JP2004004249A5

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Publication number: JP2004004249A5
Application number: JP2002159047A
Authority: JP
Filing date: 2002-05-31
Publication date: 2005-09-22
Anticipated expiration: 2022-05-31

Claims

（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、
（Ｂ）活性放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、
（Ｃ）酸触媒により炭素−炭素結合を生成する架橋剤を含有するネガ型レジスト組成物において、該アルカリ可溶性樹脂がデンドリマーであることを特徴とするネガ型レジスト組成物。
該アルカリ可溶性樹脂が、繰り返し単位が共有結合によってのみ結合しているデンドリマーであることを特徴とする請求項１に記載のネガ型レジスト組成物。
該アルカリ可溶性樹脂が、ジフェニルメタン骨格を有さないデンドリマーであることを特徴とする請求項１又は２に記載のネガ型レジスト組成物。
該アルカリ可溶性樹脂が、エチレンイミンよりも塩基性が低い構造のみからなるデンドリマーであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のネガ型レジスト組成物。
該アルカリ可溶性樹脂が、下記一般式（１）で表わされる構造単位を含み、重量平均分子量が３００，０００以下であるデンドリマーであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のネガ型レジスト組成物。

式中、Ｒ₁及びＲ₁'は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基又はハロアルキル基を表す。Ｒ₂は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基又はアシル基を表す。Ｒ₃及びＲ₄は、同じでも異なっていても良く、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、又はアリール基を表す。
Ａは、単結合、アルキレン基、アルケニレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、−Ｏ−、−ＳＯ₂−、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ₅−、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ₆−、又は−ＣＯ−Ｎ（Ｒ₇）−Ｒ₈−を表す。
Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₈は、同じでも異なっていても良く、単結合、アルキレン基、アルケニレン基、シクロアルキレン基、もしくはアリーレン基の単独又はこれらの基の少なくとも２つの組み合わせ、又はこれらの基とエーテル構造、エステル構造、アミド構造、ウレタン構造もしくはウレイド構造の群より選択される少なくとも１種が一緒になって形成した２価の基を表す。
Ｒ₇は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、又はアリール基を表す。
ｍは２又は３、ｎは０又は１、但しｍ＋ｎ≦３であり、Ｘは−ＣＨ₂−、−Ｏ−、又は−Ｓ−を示す。また複数のＲ₂、又はＲ₂とＲ₃もしくはＲ₄が結合して環を形成しても良い。
請求項１〜５のいずれに記載の組成物によりレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。