JP2004004226A5 - - Google Patents
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- (A)成分の樹脂が、更に下記一般式(II)〜(IV)で表される繰り返し単位の群から選ばれる繰り返し単位の少なくとも1種を含有することを特徴とする請求項1に記載のポジ型レジスト組成物。
R11〜R16は、各々独立に、水素原子、フッ素原子又はフルオロアルキル基を表す。但し、R11〜R16の少なくとも一つは水素原子ではない。
X1は、水素原子又は酸の作用により分解する基を表す。
mは、0又は1を表す。
R3aは、水素原子又は酸の作用により分解する基を表す。
mは、0又は1を表す。
R1は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、シアノ基又はトリフルオロメチル基を表す。
R41〜R46は、各々独立に、水素原子、フッ素原子又はフルオロアルキル基を表す。但し、R41〜R46はの少なくとも一つは水素原子ではない。
X2は、水素原子又は酸の作用により分解する基を表す。
nは、1〜5の整数を示す。nが2以上である場合に、2つ以上あるR41〜R46及びX2は、同じでも異なっていてもよい。 - 一般式(I)中のRcが、フッ素原子又はトリフルオロメチル基であることを特徴とする請求項1又は2に記載のポジ型レジスト組成物。
- 請求項1〜3のいずれかに記載のレジスト組成物によりレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。
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