダンスの調整を行っている。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、多層配線基板並びに多層配線基板を備える光トランシーバおよびトランスポンダに関する。
【0002】
【従来の技術】
コンピュータの基板などとして用いられる多層配線基板の従来の例を図8に示す。図8(a)は、従来の多層配線基板の側断面図、(b)はそのB−B線断面図である。図8に示すように、従来における多層配線基板70は、その表側の表面に形成された第1信号伝送路71およびその裏側の表面であって第1信号伝送路71とは異なる階層に形成された第2信号伝送路72を備えている。第1信号伝送路71と第2信号伝送路72の間には、絶縁体73が設けられており、第1信号伝送路71と第2信号伝送路72とは、絶縁体73を貫通して設けられた信号ビア74によって互いに接続されている。
【0003】
第1信号伝送路71に対向する位置には、第1グランド層75が配設されている。第1グランド層75は、信号ビア74の周囲に配設されており、その一部が第1信号伝送路71と対をなし、他の一部が第2信号伝送路72と対をなしている。また、第2信号伝送路72と同一階層には第2グランド層76が形成され、第1信号伝送路71と同一階層には第3グランド層77が形成されている。さらに、信号ビア74の側方には、グランドビア78A〜78Hが設けられている。第1グランドビア78Aは、第1グランド層75と第2グランド層76とを互いに接続しており、第2グランドビア78Bは第1グランド層75と第3グランド層77とを互いに接続している。
【0004】
このような従来の多層配線基板70では、信号伝送路71,72に信号電流が流れると、グランド層75〜77にも反対向きに電流が流れることにより、信号伝送路71,72および信号ビア74における特性インピーダンスの安定を図っている。このような多層配線基板を改良してさらなる特性インピーダンスの安定を図ったものとして、たとえば特開2000−188478号公報に開示された多層配線基板がある。この多層配線基板は、配線層(信号伝送路)と中間接続層(ビアランド)の径を調整することによって、特性インピーダンスの安定化を図るものである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、この種の多層配線基板では、信号伝送路とグランド層との対向方向に沿って見て、信号伝送路とグランド層が重なっている部位では、信号伝送路とグランド層の離間距離および絶縁体の比誘電率を調整することにより、特性インピーダンスを調整することができる。しかし、信号ビアの近傍では、グランド層と信号ビアとの接触を避ける必要があるので、製造の容易性をも加味して、グランドビアの位置までグランド層を形成していた。このため、信号ビアの近傍では、特性インピーダンスの整合が図られておらず、全体としての特性インピーダンスの安定化を妨げるものとなるという問題があった。
【0006】
そこで、本発明の課題は、信号伝送路同士を互いに接続する信号ビアの近傍において、特性インピーダンスの調整を行うことにより全体としての特性インピーダンスの安定化を図った多層配線基板を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決する本発明に係る多層配線基板は、表面に形成された信号伝送路と、信号伝送路に対向して配設され信号伝送路と対をなすグランド層と、信号伝送路とグランド層との対向方向に沿って配設され、信号伝送路とは異なる階層に形成された他の信号伝送路と信号伝送路とを互いに接続する信号ビアと、信号ビアの側方で信号伝送路に対して対向方向に離間して配置され、グランド層とは異なる階層に形成された他のグランド層とグランド層とを互いに接続するグランドビアと、を備え、グランド層が、グランドビアと信号ビアとの間でグランドビアよりも信号ビア側に張り出して形成されていることものである。
【0008】
本発明に係る多層配線基板では、外部に形成された信号伝送路と対をなすグランド層が、グランドビアよりも信号ビア側に張り出して形成されている。グランドビアが信号ビアよりも張り出して形成されていることから、グランドビアが張り出した位置までも特性インピーダンスの調整を行うことができる。このため、信号ビアの近傍においても、特性インピーダンスの調整を行うことができるので、全体としてのインピーダンスの安定化を図ることができる。
【0009】
なお、本発明において、グランド層がグランドビアよりも信号ビア側に張り出すとは、グランドビアにビアランドを設けたとするとそのビアランドよりもグランド層が信号ビア側に張り出すことを意味するものである。
【0010】
また、上記課題を解決した本発明に係る多層配線基板は、内部に形成された信号伝送路と、信号伝送路に対向して配設され信号伝送路と対をなすグランド層と、信号伝送路とグランド層との対向方向に沿って配設され、信号伝送路とは異なる階層に形成された他の信号伝送路と信号伝送路を互いに接続する信号ビアと、信号ビアの側方で信号伝送路に対して対向方向に離間して配置され、グランド層とは異なる階層に形成された他のグランド層とグランド層とを互いに接続するグランドビアと、を備え、グランド層が、グランドビアと信号ビアとの間でグランドビアよりも信号ビア側に張り出して形成されているものである。
【0011】
本発明に係る多層配線基板では、基板の内部に形成された信号伝送路と対をなすグランド層がグランドビアよりも信号ビア側に張り出して形成されている。このため、基板の内部に形成された信号伝送路に接続された信号ビアの近傍における特性インピーダンスの調整を行うことができる。
【0012】
また、グランドビアと異なる位置に7個の他のグランドビアが配設され、グランドビアと7個の他のグランドビアとは、信号ビアを囲んで、正方形をなす線上にそれぞれ等間隔に離間して配設されているのが好適である。
【0013】
このように、グランドビアが信号ビアを囲んで正方形をなす線上にそれぞれ等間隔で離間して並設されていることにより、インピーダンス設計を容易に行うことができる。
【0014】
また、上記多層配線基板と、多層配線基板に取り付けられた発光モジュール、受光モジュール、および電子素子と、を備え、発光モジュールまたは受光モジュールと、電子素子とが、多層配線基板に形成された信号伝送路を介して接続されている光トランシーバとすることができる。
【0015】
さらに、上記多層配線基板に取り付けられた発光モジュール、受光モジュール、マルチプレクス用IC、およびマルチプレクス用ICとを備え、発光モジュールとマルチプレクス用IC、または受光モジュールとデマルチプレクス用ICとが多層配線基板に形成された信号伝送路を介して接続されている態様とすることができることができる。
【0016】
このように、上記多層配線基板を用いることにより、インピーダンス特性が安定した光トランシーバまたはトランスポンダとすることができる。特に、10Gbpsという高速通信に用いる場合光トランシーバまたはトランスポンダであっても、安定したインピーダンス特性を得ることができる。
【0017】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を、図面を参照しながら具体的に説明する。図1は、本実施形態に係る多層配線基板の側断面図、図2(a)は図1のA−A線断面図、(b)は図1のB−B線断面図、(c)は図1のC−C線断面図である。
【0018】
図1に示すように、本実施形態に係る多層配線基板1は、第1階層L1〜第3階層L3を備えており、第1階層L1の表面には、第1信号伝送路11が形成されている。第1信号伝送路11は、図2(a)に示すように、たとえば銅線からなる細長い線であり、その厚さは約0.018mmとされている。また、第3階層L3には、第2信号伝送路12が形成されている。第2信号伝送路12は、図2(c)に示すように、第1信号伝送路11と同様にたとえば銅線からなる細長い線を形成しており、その厚さはおよそ0.018mmとされている。第1信号伝送路11の端部と第2信号伝送路12の端部は、信号ビア13を介して互いに接続されている。信号ビア13は、第1階層L1〜第3階層L3の積層方向に沿って形成された円柱形状をなす導電体によって構成されている。第1信号伝送路11を介して供給される信号電流は、信号ビア13を介して第2信号伝送路12に供給される。また、第1信号伝送路11が形成された第1階層L1と、第2信号伝送路12が形成された第3階層L3との間には、絶縁体14が設けられている。絶縁体14の膜厚はおよそ0.11mmとされている。第1信号伝送路11は絶縁体14の表側表面に形成され、第2信号伝送路12は、絶縁体14の裏側表面に形成されている。信号ビア13は、絶縁体14を貫通するようにして設けられている。
【0019】
また、第2階層L2には、第1グランド層15が形成されている。第1グランド層15は、図2(b)に示すように、第2階層L2において、信号ビア13を囲んで形成されており、第1階層L1における第1信号伝送路11に対向して配設されている部位と、第2信号伝送路12に対向して配設されている部位とを有している。さらに、図2(c)に示すように、第3階層L3には第2信号伝送路12を囲んで第2グランド層16が形成されており、図2(a)に示すように、第1階層L1には第1信号伝送路11を囲んで第3グランド層17が形成されている。第1グランド層15と第2グランド層16とは、第1グランドビア18Aを介して接続されており、第1グランド層15と第2グランド層16とは同一の電位に保たれている。また、第1グランド層15と第3グランド層17とは、第2グランドビア18Bを介して接続されており、第1グランド層15と第3グランド層17とは同一電位に保たれている。
【0020】
さらに、信号ビア13の周囲には、第1グランドビア18A、第2グランドビア18Bのほかに、第3グランドビア18C〜第8グランドビア18Hが配設されている。したがって、第1グランドビア18Aの他、合計で7個のグランドビアが配設されている。これらのグランドビア18A〜18Hは、信号伝送路とグランド層との対向方向からみて、信号ビア13を囲む正方形をなす線上にそれぞれ等間隔で配置されている。したがって、インピーダンス設計を容易に行うことができるようにされている。
【0021】
第3グランドビア18C〜第8グランドビア18Hは、絶縁体14および第1グランド層15を貫通して第2グランド層15および第3グランド層17を接続している。これらの各グランドビア18A〜18Hによってそれぞれ第1グランド層15〜第3グランド層17を接続することにより、第1グランド層15〜第3グランド層17を安定した状態で同一電位に維持されている。これらの第1グランドビア18A〜第8グランドビア18Hは、同一の径を有する柱状体であり、第1グランドビア18Aおよび第2グランドビア18Bは同一の高さを有している。また、第3グランドビア18C〜第8グランドビア18Hは、いずれも同一の高さを有している。なお、これらの第3グランドビア18C〜第8グランドビア18Hと、信号ビア13は同一の高さを有している。
【0022】
また、第2階層L2における信号ビア13が貫通する位置には、信号ビア用ビアランド19が設けられている。さらに、図2(a)に示すように、第3グランド層17のうち、第2グランドビア18B〜第8グランドビア18Hと接触する位置には、グランドビア用ビアランド17A〜17Gが形成されている。また、図2(b)に示すように、第1グランド層15のうち、第4グランドビア18Dおよび第8グランドビア18Hと接触する位置には、グランドビア用ビアランド15A,15Bがそれぞれ形成されている。さらに、図2(c)に示すように、第2グランド層15のうち、第1グランドビア18Aおよび第3グランドビア18C〜第9グランドビア18Iと接触する位置には、グランドビア用ビアランド16A〜16Hがそれぞれ形成されている。これらのグランドビア用ビアランドは、いずれも同じ大きさに設定されている。
【0023】
他方、第1グランド層15における第1信号伝送路11と対をなす部位には、第1グランドビア18Aよりも信号ビア13側に張り出す張り出し部15Cが形成されている。この張り出し部15Cの長さ(第1グランドビア18Aと張り出し部15Cの端辺15Dとの長さ)は、各ビアランドの幅(ビアランドの外周と内周との間の距離)よりも大きなものとされている。そして、張り出し部15Cの端辺15Dは、第1グランドビア18Aと信号ビア13のほぼ中間に位置している。また、第1グランド層15における第2信号伝送路12と対をなす部位には、第2グランドビア18Bよりも信号ビア13側に張り出す張り出し部15Eが形成されている。この張り出し部15Eの長さは、ビアランドの幅よりも大きなものとされている。
【0024】
以上の構成を有する本実施形態に係る多層配線基板1における作用について説明する。
【0025】
本実施形態に係る多層配線基板1では、第1信号伝送路11と対になる第1グランド層15の部位には、第1グランドビア18Aよりも信号ビア13側に張り出す張り出し部15Cが形成されている。この張り出し部15Cを有するため、信号ビア13の近傍においても第1信号伝送路11の特性インピーダンスが不連続となる部分を少なくすることができる。したがって、全体としての特性インピーダンスの安定化を図ることができる。また、第2信号伝送路12と対になる第1グランド層15の部位には、第2グランドビア18Bよりも信号ビア13側に張り出す張り出し部15Eが形成されている。このため、第2信号伝送路12についても、信号ビア13の近傍で特性インピーダンスが不連続となる部分を少なくすることができ、もって全体としての特性インピーダンスの安定化をさらに促進することができる。
【0026】
ところで、信号ビア13の近傍において第1信号伝送路11の特性インピーダンスの調整を行うことができるようにするためには、第1グランド層15の張り出し部15Cを信号ビア13に対してできるだけ近づけることが望ましい。ところが、張り出し部15Cを信号ビア13に対して近づけすぎると、今度は信号ビア13における特性インピーダンスに不整合が生じ、全体としての特性インピーダンスの安定化を阻害するものとなる。そこで、第1グランド層15の張り出し部15Cの張り出し長さについて、特性インピーダンスを好適に安定化することができる長さを知るべく、本発明者らは以下に示す実験を行った。
【0027】
図3(a)は比較例に係る多層配線基板におけるグランド層とグランドビアとの位置関係を模式的に示す図、(b)は本発明に係る多層配線基板におけるグランド層とグランドビアとの位置関係を模式的に示す図である。両図において、これらのグランドビアと対をなす信号伝送路を破線で示す。また、グランドビアおよび信号ビアの周囲に形成されているビアランドの表示は省略している。
【0028】
図3(a)に示すように、比較例に係る多層配線基板では、グランド層15の端辺をグランドビア18の中心に合わせて設計し、グランドビア18と信号ビア13の中心との距離D1を0.64mmに設定した。また、絶縁体の比誘電率3.74、各ビアのビア径は0.15mm、各ビアに設けたビアランドのビアランド径は0.25mmとした。一方、図3(b)に示すように、本発明例に係る多層配線基板では、グランド層15をグランドビア18よりも信号ビア13側に張り出して形成した。グランド層15の端辺と信号ビア13との間の距離D2を0.30mmに設定した。絶縁体の比誘電率、各ビアのビア径、ビアランドのビアランド径は、上記に比較例と同一の条件とした。また、本発明例として、グランド層15の端辺と信号ビア13の距離D2を0.2mmに設定したものと、0.4mmに設定したものも用意した。これらの比較例に係る多層配線基板と本発明例に係る多層配線基板のそれぞれの周波数と特性インピーダンスの関係について測定した。その結果を図4に示す。図4中、(a)は比較例に係る多層配線基板における周波数と反射特性の関係を示すグラフ、(b)〜(d)は本発明に係る多層配線基板における周波数と反射特性の関係を示すグラフであり、(b)はD2=0.3mm、(c)はD2=0.2mm、(d)はD2=0.4mmのものである。
【0029】
図4(a)から判るように比較例に係る多層配線基板では、広い周波数領域で反射特性が−20dBより大きくなり、安定した特性インピーダンスを得ることができなかった。これに対し、図4(b)から判るように、本実施形態に係る多層配線基板のうち、D2=0.3mmとしたものは、18GHz以下の周波数領域での反射特性は常に−20dB以下となり、安定した特性インピーダンスとすることができた。また、図4(c)に示すように、D2=0.2mmとしたものは、ある程度の範囲の周波数領域での反射特性が−20dBを超えてしまった。このため、D2=0.3mmとしたものよりは安定した特性インピーダンスとすることはできなかったが、比較例よりは良好な結果を得ることができた。さらに、図4(d)に示すように、D2=0.4mmとしたものは、ある程度の範囲の周波数領域で反射特性が−20dBを超えてしまった。したがってD2=0.2mmのものよりは、安定した特性インピーダンスとすることはできなかったが、比較例よりは良好な結果を得ることができた。
【0030】
上記の実験などの結果、良好な特性インピーダンスを得るためには、グランド層15の端辺−信号ビア13間の距離D2は、グランドビア18−信号ビア13間の距離D1に対して0.3〜0.7倍の範囲内に設定するのが好適である。
【0031】
次に、本実施形態に係る多層配線基板を用いた製品の例について説明する。
【0032】
図5は、本実施形態に係る多層配線基板を用いた光トランシーバを備える光リンクモジュールの分解斜視図である。図5に示すように、この光リンクモジュール20は、光トランシーバ30、筐体40、およびホストコネクタ50を備えている。
【0033】
光トランシーバ30は、半導体レーザなどの発光素子を内蔵する発光モジュール31と、フォトダイオードなどの受光素子を内蔵する受光モジュール32と、上記のとおり説明した多層配線基板1と、を備えている。これらの発光モジュール31および受光モジュール32が、多層配線基板1に取り付けられている。
【0034】
発光モジュール31は、発光素子が封止された発光素子封止部33と、図示しない光コネクタプラグが係合される係合部34と、を有している。
【0035】
発光素子封止部33は、ベース部材35、複数のリードピン36、および図示しない放熱板を有しており、リードピン36のうち信号ライン用のリードピンは、z−整合するように設計されている。これら複数のリードピン36および図示しない放熱板は、ベース部材35の底面に取り付けられている。複数のリードピン36と放熱板はコバールといった金属から形成されており、接地ライン用の一部のリードピン36は放熱板と電気的に接続されている。
【0036】
係合部34は、内部に光ファイバが挿入されたフェルールやフェルールを保持するスリーブ等を有している。また、係合部34の側方には光コネクタプラグの係合爪と係合される突起部34Aが設けられている。また、これら一対の側面には、光コネクタプラグを取り付ける際にこの両者の成す角度を規定するためのガイドリブ34Bが設けられている。
【0037】
受光モジュール32は、発光モジュール31と同様の構成を有しており、受光モジュール32は、受光素子が封止された受光素子封止部と、光コネクタプラグが係合される係合部と、を備えている。
【0038】
また、多層配線基板1の長手方向後縁部には、その上下面1a,1bに信号ライン用の複数の配線パターン37が形成されている。そして、複数の配線パターン37を挟むように、電源ライン用の配線パターン38A、および接地ライン用の配線パターン38Bが形成されている。これら配線パターン38A,38Bは、多層配線基板1の縁部付近まで、配線パターン37よりも長めに形成されている。さらに、多層配線基板1の上下面1a,1bに、波形整形用の電子素子であるIC39がそれぞれ搭載されている。多層配線基板1の内部では、発光モジュール31および受光モジュール32におけるリードピン36、配線パターン37,38A,38B、およびIC39を接続する信号伝送路がそれぞれ形成されている。
【0039】
筐体40は、両開口端41,42が矩形状をなす筒状の金属ケースから構成されている。筐体40における一対の側壁の内面それぞれには、側壁の長手方向に沿って設けられた一対の突条からなるレール部43が設けられている。
【0040】
ホストコネクタ50は、樹脂製の四角柱状の部材から構成されている。ホストコネクタ50の前面には多層配線基板1と嵌合する凹部51が設けられている。この凹部51の側面には、多層配線基板1の上下面1a,1bにそれぞれ設けられた配線パターン37,38A,38Bと電気的に接続される金属ばね端子52が複数設けられている。
【0041】
上記した構成のホストコネクタ50は、筐体40内部の後部開口端42付近に固定されている。そして、光トランシーバ30は、多層配線基板1が筐体40の一対のレール部43に案内されることにより、前部開口端41から筐体40内にスライド収容されている。このとき、多層配線基板1の長手方向後縁部は、ホストコネクタ50の前面に設けられた凹部51に嵌合されている。これにより、多層配線基板1の上下面1a,1bにそれぞれ設けられた配線パターン37,38A,38Bと金属ばね端子52とが電気的に接続されている。
【0042】
この光トランシーバ30は、上記多層配線基板1を有しているので、特性インピーダンスの安定化を図ることができるので、安定した送受信性能を発揮することができる。特に、光トランシーバ30において、10GHzの周波数領域で良好な反射特性を得ることができることから、10Gbps以上の速度で信号を送受信する場合においても、好適に特性インピーダンスの安定化を図ることができる。
【0043】
また、図6は、本発明に係る多層配線基板を用いたトランスポンダの斜視図である。このトランスポンダ60は、多層配線基板1を有しており、多層配線基板1の上には、発光モジュール61および受光モジュール62が取り付けられている。発光モジュール61の先端部および受光モジュール62の先端部には、それぞれ光ファイバ63,64が接続されている。また、多層配線基板1上における発光モジュール61の後端側には、マルチプレクス用IC65が設けられており、受光モジュール62の後端側には、デマルチプレクス用IC66が設けられている。
【0044】
発光モジュール61および受光モジュール62は、多層配線基板1内に設けられた信号伝送路を介して、それぞれマルチプレクス用IC65およびデマルチプレクス用IC66に接続されている。発光モジュール61内には、半導体レーザダイオードやドライバなどが設けられており、マルチプレクス用IC65から出力される電気信号を光信号に変換して、光ファイバ63を介して出力する。受光モジュール62内には、フォトダイオードやプリアンプなどが設けられており、光ファイバ64から出力される光信号を電気信号に変換し、デマルチプレクス用IC66に対して出力する。また、マルチプレクス用IC65およびデマルチプレクス用IC66の側方には、処理用IC67等の電子部品が実装されており、さらにその側方であって多層配線基板1の端部にはコネクタ68が設けられている。
【0045】
以上の構成を有するトランスポンダ60は、上記多層配線基板1を有しているので、特性インピーダンスの安定化を図ることができるので、安定した送受信性能を発揮することができる。特に、トランスポンダ60において、10GHzの周波数領域で良好な反射特性を得ることができることから、10Gbps以上の速度で信号を送受信する場合においても、好適に特性インピーダンスの安定化を図ることができる。
【0046】
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。たとえば、上記実施形態では、第1グランド層15の張り出し部は、グランドビア18A,18C,18Fから同じ長さを有する張り出し部15Cを形成しているが、図7(a)に示すように、第1信号伝送路11にと対になる位置のみ張り出し部15Cを短くし、その両側(図7(a)では上下)位置を長めに張り出す態様とすることができる。また、図7(b)に示すように、第1グランド層15における第1信号伝送路11と対になる部分を、半円が切り欠かれた形状とする態様とすることもできる。さらには、図7(c)に示すように、8個のグランドビア18A〜18Hを、信号ビアを囲む円形に線上に等間隔に配置することができる。このとき、第1グランド層15の張り出し部15Cを半円が切り欠かれた形状とする態様とすることができる。
【0047】
また、上記実施形態では、多層配線基板に形成される信号伝送路として、基板の表面に形成された信号伝送路である、いわゆるマイクロストリップラインを対象としているが、基板の内部に形成されたいわゆるストリップラインを対象とすることもできる。さらに、上記実施形態では第1階層〜第3階層まで有する多層配線基板を対象としているが、2層あるいは4層以上の多層配線基板を対象とすることもできる。
【0048】
【発明の効果】
以上の説明のとおり、本発明によれば、信号伝送路同士を互いに接続する信号ビアの近傍において、特性インピーダンスの調整を行うことにより全体としての特性インピーダンスの安定化を図った多層配線基板を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施形態に係る多層配線基板の側断面図である。
【図2】(a)は図1のA−A線断面図、(b)は図1のB−B線断面図、(c)は図1のC−C線断面図である。
【図3】(a)は比較例に係る多層配線基板におけるグランド層とグランドビアとの位置関係を模式的に示す図、(b)は本発明に係る多層配線基板におけるグランド層とグランドビアとの位置関係を模式的に示す図である。
【図4】(a)は比較例に係る多層配線基板における周波数と反射特性の関係を示すグラフ、(b)〜(d)は本発明に係る多層配線基板における周波数と反射特性の関係を示すグラフであり、(b)はD2=0.3mm、(c)はD2=0.2mm、(d)はD2=0.4mmのものである。
【図5】本実施形態に係る多層配線基板を用いた光トランシーバを備える光リンクモジュールの分解斜視図である。
【図6】本発明に係る多層配線基板を用いたトランスポンダの斜視図である。
【図7】(a)〜(c)とも、第1グランド層における張り出し部の形状の変形例を示す図である。
【図8】(a)は従来の多層配線基板の側断面図、(b)は(a)のB−B線断面図である。
【符号の説明】
1…多層配線基板、1a,1b…上下面、11…第1信号伝送路、12…第2信号伝送路、13…信号ビア、14…絶縁体、15…第1グランド層、15A,15B…グランドビア用ビアランド、15C…張り出し部、15D…端辺、16…第2グランド層、16A〜16H…グランドビア用ビアランド、17…第3グランド層、17A〜17G…グランドビア用ビアランド、18A〜18H…第1〜第8グランドビア、19…信号ビア用ビアランド、20…光リンクモジュール、30…光トランシーバ、31…発光モジュール、32…受光モジュール、33…発光素子封止部、34…係合部、34A…突起部、34B…ガイドリブ、35…ベース部材、36…リードピン、37…配線パターン、37,38A,38B…配線パターン、39…IC、40…筐体、41,42…両開口端、41…前部開口端、42…後部開口端、43…レール部、50…ホストコネクタ、51…凹部、52…端子、60…トランスポンダ、61…発光モジュール、62…受光モジュール、63,64…光ファイバ、65…マルチプレクス用IC、66…デマルチプレクス用IC、67…処理用IC、68… コネクタ、L1…第1階層、L2…第2階層、L3…第3階層。
【発明の属する技術分野】
本発明は、多層配線基板並びに多層配線基板を備える光トランシーバおよびトランスポンダに関する。
【0002】
【従来の技術】
コンピュータの基板などとして用いられる多層配線基板の従来の例を図8に示す。図8(a)は、従来の多層配線基板の側断面図、(b)はそのB−B線断面図である。図8に示すように、従来における多層配線基板70は、その表側の表面に形成された第1信号伝送路71およびその裏側の表面であって第1信号伝送路71とは異なる階層に形成された第2信号伝送路72を備えている。第1信号伝送路71と第2信号伝送路72の間には、絶縁体73が設けられており、第1信号伝送路71と第2信号伝送路72とは、絶縁体73を貫通して設けられた信号ビア74によって互いに接続されている。
【0003】
第1信号伝送路71に対向する位置には、第1グランド層75が配設されている。第1グランド層75は、信号ビア74の周囲に配設されており、その一部が第1信号伝送路71と対をなし、他の一部が第2信号伝送路72と対をなしている。また、第2信号伝送路72と同一階層には第2グランド層76が形成され、第1信号伝送路71と同一階層には第3グランド層77が形成されている。さらに、信号ビア74の側方には、グランドビア78A〜78Hが設けられている。第1グランドビア78Aは、第1グランド層75と第2グランド層76とを互いに接続しており、第2グランドビア78Bは第1グランド層75と第3グランド層77とを互いに接続している。
【0004】
このような従来の多層配線基板70では、信号伝送路71,72に信号電流が流れると、グランド層75〜77にも反対向きに電流が流れることにより、信号伝送路71,72および信号ビア74における特性インピーダンスの安定を図っている。このような多層配線基板を改良してさらなる特性インピーダンスの安定を図ったものとして、たとえば特開2000−188478号公報に開示された多層配線基板がある。この多層配線基板は、配線層(信号伝送路)と中間接続層(ビアランド)の径を調整することによって、特性インピーダンスの安定化を図るものである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、この種の多層配線基板では、信号伝送路とグランド層との対向方向に沿って見て、信号伝送路とグランド層が重なっている部位では、信号伝送路とグランド層の離間距離および絶縁体の比誘電率を調整することにより、特性インピーダンスを調整することができる。しかし、信号ビアの近傍では、グランド層と信号ビアとの接触を避ける必要があるので、製造の容易性をも加味して、グランドビアの位置までグランド層を形成していた。このため、信号ビアの近傍では、特性インピーダンスの整合が図られておらず、全体としての特性インピーダンスの安定化を妨げるものとなるという問題があった。
【0006】
そこで、本発明の課題は、信号伝送路同士を互いに接続する信号ビアの近傍において、特性インピーダンスの調整を行うことにより全体としての特性インピーダンスの安定化を図った多層配線基板を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決する本発明に係る多層配線基板は、表面に形成された信号伝送路と、信号伝送路に対向して配設され信号伝送路と対をなすグランド層と、信号伝送路とグランド層との対向方向に沿って配設され、信号伝送路とは異なる階層に形成された他の信号伝送路と信号伝送路とを互いに接続する信号ビアと、信号ビアの側方で信号伝送路に対して対向方向に離間して配置され、グランド層とは異なる階層に形成された他のグランド層とグランド層とを互いに接続するグランドビアと、を備え、グランド層が、グランドビアと信号ビアとの間でグランドビアよりも信号ビア側に張り出して形成されていることものである。
【0008】
本発明に係る多層配線基板では、外部に形成された信号伝送路と対をなすグランド層が、グランドビアよりも信号ビア側に張り出して形成されている。グランドビアが信号ビアよりも張り出して形成されていることから、グランドビアが張り出した位置までも特性インピーダンスの調整を行うことができる。このため、信号ビアの近傍においても、特性インピーダンスの調整を行うことができるので、全体としてのインピーダンスの安定化を図ることができる。
【0009】
なお、本発明において、グランド層がグランドビアよりも信号ビア側に張り出すとは、グランドビアにビアランドを設けたとするとそのビアランドよりもグランド層が信号ビア側に張り出すことを意味するものである。
【0010】
また、上記課題を解決した本発明に係る多層配線基板は、内部に形成された信号伝送路と、信号伝送路に対向して配設され信号伝送路と対をなすグランド層と、信号伝送路とグランド層との対向方向に沿って配設され、信号伝送路とは異なる階層に形成された他の信号伝送路と信号伝送路を互いに接続する信号ビアと、信号ビアの側方で信号伝送路に対して対向方向に離間して配置され、グランド層とは異なる階層に形成された他のグランド層とグランド層とを互いに接続するグランドビアと、を備え、グランド層が、グランドビアと信号ビアとの間でグランドビアよりも信号ビア側に張り出して形成されているものである。
【0011】
本発明に係る多層配線基板では、基板の内部に形成された信号伝送路と対をなすグランド層がグランドビアよりも信号ビア側に張り出して形成されている。このため、基板の内部に形成された信号伝送路に接続された信号ビアの近傍における特性インピーダンスの調整を行うことができる。
【0012】
また、グランドビアと異なる位置に7個の他のグランドビアが配設され、グランドビアと7個の他のグランドビアとは、信号ビアを囲んで、正方形をなす線上にそれぞれ等間隔に離間して配設されているのが好適である。
【0013】
このように、グランドビアが信号ビアを囲んで正方形をなす線上にそれぞれ等間隔で離間して並設されていることにより、インピーダンス設計を容易に行うことができる。
【0014】
また、上記多層配線基板と、多層配線基板に取り付けられた発光モジュール、受光モジュール、および電子素子と、を備え、発光モジュールまたは受光モジュールと、電子素子とが、多層配線基板に形成された信号伝送路を介して接続されている光トランシーバとすることができる。
【0015】
さらに、上記多層配線基板に取り付けられた発光モジュール、受光モジュール、マルチプレクス用IC、およびマルチプレクス用ICとを備え、発光モジュールとマルチプレクス用IC、または受光モジュールとデマルチプレクス用ICとが多層配線基板に形成された信号伝送路を介して接続されている態様とすることができることができる。
【0016】
このように、上記多層配線基板を用いることにより、インピーダンス特性が安定した光トランシーバまたはトランスポンダとすることができる。特に、10Gbpsという高速通信に用いる場合光トランシーバまたはトランスポンダであっても、安定したインピーダンス特性を得ることができる。
【0017】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を、図面を参照しながら具体的に説明する。図1は、本実施形態に係る多層配線基板の側断面図、図2(a)は図1のA−A線断面図、(b)は図1のB−B線断面図、(c)は図1のC−C線断面図である。
【0018】
図1に示すように、本実施形態に係る多層配線基板1は、第1階層L1〜第3階層L3を備えており、第1階層L1の表面には、第1信号伝送路11が形成されている。第1信号伝送路11は、図2(a)に示すように、たとえば銅線からなる細長い線であり、その厚さは約0.018mmとされている。また、第3階層L3には、第2信号伝送路12が形成されている。第2信号伝送路12は、図2(c)に示すように、第1信号伝送路11と同様にたとえば銅線からなる細長い線を形成しており、その厚さはおよそ0.018mmとされている。第1信号伝送路11の端部と第2信号伝送路12の端部は、信号ビア13を介して互いに接続されている。信号ビア13は、第1階層L1〜第3階層L3の積層方向に沿って形成された円柱形状をなす導電体によって構成されている。第1信号伝送路11を介して供給される信号電流は、信号ビア13を介して第2信号伝送路12に供給される。また、第1信号伝送路11が形成された第1階層L1と、第2信号伝送路12が形成された第3階層L3との間には、絶縁体14が設けられている。絶縁体14の膜厚はおよそ0.11mmとされている。第1信号伝送路11は絶縁体14の表側表面に形成され、第2信号伝送路12は、絶縁体14の裏側表面に形成されている。信号ビア13は、絶縁体14を貫通するようにして設けられている。
【0019】
また、第2階層L2には、第1グランド層15が形成されている。第1グランド層15は、図2(b)に示すように、第2階層L2において、信号ビア13を囲んで形成されており、第1階層L1における第1信号伝送路11に対向して配設されている部位と、第2信号伝送路12に対向して配設されている部位とを有している。さらに、図2(c)に示すように、第3階層L3には第2信号伝送路12を囲んで第2グランド層16が形成されており、図2(a)に示すように、第1階層L1には第1信号伝送路11を囲んで第3グランド層17が形成されている。第1グランド層15と第2グランド層16とは、第1グランドビア18Aを介して接続されており、第1グランド層15と第2グランド層16とは同一の電位に保たれている。また、第1グランド層15と第3グランド層17とは、第2グランドビア18Bを介して接続されており、第1グランド層15と第3グランド層17とは同一電位に保たれている。
【0020】
さらに、信号ビア13の周囲には、第1グランドビア18A、第2グランドビア18Bのほかに、第3グランドビア18C〜第8グランドビア18Hが配設されている。したがって、第1グランドビア18Aの他、合計で7個のグランドビアが配設されている。これらのグランドビア18A〜18Hは、信号伝送路とグランド層との対向方向からみて、信号ビア13を囲む正方形をなす線上にそれぞれ等間隔で配置されている。したがって、インピーダンス設計を容易に行うことができるようにされている。
【0021】
第3グランドビア18C〜第8グランドビア18Hは、絶縁体14および第1グランド層15を貫通して第2グランド層15および第3グランド層17を接続している。これらの各グランドビア18A〜18Hによってそれぞれ第1グランド層15〜第3グランド層17を接続することにより、第1グランド層15〜第3グランド層17を安定した状態で同一電位に維持されている。これらの第1グランドビア18A〜第8グランドビア18Hは、同一の径を有する柱状体であり、第1グランドビア18Aおよび第2グランドビア18Bは同一の高さを有している。また、第3グランドビア18C〜第8グランドビア18Hは、いずれも同一の高さを有している。なお、これらの第3グランドビア18C〜第8グランドビア18Hと、信号ビア13は同一の高さを有している。
【0022】
また、第2階層L2における信号ビア13が貫通する位置には、信号ビア用ビアランド19が設けられている。さらに、図2(a)に示すように、第3グランド層17のうち、第2グランドビア18B〜第8グランドビア18Hと接触する位置には、グランドビア用ビアランド17A〜17Gが形成されている。また、図2(b)に示すように、第1グランド層15のうち、第4グランドビア18Dおよび第8グランドビア18Hと接触する位置には、グランドビア用ビアランド15A,15Bがそれぞれ形成されている。さらに、図2(c)に示すように、第2グランド層15のうち、第1グランドビア18Aおよび第3グランドビア18C〜第9グランドビア18Iと接触する位置には、グランドビア用ビアランド16A〜16Hがそれぞれ形成されている。これらのグランドビア用ビアランドは、いずれも同じ大きさに設定されている。
【0023】
他方、第1グランド層15における第1信号伝送路11と対をなす部位には、第1グランドビア18Aよりも信号ビア13側に張り出す張り出し部15Cが形成されている。この張り出し部15Cの長さ(第1グランドビア18Aと張り出し部15Cの端辺15Dとの長さ)は、各ビアランドの幅(ビアランドの外周と内周との間の距離)よりも大きなものとされている。そして、張り出し部15Cの端辺15Dは、第1グランドビア18Aと信号ビア13のほぼ中間に位置している。また、第1グランド層15における第2信号伝送路12と対をなす部位には、第2グランドビア18Bよりも信号ビア13側に張り出す張り出し部15Eが形成されている。この張り出し部15Eの長さは、ビアランドの幅よりも大きなものとされている。
【0024】
以上の構成を有する本実施形態に係る多層配線基板1における作用について説明する。
【0025】
本実施形態に係る多層配線基板1では、第1信号伝送路11と対になる第1グランド層15の部位には、第1グランドビア18Aよりも信号ビア13側に張り出す張り出し部15Cが形成されている。この張り出し部15Cを有するため、信号ビア13の近傍においても第1信号伝送路11の特性インピーダンスが不連続となる部分を少なくすることができる。したがって、全体としての特性インピーダンスの安定化を図ることができる。また、第2信号伝送路12と対になる第1グランド層15の部位には、第2グランドビア18Bよりも信号ビア13側に張り出す張り出し部15Eが形成されている。このため、第2信号伝送路12についても、信号ビア13の近傍で特性インピーダンスが不連続となる部分を少なくすることができ、もって全体としての特性インピーダンスの安定化をさらに促進することができる。
【0026】
ところで、信号ビア13の近傍において第1信号伝送路11の特性インピーダンスの調整を行うことができるようにするためには、第1グランド層15の張り出し部15Cを信号ビア13に対してできるだけ近づけることが望ましい。ところが、張り出し部15Cを信号ビア13に対して近づけすぎると、今度は信号ビア13における特性インピーダンスに不整合が生じ、全体としての特性インピーダンスの安定化を阻害するものとなる。そこで、第1グランド層15の張り出し部15Cの張り出し長さについて、特性インピーダンスを好適に安定化することができる長さを知るべく、本発明者らは以下に示す実験を行った。
【0027】
図3(a)は比較例に係る多層配線基板におけるグランド層とグランドビアとの位置関係を模式的に示す図、(b)は本発明に係る多層配線基板におけるグランド層とグランドビアとの位置関係を模式的に示す図である。両図において、これらのグランドビアと対をなす信号伝送路を破線で示す。また、グランドビアおよび信号ビアの周囲に形成されているビアランドの表示は省略している。
【0028】
図3(a)に示すように、比較例に係る多層配線基板では、グランド層15の端辺をグランドビア18の中心に合わせて設計し、グランドビア18と信号ビア13の中心との距離D1を0.64mmに設定した。また、絶縁体の比誘電率3.74、各ビアのビア径は0.15mm、各ビアに設けたビアランドのビアランド径は0.25mmとした。一方、図3(b)に示すように、本発明例に係る多層配線基板では、グランド層15をグランドビア18よりも信号ビア13側に張り出して形成した。グランド層15の端辺と信号ビア13との間の距離D2を0.30mmに設定した。絶縁体の比誘電率、各ビアのビア径、ビアランドのビアランド径は、上記に比較例と同一の条件とした。また、本発明例として、グランド層15の端辺と信号ビア13の距離D2を0.2mmに設定したものと、0.4mmに設定したものも用意した。これらの比較例に係る多層配線基板と本発明例に係る多層配線基板のそれぞれの周波数と特性インピーダンスの関係について測定した。その結果を図4に示す。図4中、(a)は比較例に係る多層配線基板における周波数と反射特性の関係を示すグラフ、(b)〜(d)は本発明に係る多層配線基板における周波数と反射特性の関係を示すグラフであり、(b)はD2=0.3mm、(c)はD2=0.2mm、(d)はD2=0.4mmのものである。
【0029】
図4(a)から判るように比較例に係る多層配線基板では、広い周波数領域で反射特性が−20dBより大きくなり、安定した特性インピーダンスを得ることができなかった。これに対し、図4(b)から判るように、本実施形態に係る多層配線基板のうち、D2=0.3mmとしたものは、18GHz以下の周波数領域での反射特性は常に−20dB以下となり、安定した特性インピーダンスとすることができた。また、図4(c)に示すように、D2=0.2mmとしたものは、ある程度の範囲の周波数領域での反射特性が−20dBを超えてしまった。このため、D2=0.3mmとしたものよりは安定した特性インピーダンスとすることはできなかったが、比較例よりは良好な結果を得ることができた。さらに、図4(d)に示すように、D2=0.4mmとしたものは、ある程度の範囲の周波数領域で反射特性が−20dBを超えてしまった。したがってD2=0.2mmのものよりは、安定した特性インピーダンスとすることはできなかったが、比較例よりは良好な結果を得ることができた。
【0030】
上記の実験などの結果、良好な特性インピーダンスを得るためには、グランド層15の端辺−信号ビア13間の距離D2は、グランドビア18−信号ビア13間の距離D1に対して0.3〜0.7倍の範囲内に設定するのが好適である。
【0031】
次に、本実施形態に係る多層配線基板を用いた製品の例について説明する。
【0032】
図5は、本実施形態に係る多層配線基板を用いた光トランシーバを備える光リンクモジュールの分解斜視図である。図5に示すように、この光リンクモジュール20は、光トランシーバ30、筐体40、およびホストコネクタ50を備えている。
【0033】
光トランシーバ30は、半導体レーザなどの発光素子を内蔵する発光モジュール31と、フォトダイオードなどの受光素子を内蔵する受光モジュール32と、上記のとおり説明した多層配線基板1と、を備えている。これらの発光モジュール31および受光モジュール32が、多層配線基板1に取り付けられている。
【0034】
発光モジュール31は、発光素子が封止された発光素子封止部33と、図示しない光コネクタプラグが係合される係合部34と、を有している。
【0035】
発光素子封止部33は、ベース部材35、複数のリードピン36、および図示しない放熱板を有しており、リードピン36のうち信号ライン用のリードピンは、z−整合するように設計されている。これら複数のリードピン36および図示しない放熱板は、ベース部材35の底面に取り付けられている。複数のリードピン36と放熱板はコバールといった金属から形成されており、接地ライン用の一部のリードピン36は放熱板と電気的に接続されている。
【0036】
係合部34は、内部に光ファイバが挿入されたフェルールやフェルールを保持するスリーブ等を有している。また、係合部34の側方には光コネクタプラグの係合爪と係合される突起部34Aが設けられている。また、これら一対の側面には、光コネクタプラグを取り付ける際にこの両者の成す角度を規定するためのガイドリブ34Bが設けられている。
【0037】
受光モジュール32は、発光モジュール31と同様の構成を有しており、受光モジュール32は、受光素子が封止された受光素子封止部と、光コネクタプラグが係合される係合部と、を備えている。
【0038】
また、多層配線基板1の長手方向後縁部には、その上下面1a,1bに信号ライン用の複数の配線パターン37が形成されている。そして、複数の配線パターン37を挟むように、電源ライン用の配線パターン38A、および接地ライン用の配線パターン38Bが形成されている。これら配線パターン38A,38Bは、多層配線基板1の縁部付近まで、配線パターン37よりも長めに形成されている。さらに、多層配線基板1の上下面1a,1bに、波形整形用の電子素子であるIC39がそれぞれ搭載されている。多層配線基板1の内部では、発光モジュール31および受光モジュール32におけるリードピン36、配線パターン37,38A,38B、およびIC39を接続する信号伝送路がそれぞれ形成されている。
【0039】
筐体40は、両開口端41,42が矩形状をなす筒状の金属ケースから構成されている。筐体40における一対の側壁の内面それぞれには、側壁の長手方向に沿って設けられた一対の突条からなるレール部43が設けられている。
【0040】
ホストコネクタ50は、樹脂製の四角柱状の部材から構成されている。ホストコネクタ50の前面には多層配線基板1と嵌合する凹部51が設けられている。この凹部51の側面には、多層配線基板1の上下面1a,1bにそれぞれ設けられた配線パターン37,38A,38Bと電気的に接続される金属ばね端子52が複数設けられている。
【0041】
上記した構成のホストコネクタ50は、筐体40内部の後部開口端42付近に固定されている。そして、光トランシーバ30は、多層配線基板1が筐体40の一対のレール部43に案内されることにより、前部開口端41から筐体40内にスライド収容されている。このとき、多層配線基板1の長手方向後縁部は、ホストコネクタ50の前面に設けられた凹部51に嵌合されている。これにより、多層配線基板1の上下面1a,1bにそれぞれ設けられた配線パターン37,38A,38Bと金属ばね端子52とが電気的に接続されている。
【0042】
この光トランシーバ30は、上記多層配線基板1を有しているので、特性インピーダンスの安定化を図ることができるので、安定した送受信性能を発揮することができる。特に、光トランシーバ30において、10GHzの周波数領域で良好な反射特性を得ることができることから、10Gbps以上の速度で信号を送受信する場合においても、好適に特性インピーダンスの安定化を図ることができる。
【0043】
また、図6は、本発明に係る多層配線基板を用いたトランスポンダの斜視図である。このトランスポンダ60は、多層配線基板1を有しており、多層配線基板1の上には、発光モジュール61および受光モジュール62が取り付けられている。発光モジュール61の先端部および受光モジュール62の先端部には、それぞれ光ファイバ63,64が接続されている。また、多層配線基板1上における発光モジュール61の後端側には、マルチプレクス用IC65が設けられており、受光モジュール62の後端側には、デマルチプレクス用IC66が設けられている。
【0044】
発光モジュール61および受光モジュール62は、多層配線基板1内に設けられた信号伝送路を介して、それぞれマルチプレクス用IC65およびデマルチプレクス用IC66に接続されている。発光モジュール61内には、半導体レーザダイオードやドライバなどが設けられており、マルチプレクス用IC65から出力される電気信号を光信号に変換して、光ファイバ63を介して出力する。受光モジュール62内には、フォトダイオードやプリアンプなどが設けられており、光ファイバ64から出力される光信号を電気信号に変換し、デマルチプレクス用IC66に対して出力する。また、マルチプレクス用IC65およびデマルチプレクス用IC66の側方には、処理用IC67等の電子部品が実装されており、さらにその側方であって多層配線基板1の端部にはコネクタ68が設けられている。
【0045】
以上の構成を有するトランスポンダ60は、上記多層配線基板1を有しているので、特性インピーダンスの安定化を図ることができるので、安定した送受信性能を発揮することができる。特に、トランスポンダ60において、10GHzの周波数領域で良好な反射特性を得ることができることから、10Gbps以上の速度で信号を送受信する場合においても、好適に特性インピーダンスの安定化を図ることができる。
【0046】
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。たとえば、上記実施形態では、第1グランド層15の張り出し部は、グランドビア18A,18C,18Fから同じ長さを有する張り出し部15Cを形成しているが、図7(a)に示すように、第1信号伝送路11にと対になる位置のみ張り出し部15Cを短くし、その両側(図7(a)では上下)位置を長めに張り出す態様とすることができる。また、図7(b)に示すように、第1グランド層15における第1信号伝送路11と対になる部分を、半円が切り欠かれた形状とする態様とすることもできる。さらには、図7(c)に示すように、8個のグランドビア18A〜18Hを、信号ビアを囲む円形に線上に等間隔に配置することができる。このとき、第1グランド層15の張り出し部15Cを半円が切り欠かれた形状とする態様とすることができる。
【0047】
また、上記実施形態では、多層配線基板に形成される信号伝送路として、基板の表面に形成された信号伝送路である、いわゆるマイクロストリップラインを対象としているが、基板の内部に形成されたいわゆるストリップラインを対象とすることもできる。さらに、上記実施形態では第1階層〜第3階層まで有する多層配線基板を対象としているが、2層あるいは4層以上の多層配線基板を対象とすることもできる。
【0048】
【発明の効果】
以上の説明のとおり、本発明によれば、信号伝送路同士を互いに接続する信号ビアの近傍において、特性インピーダンスの調整を行うことにより全体としての特性インピーダンスの安定化を図った多層配線基板を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施形態に係る多層配線基板の側断面図である。
【図2】(a)は図1のA−A線断面図、(b)は図1のB−B線断面図、(c)は図1のC−C線断面図である。
【図3】(a)は比較例に係る多層配線基板におけるグランド層とグランドビアとの位置関係を模式的に示す図、(b)は本発明に係る多層配線基板におけるグランド層とグランドビアとの位置関係を模式的に示す図である。
【図4】(a)は比較例に係る多層配線基板における周波数と反射特性の関係を示すグラフ、(b)〜(d)は本発明に係る多層配線基板における周波数と反射特性の関係を示すグラフであり、(b)はD2=0.3mm、(c)はD2=0.2mm、(d)はD2=0.4mmのものである。
【図5】本実施形態に係る多層配線基板を用いた光トランシーバを備える光リンクモジュールの分解斜視図である。
【図6】本発明に係る多層配線基板を用いたトランスポンダの斜視図である。
【図7】(a)〜(c)とも、第1グランド層における張り出し部の形状の変形例を示す図である。
【図8】(a)は従来の多層配線基板の側断面図、(b)は(a)のB−B線断面図である。
【符号の説明】
1…多層配線基板、1a,1b…上下面、11…第1信号伝送路、12…第2信号伝送路、13…信号ビア、14…絶縁体、15…第1グランド層、15A,15B…グランドビア用ビアランド、15C…張り出し部、15D…端辺、16…第2グランド層、16A〜16H…グランドビア用ビアランド、17…第3グランド層、17A〜17G…グランドビア用ビアランド、18A〜18H…第1〜第8グランドビア、19…信号ビア用ビアランド、20…光リンクモジュール、30…光トランシーバ、31…発光モジュール、32…受光モジュール、33…発光素子封止部、34…係合部、34A…突起部、34B…ガイドリブ、35…ベース部材、36…リードピン、37…配線パターン、37,38A,38B…配線パターン、39…IC、40…筐体、41,42…両開口端、41…前部開口端、42…後部開口端、43…レール部、50…ホストコネクタ、51…凹部、52…端子、60…トランスポンダ、61…発光モジュール、62…受光モジュール、63,64…光ファイバ、65…マルチプレクス用IC、66…デマルチプレクス用IC、67…処理用IC、68… コネクタ、L1…第1階層、L2…第2階層、L3…第3階層。
Claims (5)
- 表面に形成された信号伝送路と、
前記信号伝送路に対向して配設され前記信号伝送路と対をなすグランド層と、
前記信号伝送路と前記グランド層との対向方向に沿って配設され、前記信号伝送路とは異なる階層に形成された他の信号伝送路と前記信号伝送路とを互いに接続する信号ビアと、
前記信号ビアの側方で前記信号伝送路に対して前記対向方向に離間して配置され、前記グランド層とは異なる階層に形成された他のグランド層と前記グランド層とを互いに接続するグランドビアと、を備え、
前記グランド層が、前記グランドビアと前記信号ビアとの間で前記グランドビアよりも前記信号ビア側に張り出して形成されていることを特徴とする多層配線基板。 - 内部に形成された信号伝送路と、
前記信号伝送路に対向して配設され前記信号伝送路と対をなすグランド層と、
前記信号伝送路と前記グランド層との対向方向に沿って配設され、前記信号伝送路とは異なる階層に形成された他の信号伝送路と前記信号伝送路を互いに接続する信号ビアと、
前記信号ビアの側方で前記信号伝送路に対して前記対向方向に離間して配置され、前記グランド層とは異なる階層に形成された他のグランド層と前記グランド層とを互いに接続するグランドビアと、を備え、
前記グランド層が、前記グランドビアと前記信号ビアとの間で前記グランドビアよりも前記信号ビア側に張り出して形成されていることを特徴とする多層配線基板。 - 前記グランドビアと異なる位置に7個の他のグランドビアが配設され、
前記対向方向からみて、前記グランドビアと7個の他のグランドビアとは、前記信号ビアを囲む正方形をなす線上にそれぞれ等間隔に離間して配設されている請求項1または請求項2に記載の多層配線基板。 - 請求項1〜請求項3のうちのいずれか1項に記載の多層配線基板と、
前記多層配線基板に取り付けられた発光モジュール、受光モジュール、および電子素子と、を備え、
前記発光モジュールまたは前記受光モジュールと、前記電子素子とが、前記多層配線基板に形成された信号伝送路を介して接続されている光トランシーバ。 - 請求項1〜請求項3のうちのいずれか1項に記載の多層配線基板と、
前記多層配線基板に取り付けられた発光モジュール、受光モジュール、マルチプレクス用IC、およびマルチプレクス用ICとを備え、
前記発光モジュールと前記マルチプレクス用IC、または前記受光モジュールと前記デマルチプレクス用ICとが前記多層配線基板に形成された前記信号伝送路を介して接続されているトランスポンダ。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002200347A JP2004047574A (ja) | 2002-07-09 | 2002-07-09 | 多層配線基板、光トランシーバ、およびトランスポンダ |
US10/615,378 US6807065B2 (en) | 2002-07-09 | 2003-07-09 | Multilayer printed circuit board |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002200347A JP2004047574A (ja) | 2002-07-09 | 2002-07-09 | 多層配線基板、光トランシーバ、およびトランスポンダ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004047574A true JP2004047574A (ja) | 2004-02-12 |
Family
ID=31707245
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002200347A Pending JP2004047574A (ja) | 2002-07-09 | 2002-07-09 | 多層配線基板、光トランシーバ、およびトランスポンダ |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6807065B2 (ja) |
JP (1) | JP2004047574A (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005244010A (ja) * | 2004-02-27 | 2005-09-08 | Toppan Printing Co Ltd | 回路基板の実装構造 |
JP2006024623A (ja) * | 2004-07-06 | 2006-01-26 | Hitachi Ltd | 光モジュール |
JP2007250885A (ja) * | 2006-03-16 | 2007-09-27 | Aica Kogyo Co Ltd | 多層プリント配線板 |
JP2008501247A (ja) * | 2004-06-30 | 2008-01-17 | インテル・コーポレーション | 電気−光相互接続のための装置 |
JP2008544557A (ja) * | 2005-06-27 | 2008-12-04 | インテル コーポレイション | 二重板可撓回路を備える光学トランスポンダモジュール |
WO2012073400A1 (ja) * | 2010-11-29 | 2012-06-07 | 株式会社村田製作所 | 抵抗内蔵基板およびこの基板を備える電流検出モジュール |
JP2015165646A (ja) * | 2014-02-28 | 2015-09-17 | 富士通株式会社 | ビアを有する回路及び関連方法 |
JP2017103714A (ja) * | 2015-12-04 | 2017-06-08 | 日本電信電話株式会社 | 多層配線基板 |
JP2019021793A (ja) * | 2017-07-19 | 2019-02-07 | 京セラ株式会社 | 配線基板、電子部品用パッケージおよび電子装置 |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3898976B2 (ja) * | 2002-05-13 | 2007-03-28 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション | プリント配線基板の選択装置及び選択方法 |
US7076123B2 (en) * | 2002-07-30 | 2006-07-11 | Intel Corporation | Optoelectronic package having a transmission line between electrical components and optical components |
KR100541655B1 (ko) * | 2004-01-07 | 2006-01-11 | 삼성전자주식회사 | 패키지 회로기판 및 이를 이용한 패키지 |
TWI244278B (en) | 2004-06-04 | 2005-11-21 | Ind Tech Res Inst | Optical transceiver module |
US7515431B1 (en) * | 2004-07-02 | 2009-04-07 | Apple Inc. | Handheld computing device |
US7724532B2 (en) * | 2004-07-02 | 2010-05-25 | Apple Inc. | Handheld computing device |
CN100502614C (zh) * | 2004-10-09 | 2009-06-17 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 适用于高速信号的印刷电路板结构 |
TWI242783B (en) * | 2004-10-20 | 2005-11-01 | Ind Tech Res Inst | Cut via structure for and manufacturing method of connecting separate conductors |
US20060213686A1 (en) * | 2004-12-28 | 2006-09-28 | Shin-Hsien Wu | Cut Via Structure For And Manufacturing Method Of Connecting Separate Conductors |
TWI248330B (en) * | 2005-01-14 | 2006-01-21 | Ind Tech Res Inst | High frequency and wide band impedance matching via |
US7411474B2 (en) * | 2005-10-11 | 2008-08-12 | Andrew Corporation | Printed wiring board assembly with self-compensating ground via and current diverting cutout |
CN101166401B (zh) * | 2006-10-16 | 2011-11-30 | 辉达公司 | 用于在高速系统中放置多个负载的方法和系统 |
JP2008166357A (ja) * | 2006-12-27 | 2008-07-17 | Toshiba Corp | プリント配線基板 |
US7911771B2 (en) * | 2007-05-23 | 2011-03-22 | Apple Inc. | Electronic device with a metal-ceramic composite component |
US20090049414A1 (en) * | 2007-08-16 | 2009-02-19 | International Business Machines Corporation | Method and system for reducing via stub resonance |
US8824140B2 (en) | 2010-09-17 | 2014-09-02 | Apple Inc. | Glass enclosure |
GB2529678B (en) | 2014-08-28 | 2017-01-25 | Cambium Networks Ltd | Radio frequency connection arrangement |
JP6213886B1 (ja) * | 2016-08-22 | 2017-10-18 | Zero Lab株式会社 | 磁気消去具 |
JP2018082110A (ja) | 2016-11-18 | 2018-05-24 | 東芝メモリ株式会社 | 回路基板および電子機器 |
KR102410197B1 (ko) * | 2017-06-13 | 2022-06-17 | 삼성전자주식회사 | 전송 손실을 줄이기 위한 회로 기판 및 이를 구비한 전자 장치 |
WO2019079123A1 (en) * | 2017-10-17 | 2019-04-25 | Commscope Technologies Llc | VERTICAL TRANSITIONS FOR MICROWAVE AND MILLIMETER WAVE COMMUNICATION SYSTEMS HAVING MULTILAYER SUBSTRATES |
US10374386B1 (en) * | 2018-06-07 | 2019-08-06 | Finisar Corporation | Chip on carrier |
US10993312B2 (en) * | 2019-04-16 | 2021-04-27 | Dell Products L.P. | System and method for ground via optimization for high speed serial interfaces |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4739448A (en) * | 1984-06-25 | 1988-04-19 | Magnavox Government And Industrial Electronics Company | Microwave multiport multilayered integrated circuit chip carrier |
US4845311A (en) * | 1988-07-21 | 1989-07-04 | Hughes Aircraft Company | Flexible coaxial cable apparatus and method |
JPH07235775A (ja) * | 1994-02-21 | 1995-09-05 | Mitsubishi Electric Corp | 多層プリント配線基板 |
US5691568A (en) * | 1996-05-31 | 1997-11-25 | Lsi Logic Corporation | Wire bondable package design with maxium electrical performance and minimum number of layers |
JP3732927B2 (ja) * | 1997-07-31 | 2006-01-11 | 京セラ株式会社 | 多層配線基板 |
JP3955138B2 (ja) | 1997-11-19 | 2007-08-08 | 松下電器産業株式会社 | 多層回路基板 |
JP4204150B2 (ja) | 1998-10-16 | 2009-01-07 | パナソニック株式会社 | 多層回路基板 |
US6208220B1 (en) * | 1999-06-11 | 2001-03-27 | Merrimac Industries, Inc. | Multilayer microwave couplers using vertically-connected transmission line structures |
SE518181C2 (sv) * | 1999-12-10 | 2002-09-03 | Ericsson Telefon Ab L M | Förfarande och anordning vid elektroniska kretsarrangemang |
JP2001203470A (ja) * | 2000-01-21 | 2001-07-27 | Toshiba Corp | 配線基板、半導体パッケージ、および半導体装置 |
JP3818864B2 (ja) * | 2001-03-30 | 2006-09-06 | ユーディナデバイス株式会社 | 高周波半導体装置 |
US6657130B2 (en) * | 2001-09-20 | 2003-12-02 | International Business Machines Corporation | Electrical and physical design integration method and apparatus for providing interconnections on first level ceramic chip carrier packages |
-
2002
- 2002-07-09 JP JP2002200347A patent/JP2004047574A/ja active Pending
-
2003
- 2003-07-09 US US10/615,378 patent/US6807065B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005244010A (ja) * | 2004-02-27 | 2005-09-08 | Toppan Printing Co Ltd | 回路基板の実装構造 |
JP4543699B2 (ja) * | 2004-02-27 | 2010-09-15 | 凸版印刷株式会社 | 回路基板の実装構造 |
JP2008501247A (ja) * | 2004-06-30 | 2008-01-17 | インテル・コーポレーション | 電気−光相互接続のための装置 |
JP4662986B2 (ja) * | 2004-06-30 | 2011-03-30 | インテル・コーポレーション | 光−電気インターフェース、フレキシブルオプトエレクトロニクス相互接続、光トランスポンダ |
JP2006024623A (ja) * | 2004-07-06 | 2006-01-26 | Hitachi Ltd | 光モジュール |
JP2008544557A (ja) * | 2005-06-27 | 2008-12-04 | インテル コーポレイション | 二重板可撓回路を備える光学トランスポンダモジュール |
JP4700731B2 (ja) * | 2005-06-27 | 2011-06-15 | インテル コーポレイション | 二重板可撓回路板を備える光学トランスポンダモジュールを含む装置、そのような光学トランスポンダモジュールを含むシステム、及び、そのような光学トランスポンダモジュールを動作する方法 |
JP2007250885A (ja) * | 2006-03-16 | 2007-09-27 | Aica Kogyo Co Ltd | 多層プリント配線板 |
WO2012073400A1 (ja) * | 2010-11-29 | 2012-06-07 | 株式会社村田製作所 | 抵抗内蔵基板およびこの基板を備える電流検出モジュール |
JP2015165646A (ja) * | 2014-02-28 | 2015-09-17 | 富士通株式会社 | ビアを有する回路及び関連方法 |
JP2017103714A (ja) * | 2015-12-04 | 2017-06-08 | 日本電信電話株式会社 | 多層配線基板 |
JP2019021793A (ja) * | 2017-07-19 | 2019-02-07 | 京セラ株式会社 | 配線基板、電子部品用パッケージおよび電子装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6807065B2 (en) | 2004-10-19 |
US20040053014A1 (en) | 2004-03-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2004047574A (ja) | 多層配線基板、光トランシーバ、およびトランスポンダ | |
CN107430293B (zh) | 光电路 | |
JP4586337B2 (ja) | 半導体レーザモジュールおよび半導体レーザ装置 | |
US7260285B2 (en) | Optical module with flexible substrate | |
US20180310397A1 (en) | Optical subassembly, optical module, and optical transmission equipment | |
JP4852442B2 (ja) | 光送信モジュール | |
KR101512816B1 (ko) | 플렉시블 인쇄회로기판 및 이를 포함하는 광통신 모듈 | |
US20070009213A1 (en) | Optoelectronic assembly with heat sink | |
JP2009130263A (ja) | 光モジュール | |
US11171727B2 (en) | Package for optical receiver module | |
JP7249745B2 (ja) | 光サブアッセンブリ及び光モジュール | |
US10852493B2 (en) | Optical subassembly and optical module | |
JP2004311923A (ja) | 光半導体素子用パッケージ | |
JP7245620B2 (ja) | 光サブアッセンブリ及び光モジュール | |
JP2009004460A (ja) | 光通信モジュールおよび配線パタンの形成方法 | |
JP2007207803A (ja) | 光送信モジュール | |
JP7153509B2 (ja) | 光モジュール、光伝送装置、及び配線基板 | |
US20190182949A1 (en) | Flexible printed circuit board and optical module | |
CN112490295B (zh) | 光模块 | |
KR20040089374A (ko) | 티오-캔 구조의 광 모듈 | |
JP2004093606A (ja) | 光モジュール及び光伝送装置 | |
US6492698B2 (en) | Flexible circuit with two stiffeners for optical module packaging | |
JP6228560B2 (ja) | 高周波伝送線路および光回路 | |
US20050018994A1 (en) | Active and passive to-can extension boards | |
JP6832091B2 (ja) | 光モジュール |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050324 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070228 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070313 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070717 |