JP2008200793A - 二段の階層を有する柱状構造体の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基材上において多孔質膜の孔に樹脂を充填する工程(1);該樹脂を硬化して柱状構造部を形成する工程(2);該柱状構造部の端部にプラズマエッチング処理を行い、二段の階層を有する柱状構造部を形成する工程(3);および該多孔質膜を該基材から除去する工程(4);を含む、二段の階層を有する柱状構造体の製造方法。
【選択図】なし
Description
本発明の二段の階層を有する柱状構造体の製造方法は、基材上において多孔質膜の孔に樹脂を充填する工程(1);該樹脂を硬化して柱状構造部を形成する工程(2);該柱状構造部の端部にプラズマエッチング処理を行い、二段の階層を有する柱状構造部を形成する工程(3);および該多孔質膜を該基材から除去する工程(4);を含む。多孔質膜を用いてミクロンサイズの微細構造を作製すること、および、プラズマエッチング処理によりナノサイズの微細構造を作製することにより、ヤモリの足裏に見られるような、微細な二段の階層を有する柱状構造体を簡便に作製することが可能となる。
≪基材≫
本発明で使用される基材としては、本発明の目的を達成し得る範囲において、任意の適切な基材が使用され得る。基材の材料としては、例えば、エンジニアリングプラスチックやスーパーエンジニアリングプラスチックのフィルムが挙げられる。エンジニアリングプラスチックおよびスーパーエンジニアリングプラスチックの具体例としては、ポリイミド、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、アセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリアミドが挙げられる。分子量などの諸物性は、本発明の目的を達成し得る範囲において、任意の適切な物性を採用し得る。基材の成形方法は、本発明の目的を達成し得る範囲において、任意の適切な方法を採用し得る。また、基材は、半導体ウェハ(例えば、シリコンウェハ)、LCD、PDPなどのフラットパネルディスプレイ用基板、コンパクトディスク、MRヘッド等の形態であってもよい。
本発明で使用され得る多孔質膜としては、任意の適切な多孔質膜が使用され得る。好ましくは、基材から容易に除去され得る材料から形成された多孔質膜が好ましく使用される。該材料の具体例としては、例えば、ポリカーボネート系樹脂、フッ素系化合物、シリコン系化合物、ポリイミド系樹脂、アルミナが挙げられる。これらの材料は、1種類のみ用いても良いし、2種類以上を併用しても良い。
本発明で使用され得る樹脂としては、任意の適切な樹脂が使用され得る。例えば、溶剤に溶解するもの、加熱融解するもの等は、多孔質膜の孔に容易に充填され得るため、好ましく使用される。
多孔質膜の孔に樹脂を充填する方法としては、任意の適切な方法が使用され得る。例えば、溶剤に溶解することにより、または加熱融解することにより液体状態とした樹脂を基材上に配置した多孔質膜上に塗布する方法、基材上に塗布された該樹脂上に多孔質膜を配置する方法等が使用され得る。これらの方法は、毛細管現象により多孔質膜の孔中に樹脂が容易に充填され得、操作性に優れるため、好ましく使用される。
≪硬化方法≫
樹脂を硬化する方法としては、任意の適切な方法が使用され得る。例えば、溶剤に溶解した樹脂を使用する場合は乾燥処理等によって溶剤を除去すればよく、加熱融解した樹脂を使用する場合は温度を下げて硬化させればよい。また、光硬化性樹脂を使用する場合は光照射を行えばよく、紫外線硬化性樹脂を使用する場合は紫外線照射を行えばよく、熱硬化性樹脂を使用する場合は加熱すればよい。このような方法で樹脂を硬化させることにより、基材上の多孔質膜の孔中に柱状構造部が形成される。
≪プラズマエッチング処理≫
工程(2)で得られた柱状構造部の端部にプラズマエッチング処理を行うことにより、該柱状構造部に二段の階層を付与する。プラズマエッチング処理における処理条件としては、本発明の目的を達成し得る範囲において、任意の適切な条件を採用し得る。具体的には、例えば、以下の通りである。
≪多孔質膜の除去方法≫
多孔質膜を基材から除去する方法としては、上記の二段の階層を有する柱状構造部がその形状を実質的に維持できる範囲で、任意の適切な方法が使用され得る。例えば、溶媒に溶解させる方法、エッチング液による酸化エッチング等が挙げられる。このような方法で多孔質膜が除去されることにより、二段の階層を有する柱状構造体が形成され得る。
本発明の二段の階層を有する柱状構造体の製造方法は、必要に応じて、上段および/または下段の柱状構造部の傾斜化工程、スパチュラ構造作成工程等の工程をさらに有し得る。なお、本明細書において、スパチュラ構造とは、柱状構造とは異なる形状を端部に持つことを意味し、ヘラ状、球状、半球状等の構造が例として挙げられる。
図1または図2は、上記A−1〜A−5項で説明される製造方法により得られる二段の階層を有する柱状構造体の好ましい形態の概略断面図(各構成部を明示するために縮尺は正確に記載されていない)である。二段の階層を有する柱状構造体100は、基材11上に二段の階層を有する柱状構造部21を有する。
ポリイミドワニス(日立化成 デュポン マイクロシステムズ株式会社製、製品番号:PI2611)をスピンコートによりシリコンウエハ上に塗布した。塗布されたポリイミドワニスにポリカーボネート製フィルター(ミリポア社製、孔径:2μm)をかぶせて、フィルターの孔にポリイミドワニスを充填した。次いで、該フィルターを乾燥機中、150℃で30分加熱し、さらに275℃で30分加熱して、ポリイミドワニスを乾燥および硬化することにより、フィルターの孔中に柱状構造部を形成した。得られた柱状構造部の端部について、下記の〔プラズマエッチング処理1〕を行うことにより、二段の階層を有する柱状構造部を形成した。次いで、フィルターを塩化メチレンに10分間浸漬して溶解することにより、基材から除去した。これにより、二段の階層を有する柱状構造体を得た。二段の階層を有する柱状構造部の下段の柱状構造部は、直径が2.0μmであり、高さが20μmであった。また、上段の柱状構造部は、直径が10nmであり、高さが100nmであった。得られた二段の階層を有する柱状構造体の拡大写真を図3および図4に示す。
プラズマエッチング処理1は、以下の条件で行った。
ガス種:酸素ガス
ガス流量:300sccm
電源:RF
放電電力密度:0.78W/cm2
処理時間:300秒
放電電力エネルギー:234Wsec/cm2
プラズマ発生装置の電極間距離:10cm
多孔質膜として孔径1.2μmのポリカーボネート製フィルター(ミリポア社製)を使用した以外は、実施例1と同様にして、二段の階層を有する柱状構造体を得た。二段の階層を有する柱状構造部の下段の柱状構造部は、直径が1.2μmであり、高さが20μmであった。また、上段の柱状構造部は、直径が10nmであり、高さが100nmであった。得られた二段の階層を有する柱状構造体の拡大写真を図5および図6に示す。
〔プラズマエッチング処理1〕を行わないこと以外は実施例2と同様にして、直径が1.2μmであり、高さが20μmである柱状構造部を有する柱状構造体を得た。得られた柱状構造体の拡大写真を図7および図8に示す。
11 基材
21 二段の階層を有する柱状構造部
Claims (5)
- 基材上において多孔質膜の孔に樹脂を充填する工程(1);
該樹脂を硬化して柱状構造部を形成する工程(2);
該柱状構造部の端部にプラズマエッチング処理を行い、二段の階層を有する柱状構造部を形成する工程(3);および
該多孔質膜を該基材から除去する工程(4);
を含む、二段の階層を有する柱状構造体の製造方法。 - 前記樹脂が、ポリイミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、フッ素系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、およびエチレン−酢酸ビニル共重合体系樹脂からなる群より選択される少なくとも1つの樹脂を含む、請求項1に記載の製造方法。
- 前記二段の階層を有する柱状構造部の上段の柱状構造部の直径が50nm以下である、請求項1または2に記載の製造方法。
- 請求項1から3までのいずれかに記載の製造方法によって得られる、二段の階層を有する柱状構造体。
- 粘着部材である、請求項4に記載の二段の階層を有する柱状構造体。
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103274354A (zh) * | 2013-05-17 | 2013-09-04 | 哈尔滨工业大学 | 一种仿壁虎结构粘合剂的制备方法 |
JP2014107319A (ja) * | 2012-11-26 | 2014-06-09 | Canon Inc | 接着力が制御可能な接着用部材 |
JP2015508310A (ja) * | 2011-12-29 | 2015-03-19 | エシコン・インコーポレイテッドEthicon, Incorporated | 表面上に組織貫入突起を有する接着構造体 |
CN104803348A (zh) * | 2015-04-20 | 2015-07-29 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种牺牲模板制备高深宽比聚合物纳米柱阵列的方法 |
CN105128971A (zh) * | 2015-09-07 | 2015-12-09 | 南京航空航天大学 | 基于钩爪附着的仿生四足爬壁机器人 |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101002683B1 (ko) * | 2008-08-19 | 2010-12-20 | 한국기계연구원 | 이중시트링과 릴리프밸브를 내장하는 고압력 볼밸브 |
CN101837946B (zh) * | 2010-05-14 | 2011-11-30 | 华中科技大学 | 一种干性粘合剂的制作方法 |
US20120052234A1 (en) * | 2010-08-30 | 2012-03-01 | Sriram Natarajan | Adhesive structure with stiff protrusions on adhesive surface |
US9492952B2 (en) | 2010-08-30 | 2016-11-15 | Endo-Surgery, Inc. | Super-hydrophilic structures |
US20120143228A1 (en) | 2010-08-30 | 2012-06-07 | Agency For Science Technology And Research | Adhesive structure with stiff protrusions on adhesive surface |
WO2012039291A1 (ja) * | 2010-09-22 | 2012-03-29 | テルモ株式会社 | 生体接着シートおよびシート接着用デバイス |
US8926881B2 (en) | 2012-04-06 | 2015-01-06 | DePuy Synthes Products, LLC | Super-hydrophobic hierarchical structures, method of forming them and medical devices incorporating them |
US8969648B2 (en) | 2012-04-06 | 2015-03-03 | Ethicon, Inc. | Blood clotting substrate and medical device |
CN103937419A (zh) * | 2013-01-22 | 2014-07-23 | 香港纺织及成衣研发中心有限公司 | 一种具有微纳图案表面结构的粘弹胶带 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04359031A (ja) * | 1991-06-04 | 1992-12-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 撥水撥油性フィルム及びその製造方法 |
JPH09296057A (ja) * | 1996-05-01 | 1997-11-18 | Agency Of Ind Science & Technol | 高分子成形体の凹凸状表面形成方法 |
JP2003008221A (ja) * | 2001-06-19 | 2003-01-10 | Ibiden Co Ltd | 多層プリント配線板および多層プリント配線板の製造方法 |
JP2003266399A (ja) * | 2002-03-18 | 2003-09-24 | Yoshikazu Nakayama | ナノチューブ先鋭化方法 |
WO2003095190A1 (en) * | 2002-05-13 | 2003-11-20 | California, The Regents Of The University | An improved adhesive microstructure and method of forming same |
US6737160B1 (en) * | 1999-12-20 | 2004-05-18 | The Regents Of The University Of California | Adhesive microstructure and method of forming same |
JP2006306909A (ja) * | 2005-04-26 | 2006-11-09 | Konica Minolta Holdings Inc | 表面処理方法、表面処理装置、防眩層の形成方法、防眩性フィルム、及び、防眩性低反射フィルム |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA2404296A1 (en) * | 2000-03-22 | 2001-09-27 | University Of Massachusetts | Nanocylinder arrays |
JP4364662B2 (ja) * | 2004-02-04 | 2009-11-18 | 日東電工株式会社 | 繊維凸状構造転写形成用シート |
-
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04359031A (ja) * | 1991-06-04 | 1992-12-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 撥水撥油性フィルム及びその製造方法 |
JPH09296057A (ja) * | 1996-05-01 | 1997-11-18 | Agency Of Ind Science & Technol | 高分子成形体の凹凸状表面形成方法 |
US6737160B1 (en) * | 1999-12-20 | 2004-05-18 | The Regents Of The University Of California | Adhesive microstructure and method of forming same |
JP2003008221A (ja) * | 2001-06-19 | 2003-01-10 | Ibiden Co Ltd | 多層プリント配線板および多層プリント配線板の製造方法 |
JP2003266399A (ja) * | 2002-03-18 | 2003-09-24 | Yoshikazu Nakayama | ナノチューブ先鋭化方法 |
WO2003095190A1 (en) * | 2002-05-13 | 2003-11-20 | California, The Regents Of The University | An improved adhesive microstructure and method of forming same |
JP2006306909A (ja) * | 2005-04-26 | 2006-11-09 | Konica Minolta Holdings Inc | 表面処理方法、表面処理装置、防眩層の形成方法、防眩性フィルム、及び、防眩性低反射フィルム |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015508310A (ja) * | 2011-12-29 | 2015-03-19 | エシコン・インコーポレイテッドEthicon, Incorporated | 表面上に組織貫入突起を有する接着構造体 |
US10278701B2 (en) | 2011-12-29 | 2019-05-07 | Ethicon, Inc. | Adhesive structure with tissue piercing protrusions on its surface |
JP2014107319A (ja) * | 2012-11-26 | 2014-06-09 | Canon Inc | 接着力が制御可能な接着用部材 |
CN103274354A (zh) * | 2013-05-17 | 2013-09-04 | 哈尔滨工业大学 | 一种仿壁虎结构粘合剂的制备方法 |
CN104803348A (zh) * | 2015-04-20 | 2015-07-29 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种牺牲模板制备高深宽比聚合物纳米柱阵列的方法 |
CN105128971A (zh) * | 2015-09-07 | 2015-12-09 | 南京航空航天大学 | 基于钩爪附着的仿生四足爬壁机器人 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200914366A (en) | 2009-04-01 |
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