JP2003533531A - 純正局方級非晶質形セフロキシムアキセチルの製造工程 - Google Patents
純正局方級非晶質形セフロキシムアキセチルの製造工程Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
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Abstract
(57)【要約】
純正局方級非晶質セフロキシムアキセチルの製造工程を述べる。その工程は、酢酸中に結晶セフロキシムアキセチルを溶解し、水の添加によってその溶液から非晶質形セフロキシムアキセチルを回収する。水は溶液に投入され、その水は結晶セフロキシムアキセチルの重量の少なくとも２５倍の量で存在する。
Description
【０００１】
本発明は、純正局方級非晶質セフロキシムアキセチルの製造工程に関する。
【０００２】
背景技術
セフロキシムアキセチルは、セフロキシムの1-アセトキシエチルエステルであ
って、第二世代のセファロスポリン系抗生物質であり、グラム陽性菌およびグラ
ム陰性菌に対して広汎な活性スペクトルを有している。この化合物は、他の多く
のセフロキシムエステルと共に米国特許4,267,320号に開示されている。この特
許には、従来の、ＲおよびＳ異性体の混合物を結晶形で製造する方法、及びＲお
よびＳの個々のジアステレオ異性体を分別する方法が開示されている。
って、第二世代のセファロスポリン系抗生物質であり、グラム陽性菌およびグラ
ム陰性菌に対して広汎な活性スペクトルを有している。この化合物は、他の多く
のセフロキシムエステルと共に米国特許4,267,320号に開示されている。この特
許には、従来の、ＲおよびＳ異性体の混合物を結晶形で製造する方法、及びＲお
よびＳの個々のジアステレオ異性体を分別する方法が開示されている。
【０００３】
米国特許4,562,181号および関連米国特許4,820,833号、4,994,567号、5,013,8
33号には全て、非晶質形セフロキシムアキセチルは結晶性物質を基本的に含まず
、純度は少なくとも９５％（残留溶媒を含まず）であり、生体利用効率は結晶形
よりも高く、しかも十分な化学的安定性があることが開示されている。これらの
特許には、高純度のセフロキシムアキセチルは、セフロキシムアキセチル含有溶
液からスプレー乾燥、ローラー乾燥または溶媒析出によりほぼ非晶質で回収する
ことが可能であると開示されている。好ましい方法はスプレー乾燥である。各場
合に、結晶形セフロキシムアキセチルを有機溶媒に溶解し、この溶液から前記の
方法の一つによりセフロキシムアキセチルを高純度のほぼ非晶質形で回収する。
従来の非晶質形セフロキシムアキセチル製造工程には欠点があり、また大規模作
業には不便である。その欠点として、従来技術で使用している溶媒にはセフロキ
シムアキセチルは溶解性が乏しいため、セフロキシムアキセチルを溶解するため
に大容量の溶媒が必要となることが挙げられる。これにはサイズの大きな反応槽
が必要になるので、商業規模には経済的でない。更に、セフロキシムアキセチル
は溶解度が乏しいので、高温度で溶解し、溶液を濃縮して容量を減少する必要が
ある。これらの欠点のために、従来の工程は作業的に冗漫で非効率なものである
。
33号には全て、非晶質形セフロキシムアキセチルは結晶性物質を基本的に含まず
、純度は少なくとも９５％（残留溶媒を含まず）であり、生体利用効率は結晶形
よりも高く、しかも十分な化学的安定性があることが開示されている。これらの
特許には、高純度のセフロキシムアキセチルは、セフロキシムアキセチル含有溶
液からスプレー乾燥、ローラー乾燥または溶媒析出によりほぼ非晶質で回収する
ことが可能であると開示されている。好ましい方法はスプレー乾燥である。各場
合に、結晶形セフロキシムアキセチルを有機溶媒に溶解し、この溶液から前記の
方法の一つによりセフロキシムアキセチルを高純度のほぼ非晶質形で回収する。
従来の非晶質形セフロキシムアキセチル製造工程には欠点があり、また大規模作
業には不便である。その欠点として、従来技術で使用している溶媒にはセフロキ
シムアキセチルは溶解性が乏しいため、セフロキシムアキセチルを溶解するため
に大容量の溶媒が必要となることが挙げられる。これにはサイズの大きな反応槽
が必要になるので、商業規模には経済的でない。更に、セフロキシムアキセチル
は溶解度が乏しいので、高温度で溶解し、溶液を濃縮して容量を減少する必要が
ある。これらの欠点のために、従来の工程は作業的に冗漫で非効率なものである
。
【０００４】
米国特許5,847,118号（118特許）には、結晶形セフロキシムアキセチルを、結
晶形セフロキシムアキセチルを溶解するのに正に十分な量で存在する蟻酸のよう
な溶媒に溶解し、得られたセフロキシムアキセチル溶液を水に加える、非晶質セ
フロキシムアキセチルの製造方法が開示されている。この特許の実施例では、全
てセフロキシムアキセチル溶液は水に滴状に加えられる。しかしセフロキシムア
キセチル溶液を水中に、118特許が開示している滴状に加えるのではなく、全部
を一時に加える（投入する）場合には、本発明が提示する利点が実現される。本
発明の投入法を使用する場合には、得られる生成物の結晶性は非常に低下し、す
なわち生成物は完璧に非晶質であることが観察される。更に、非晶質生成物を析
出させるに当たり結晶形物質の含量を可能な限り小さくするためには、結晶形セ
フロキシムアキセチル（出発物質）の重量に対してある特定量の水が必要である
ことが判明している。セフロキシムアキセチル溶液を一時に加えるための水は十
分量が必要であると見られている。結晶形セフロキシムアキセチルの重量に対し
少なくとも２５倍の水を使用するのが好ましい。
晶形セフロキシムアキセチルを溶解するのに正に十分な量で存在する蟻酸のよう
な溶媒に溶解し、得られたセフロキシムアキセチル溶液を水に加える、非晶質セ
フロキシムアキセチルの製造方法が開示されている。この特許の実施例では、全
てセフロキシムアキセチル溶液は水に滴状に加えられる。しかしセフロキシムア
キセチル溶液を水中に、118特許が開示している滴状に加えるのではなく、全部
を一時に加える（投入する）場合には、本発明が提示する利点が実現される。本
発明の投入法を使用する場合には、得られる生成物の結晶性は非常に低下し、す
なわち生成物は完璧に非晶質であることが観察される。更に、非晶質生成物を析
出させるに当たり結晶形物質の含量を可能な限り小さくするためには、結晶形セ
フロキシムアキセチル（出発物質）の重量に対してある特定量の水が必要である
ことが判明している。セフロキシムアキセチル溶液を一時に加えるための水は十
分量が必要であると見られている。結晶形セフロキシムアキセチルの重量に対し
少なくとも２５倍の水を使用するのが好ましい。
【０００５】
発明の概要
本発明は、純正局方級非晶質セフロキシムアキセチルを効率的かつ商業的に実
行可能な工程によって収得することを目的とする。本発明によるセフロキシムア
キセチルは、クロマトグラフィー分析による純度（化学純度）が少なくとも９５
％重量/重量、好ましくは含量が３％重量/重量未満であり、（米国薬局方２３版
の規格に適合する）局方級非晶質形である。
行可能な工程によって収得することを目的とする。本発明によるセフロキシムア
キセチルは、クロマトグラフィー分析による純度（化学純度）が少なくとも９５
％重量/重量、好ましくは含量が３％重量/重量未満であり、（米国薬局方２３版
の規格に適合する）局方級非晶質形である。
【０００６】
本発明は、少なくとも約５％容量/容量の水を含む酢酸中に結晶形セフロキシ
ムアキセチルを溶解し、水を添加して、その溶液から非晶質形セフロキシムアキ
セチルを回収する、純正局方級非晶質形セフロキシムアキセチルの製造工程を提
供するものであり、その溶液は水中に投入され、かつその水は非晶質セフロキシ
ムアキセチルを析出せしめるに十分な量である。その溶液を投入する水の量は、
その結晶セフロキシムアキセチルの重量の少なくとも２５倍であるのが好ましい
。
ムアキセチルを溶解し、水を添加して、その溶液から非晶質形セフロキシムアキ
セチルを回収する、純正局方級非晶質形セフロキシムアキセチルの製造工程を提
供するものであり、その溶液は水中に投入され、かつその水は非晶質セフロキシ
ムアキセチルを析出せしめるに十分な量である。その溶液を投入する水の量は、
その結晶セフロキシムアキセチルの重量の少なくとも２５倍であるのが好ましい
。
【０００７】
本発明によれば、結晶形セフロキシムアキセチル（出発物質）を、少なくとも
約５％容量/容量の水を含む酢酸中に、少なくとも約５０℃の温度で溶解する。
完全に溶解後、溶液を予め冷却した水（０−２０℃）に激しく攪拌しながら加え
るが、ここで水は結晶形セフロキシムアキセチル重量の、好ましくは少なくとも
２５倍の量で存在する。少なくとも３０倍量の水がより好ましく、更に好ましく
は少なくとも４０倍である。析出したセフロキシムアキセチルをろ過し、水洗し
、真空乾燥する。
約５％容量/容量の水を含む酢酸中に、少なくとも約５０℃の温度で溶解する。
完全に溶解後、溶液を予め冷却した水（０−２０℃）に激しく攪拌しながら加え
るが、ここで水は結晶形セフロキシムアキセチル重量の、好ましくは少なくとも
２５倍の量で存在する。少なくとも３０倍量の水がより好ましく、更に好ましく
は少なくとも４０倍である。析出したセフロキシムアキセチルをろ過し、水洗し
、真空乾燥する。
【０００８】
好ましくは、溶媒の量は、出発物質の単位部当たり少なくとも約1.6部である
。更に高い溶媒の量、通常は出発物質の単位部当たり10部までが使用可能である
。10部を越える高い量は、経済的観点から実益がない。出発物質の量に対する溶
媒の量は、温度に基づいて調節可能であり、当業者に既知である。
。更に高い溶媒の量、通常は出発物質の単位部当たり10部までが使用可能である
。10部を越える高い量は、経済的観点から実益がない。出発物質の量に対する溶
媒の量は、温度に基づいて調節可能であり、当業者に既知である。
【０００９】
一般に、生成物は当分野で既知の任意の標準的な方法、例えばろ過、真空ろ過
、又はデカンテーション及び乾燥によって収得する。
、又はデカンテーション及び乾燥によって収得する。
【００１０】
本発明を以下の実施例によって更に説明するが、いずれの実施例も本発明の技
術的範囲を限定するものと解釈されてはならない。
術的範囲を限定するものと解釈されてはならない。
【００１１】
比較例１
１１８特許の実施例５を追試した。セフロキシムアキセチル（１００ｇ）を８
８％の冷蟻酸１５２ｍｌに溶解した。得られた溶液を、氷冷した脱イオン水（２
０００ｍｌ）に機械的によく攪拌しながら滴状に加えた。濃密なスラリーが形成
され、これをろ過し、少量の氷冷脱イオン水で洗浄した。湿潤したケーキを氷冷
脱イオン水（４００ｍｌ）中で１０分間パルプ化し、ろ過し、洗浄した。パルプ
化を更に１回繰返した。ケーキを窒素気流中で７２時間乾燥し、次に真空下４０
〜４５℃で４８時間乾燥した。図１は、このバッチのＸ線粉末回折パターンであ
り、米国薬局方（ＵＳＰ）標準品との比較を示す。ＵＳＰの非晶質粉末が白色な
いしほぼ白色であるのに対し、本方法の粉末は灰色がかった白色であった。赤外
分光法では、ＵＳＰ標準品に及ばない。本方法による粉末には２０％の結晶化度
があり、ＵＳＰ標準品に及ばない。ＵＳＰでは抗異性体ＡおよびＢが１％を越え
てはならないが、本方法による粉末は抗異性体ＡおよびＢが１．２０％である。
８％の冷蟻酸１５２ｍｌに溶解した。得られた溶液を、氷冷した脱イオン水（２
０００ｍｌ）に機械的によく攪拌しながら滴状に加えた。濃密なスラリーが形成
され、これをろ過し、少量の氷冷脱イオン水で洗浄した。湿潤したケーキを氷冷
脱イオン水（４００ｍｌ）中で１０分間パルプ化し、ろ過し、洗浄した。パルプ
化を更に１回繰返した。ケーキを窒素気流中で７２時間乾燥し、次に真空下４０
〜４５℃で４８時間乾燥した。図１は、このバッチのＸ線粉末回折パターンであ
り、米国薬局方（ＵＳＰ）標準品との比較を示す。ＵＳＰの非晶質粉末が白色な
いしほぼ白色であるのに対し、本方法の粉末は灰色がかった白色であった。赤外
分光法では、ＵＳＰ標準品に及ばない。本方法による粉末には２０％の結晶化度
があり、ＵＳＰ標準品に及ばない。ＵＳＰでは抗異性体ＡおよびＢが１％を越え
てはならないが、本方法による粉末は抗異性体ＡおよびＢが１．２０％である。
【００１２】
比較例２
１１８特許の実施例６を追試した。セフロキシムアキセチル（１００ｇ）を９
６％の冷蟻酸１０５ｍｌに溶解した。得られた溶液を、氷冷した脱イオン水（２
０００ｍｌ）に機械的によく攪拌しながら滴状に加えた。濃密なスラリーが形成
され、これをろ過し、少量の氷冷脱イオン水で洗浄した。湿潤したケーキを氷冷
脱イオン水（４００ｍｌ）中で１０分間パルプ化し、ろ過し、洗浄した。パルプ
化を更に１回繰返した。ケーキを窒素気流中で７２時間乾燥し、次に真空下４０
〜４５℃で４８時間乾燥した。図２はこのバッチのＸ線粉末回折パターンであり
、米国薬局方（ＵＳＰ）標準品との比較を示す。ＵＳＰ（ＵＳＰ２３版）の非晶
質粉末が白色ないしほぼ白色であるのに対し、本方法の粉末は薄黄色であった。
赤外分光法では、本方法による粉末には２０％の結晶化度があり、ＵＳＰ標準品
に及ばない。ＵＳＰでは抗異性体ＡおよびＢが１％を越えてはならないが、本方
法による粉末は抗異性体ＡおよびＢが２．００％である。
６％の冷蟻酸１０５ｍｌに溶解した。得られた溶液を、氷冷した脱イオン水（２
０００ｍｌ）に機械的によく攪拌しながら滴状に加えた。濃密なスラリーが形成
され、これをろ過し、少量の氷冷脱イオン水で洗浄した。湿潤したケーキを氷冷
脱イオン水（４００ｍｌ）中で１０分間パルプ化し、ろ過し、洗浄した。パルプ
化を更に１回繰返した。ケーキを窒素気流中で７２時間乾燥し、次に真空下４０
〜４５℃で４８時間乾燥した。図２はこのバッチのＸ線粉末回折パターンであり
、米国薬局方（ＵＳＰ）標準品との比較を示す。ＵＳＰ（ＵＳＰ２３版）の非晶
質粉末が白色ないしほぼ白色であるのに対し、本方法の粉末は薄黄色であった。
赤外分光法では、本方法による粉末には２０％の結晶化度があり、ＵＳＰ標準品
に及ばない。ＵＳＰでは抗異性体ＡおよびＢが１％を越えてはならないが、本方
法による粉末は抗異性体ＡおよびＢが２．００％である。
【００１３】
比較例３
溶液を水中に（滴状に加えるのではなく）全部を一時に加えた点を除き、１１
８特許の実施例５（上記比較例１）を追試した。この結果、粉末には約１２％の
結晶化度があった。この粉末のＩＲおよびＸ線回折パターンを図３と４に示す。
８特許の実施例５（上記比較例１）を追試した。この結果、粉末には約１２％の
結晶化度があった。この粉末のＩＲおよびＸ線回折パターンを図３と４に示す。
【００１４】
比較例４
フロキシムアキセチルを酢酸（８８％、１５２ｍｌ）に８５℃で溶解した（冷
酢酸には溶解しなかったので）点を除き、１１８特許の実施例５（上記比較例１
）を追試した。この結果、粉末には１８％の結晶化度があった。この粉末のＩＲ
およびＸ線回折パターンを図５と６に示す。
酢酸には溶解しなかったので）点を除き、１１８特許の実施例５（上記比較例１
）を追試した。この結果、粉末には１８％の結晶化度があった。この粉末のＩＲ
およびＸ線回折パターンを図５と６に示す。
【００１５】
実施例１
結晶セフロキシムアキセチル（ＲおよびＳ異性体の約１：１混合物）（５０ｇ
）を酢酸（１００ｍｌ）と水（１２ｍｌ）に６５〜７０℃で溶解した。激しく攪
拌している冷水（３０００ｍｌ）中に、得られた透明な溶液を全部一時に加えた
（投入した）。析出した生成物をろ過し、冷水（１０００ｍｌ）で洗浄した。湿
潤ケーキを流動床乾燥機で４５〜６０℃にて３．０時間乾燥し、次に真空で４０
〜４５℃で乾燥し、４２．０ｇの非晶質形セフロキシムアキセチルを得た。ＩＲ
（ＫＢｒ）スペクトル（図７）およびＸ線粉末回折パターン（図８）より、生成
物は非晶質であることが確認された。生成物をＨＰＬＣで分析した結果、ジアス
テレオ異性体比０．５３で９９．１１％重量／重量、不純物レベル０．５３重量
／重量であることが判った。最終製品中の酢酸含量は、キャピラリー電気泳動法
で分析したところ０．１１％重量／重量であった。この驚くべき高純度が得られ
た原因は、蟻酸を併用せず酢酸単独の使用であったからと確信する。（蟻酸より
も）弱い酢酸の使用によってセフロキシムアキセチルの分解も減少したと確信す
る。更に酢酸は安価で、市場にて入手可能な溶媒であり、特別な労力なしに安全
に取り扱うことができる。酢酸に比べると、ジメチルフォルムアミド、ジメチル
アセタミド、ジメチルスルフォキサイド等の他の溶媒は、残留溶媒として、所定
の限界を超える高いレベルで非晶質セフロキシムアキセチルに残り、生成物の有
効性を低下させる。
）を酢酸（１００ｍｌ）と水（１２ｍｌ）に６５〜７０℃で溶解した。激しく攪
拌している冷水（３０００ｍｌ）中に、得られた透明な溶液を全部一時に加えた
（投入した）。析出した生成物をろ過し、冷水（１０００ｍｌ）で洗浄した。湿
潤ケーキを流動床乾燥機で４５〜６０℃にて３．０時間乾燥し、次に真空で４０
〜４５℃で乾燥し、４２．０ｇの非晶質形セフロキシムアキセチルを得た。ＩＲ
（ＫＢｒ）スペクトル（図７）およびＸ線粉末回折パターン（図８）より、生成
物は非晶質であることが確認された。生成物をＨＰＬＣで分析した結果、ジアス
テレオ異性体比０．５３で９９．１１％重量／重量、不純物レベル０．５３重量
／重量であることが判った。最終製品中の酢酸含量は、キャピラリー電気泳動法
で分析したところ０．１１％重量／重量であった。この驚くべき高純度が得られ
た原因は、蟻酸を併用せず酢酸単独の使用であったからと確信する。（蟻酸より
も）弱い酢酸の使用によってセフロキシムアキセチルの分解も減少したと確信す
る。更に酢酸は安価で、市場にて入手可能な溶媒であり、特別な労力なしに安全
に取り扱うことができる。酢酸に比べると、ジメチルフォルムアミド、ジメチル
アセタミド、ジメチルスルフォキサイド等の他の溶媒は、残留溶媒として、所定
の限界を超える高いレベルで非晶質セフロキシムアキセチルに残り、生成物の有
効性を低下させる。
【００１６】
実施例２
結晶セフロキシムアキセチル（ＲおよびＳ異性体の約１：１混合物）（２５ｇ
）を酢酸（５０ｍｌ）と水（６ｍｌ）に７０℃で溶解した。激しく攪拌している
冷水（６２５ｍｌ）中に、得られた透明な溶液を全部一時に加えた。析出してき
た生成物をろ過し、水（１５００ｍｌ）で洗浄し、上記のごとく乾燥した。ＩＲ
スペクトルおよびＸ線粉末回折パターンより、生成物は非晶質であることが確認
された。
）を酢酸（５０ｍｌ）と水（６ｍｌ）に７０℃で溶解した。激しく攪拌している
冷水（６２５ｍｌ）中に、得られた透明な溶液を全部一時に加えた。析出してき
た生成物をろ過し、水（１５００ｍｌ）で洗浄し、上記のごとく乾燥した。ＩＲ
スペクトルおよびＸ線粉末回折パターンより、生成物は非晶質であることが確認
された。
【００１７】
実施例３
結晶セフロキシムのＲおよびＳ異性体混合物（約１：１）（１０．０ｋｇ）を
予熱（５５〜６５℃）した氷酢酸（２０．０ ｌｔ）と脱イオン水（２．４ ｌ
ｔ）の混合物に加え、透明な溶液が得られるまで６５〜７０℃で攪拌した。得ら
れた透明な溶液を、予冷した脱イオン水（４００ ｌｔ、０〜１℃）に激しく攪
拌ながらワンロットで投入し、攪拌を更に２〜３分間続けた。析出した固体を速
やかに遠心分離し、そのケーキを冷脱イオン水（６００ ｌｔ、０〜３℃）で洗
浄し、６０分間回転を続けた。湿潤生成物を、流動床乾燥機（ＦＢＤ）にて水分
含量が２．５％重量／重量未満となるまで２０〜４５℃の空気で乾燥した。乾燥
にはおよそ６時間を要し、その間生成物を適当に粉砕し、篩過して塊の形成と表
面硬化を回避した。最後に、かくして得られた流動性の良い粉末を減圧で３５〜
４０℃にて水分含量が１．２％重量／重量以下となるまで（およそ４時間）乾燥
し、８．３ｋｇの純正な非晶質セフロキシムアキセチルを得た。ＩＲ（ＫＢｒ）
スペクトル（図９）およびＸ線粉末回折パターン（図１０）より、生成物は非晶
質であることが確認された。
予熱（５５〜６５℃）した氷酢酸（２０．０ ｌｔ）と脱イオン水（２．４ ｌ
ｔ）の混合物に加え、透明な溶液が得られるまで６５〜７０℃で攪拌した。得ら
れた透明な溶液を、予冷した脱イオン水（４００ ｌｔ、０〜１℃）に激しく攪
拌ながらワンロットで投入し、攪拌を更に２〜３分間続けた。析出した固体を速
やかに遠心分離し、そのケーキを冷脱イオン水（６００ ｌｔ、０〜３℃）で洗
浄し、６０分間回転を続けた。湿潤生成物を、流動床乾燥機（ＦＢＤ）にて水分
含量が２．５％重量／重量未満となるまで２０〜４５℃の空気で乾燥した。乾燥
にはおよそ６時間を要し、その間生成物を適当に粉砕し、篩過して塊の形成と表
面硬化を回避した。最後に、かくして得られた流動性の良い粉末を減圧で３５〜
４０℃にて水分含量が１．２％重量／重量以下となるまで（およそ４時間）乾燥
し、８．３ｋｇの純正な非晶質セフロキシムアキセチルを得た。ＩＲ（ＫＢｒ）
スペクトル（図９）およびＸ線粉末回折パターン（図１０）より、生成物は非晶
質であることが確認された。
【図１】比較例１により製造したバッチのＸ線粉末回折パターンであり、米国
薬局方（ＵＳＰ）標準品との比較を示す。
薬局方（ＵＳＰ）標準品との比較を示す。
【図２】比較例２により製造したバッチのＸ線粉末回折パターンであり、米国
薬局方（ＵＳＰ）標準品との比較を示す。
薬局方（ＵＳＰ）標準品との比較を示す。
【図３】比較例３により製造したセフロキシムアキセチルの赤外スペクトルで
ある。
ある。
【図４】比較例３により製造したセフロキシムアキセチルのＸ線粉末回折（Ｘ
ＲＤ）パターンである。
ＲＤ）パターンである。
【図５】比較例４により製造したセフロキシムアキセチルの赤外スペクトルで
ある。
ある。
【図６】比較例４により製造したセフロキシムアキセチルのＸ線粉末回折（Ｘ
ＲＤ）パターンである。
ＲＤ）パターンである。
【図７】実施例１により製造した非晶質セフロキシムアキセチルの赤外スペク
トルである。
トルである。
【図８】実施例１により製造した非晶質セフロキシムアキセチルのＸ線粉末回
折（ＸＲＤ）パターンである。
折（ＸＲＤ）パターンである。
【図９】実施例３により製造した非晶質セフロキシムアキセチルの赤外スペク
トルであり、米国薬局方（ＵＳＰ）標準品との比較を示す。
トルであり、米国薬局方（ＵＳＰ）標準品との比較を示す。
【図１０】実施例３により製造した非晶質セフロキシムアキセチルのＸ線粉末
回折（ＸＲＤ）パターンであり、米国薬局方（ＵＳＰ）標準品との比較を示す。
回折（ＸＲＤ）パターンであり、米国薬局方（ＵＳＰ）標準品との比較を示す。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ，
ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ
Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ，ＴＲ)，ＯＡ(ＢＦ
，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，
ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，Ｇ
Ｍ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＭＺ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ
，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，
ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＧ，ＡＬ，ＡＭ，
ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，Ｂ
Ｚ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＯ，ＣＲ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ
，ＤＫ，ＤＭ，ＤＺ，ＥＣ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，
ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，Ｉ
Ｎ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ
，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ，ＭＤ，
ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＭＺ，ＮＯ，ＮＺ，Ｐ
Ｌ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ
，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ，
ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ
(72)発明者 タイギ，オム，ダット
インド国 ニュー デリー，ニュー デリ
ー 110 070，バサント クンジ，ポケッ
ト シー，セクター エー，857
(72)発明者 レイ，ウタム，クマール
インド国 ニュー デリー，ニュー デリ
ー 110 044，サリタ ビハール ジェイ
−264
Ｆターム(参考） 4C075 AA01 BB02 CC02 CC40 CC42
CD04 DD02 DD13 EE02 EE12
FF01 GG01 HH01 KK06 LL02
MM82
4C086 AA02 AA04 CC11 CC14 GA15
MA01 MA04 NA03 NA11 ZB35
Claims (5)
- 【請求項１】 少なくとも５％容量/容量の水を含む酢酸中に結晶セフロキシ
ムアキセチルを溶解し、前記溶液を、非晶質セフロキシムアキセチルを析出せし
めるに十分な量の水中に投入することにより、前記溶液から前記非晶質形セフロ
キシムアキセチルを回収することを含む、純正局方級非晶質形セフロキシムアキ
セチルの製造工程。 - 【請求項２】 前記溶液を投入する前記水の量が、前記結晶セフロキシムアキ
セチルの重量の少なくとも２５倍である請求項１記載の工程。 - 【請求項３】 前記結晶セフロキシムアキセチルは、セフロキシムアキセチル
の重量部当たり少なくとも１．６容量部の酢酸中に溶解されることを特徴とする
請求項２記載の工程。 - 【請求項４】 前記結晶セフロキシムアキセチルは、少なくとも約５０℃の温
度で酢酸中に溶解される請求項１記載の工程。 - 【請求項５】 前記結晶セフロキシムアキセチルは、少なくとも約６０℃の温
度で酢酸中に溶解される請求項４記載の工程。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US09/574,311 | 2000-05-19 | ||
| US09/574,311 US6384213B1 (en) | 1998-10-23 | 2000-05-19 | Process for preparing a pure, pharmacopoeial grade amorphous form of cefuroxime axetil |
| PCT/IB2001/000855 WO2001087893A1 (en) | 2000-05-19 | 2001-05-16 | Process for preparing a pure, pharmacopoeial grade amorphous form of cefuroxime axetil |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003533531A true JP2003533531A (ja) | 2003-11-11 |
Family
ID=24295570
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001584287A Pending JP2003533531A (ja) | 2000-05-19 | 2001-05-16 | 純正局方級非晶質形セフロキシムアキセチルの製造工程 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6384213B1 (ja) |
| EP (1) | EP1287003B1 (ja) |
| JP (1) | JP2003533531A (ja) |
| CN (1) | CN1182139C (ja) |
| AT (1) | ATE272643T1 (ja) |
| AU (1) | AU5867301A (ja) |
| BR (1) | BR0110970A (ja) |
| DE (1) | DE60104685T2 (ja) |
| ES (1) | ES2223843T3 (ja) |
| MY (1) | MY117560A (ja) |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8716516B2 (en) | 2008-07-07 | 2014-05-06 | Evonik Röhm Gmbh | Method for producing polyalkylene glycoldi(meth)acrylates |
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|---|---|---|---|---|
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| US20030135041A1 (en) * | 2002-01-04 | 2003-07-17 | Orchid Chemicals & Pharmaceuticals Limited, India | Synthesis of ceftiofur intermediate |
| WO2004046154A1 (en) * | 2002-11-15 | 2004-06-03 | Orchid Chemicals & Pharmaceuticals Ltd | Novel amorphous hydrate of a cephalosporin antibiotic |
| CN100448879C (zh) * | 2004-07-22 | 2009-01-07 | 北京化工大学 | 一种无定型头孢呋辛酯的制备方法 |
| CA2578245C (en) | 2004-08-27 | 2013-10-29 | Cordis Corporation | Solvent free amorphous rapamycin |
| CN116284050B (zh) * | 2022-12-19 | 2024-04-12 | 华北制药河北华民药业有限责任公司 | 一种高效率结晶型头孢呋辛酯转无定型粉体的方法及产品 |
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|---|---|---|---|---|
| CA1094545A (en) | 1976-02-16 | 1981-01-27 | Michael Gregson | Cephalosporin antibiotics |
| YU44680B (en) | 1982-07-30 | 1990-12-31 | Glaxo Lab Ltd | Process for obtaining very pure amorphous form of cephuroxim axetile |
| GB8320520D0 (en) | 1983-07-29 | 1983-09-01 | Glaxo Group Ltd | Chemical process |
| IT1277426B1 (it) | 1995-08-03 | 1997-11-10 | Acs Dobfar Spa | Forma cristallina biodisponibile del cefuroxima axetil |
| NZ299077A (en) | 1996-07-26 | 1998-06-26 | Apotex Inc | Preparation of amorphous cefuroxime axetil (a cephalosporin derivative) by dissolving crystalline cefuroxim axetil in a highly polar solvent, typically dmso and/or dmf |
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-
2000
- 2000-05-19 US US09/574,311 patent/US6384213B1/en not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-05-16 ES ES01931992T patent/ES2223843T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2001-05-16 DE DE60104685T patent/DE60104685T2/de not_active Expired - Fee Related
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- 2001-05-16 CN CNB018116590A patent/CN1182139C/zh not_active Expired - Fee Related
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- 2001-05-16 BR BR0110970-7A patent/BR0110970A/pt not_active IP Right Cessation
- 2001-05-16 WO PCT/IB2001/000855 patent/WO2001087893A1/en active IP Right Grant
- 2001-05-18 MY MYPI20012371A patent/MY117560A/en unknown
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8716516B2 (en) | 2008-07-07 | 2014-05-06 | Evonik Röhm Gmbh | Method for producing polyalkylene glycoldi(meth)acrylates |
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