JP2000321771A5

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Publication number: JP2000321771A5
Application number: JP1999127296A
Authority: JP
Filing date: 1999-05-07
Publication date: 2005-07-07
Anticipated expiration: 2019-05-07

Claims

（Ａ）下記一般式（Ｉ）で示される繰り返し単位、下記一般式（II）で示される繰り返し単位、及び下記一般式（III-a）〜（III-ｄ）で示される繰り返し単位のうち少なくとも１種を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、
（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物
を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

上記式中、Ｒ₁は、水素原子又はメチル基を表す。Ｒ₂は炭素数１〜４個のアルキル基を表す。Ｒ₃、Ｒ₄は各々独立に水素原子又は炭素数１〜４個のアルキル基を表す。Ｒ₅〜Ｒ₁₂は各々独立に水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基を表す。
Ｒは、水素原子あるいは、置換基を有していてもよい、アルキル基、環状アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。ｍは、１〜１０の整数を表す。
Ｘは、単結合又は、置換基を有していてもよい、アルキレン基、環状アルキレン基、アリーレン基あるいは、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、エステル基、アミド基、スルフォンアミド基、ウレタン基、ウレア基からなる群から選択される単独、あるいはこれらの基の少なくとも２つ以上が組み合わされ、酸の作用により分解しない２価の基を表す。
Ｚは、単結合、エーテル基、エステル基、アミド基、アルキレン基、又はこれらを組み合わせた２価の基を表す。Ｒ₁₃は、単結合、アルキレン基、アリーレン基、又はこれらを組み合わせた２価の基を表す。Ｒ₁₅は、アルキレン基、アリーレン基、又はこれらを組み合わせた２価の基を表す。Ｒ₁₄は置換基を有していてもよい、アルキル基、環状アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。Ｒ₁₆は、水素原子あるいは、置換基を有していてもよい、アルキル基、環状アルキル基、アルケニル基、アリール基又はアラルキル基を表す。
Ａは、下記に示す官能基のいずれかを表す。
フッ素系及び／又はシリコン系界面活性剤を含有することを特徴とする請求項１に記載のポジ型レジスト組成物。
請求項１または２のいずれかに記載のポジ型レジスト組成物によりレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。