JP2003519267A - 粘着性ミクロ構造物及びその形成方法 - Google Patents
粘着性ミクロ構造物及びその形成方法Info
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Abstract
Description
31号「非咬合の乾式粘着性ミクロ構造物とその形成方法(Non-interlocking D
ry Adhesive Microstructure and Method of Forming Same)」という名称の仮
特許出願について優先権を主張する。
た奨学金(契約)第N00014−98−C0183号の下、政府支援によりな
された。本発明に関しては政府が特定の権利を有する。
的には、本発明は、非咬合の粘着性ミクロ構造物に関する。
は、日常生活の一般面(例えば、テープ、ファスナー、及び玩具)からハイテク
ノロジー(例えば、半導体ウエハからの顕微粒子の除去、光ファイバーデバイス
のトランスポート、及びサブミリメカニズムのアセンブリー(特に、ミクロ作製
された部品、又は、グリッパー、粘着材又は真空マニピュレータに耐性でない部
品を含むもの))に至って存在する。
されていない。例えば、ゲッコー(Geckos)はスムーズな垂直表面を素早く登る
能力において例外的である。ゲッコー、アノリストカゲ(Anolis Lizards)、幾
つかのスキンク(Skinks)、及び幾つかの昆虫において使われる粘着メカニズム
については、一世紀近くにもわたって議論されてきた。
従来からの研究によって同定されているが、この従来からの研究においては、剛
毛がどのように機能するかは同定されていない。さらに、従来からの研究では、
有効な作業を実行するためにどのように剛毛を使ったらよいかについては同定で
きていない。
拓することが高く望まれる。このような情報により、新規なミクロ構造物の利用
及びこのような構造物の作製がされ得る。
)を含む。この方法には、生存試料から剛毛を除去するステップ、この剛毛を基
板に付けるステップ、この剛毛を表面に適用させて基板と表面の間で粘着力を確
立するステップ、が含まれる。
ある表面にそれと垂直な力で剛毛を適用させるステップが含まれる。その後、剛
毛の粘着力をプレロード(preload)するために、表面と水平な力で剛毛は引張
られる。
シャフトアレー(array of shafts)を作製すること、その後にシャフトアレー
上にスパチュラ(spatulae)を作ることが含まれる。
たミクロ構造物を含む。このシャフトは、その長さの0.01−0.1倍の直径
を有している。このシャフトの端には、スパチュラアレー(array of spatulae
)が作られている。このスパチュラアレーは、10ミクロン未満の幅を有してい
る。これらのスパチュラ(spatulae)中、個々のスパチュラ(individual spatu
la)は、パドル、球の曲がったセグメント、又は球の平らなセグメント等の拡張
した表面を備えた末端を含んでいる。
れている。特に、本発明は、剛毛構造を使用する。この剛毛構造は、シャフトを
有している。シャフト端に位置しているのは、スパチュラ又はスパチュラアレー
である。スパチュラ又はスパチュラアレーが表面と密接な接触を起こすと、粘着
が引き起こされる。
くは約10−100ミクロンである。このシャフトの直径は、好ましくは、シャ
フトの長さの0.01倍と0.1倍の間であり、シャフトの長さの約0.05倍
であることが好ましい。
フトの末端には、1個と1000個の間の数のスパチュラがある。スパチュラの
アレーは、好ましくは、10ミクロン幅未満であり、好ましくは約1ミクロン幅
である。好ましくは、スパチュラアレー中の個々のスパチュラは、その末端に拡
張した表面を有している。この拡張した表面は、以下に示すように、パドル又は
球の曲がったセグメントの形であってよい。
れる剛毛等の自然界に見られる構造をモデルとしている。多種類のゲッコー(例
えば、クレード・ゲッコノイデア(clade Gekkonoidea))、アノリス種(speci
es of Anolis)、及び幾つかのスキンク種(skink species)が、粘着性の剛毛
を有しており、また、本発明に従って使うことのできるものである。さらに、ビ
ートル(beetles)及びサシガメ類(kissing-bugs)も、本発明に従って使うこ
とのできる剛毛を有している。本発明は、以下に議論されるように、自然の又は
作製された剛毛を用いて実施される。
は、ストーク(シャフト)直径5μ、ストーク高さ110μ、チップ(スパチュ
ラ)長さ0.2μ、チップ幅0.2μ、及び100個〜1000個の間のチップ
数を有する。ここで、ストーク当たりのチップ全体面積は、2〜20μ2である
。アノリス・キュビエリ(Anolis cuvieri)は、ストーク直径0.5μ、ストー
ク高さ22μ、チップ長さ0.6μ、チップ幅0.7μ、及び100個〜100
0個の間のチップ数を有する。ここで、ストーク当たりのチップ全体面積は、2
〜20μ2である。プラジノハエマ・ビレンス(Prasinohaema virens)(スキン
ク)は、ストーク直径2μ、ストーク高さ26μ、チップ長さ6μ、チップ幅7
μ、及び100個〜1000個の間のチップ数を有する。ここで、ストーク当た
りのチップ全体面積は、約20μ2である。
末端の肢21と共に例示されている。生きたゲッコー20は拘束されている。末
端の肢(例えば、指)21の一部分の小皮層(cuticular layer)を除去する。
この施術は、髪の毛のカットに類似し、ゲッコーに害を与えずにその剛毛を再生
させることができる。剛毛の除去源となる生き物を犠牲にすることなく、何百何
千もの剛毛が簡単に得られることが実証されている。
することが好ましい。図1Bに、ゲッコー20と関連している剛毛の列(22)
を例示する。図1Cに、単一の剛毛26のシャフト24を例示する。この図は、
また、シャフト24の端に位置するスパチュラ28も例示している。
がスパチュラ28と略垂直であることを示している。
である。スパチュラストーク30は、シャフト24又はシャフト24から伸張す
る別個のつる(tendril)であってもよい。好ましくは、各スパチュラ29には
拡張した表面がある。図1Eでは、拡張した表面が、パドル構造の形をしている
。図1Fでは、拡張した表面が球の形をしている。図1Gは、スパチュラ28の
アレーについての拡大図である。
よって左右される。本発明に従って明記されるように、剛毛の剥離は特有の角度
で起こる。図1Hは、こうした粘着力を特徴付けるために使われた基板(つまり
、センサ32)を例示する。図1Iは、本発明の剛毛を剥離する特有の角度(α
)を例示する。特有の角度(α)は、剛毛26と、剛毛が付着する表面40との
間に形成される。
面から離れて向いているか)と、初期接触中に剛毛がプレロードされる(表面内
に押され、且つ、表面に沿って引張られる)程度とに依存することを同定した。
表面に向かって突出しているのではなく他の方向を向いたスパチュラを備えた剛
毛を表面に接触させると、剛毛が表面と垂直に表面から引張られるときの力は、
0.3μN未満であった。表面と平行な引張りでは、不活性の非スパチュラ領域
によって起こされる力は、ノーマル(normal)又は垂直(perpendicular)の力
と共に増大し、摩擦係数が0.2に等しい材料の典型である。これに対して、活
性なスパチュラ領域が表面に向かって突出している場合には、力は20−60倍
に増大した。付着中、表面と平行に剛毛を引張ることによって起こる力は、最初
に剛毛が表面に向かって押される場合に増大した。これにより、垂直のプレロー
ディング力(perpendicular preloading force)が提供された。この初期の垂直
力は、その後の引張り中に維持される必要はない。表面と平行の剛毛力は、垂直
のプレローディング力と共に線形に増大した。
みでは、剛毛が簡単に外されないよう防止するには十分ではないことが実証され
た。表面内にまず押し付けられ、その後に表面と平行に引張られた剛毛は、表面
から引張り離されるときに、垂直ローディングのみを持つ剛毛(0.6μN±0
.7SD;N=17)に比べて10倍を超える力(13.6μN±2.6SD;
N=17)を呈した。数ミクロン滑動した後のみに、最大水平力が観察された。
剛毛力の産出にプレローディングをすることの結果により、粘着に「かみ合う」
("engage" )ためには、後方移動又は水平プレロードと協力する小さな垂直プ
レローディング力が必要であろうことが示唆される。プレローディングにより、
表面と接触しているスパチュラ数が増加すると考えられている。
れた場合には、剛毛が表面から引張り離されるときに産出された力は、表面と平
行の引張り中に測定された力とわずかに異なっただけであった。しかし、センサ
の表面から引張り離されたとき、類似の角度(30.6°±1.8SD;N=1
7)及び力で剛毛が剥離したことが同定されている。剥離の臨界角の存在を調べ
るために、垂直力を一定に保ち、剥離が起こるまで剛毛の角度を徐々に増大させ
た。剥離時の剛毛角度は、垂直力の範囲にわたって、ほんの15%だけ変化した
。したがって、本発明は、35°と25°の間の剥離角度、好ましくは約30°
の剥離角度を利用するものである。剥離角度値は、開示された剛毛構造に基いて
おり、この構造においては、図1Dに示されるように、剛毛のシャフトはスパチ
ュラ表面に対して略垂直である。剛毛の方向性、及びおそらくはスパチュラの幾
何学的形状の変化によっても、剥離は容易にされ得る。
約100mm2のパッド面積で10Nの粘着力を産出することができる。従って
、各剛毛は、20μNの平均力と0.1Nmm-2(〜1atm)の平均圧力を産出
することになる。実際の大きさは、全剛毛が同時に粘着するとは思えないので、
たぶんもっと大きい。
解されよう。先に議論された技術によって得られた、単離された剛毛を、エポキ
シ(例えば、TTWDevcom(マサチューセッツ州、Danvers)によって販売されてい
る5-MINUTE EPOXY)を用いて基板(例えば、#2昆虫ピンの端)に接着した。
ピンの直径は約15μmであった。剛毛のストークにエポキシが入るのを防ぐた
め(それにより試料の機械的特性が変わってしまうこともあり得るので)、エポ
キシは、試料に適用する前に約1分間予め硬化されていることが好ましい。活性
のある表面がピンの軸に対しておおよそ垂直になるよう、全ての剛毛について方
向付けした。全ての調製は複式顕微鏡下で行った。
2を使って、単離された単一の剛毛によって付着中に産出される力を測定した。
以下の議論は、センサ32に関する情報を提供する。米国特許第5959200
号には、本明細書で述べるタイプのセンサについて記載されている。センサ32
は、本発明の一部をなすわけではなく、むしろ、以下に記載する実施結果を得る
ために使われたに過ぎない。
ウエハ上に作製されたものである。カンチレバー32には、2つの独立した力セ
ンサが備わっており、コンプライアンスの方向性がそれぞれ支配されている。垂
直力センサは、薄い三角形のプローブ50からなる。水平力センサは、長くて細
い4つのリブ52から構成されている。特有45°斜角イオン注入法により、水
平及び垂直表面の両表面上にピエゾ感応性及び導電性の領域を同時に着床させる
ことが許容された。センサのチップにかけられる力は、2つの直角方向(水平及
び垂直)に分割され、ピエゾレジスターの抵抗変化によって測定された。このデ
バイスは、原子間力顕微鏡のためにもともと考案されたものであるので、これら
のカンチレバーデバイスの各々は、三角形プローブの頂点付近に鋭いチップを有
しているものであった。ゲッコー剛毛の粘着測定には、剛毛粘着用のスムーズな
面を提供するために、このデバイスの背面が使われた。
かけることによって、センサ32に各剛毛26を接触させた。亜最大(submaxim
al)水平力に対するプレロード力の効果を決定するために、図3に示されるよう
に、センサのチップに剛毛が付くと、プレロード力を変化させた。この点につい
ては、以下で議論する。最大水平力を測定するために、三角形プローブのベース
を使った。ベースの使用により、接触面積は増大したが、プレロード力を同時に
測定することは許容されなかった。ピエゾエレクトリックマニピュレータによっ
て〜5μm/秒の速度で剛毛が表面と平行に引張られる間、センサ信号をとった
。センサ信号を増幅し、300Hzローパスフィルターでフィルターをかけ、そ
の後、16ビットデータ収集カード(PC上のLab ViewTM)を使って100Hz
でデジタル化した。集めたデータを、キャリブレーション定数を介してセンサの
偏差に変換し、カンチレバーの剛性を乗じで力値を得た。
ることができる最大力として、破壊又は剥離力を定義した。その値は、剛毛が、
25μmの呼び径を備えた4.7mmのアルミニウムボンディングワイヤででき
た力ゲージ(American Fine Wire 社、Selma、アラバマ州;図1Iにワイヤ40
が示されている)を変位させる値を測定することにより、個々の剛毛について決
定した。剛毛の活性表面のワイヤへの接触面積を最大にするために、ワイヤチッ
プの50μmx100μm断片を平らにした。ブラス突出部上にワイヤの基端を
エポキシで固定させた。剛毛の活性表面を平らにされたワイヤで押圧し、既知の
垂直プレロード(1.6±0.25μN;平均±SD)を産出した。2つの異な
る剥離方法を使って力測定をした:(1)ワイヤと垂直に剛毛を引張った;及び
(2)ワイヤに対して垂直又はノーマルに引張る前に、剛毛上に追加の水平プレ
ロードを産出するように、ワイヤに沿って昆虫ピンを19.7±3.45μm移
動させた。
を計算した。全てのシーケンスをビデオカメラ(例えば、SONYによって販売
されているCCDカメラ)で記録し、ビデオ編集システム(例えば、MEDIA
100社、Marlboro、マサチューセッツ州)を使ってコンピュータ(例えば、ア
ップルマッキントッシュ)へデジタル化した。ワイヤの初期値、ワイヤに対する
剛毛の角度、分離点でのワイヤの位置を記録し、イメージ分析ソフトウェア(例
えば、NIHイメージソフトウェア)を使って分析した。力ゲージを標準的重さ
に対してキャリブレーションした後、力ゲージの偏差を粘着力に変換した。
及びそれに続く水平の引張りに関連した力の例示である。図2Aに示されるよう
に、表面と平行の剛毛粘着力は、時間Tsでセンサの端から剛毛が滑り落ち始め
るまで線形に増大した。センサの表面に沿って剛毛が約5μm(足のレベルでは
微細な距離)滑動することが許容された場合には、図2Bに示されるように、粘
着力は増大し続けた。単一剛毛の最大粘着力は、平均で194μN±25SD(
N=28)であり、動物全体の推定値から予想された値より10倍近く大きかっ
た。
と、ゲッコーの単一足から100N(‐10arm)の粘着力が産出されることが
示唆された。他の方式で述べれば、ゲッコーの足は、その剛毛のほんの10%が
最も効果的に付けば、観察された最大力(10N)を発生させることができる。
から予測することはできない。剛毛力は、その3次元配向性(表面の方を向いて
いるか、表面から離れて向いているか)と、初期接触中にヘアー(hair)がプレ
ロードされる(例えば、表面内に押され、且つ、表面に沿って引張られる)程度
とに依存した。表面に向かって突出しているのではなく他の方向を向いたスパチ
ュラを備えた剛毛を表面に接触させると、剛毛が表面と垂直に表面から引張られ
るときの力は、0.3μN未満であった。表面と平行な引張りでは、不活性の非
スパチュラ領域によって起こされる力は、ノーマル又は垂直の力と共に増大し、
摩擦係数が0.25に等しい材料の典型である(図3参照)。これに対して、活
性なスパチュラ領域が表面に向かって突出している場合には、力は20−60倍
に増大した。付着中、表面と平行に剛毛を引張ることによって起こる力は、最初
に剛毛が表面に向かって押されると増大し、これにより、図2Aに示されるよう
に垂直プレローディング力が提供された。この初期の垂直力は、その後の引張り
中に維持される必要はない。図3に示されるように、表面と平行の剛毛力は、垂
直のプレローディング力と共に線形に増大した。剛毛が表面(例えば、図1Fの
ワイヤ、表面40)から引張り離される実験により、垂直のプレローディングの
みでは、剛毛が簡単に外されないよう防止するには十分ではないことが実証され
た。表面内にまず押し付けられ、その後に表面と平行に引張られた剛毛は、表面
から引張り離されるときに、垂直ローディングのみを持つ剛毛(0.6μN±0
.7SD;N=17)に比べて10倍を超える力(13.6μN±2.6SD;
N=17)を呈した。図2Bに示されるように、数ミクロン滑動した後のみに、
最大水平力が観察された。
」ためには、後方移動又は水平プレロードと協力する小さな垂直プレローディン
グ力が必要であろうことが示唆される。剛毛のチップは足指の爪(toenail)か
ら後方へ向いているので、プレローディングにより、表面と接触するスパチュラ
数が増加すると考えられている。
が与えられた場合には、剛毛が表面から引張り離されるときに産出された力は、
表面と平行の引張り中に測定された力とわずかに異なっただけであった。しかし
、ワイヤのセンサ表面から引張り離されたとき、類似の角度(30.6°±1.
8SD;N=17)で剛毛が剥離したことが同定された。剥離の臨界角の存在を
調べるために、垂直力を一定に保ち、剥離が起こるまで剛毛の角度(α;図1)
を徐々に増大させた。図4に示されるように、剥離時の剛毛角度は、垂直力の範
囲にわたってほんの15%だけ変化した。この観察は、剛毛の臨界角度よりも大
きい角度で引張られると滑動が止まり、ゆえに境界で圧力が増大し、接触が破壊
されるという粘着モデルと一貫している。剛毛の方向性、及びおそらくはスパチ
ュラの幾何学的形状の変化によっても、剥離は容易にされ得る。
長い間知られている。足指の剥がしは2つの効果を持つことができる。第一には
、足指を剥がすことで、個々の剛毛が一方向に置かれるか、又は解放が助けられ
る臨界角に置かれる。第二に、足指剥がしにより、付いた全剛毛のうちのわずか
な集団に瞬間的な剥離力が集中する。足指を剥がす行動は、表面から一片のテー
プを除去するというヒトによって使われるテクニックに類似する。
貫している。利用可能な簡単なモデルは、剛毛力産出の最も概算的な推定値を提
供できるのみである。スパチュラのチップが球の曲がったセグメントであって、
且つ、大きく平らな表面から少し離れている(ヴァンデルワールス力が有意にな
る辺り(原子ギャップ距離、D?0.3nm))と仮定すると、剛毛力は、AR
/6D2である。ここで、Aは、物質に依存するハマカー定数(Hamaker constan
t)であり10-19J10としてある。この推定値によれば、1つのスパチュラに対
するヴァンデルワールス力は約0.4μNになる。剛毛当たりのスパチュラ数は
、100〜1000個の間で変わるので、剛毛力は40−400μNの範囲と推
定される。
が増大するという観察から来るヴァンデルワールス仮説を指示する。さらに、吸
引、静電、摩擦、ミクロ咬合、及び湿式粘着等の代替メカニズムの排除について
も企てられた。真空で行われた粘着実験及び1気圧の粘着圧力よりも大きい露出
実験から、吸引が関与していないことが強く示唆される。X線照射実験により、
イオン化された空気中においても剛毛がなお粘着することができることから、剛
毛粘着に必要なメカニズムとしての静電引力が除かれる。ミクロ咬合は、第二の
メカニズムとして機能し得るが、磨かれたガラスに粘着するゲッコーの能力によ
り、スパチュラレベルの不規則さが粘着のためは必要でないことが示される。本
明細書に記載するこれらの発見は、摩擦メカニズムを支持するものではない。カ
ンチレバーの表面はスムーズであり(表面粗さは、2.5nm以下)、シリコン
への剛毛ケラチンの摩擦係数は低い(μ=0.25;図3;点線)からである。
キャピラリー粘着又は粘着は、ありそうにないメカニズムである。トカゲの足に
は表皮腺が存在しないからである。粘着のメカニズムには、剛毛及び/又は基板
の上に吸着した水分子、又は水の薄い層が含まれ得る。
さく、粘着物と表面との間には密接な接触が必要とされる。テープ等の高分子粘
着物はや柔らかく、比較的大きな表面積にわたって、密接な接触を得るために十
分に変形することができる。トカイ・ゲッコー(Gekko gecko)の足には、約1
0億個のスパチュラが含まれており、それらは、ヴァンデルワールス力の結果で
あろう粘着のために、基板と密に接する十分に大きな表面積を提供しているよう
に見える。
できる。代わりとして、作製された剛毛との関連で本発明の技術を使うことがで
きる。当業者であれば、本発明に従い剛毛を作製するために使うことのできる数
々の技術を認識することができよう。例えば、図5A−5Cに示されるように、
酸化物/窒化物プロセスを介して、デバイスを作製することができる。
された溝101を例示する。その後、基板100上に、窒化物層と酸化物層を堆
積する。図5Aは、窒化物層102と酸化物層104を例示する。その後、表面
をパターン化してエッチングすると、図5Bの構造が得られる。
に、ウェル106が得られる。この時点で、窒化物層と酸化物層の間での圧力差
のため、基板100によって画定される平面からカールした構造になり、シャフ
ト構造が形成される。その後、スパチュラを形成するために、シャフトの端を粗
くすることができる。例えば、湿式エッチング、照射、プラズマ粗仕上げ(plas
ma roughening)、電気化学エッチング等によってスパチュラを作ることができ
る。代わりとして、シャフトに別のスパチュラを固定することができる。スパチ
ュラを作製するための技術については下記で論じる。
である。図6Aに示されるように、基板120上に感光材料122を形成する。
感光材料122に励起エネルギーを印加するためには励起源124を使う。深く
透過する励起により、励起軌道に沿って体積が変えられる。変えられた体積は、
その後、選択的にエッチングされる。これにより、図6Bに示されるよう、チュ
ーブ126が得られる。高い露光密度においては、残りの材料は分離された指の
ランダムアレーになる。各チューブ126の端は、その後、スパチュラを形成す
るか、又はチューブにスパチュラを付けるためにプロセスされる。
実施形態は、基板130上にエッチングできる材料を堆積することによる。その
後、エッチングできる材料から、ストーク132がパターン化及びエッチングさ
れる。エッチングされた基板を、酸化物層及び/又は窒化物層で被覆してもよい
。代わりとして、ポリマー層を被覆として使ってもよい。ポリマー層は、フォト
レジスト、ガラス、又はエポキシをベースにした化合物等の材料を使って、スピ
ンキャストすることができる。その後、得られたストーク132には、接種によ
りナノチューブ136が作られ、スパチュラとして働く。
を使って人工スパチュラをつくることができる。中空ピペットを通して液体ポリ
マーを押し出した後、硬化させる。ピペットの端部では、表面張力により半球ド
ロップが生じる。図8は、この技術についての例示である。特に、この図は、マ
イクロピペット150の中に液体ポリマー152が入って半球のドロップを生じ
させたものの例示である。
硬化のシリコンゴム、又はポリウレタン樹脂が含まれる。マイクロピペット端の
半球は、磨かれた表面に対して押圧することにより、平らになっているか又はエ
ンボス加工されてもよい。図1Eのパドル構造を持つ平らにされた表面は、大き
な接触面積を備えており、球に比べてより良い粘着特性を有する。
ン等の材料を成形的に変形させることによってナノ型を作ることもできる。ステ
ップ・リピート(step and repeat)エンボス加工により、又はピペットアレー
を作り且つ大きなパターンをエンボス加工することにより、大きな面積の型(例
えば、20ミクロンx20ミクロン)を作ることができる。
示する。基板164上に位置するポリスチレン材料162にエンボス加工ツール
160を適用させる。これにより、パターン化されたポリスチレン表面166が
できる。
を使うこともできる。ナノチャネルガラスをポリマーで充填した後、酸でガラス
を溶かすことができる。
パチュラを作ることもできる。この技術によると、マスクを介して液体を引張り
、これによってスパチュラを「成長させる(sprout)」ために、静電引力が使わ
れる。このプロセスは、図10A−10Dと関連して示されている。
層は、溶解ポリマー又は熱可塑性材料であってよい。基板172上にスペーサを
位置させて、スペーサ174上にマスク176を構築する。成長する層170は
、上部のマスク層176に静電的に引き寄せられ、図10Cに示されるように、
突起178のセットを産出する。図10Dに、結果としてできたスパチュラアレ
ーが示されている。
パチュラを作ることができる。この技術は、図11A−11Bと関連して示され
ている。図11A−11Bに示されているこのタイプのナノインプリンティング
技術は、従来技術分野で使われているがスパチュラ構造を産出するためとしてで
はない。
することができるので、上部層は、例えば、100nmの正方形板でより長く薄
いペデスタルで支えられるものを形成することができることを示している。特徴
部を露光及びパターン化して広い面積のアレイを作製するために、定在波の干渉
パターン(standing-wave interference patterns)を使うことができる。プラ
ズマエッチングにより、シリコン基板上にSiOx層を用いて同様の構造物を作るこ
とができる。
リマー層には、フォトレジスト、ポリイミド、ガラス、又はエポキシをベースに
した化合物等のスピンキャストポリマー材料が含まれる。また、ポリマー層には
、フォトレジスト、ポリイミド、ガラス、又はエポキシをベースにした化合物等
のスプレー堆積ポリマー材料も含まれる。代わりとして、ポリマー層は、UV硬
化可能な化合物であってもよい。
する。マニピュレータ200は、対立するペアーで配置された剛毛26A−26
Dのセット(例えば、26Aと26Cが互いに対向し、26Bと26Dが互いに
対向する)を備えたビーム202を含んでいる。ビーム202は、基板204に
向かって押され、剛毛26A−26Dをプレロードし、且つ、広げる。その後、
ビーム202を、基板204から離す方向へ引いて、基板204を引き上げて掴
む。ビーム202は、剛毛26A−26Dを解放させるために基板204の方向
へ押される。
を認識できよう。例えば、本発明の技術は、持ち上げ及び配置を行う、ミクロ生
産、顕微操作及び顕微手術の分野に利用することができる。例えば、マイクロマ
ニピュレーターに剛毛を付けて光ファイバーを持ち上げ、移動させ、降ろすこと
ができる。他の使用には、網膜のプロステーシス・インプラント/外植体の操作
、手術中における神経への付着、シリコンウエハ又はディスクドライブ部品の持
ち上げ及び配置が含まれる。
る。剛毛は、方向性をもって粘着するので、ラチェットと同様のクラッチ機構(
しかし、スムーズな表面上)として剛毛を使うことができる。
プ、ロボット・フィート又はトレッド、登山用、グリップ用等のグローブ/パッ
ド、クリーンルームプロセスツール、表面を傷跡つけず、残留物又は引っかき傷
を残さないマイクロ光学マニピュレーション、マイクロほうき、マイクロ真空、
ウエハからの薄片除去、個々粒子の光学位置付けと除去、クライミング、スロー
イング、及びステッカー玩具、プレスオン・フィンガーネイル、無音ファスナー
、特定の位置への粘着を防ぐための基板、ディスクドライブを掃除するほうき、
ポストイット・ノート、バンドエイド、半導体トランスポート、衣類ファスナー
等。これらの多くの応用において、シャフト上に位置したスパチュラのパッチに
対して、平面基板上のスパチュラのパッチを使うことができる。
語が使われている。しかし、発明の実施をするために具体的な詳細が要求されな
いことが当業者には明らかであろう。従って、本発明の具体的な実施形態につい
ての先の詳細は、例示と説明のために表示されているものである。それらは、発
明を網羅的に意図しているものではなく、また、開示された厳密な型に発明を制
限することを意図しているものでもない。上記教示の観点からは、様々な修飾及
び変更が可能である。実施形態は、発明の原理及びその実践的応用について最適
な説明をするため、また、それにより特定の意図される使用に適した種々の修飾
がなされた発明及び種々の実施形態を他の当業者が最適に利用するために選択さ
れ且つ詳述されている。発明の範囲は、請求項及び均等物から定義されるよう意
図されている。
きである。図面を通して、類似の符号がその相当する部分に付されている。
のスパチュラの拡大図である。
のスパチュラの拡大図である。
アレーの例示である。
なる力の例示である。
スパチュラ構造を用いた剛毛アレーの作製について例示する。
作製について例示する。
従う、スパチュラ構造を用いた剛毛アレーの作製について例示する。
シングツールを例示する。
築を例示する。
・ナノ-インプリンティング技術を例示する。
る。
例示する。
Claims (17)
- 【請求項1】 粘着力を作り出す方法であって、 生存試料から剛毛を除去するステップ、 前記剛毛を基板に付けるステップ、及び 前記基板と表面の間で粘着力を確立するために、前記剛毛を前記表面に適用さ
せるステップ、 を含む、前記方法。 - 【請求項2】 前記除去ステップが、ゲッコーから剛毛を除去するステップ
を含む、請求項1記載の方法。 - 【請求項3】 前記除去ステップが、アノリス種、スキンク種、ビートル種
及びサシガメ類種からなる群より選択される生存試料から剛毛を除去するステッ
プを含む、請求項1記載の方法。 - 【請求項4】 前記適用ステップが、 前記表面と垂直な力で前記表面に前記剛毛を適用させるステップ、及び 前記粘着力とかみ合うよう、前記表面と平行な力で前記剛毛を引張るステップ
、 を含む、請求項1記載の方法。 - 【請求項5】 前記粘着力が、前記適用ステップ及び前記引張りステップの
累積的な力よりも大きい、請求項4記載の方法。 - 【請求項6】 粘着性ミクロ構造物を確立する方法であって、 表面に、前記表面と垂直な力で剛毛を適用させるステップ、 前記剛毛の粘着力をプレロードするために、前記表面と水平な力で前記剛毛を
引張るステップ、 を含む、前記方法。 - 【請求項7】 前記粘着力が、前記適用ステップ及び前記引張りステップの
累積的な力よりも大きい、請求項6記載の方法。 - 【請求項8】 粘着性ミクロ構造物を作製する方法であって、 シャフトアレーを作製するステップ、 前記シャフトアレー上にスパチュラを作るステップ、 を含む、前記方法。
- 【請求項9】 前記作製ステップが、窒化物と酸化物とのサンドイッチで前
記シャフトアレーを構築するステップを含む、請求項8記載の方法。 - 【請求項10】 前記作製ステップが、ポリマー層のサンドイッチで前記シ
ャフトアレーを構築するステップを含む、請求項8記載の方法。 - 【請求項11】 前記構築ステップが、フォトレジスト、ポリイミド、ガラ
ス及びエポキシベース化合物からなる群より選択されるスピン-キャストポリマ
ー材料のポリマー層サンドイッチで前記シャフトアレーを構築するステップを含
む、請求項10記載の方法。 - 【請求項12】 前記構築ステップが、フォトレジスト、ポリイミド、ガラ
ス及びエポキシベース化合物からなる群より選択されるスプレー堆積ポリマー材
料のポリマー層サンドイッチで前記シャフトアレーを構築するステップを含む、
請求項10記載の方法。 - 【請求項13】 前記構築ステップが、紫外線硬化可能なエポキシを含むポ
リマー層サンドイッチで前記シャフトアレーを構築するステップを含む、請求項
10記載の方法。 - 【請求項14】 作製されたミクロ構造物であって、 500ミクロン未満の長さのシャフトであって、前記シャフト長さの0.01
倍と0.1倍の間の直径を有する前記シャフト、及び 前記シャフト端に作られたスパチュラアレーであって、10ミクロン未満の幅
を有しており、前記スパチュラ中の個々のスパチュラは、スパチュラ末端におい
て球の曲がったセグメントを含んでいる、前記スパチュラアレー、 を備えた、前記ミクロ構造物。 - 【請求項15】 前記シャフトが、約10−100ミクロンの長さを有する
、請求項14記載の作製されたミクロ構造物。 - 【請求項16】 前記シャフトが、前記シャフトの前記長さの約0.05倍
の直径を有する、請求項14記載の作製されたミクロ構造物。 - 【請求項17】 前記スパチュラ末端における球の曲がったセグメントが、
約2μmの半径を有する、請求項14記載の作製されたミクロ構造物。
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