JP2003517724A - 垂直方向に重ねられたロードロック部及び移送ロボット - Google Patents

垂直方向に重ねられたロードロック部及び移送ロボット

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JP2003517724A
JP2003517724A JP2001514228A JP2001514228A JP2003517724A JP 2003517724 A JP2003517724 A JP 2003517724A JP 2001514228 A JP2001514228 A JP 2001514228A JP 2001514228 A JP2001514228 A JP 2001514228A JP 2003517724 A JP2003517724 A JP 2003517724A
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Abstract

(57)【要約】 基板処理装置(10)の基板移送及びロードロックアッセンブリ(16)は、第1ロードロック部(36、38)と、第1基板エレベータ(32)と、移送ロボット(22)とを有する。上記基板エレベータは第1垂直駆動部(66)とこれに接続された第1基板支持部(68)とを有する。上記第1基板支持部は第1垂直駆動部により垂直方向の所定経路に沿って移動可能となっている。上記所定経路は、上記ロードロック部の外側の位置(第1位置)と上記ロードロック部の内側の位置(第2位置)とを含む。移送ロボットは可動アームを有し、この可動アームには少なくとも1つの基板が載置される。上記支持部が上記ロードロック部内にあるとき、上記可動アームは上記経路に出入りすることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【技術分野】
本発明は基板の処理に関し、より詳しくは、垂直方向に配置されたロードロッ
ク部と基板移送ロボットとからなるアッセンブリに関する。
【0002】
【背景技術】
米国特許第5,562,383号及び米国特許第5,882,413号には異
なるタイプの基板処理装置が開示されている。当該技術分野では、基板カセット
を保持するステーションと、基板処理装置のメイントランスファチャンバへ繋が
るロードロック部(load lock:基板を閉じ込める部分)との間に基板移送ロボ
ットを設けることが知られている。この種の構成を有する装置の課題は、設置面
積が比較的大きいことである。これは、カセット保持ステーション、基板移送ロ
ボット及びロードロック部が直列的に(連続して)水平方向に配置されているか
らである。
【0003】
【発明の概要】
本発明の1つの態様に係る基板処理装置の基板移送及びロードロックアッセン
ブリは、第1ロードロック部と、第1基板エレベータと、移送ロボットとからな
る。上記第1基板エレベータは第1垂直(方向)駆動部と第1基板支持部とを有
する。上記第1基板支持部は上記第1垂直駆動部に連結されている。上記第1基
板支持部は上記垂直駆動部により、所定の経路に沿って垂直方向に移動可能であ
る。上記所定の経路は上記ロードロック部の外側の位置(第1位置)と内側の位
置(第2位置)とを含む。上記移送ロボットは可動アームを有し、当該可動アー
ムには、少なくとも1つの基板が載置される。上記第1基板支持部が上記ロード
ロック部内にあるとき、上記可動アームは上記所定の経路に出入りすることがで
きる。
【0004】 本発明の他の態様に係る基板処理装置の基板移送及びロードロックアッセンブ
リは、フレームと、基板エレベータと、移送機構とからなる。上記フレームは、
第1ロードロックチャンバと、基板ポッド(pod:基板を収納する容器)収容チ
ャンバとからなる。上記第1ロードロックチャンバと基板ポッド収容チャンバは
垂直方向に所定の位置関係で配置される。上記基板エレベータは垂直駆動部と第
1基板支持部を有する。上記垂直駆動部と第1基板支持部は連結されている。上
記第1基板支持部は上記垂直駆動部により、上記第1ロードロックチャンバ内部
の位置と上記基板ポッド収容チャンバ内部の位置との間で垂直方向に移動可能で
ある。上記移送機構は可動アームを有し、この可動アームにはポータブル式の基
板ポッドが載置される。この可動アームにより、ポータブル式基板ポッドは上記
基板ポッド収容チャンバに搬入出される。この搬入出により、基板を上記基板ポ
ッドと第1基板支持部との間で移送することができる。
【0005】 本発明の他の態様に係る基板処理装置の基板移送及びロードロックアッセンブ
リは、フレームと、第1基板エレベータと、基板移送ロボットとからなる。上記
フレームは、第1ロードロックチャンバと、基板移送ロボットチャンバとからな
る。上記第1ロードロックチャンバと基板移送ロボットチャンバは垂直方向にお
いてどちらか一方が他方の上に配置される。上記第1基板エレベータは垂直駆動
部とこれに連結された第1基板支持部とを有する。上記第1基板支持部は上記垂
直駆動部により、上記第1ロードロックチャンバ内部の位置と上記基板移送ロボ
ットチャンバ内部の位置との間で垂直方向に移動可能である。上記基板移送ロボ
ットは、可動アームアッセンブリと、これに接続された端部動作要素(effector
)とを有している。上記端部動作要素のサイズと形状は、少なくとも1つの基板
を載置できるように決定される。上記可動アームアッセンブリは上記基板移送ロ
ボットチャンバ内に設けられる。上記第1基板支持部が上記ロードロックチャン
バ内にあるとき、上記可動アームアッセンブリは、上記第1基板支持部に少なく
とも部分的に整列する(重なる)上記基板移送ロボットチャンバ内の所定エリア
で動くことができる。上記基板移送ロボットチャンバは上記第1基板支持部から
垂直方向に隔てられている。
【0006】 本発明の他の態様に係る基板移送方法は、基板を第1ロードロックチャンバと
ポータブル式基板コンテナとの間で移送する基板移送方法であって、基板を上記
ポータブル式基板コンテナから第1基板エレベータに移動するステップを有する
。上記第1基板エレベータは、個々の基板を直接載置する第1基板支持部を有す
る。上記第1基板支持部は上記ロードロック部に垂直方向において整列する受容
チャンバ内に位置する。上記基板移送方法はさらに、上記第1基板エレベータを
動かして上記第1基板支持部を上記受容チャンバから垂直方向に移動させて上記
ロードロックチャンバ内に移送するスッテプを有する。上記基板が上記ポータブ
ル式基板コンテナから上記第1基板エレベータに移送される間、上記ポータブル
式基板コンテナは上記受容チャンバに直接連結(保持)されている。
【0007】
【発明の実施の形態】
本発明の実施例を添付図面に基づいて説明する。 図1を参照すると、本発明の特徴(部)を備えた基板処理装置10の概略平面
図が示されている。以下において本発明は図示実施例により説明されるが、本発
明は種々の異なる形態・態様・変形例で具現・実施され得る。さらに、任意の適
切なサイズ、形状及びタイプ(種類)の要素や材料を用いることも出来る。
【0008】 基板処理装置10は概して、メイントランスファ(移送・搬入出)チャンバ1
2と、基板処理モジュール14と、基板移動(基板搬入出)及びロードロック(
load lock)アッセンブリ(基板移動部とロードロック部とからなるアッセンブ
リ)16とからなる。図示実施例では上記チャンバ12は4つの側部(面)を有
しているが、他の実施例では上記チャンバは任意の適切な数の側部を備え、任意
の適切な形状を呈することができる。基板処理モジュール14は当該技術分野で
は周知のものであり、半導体ウエハ等の基板やフラットパネルディスプレイ用基
板を処理するのに用いられる。本実施例では、上記モジュール14は上記チャン
バ12の3つの側部に取り付けられている。他の実施例では、上記モジュール1
4は4つ以上または2つ以下の側部に取り付けられてもよい。上記アッセンブリ
16は上記チャンバ12の第4の側部24に取り付けられている。他の実施例で
は、上記アッセンブリ16は複数設けられてもよい。この場合、上記アッセンブ
リ16は上記メイントランスファチャンバの1つまたは複数の側部に取り付ける
ことができる。ここで図2も参照する。上記チャンバ12はフレーム18と開口
部20を有する。開口部20は垂直方向に所定間隔をおいて複数設けられている
。上記チャンバ12は複数のチャンバから構成されてもよい。これらチャンバは
上下方向に積み上げられるか、他の方法で互いに連結される。例えば、複数のチ
ャンバは1つの共通のフレームあるいは複数のフレームにより連結される。上記
処理モジュール14は上記フレーム18の開口部20に取り付けられる。従って
、垂直方向に並べられた(配列された)複数のモジュール14がフレーム18に
取り付けられることになる。上記チャンバ12には基板移動ロボット22(図1
)も設けられている。このロボット22は少なくともその一部が上記フレーム1
8内に位置される。よって、ロボット22は基板をフレーム18内へ移動(搬入
)したり、フレーム18内で移動したり、フレーム18内から外へ移動(搬出)
することができる。上記チャンバ12内には任意の適切なロボットを設置するこ
とができる。但し、ロボットは垂直方向に移動可能でなければならない。ロボッ
トは、垂直方向に配列された開口部20を通して基板を出入れしなければならな
いからである。上記チャンバ12のフレーム18内のメイントランスファエリア
には複数のロボットを設けてもよい。そのようなロボットの一例が米国特許出願
第08/662,930号に記載されている。この米国特許出願の内容は本明細
書に記載されたものとする。図2では4つ(4段)の開口部20がフレーム18
の各側部(但し、側部24を除く)に形成されているが、3つ以下あるいは5つ
以上の開口部を各側部に設けてもよい。また、各側部において開口部20は高さ
方向(垂直方向)に直線的に配置されなくてもよい(例えば、ジグザグ状に配置
してもよい)。さらに、図2では各側部において、4つの開口部20が垂直方向
に1列に(1列だけ)配置されているが、4つの開口部の垂直列を2つ以上設け
てもよい。
【0009】 ここで図3も参照する。基板移動及びロードロックアッセンブリ16はフレー
ム18の1つの側部24に接続されている。この実施例では、側部24は2つの
垂直方向に隔てられた開口部26と28を有している。上記アッセンブリ16は
主に、フレーム30と、基板エレベータ(昇降装置)32と、移送部(移送機構
)34とからなる。上記フレーム30は上記開口部26と28に整列(対応・一
致)する2つの開口部を有する。可動ドア(図示せず)を上記開口部26と28
に設けてもよい。可動ドアは上記フレーム18または30に付設される。フレー
ム30は3つの垂直方向に並べられたエリア36、37及び38を有する。上位
のエリア36は上位の開口部26に対応して設けられ、下位のエリア38は下位
の開口部28に対応して設けられている。本実施例では、フレーム30は棚部4
4を有する。棚部44は貫通開口部46を有し、この開口部46は上位エリア3
6と中位エリア37の間に位置する。フレーム30は棚部48をも有している。
棚部48は開口部50を有し、この開口部50は中位エリア37と下位エリア3
8の間に位置する。中位エリア37には開口部40が設けられ、開口部40の位
置は開口部26と28から見るとフレーム30の反対側である。可動ドア42は
フレーム30に付設され、開口部40を開閉することができる。
【0010】 基板エレベータ32は米国特許出願第09/049,314号に開示されたエ
レベータと同様なエレベータである。この米国特許出願の内容は本明細書に記載
されたものとする。本実施例では、エレベータ32は2つの独立して動くことが
できるエレベータ部52と54を有する。他の実施例では、1つのエレベータ部
に複数の基板受容(保持・収容)エリア(要素)を設け、これらエリアが同調し
て(同時に)垂直方向に動くようにしてもよい。上部エレベータ部52は主に、
駆動部56と基板支持部58とからなる。基板支持部58は複数の基板を、間隔
をあけて別々に(独立して)支持できるようになっている。基板支持部58はド
ライブロッド60を介して駆動部56に接続されている。駆動部56はドライブ
ロッド60を垂直方向に上下動させることができ、この上下動に伴い、支持部5
8は上位エリア36と中位エリア37との間で垂直方向に移動する。上部エレベ
ータ部52は2つのプレート62と63を有する。これらプレート62と63は
基板支持部58の上部と下部に位置されている。上部エレベータ部52が降下位
置にあって基板支持部58が中位エリア37にあるとき、上部プレート62は棚
部44の上面と係合して、係合部位をシールする(シール係合する)。上部エレ
ベータ部52が上昇位置にあって基板支持部58が上位エリア36にあるとき、
下部プレート63は棚部44の下面と係合して、係合部位をシールする。一つの
実施例では、駆動部56はロッド60をその中心軸回りに回転できる。このよう
な構成にすると、支持部58及びこれに支持(載置)されている基板も回転可能
となる。下部エレベータ部54は主に、駆動部66と基板支持部68とからなる
。基板支持部68は複数の基板を間隔を開けて別々に(独立して)保持・載置で
きる。基板支持部68はドライブロッド70を介して駆動部66に接続されてい
る。駆動部66はドライブロッド70を垂直方向に上下動させることができ、こ
の上下動に伴い、基板支持部68が下位エリア38と中位エリア37の間で垂直
方向に上下移動する。下部エレベータ部54は2つのプレート72と73を有す
る。これらプレート72と73は基板支持部68の上部と下部に位置されている
。下部エレベータ部54が降下位置にあって基板支持部68が下位エリア38に
あるとき、上部プレート72は棚部48の上面と係合して、係合部位をシールす
る(シール係合する)。下部エレベータ部54が上昇位置にあって基板支持部6
8が中位エリア37にあるとき、下部プレート73は棚部48の下面と係合して
、係合部位をシールする。一つの実施例では、駆動部66はロッド70をその中
心軸回りに回転できる。そのような構成では、基板支持部68及びこれに支持(
載置)されている基板も回転可能となる。
【0011】 上位エリア36と下位エリア38は、フレーム18内のメインチャンバと中位
エリア37との間にロードロックチャンバ(load lock chambers:基板を出入れ
する際に基板を閉じ込めておく室)を形成する。上位エリア36と下位エリア3
8は好ましくは真空装置(負圧装置)に接続され、当該真空装置(負圧装置)に
より上記エリア36と37の内部は真空(負圧)にされる。上部基板支持部58
が上位エリア36内にあるとき、ロボット22(図1)は開口部26を介して基
板を基板支持部58に載置したり、基板を基板支持部58から取り出す(運び出
す)ことができる。下部基板支持部68が下位エリア38内にあるとき、ロボッ
ト22は開口部28を介して基板を基板支持部68に載置したり、基板を基板支
持部68から取り出すことができる。中位エリア37はポータブル式の(持ち運
びできる・移動式の)基板コンテナ(容器)74から基板を受け取るエリアを形
成する。このコンテナ74はキャリアまたはポッド(pod)と称されることもあ
る。コンテナ74から搬入された基板は、基板支持部58または68が中位エリ
ア37にあるとき、中位エリア37に位置する基板支持部58または68に載置
される。好適な実施例では、プレート63と72はプレート62と73より大き
い。これは、上位エリア36と下位エリア38が大気圧より低い圧力を有してい
るとき、中位エリア37の大気圧を利用してプレート62と73により開口部4
6と50のシールを維持するためである。
【0012】 図4を参照すると、ポータブル式の基板コンテナ74の一例の展開斜視図が示
されている。コンテナ74はメインハウジング76と取り外し可能なサイドドア
78とを有する。コンテナ74は米国特許出願第09/243,516号に開示
されたものと同様なコンテナである。この米国特許出願の内容は本明細書に記載
されたものとする。コンテナ74はFOUP(Front Opening Unified Pod:前
部が開口した一体型ポッド)構造を有し、複数のウエハを間隔をおいて支持(保
持)し且つ運搬することができる。また、コンテナ74内のウエハは実質的に無
粒子状態(particle free environment)でコンテナ74内に保持される。コン
テナ74は複数のラック(棚)部材80を有し、複数のウエハをほぼ水平状態で
保持できる。また、ラック部材80により、複数のウエハは垂直方向に隔てられ
て保持・収納される。尚、任意の時点でラック部材80を見た場合、ウエハは複
数のラック部材80の全てに収容保持されていることもあり、いくつかのラック
部材80にしか収容保持されないこともある。他の実施例では、図示したタイプ
以外のポータブル式の基板ホルダを採用してもよい。
【0013】 コンテナ74のハウジング76はキャリアポート82を有し、このポート82
から内部84へアクセスできるようになっている。キャリアドア78は取り外し
可能にハウジング76に取り付けられている。またキャリアドア78は閉位置と
開位置との間で移動可能である。キャリアドア78は、閉位置ではキャリアポー
ト82を覆って閉じ、開位置ではキャリアポート82から隔てられる。図示した
実施例では、キャリアドア78は、ほぼ矩形のプレートと、周方向に延びるフラ
ンジとを有する。フランジは上記矩形のプレートから連続的に延出する突起部で
ある。キャリアドアが閉位置にあるとき、適切なシール86が上記フランジとキ
ャリアポートとの間に位置し、シール86はキャリア74の内部を周囲の大気か
らシール(隔離)する。キャリアポート82を閉じる位置でキャリアドア78を
適宜ロックし、且つ、フランジをシール86にしっかりと係合させるために、複
数のラッチ部材88がキャリアドア78に設けられている。ラッチ部材88はキ
ャリアドアの周方向に間隔をおいて設けられている。ラッチ部材88はロック位
置と開放位置の間で動くことができる。ロック位置ではラッチ部材88は伸長(
突出)し、ロック用窪み90に係合する。窪み90はキャリアポート近傍に設け
られている。開放位置では、ラッチ部材88は引込み状態(没位置・沈込み位置
)にあり、窪み90から離脱する。適切な鍵穴・鍵溝(keyway)機構が設けられ
、その外部にはラッチ用(式)鍵穴・鍵溝(latch keyways)92が設けられて
いる。この鍵穴機構はラッチ部材88に連結されており、ラッチ部材88をロッ
ク位置と開放位置の間で動かすことができる。上記機構(図示せず)は例えばリ
ンク機構、ソレノイド駆動機構あるいはそれ以外の適切な機構である。典型的な
態様にあっては、上記ラッチ鍵溝92が垂直方向に向けられているとき、ラッチ
部材88が図4に示されるようにキャリアドアから突出し、キャリアドアが閉じ
られロックされる。このとき、上記フランジが上記キャリアポート82にしっか
りと係合し、上記シール86が上記フランジとキャリアポートの間に位置され、
コンテナ(キャリア)の内部84の雰囲気を無粒子状態に維持する。ラッチ鍵溝
92が水平方向に向けられる(回される)と、上記ラッチ部材88は引込み位置
(没位置)に移動し、キャリアドア78のロックが解除され、キャリアドア78
をキャリアポート82から取り外すことができる。後者の状態(ロック解除状態
)では、キャリアドア78はコンテナから自由に取り外すことができる。この取
り出し方法については以下に説明する。
【0014】 図3に示されるように、移送部(移送機構)34は主に、キャリアドアオープ
ナ(キャリアドアを開ける機構・装置)94と、支持フレーム96と、可動アー
ム98と、駆動部100とからなる。駆動部100は可動アーム98を駆動する
。キャリアドアオープナ94は支持フレーム96に接続され、キャリアドア78
を取り外すことができる。そしてキャリアドアオープナ94はキャリアドア78
の代わりにポータブルコンテナ74のメインハウジング76を取り付ける。上記
キャリアドアの取り外し及びメインハウジングの取り付けについては米国特許出
願第09/243,516号に記載されている。可動アーム98はコンテナ74
を可動アーム98の上に取り外し可能に載置することができる。駆動部100は
アーム94を水平方向に移動することができ、この移動によりコンテナ74のメ
インハウジング76を支持フレーム96に対して矢印Aで示すように動かすこと
ができる。従って、メインハウジング76を、開口部40を通して上記アッセン
ブリ16の中位チャンバ37に出し入れすることができる。メインハウジング7
6が中位チャンバ37にあるとき、駆動部100は好ましくはアーム98をわず
かに垂直方向に上下移動させることもできる(矢印Bで示すように)。勿論、可
動ドア42は所定位置に移動され(閉位置から開位置に移動され)、アーム98
とコンテナ74のメインハウジング76が中位チャンバ37に出入りできるよう
にする。
【0015】 コンテナ74(内部には基板が収容されている)は、まずオペレータによりア
ーム98の上に配置される。次に、オープナ94により、ドア78がメインハウ
ジング76から取り外される。ドア42が開かれ、アーム98が移動されること
により、メインハウジング76は中位チャンバ37内に移動する。基板支持部5
8または68が中位チャンバ37に配置されている。このとき、プレート62,
72または63、73が中位チャンバ37を上位及び下位ロードロックチャンバ
36、38からシール(隔離)する。メインハウジング76内の基板S(図4)
は支持部58または68の各基板支持棚102(図3)の上方位置に移動される
。その後、メインハウジング76を下降させることにより、基板Sは垂直方向に
移動され、ラック部材80から外され、棚102に載る。そして、アーム98は
図3に示された位置に戻される。よって、メインハウジング76は中位チャンバ
37から引き出される。その後、ドア42を閉位置に動かして開口部40を閉じ
る。基板支持部58または68を基板と共に移動する前に、中位チャンバ37を
真空(負圧)にすることができる(してもよい)。もし上部基板支持部58が中
位チャンバ37内にあったなら、この基板支持部58は上位チャンバ36内に移
動され(上昇移動され)、プレート63が棚部44に係合して、係合個所をシー
ルする。その後、基板支持部58が上位チャンバ36内に位置する間、ロボット
22(図1)は基板を基板支持部58から持ち出したり(フレーム18内へ搬入
したり)、基板を基板支持部58へ載せたりする(フレーム18からフレーム3
0側へ搬出する)ことができる。もし下部基板支持部68が中位チャンバ37内
にあったなら、この基板支持部68は下位チャンバ38内に移動され(下降移動
され)、プレート72が棚部48に係合して、係合個所をシールする。その後、
ロボット22は、基板支持部材68が下位チャンバ38内に位置する間、基板を
支持部68から動かして(持ち上げて)フレーム18内へ搬入したり、フレーム
18側から基板支持部68へ載せたり(搬出)することができる。
【0016】 一旦、未処理基板が基板支持部58及び68から取り出され(ロボットにより
運び出され)、処理済基板と交換されると(処理された基板(処理済基板)は処
理モジュール14(図1)から基板支持部58及び68へ供給される)、支持部
58及び68は別々に中位チャンバ37に戻すことができる。ドア42を開けた
後、メインハウジング76をアーム98により再び中位チャンバ37に挿入する
。メインハウジング76は中位チャンバ37内で上方に移動され、基板を棚10
2から持ち上げる。この状態にあっては、メインハウジングは基板をラック部材
80により支持・保持している。そしてアーム98が駆動され、メインハウジン
グ76が中位チャンバ37から引き出される。このとき、処理済基板がメインハ
ウジング76に収容されている。ドア42が閉められ、コンテナ74のドア78
が再びメインハウジング76に取り付けられる。この時点でオペレータはコンテ
ナ74を新しいコンテナに交換することができる。新しいコンテナには、処理さ
れるべき基板(未処理基板)が収納されている。この新しいコンテナを用いて上
記したプロセスが繰り返される。
【0017】 本発明によれば、基板処理装置10の設置面積は、従来の基板処理装置に比べ
小さくすることができる。より詳しくは、本発明によれば、メイントランスファ
チャンバ12の内部雰囲気と当該チャンバ12の外部雰囲気との間にあるロード
ロックチャンバが、少なくとも部分的に、少なくともロボットの一部に対して垂
直方向で整列する(重なり合う)。このロボットは基板をポータブル式基板コン
テナの当初設置位置からロードロックチャンバに移送するために用いられるロボ
ットである。従来の装置(例えば、米国特許第5,512,320号)では、大
気(外気)交換セクションにあるロボットはロードロック部から全て水平方向外
方に位置されていた。この構成では、処理装置の設置面積が大きくなってしまう
。大気交換セクションとは大気圧下で基板を交換する部署の総称である。本発明
は、大気交換セクションの一部をロードロックチャンバに対して垂直方向に重ね
ること、且つ、大気交換セクションのロボットの一部をポータブル式基板コンテ
ナ74に対して垂直方向に重ねることにより、大気交換セクションのサイズを著
しく縮小している。
【0018】 図5は移送部(機構)34'の変形例を示す概略平面図である。移送部34'は
フレーム96'と、キャリアドアオープナ94'と、3つの可動アーム98'とか
らなる。各可動アーム98'はそれぞれ駆動部(図示せず)を有する。フレーム
96'は自動的にまたはロボットにより、アッセンブリ16に対して移動するこ
とができる。フレームの移動は矢印Cで示されるようにクリーンルーム壁104
の外で行われる。従って、複数のコンテナ74とアーム98'を別々にドアオー
プナ94'及びアッセンブリ16にマッチングさせ、基板交換作業等をさせるこ
とができる。3つ(3組)の内の1つのコンテナ74とアーム98'がドアオー
プナ94'及びアッセンブリ16に対面(整列)する位置に移動され、他の2つ
(2組)のコンテナ74とアーム98'はドアオープナ94'及びアッセンブリ1
6から外れた位置にある。これら2つのコンテナ74とアーム98'に対して、
オペレータはコンテナ74をアーム98'上においたり、コンテナ74をアーム
98'から取り外すことができる。
【0019】 図6は移送部(機構)34"の他の変形例を示す概略平面図である。この変形
例では、移送部34"はフレーム96"と、キャリアドアオープナ94"と、2つ
の可動アーム98"とからなる。フレーム96"は矢印Dで示すように回転可能で
ある。フレームの回転により、1つのコンテナ74がドアオープナ94"に対面
(整列)し、他のコンテナ74がドアオープナ94"から外れる。ドアオープナ
に対面したコンテナ74はアッセンブリ16内に導入することができる。他の実
施例では、移送部34"は2つの側部95"にそれぞれキャリアドアオープナを有
する。この場合、前方位置にある可動アーム98"に対してコンテナ74を載置
し、その可動アーム98"がアッセンブリ16のどちらかの側部95"に移動され
ると、基板及び/またはコンテナ74をアッセンブリ16に導入できるようにな
る。
【0020】 図7はさらなる他の変形例を示す概略平面図である。この変形例では、基板処
理装置は、2つのアッセンブリ16を有し、これらアッセンブリ16がメイント
ランスファチャンバ12'に取り付けられている。各アッセンブリ16はそれぞ
れ移送部34を有しており、別々のコンテナ74を当該アッセンブリ16出し入
れすることができる。
【0021】 図8は図2と同様な概略斜視図であるが、本発明の他の実施例を示している。
この実施例のメイントランスファチャンバ100のフレーム112にあっては、
3つの側面114、115及び116において開口部20が形成されており、こ
れら開口部20に基板処理モジュール14が取り付けられる。基板処理モジュー
ル14は垂直方向に所定間隔をおいて配列される。フレーム112は上記3つの
側面以外に2つの側面118と119を有する。これら側面118と119には
、別々のアッセンブリ120が取り付けられている。各アッセンブリ120はア
ッセンブリ16と同様な基板移送及びロードロックアッセンブリである。但し、
各アッセンブリ120は1つのエレベータ部122と1つのロードロックチャン
バ124しか備えていない。アッセンブリ16ではエレベータ部は2つあり、ロ
ードロックチャンバも2つ設けられていた。各アッセンブリ120において、移
送部34はコンテナ74を受領(受入)チャンバ126に出し入れすることがで
きる。駆動部128及び基板支持部130は基板を2つのチャンバ124と12
6の間で動かすことができる。
【0022】 図9に基づいて他の実施例を説明する。この実施例では、基板処理装置のメイ
ントランスファチャンバ140は側(横)方向に隔てられた2つの入口開口部1
42(一方しか図示されていない)を有する。ドア144は各開口部142に設
けられ、当該開口部を選択的にシールする(閉じる)。各開口部142において
ロードロックチャンバ146はチャンバ140に接続されている。各ロードロッ
クチャンバ146は底部開口部148を有し、この開口部148には棚部150
が設けられている。各ロードロックチャンバ146にはエレベータ152が付設
され、駆動部154とこれに連結された基板ホルダ156とがエレベータ152
に設けられている。基板ホルダ156は複数の基板を保持することができる。駆
動部154はホルダ156を垂直方向に移動することができ、この移動により、
ホルダはチャンバ146に出入りすることができる。エレベータ152は下部プ
レート158を有する。エレベータが上昇位置にあると、下部プレート158が
棚部150に接触し、チャンバ140をシールする。ロボット160がロードロ
ックチャンバ146から垂直方向に隔てられた位置に設けられている。ホルダ1
56が下降位置にあるとき、ロボット160は基板をポータブル式基板コンテナ
74と基板ホルダ156との間で移動する。このようなロボットの一例が米国特
許第5,720,590号に開示されており、他の例が米国特許第5,431,
529号に開示されている。これら米国特許の開示内容は本明細書に記載された
ものとする。尚、任意の適切なロボットを採用することもできる。図10に示さ
れるように、ポータブルコンテナ74はフレーム162の上に置かれる。ドアオ
ープナ164がフレーム162に設けられ、ドアオープナ164によりコンテナ
74のドアを取り外す(除く)ことができる。ロボット160が基板をメインハ
ウジング76に出入れするとき、メインハウジング76はフレーム162上で静
止したままである。ロードロックチャンバ146とロボット160の駆動部16
1とは同一垂直面内にあり、これらはメイントランスファチャンバ140または
コンテナ74と交差しない。従って、アッセンブリ(146、152及び160
)の配置面積は従来技術の構成より小さく、且つ、コンテナ74とチャンバ14
0の入口との間の水平距離も従来技術のものより短い。
【0023】 図11及び図12は上述の原理を利用した2つの異なる例を示している。図1
1の例では、2つのロードロックチャンバ146がメイントランスファチャンバ
140に取り付けられている。各ロードロックチャンバ146はそれぞれ別個の
エレベータ部152を備えている。フレーム162は、トラック部166と2つ
のコンテナ支持エリア168とを有している。コンテナ74は支持エリア168
に取り付けることができる。各支持エリア168はそれぞれ別個のドアオープナ
164を備えている。ロボット160は移動車両170に設けられている。移動
車両170はトラック166に沿って移動可能である。このような移動車両とト
ラックの構成については米国特許出願第08/891,523号に開示されてお
り、この米国特許出願の内容は本明細書に記載されたものとする。尚、任意の適
切な水平移動可能なロボット移動システムを採用することができる(図示された
ロボット160と車両170とトラック166の代わりに)。ロボット160は
ロードロックチャンバ146の下を移動することができる。
【0024】 図12の例では、ロボット駆動部161が図示された(相対的な)位置から動
かない。その代わりに、ロボット160はSCARAアーム(Selective Compliance
Assembly Robot Arm)を有し、これをオフセンタピック技術(off-center pick
technique)を用いて使用する。上記SCARAアームとオフセンタピック技術は米国
特許出願第09/163,844号に記載されているものと同様なものである。
上記米国特許出願の内容は本明細書に記載されたものとする。ロボット160の
アーム163には、より近い位置に上部アーム165が取り付けられており、こ
れらアーム163と165はロードロックチャンバ146の下を動くことができ
る。
【0025】 上記の説明では本発明のいくつかの実施例を説明したに過ぎない。当業者であ
れば、本発明の範囲の内で種々の変形例や改良・変更・修正例を考えつくであろ
う。従って、本発明は、特許請求の範囲に含まれる上記変形例や改良・変更・修
正例を全て包含する。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の特徴部分を備える基板処理装置の概略平面図である。
【図2】 図1に示された基板処理装置の斜視図であるが、基板処理モジュー
ルがメイントランスファチャンバに取り付けられていない状態で図示されている
【図3】 図2に示された基板移送及びロードロックアッセンブリの概略断面
図である。
【図4】 図3に示されたポータブル式基板コンテナの分解斜視図である。
【図5】 ポータブル式基板コンテナの移動装置の他の例を示す概略平面図で
ある。
【図6】 ポータブル式基板コンテナの移動装置の別の例を示す概略平面図で
ある。
【図7】 2つの基板移送及びロードロックアッセンブリを有する変形実施例
の概略平面図である。
【図8】 図2と同様な斜視図であり、メイントランスファチャンバと2つの
基板移送及びロードロックアッセンブリとを有する変形実施例を示している。
【図9】 基板移送及びロードロックアッセンブリの他の実施例を示す概略断
面図である。
【図10】 図9に示されたアッセンブリのドアオープナとポータブル式基板
コンテナ支持部を示す斜視図である。
【図11】 基板移送及びロードロックアッセンブリの他の実施例を示す概略
平面図である。
【図12】 基板移送及びロードロックアッセンブリの別の実施例を示す概略
平面図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,MZ,SD,SL,SZ,TZ,UG ,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD, RU,TJ,TM),AE,AG,AL,AM,AT, AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY,CA,C H,CN,CR,CU,CZ,DE,DK,DM,DZ ,EE,ES,FI,GB,GD,GE,GH,GM, HR,HU,ID,IL,IN,IS,JP,KE,K G,KP,KR,KZ,LC,LK,LR,LS,LT ,LU,LV,MA,MD,MG,MK,MN,MW, MX,NO,NZ,PL,PT,RO,RU,SD,S E,SG,SI,SK,SL,TJ,TM,TR,TT ,TZ,UA,UG,UZ,VN,YU,ZA,ZW Fターム(参考) 5F031 CA02 CA05 DA08 EA11 EA14 FA01 FA03 FA07 FA09 FA11 FA14 GA02 GA30 GA43 GA48 GA49 GA60 MA02 MA04 MA13 MA15 MA16 NA05 NA09 NA10

Claims (35)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1ロードロック部(load lock)と、 第1垂直駆動部とこれに接続された第1基板支持部とを有する第1基板エレベ
    ータと、 少なくとも1つの基板を支持する可動アームを備えた移送ロボットと、 からなる基板処理装置の基板移送及びロードロックアッセンブリであって、 前記第1基板支持部は前記第1垂直駆動部により所定経路に沿って垂直方向に
    移動可能であり、前記所定経路は前記第1ロードロック部の外側の第1位置と前
    記第1ロードロック部の内側の第2位置とを含み、 前記第1基板支持部が前記第1ロードロック部内にあるとき、前記可動アーム
    が前記第1基板支持部の前記所定経路に出入り可能である、 ことを特徴とする基板処理装置の基板移送及びロードロックアッセンブリ。
  2. 【請求項2】 前記第1ロードロック部は底部に開口部を有し、前記第1基板
    支持部が前記開口部を通って移動する請求項1記載の基板処理装置の基板移送及
    びロードロックアッセンブリ。
  3. 【請求項3】 前記基板エレベータは第1プレートを有し、前記第1基板支持
    部が前記第1位置にあるとき前記第1プレートが前記第1ロードロック部の底部
    の開口部をシールする請求項2記載の基板処理装置の基板移送及びロードロック
    アッセンブリ。
  4. 【請求項4】 前記基板エレベータは第2プレートを有し、前記第1基板支持
    部が前記第2位置にあるとき前記第2プレートが前記第1ロードロック部の底部
    の開口部をシールする請求項3記載の基板処理装置の基板移送及びロードロック
    アッセンブリ。
  5. 【請求項5】 前記第1ロードロック部は上部に開口部を有し、前記第1基板
    支持部が当該開口部を通って移動する請求項1記載の基板処理装置の基板移送及
    びロードロックアッセンブリ。
  6. 【請求項6】 前記第1ロードロック部に垂直方向で整列した第2ロードロッ
    ク部をさらに備え、前記基板エレベータは前記第1基板支持部に連結された第2
    基板支持部を有し、前記第1及び第2基板支持部はそれぞれ前記第1及び第2ロ
    ードロック部に出入りする請求項1記載の基板処理装置の基板移送及びロードロ
    ックアッセンブリ。
  7. 【請求項7】 前記第1ロードロック部に接続されたチャンバをさらに備え、
    前記チャンバは少なくとも垂直方向において部分的に前記第1ロードロック部と
    整列しており、前記移送ロボットは前記チャンバ内で移動可能であり、移動する
    ことにより基板を前記基板支持部へ載置しあるいは前記基板支持部から運び出す
    ことができる請求項1記載の基板処理装置の基板移送及びロードロックアッセン
    ブリ。
  8. 【請求項8】 前記チャンバは所定の面に可動ドアを有し、当該可動ドアを介
    して、基板をポータブル式基板コンテナから前記チャンバへ搬入しあるいは前記
    チャンバから前記ポータブル式基板コンテナへ搬出することができる請求項7記
    載の基板処理装置の基板移送及びロードロックアッセンブリ。
  9. 【請求項9】 前記移送ロボットはサイドドアを前記ポータブル式基板コンテ
    ナのメインハウジングから取り外す第1部分を有し、前記可動アームにより、前
    記メインハウジングを前記チャンバに出入れする請求項8記載の基板処理装置の
    基板移送及びロードロックアッセンブリ。
  10. 【請求項10】 前記移送ロボットは水平方向に移動可能な車両を有し、当該
    車両に前記可動アームが連結されている請求項1記載の基板処理装置の基板移送
    及びロードロックアッセンブリ。
  11. 【請求項11】 第2ロードロック部と第2基板エレベータとをさらに備え、
    当該第2基板エレベータは第2基板支持部を有し、前記第2基板が前記第2ロー
    ドロック部内にあるとき、前記可動アームは前記第2基板の所定経路に出入り可
    能である請求項1記載の基板処理装置の基板移送及びロードロックアッセンブリ
  12. 【請求項12】 第1ロードロックチャンバと、これと垂直方向において所定
    の位置関係を有する基板ポッド(pod)受容チャンバとを有するフレームと、 垂直駆動部とこれに接続された第1基板支持部とを有する基板エレベータと、 ポータブル式基板ポッドを載置する可動アームを有する移送部と、 からなる基板処理装置の基板移送及びロードロックアッセンブリであって、 前記第1基板支持部は前記垂直駆動部により、前記第1ロードロックチャンバ
    内の位置と前記基板ポッド受容チャンバ内の位置との間を垂直方向に動くことが
    でき、 前記移送部は、前記ポータブル式基板ポッドを前記基板ポッド受容チャンバに
    出し入れすることにより、基板を前記基板ポッドと前記基板支持部との間で移送
    する、 ことを特徴とする基板処理装置の基板移送及びロードロックアッセンブリ。
  13. 【請求項13】 前記第1ロードロックチャンバは前記基板ポッド受容チャン
    バの上方に設けられ、前記第1ロードロックチャンバは底部に開口部を有し、当
    該開口部を通って前記第1基板支持部が移動する請求項12記載の基板処理装置
    の基板移送及びロードロックアッセンブリ。
  14. 【請求項14】 前記基板エレベータは第1プレートを有し、前記第1基板支
    持部が前記基板ポット受容チャンバ内にあるとき、前記第1プレートにより前記
    ロードロック部の底部の開口部をシールする請求項13記載の基板処理装置の基
    板移送及びロードロックアッセンブリ。
  15. 【請求項15】 前記基板エレベータは第2プレートを有し、前記第1基板支
    持部が前記第1ロードロックチャンバ内にあるとき、前記第2プレートにより前
    記ロードロック部の底部の開口部をシールする請求項14記載の基板処理装置の
    基板移送及びロードロックアッセンブリ。
  16. 【請求項16】 前記第1ロードロックチャンバは前記基板ポッド受容チャン
    バの下方に設けられ、前記第1ロードロックチャンバは上部に開口部を有し、当
    該開口部を通って前記第1基板支持部が移動する請求項12記載の基板処理装置
    の基板移送及びロードロックアッセンブリ。
  17. 【請求項17】 前記基板ポッド受容チャンバに接続された第2ロードロック
    チャンバをさらに備え、当該第2ロードロックチャンバは前記第1ロードロック
    チャンバから見ると前記基板ポッド受容チャンバの反対側にあり、前記基板ポッ
    ド受容チャンバは前記第1ロードロックチャンバと第2ロードロックチャンバの
    間に位置する請求項12記載の基板処理装置の基板移送及びロードロックアッセ
    ンブリ。
  18. 【請求項18】 前記基板エレベータは第2基板支持部を有し、当該第2基板
    支持部は前記第1基板支持部と同調して移動し、前記第1基板支持部は前記第1
    ロードロックチャンバと基板ポッド受容チャンバとの間で移動することができ、
    前記第2基板支持部は前記第2ロードロックチャンバと基板ポッド受容チャンバ
    との間で移動することができる請求項17記載の基板処理装置の基板移送及びロ
    ードロックアッセンブリ。
  19. 【請求項19】 前記移送部はサイドドアを前記ポータブル式基板ポッドのメ
    インハウジングから取り外す取外部を有し、前記可動アームにより、前記メイン
    ハウジングを前記基板ポッド受容チャンバに出入れする請求項12記載の基板処
    理装置の基板移送及びロードロックアッセンブリ。
  20. 【請求項20】 前記基板ポッド受容チャンバの前部開口部に可動ドアを設け
    た請求項12記載の基板処理装置の基板移送及びロードロックアッセンブリ。
  21. 【請求項21】 前記第1ロードロックチャンバの後部開口部に可動ドアを設
    けた請求項12記載の基板処理装置の基板移送及びロードロックアッセンブリ。
  22. 【請求項22】 前記移送部は複数のポータブル式基板ポッドを支持すること
    ができ、且つ、前記基板ポッド受容チャンバへの開口部における所定位置に前記
    複数のポータブル式基板ポッドをそれぞれ移動することができる請求項12記載
    の基板処理装置の基板移送及びロードロックアッセンブリ。
  23. 【請求項23】 第1ロードロックチャンバと、これと垂直方向において所定
    の上下関係を有する基板移送ロボットチャンバとを有するフレームと、 垂直駆動部とこれに接続された第1基板支持部とを有する第1基板エレベータ
    と、 可動アームアッセンブリとこれに連結された端部作動体と有する基板移送ロボ
    ットと、 からなる基板処理装置の基板移送及びロードロックアッセンブリであって、 前記第1基板支持部は前記垂直駆動部により、前記第1ロードロックチャンバ
    内の位置と前記基板移送ロボットチャンバ内の位置との間を垂直方向に動くこと
    ができ、 前記端部作動体のサイズと形状は、少なくとも1つの基板を載置できるように
    決定されており、前記可動アームアッセンブリは前記基板移送ロボットチャンバ
    内に位置され、 前記第1基板支持部が前記第1ロードロックチャンバ内にあるとき、前記可動
    アームアッセンブリは前記基板移送ロボットチャンバの所定エリアに移動するこ
    とができ、前記所定のエリアは前記第1基板支持部から垂直方向にオフセットさ
    れ且つ少なくとも部分的に前記第1基板支持部と整列している、 ことを特徴とする基板処理装置の基板移送及びロードロックアッセンブリ。
  24. 【請求項24】 前記基板移送ロボットを水平方向に移動させる水平移動部を
    さらに備える請求項23記載の基板処理装置の基板移送及びロードロックアッセ
    ンブリ。
  25. 【請求項25】 前記水平移動部は前記フレームに移動可動に設けられた車両
    を有し、前記基板移送ロボットは前記車両に取り付けられている請求項24記載
    の基板処理装置の基板移送及びロードロックアッセンブリ。
  26. 【請求項26】 前記フレームは前記第1ロードロックチャンバの所定の面に
    第2ロードロックチャンバを有すると共に第2基板エレベータを有し、当該第2
    基板エレベータの第2基板支持部は前記第2ロードロックチャンバ内の位置と前
    記基板移送ロボットチャンバ内の位置との間で垂直方向に移動可能である請求項
    23記載の基板処理装置の基板移送及びロードロックアッセンブリ。
  27. 【請求項27】 前記フレームは少なくとも2つの隣接するエリアを有し、こ
    れらエリアにポータブル式基板コンテナを収容し、前記基板移送ロボットは前記
    少なくとも2つのエリアに位置する前記ポータブル式基板コンテナへ基板を搬入
    及び搬出できる請求項26記載の基板処理装置の基板移送及びロードロックアッ
    センブリ。
  28. 【請求項28】 前記基板移送ロボットは駆動部を有し、前記可動アームアッ
    センブリはSCARA(Selective Compliance Assembly Robot Arm)アームからなる
    請求項27記載の基板処理装置の基板移送及びロードロックアッセンブリ。
  29. 【請求項29】 前記駆動部は前記フレームに固定された基部を有する請求項
    28記載の基板処理装置の基板移送及びロードロックアッセンブリ。
  30. 【請求項30】 基板を第1ロードロックチャンバとポータブル式基板コンテ
    ナとの間で移送する方法であって、 前記方法は、前記基板を前記ポータブル式基板コンテナから第1基板エレベー
    タに移動するステップを有し、前記第1基板エレベータは前記基板を直接個々に
    載置するための第1基板支持部を備え、前記第1基板支持部は垂直方向において
    前記第1ロードロックチャンバに少なくとも部分的に整列する受容チャンバ内に
    設けられ、 前記方法はさらに、前記基板エレベータを動かすことにより、前記第1基板支
    持部を垂直方向に移動させて前記受容チャンバから前記第1ロードロックチャン
    バへ移すステップを有し、 前記基板が前記ポータブル式基板コンテナから前記第1基板エレベータへ移動
    される間、前記ポータブル式基板コンテナは前記受容チャンバの内部または近傍
    に位置する、 ことを特徴とする方法。
  31. 【請求項31】 前記基板を前記ポータブル式基板コンテナから前記基板エレ
    ベータに移送するステップは、前記コンテナのメインハウジングを前記基板と共
    にコンテナ収容エリアに移動するステップを含み、前記基板支持部は前記コンテ
    ナ受容エリア内に位置されており、且つ、前記メインハウジング内に延び、 前記基板を前記ポータブル式基板コンテナから前記基板エレベータに移送する
    ステップはさらに、前記基板を前記基板支持部に載置するステップと、前記メイ
    ンハウジングを前記コンテナ受容エリアから搬出するステップとを含む請求項3
    0記載の方法。
  32. 【請求項32】 前記基板を前記ポータブル式基板コンテナから前記基板エレ
    ベータに移送するステップは、基板移送ロボットのSCARAアームを第2ロードロ
    ックチャンバと第2基板支持部の下に移動するステップを含む請求項30記載の
    方法。
  33. 【請求項33】 前記基板を前記ポータブル式基板コンテナから前記基板エレ
    ベータに移送するステップは、基板移送ロボットの可動アームを動かすステップ
    を含み、前記第1基板支持部が前記第1ロードロックチャンバ内にあるとき、前
    記可動アームは前記第1ロードロックチャンバに対して移動可能であり、その際
    、前記可動アームと前記第1ロードロックチャンバはどちらか一方が他方の下に
    位置する請求項30記載の方法。
  34. 【請求項34】 互いに垂直方向においてオフセットされた第1ロードロック
    チャンバと第2ロードロックチャンバと受容チャンバとを有するフレームと、 駆動部とこれに連結された少なくとも1つの基板支持部とを有する少なくとも
    1つの基板エレベータと、 少なくとも1つの基板を載置する可動アームを有する移送部と、 からなる基板処理装置の基板移送及びロードロックアッセンブリであって、 前記基板支持部は前記駆動部により、前記第1及び第2ロードロックチャンバ
    の少なくとも一方の内部位置と前記受容チャンバの内部位置との間を垂直方向に
    動くことができ、 前記移送部は前記少なくとも1つの基板を前記受容チャンバに出入れし、 前記第1及び第2ロードロックチャンバの各々は別個のドア式開口部を有し、
    当該ドア式開口部を通って、前記基板が前記ロードロックチャンバと基板処理装
    置のメイントランスファチャンバとの間で移送される、 ことを特徴とする基板処理装置の基板移送及びロードロックアッセンブリ。
  35. 【請求項35】 少なくとも部分的に垂直方向において互いにオフセットさ
    れた第1ロードロックチャンバと第2ロードロックチャンバと基板受容チャンバ
    とを有するハウジングと、 駆動部とこれに連結された少なくとも1つの基板支持部とを有する基板移送機
    構と、 からなる基板処理装置の基板ロードロックアッセンブリであって、 前記ハウジングの第1面は前記基板収容チャンバ用のドア式開口部を有し、 前記ハウジングの第2面は前記第1ロードロードチャンバ用のドア式開口部と
    前記第2ロードロードチャンバ用のドア式開口部とを有し、 前記ハウジングの第2面は前記ロードロックアッセンブリのメイントランスフ
    ァチャンバの面であり、この面が基板処理装置のメイントランスファチャンバに
    直接取り付けられ、 前記支持部は前記駆動部により複数の位置の間で垂直方向に動くことができ、
    前記複数の位置の中の第1位置は前記第1及び第2ロードロックチャンバの少な
    くとも一方の内部にある位置であり、前記複数の位置の中の第2位置は前記基板
    受領チャンバの内部にある位置である、 ことを特徴とする基板処理装置の基板ロードロックアッセンブリ。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014080851A1 (ja) * 2012-11-22 2014-05-30 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、蓋開閉機構、遮蔽機構及び容器の内部パージ方法
JP2020524901A (ja) * 2017-06-23 2020-08-20 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated 側方収納ポッド、機器フロントエンドモジュール、及び、基板を処理する方法

Families Citing this family (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ES2229247T3 (es) * 1995-03-28 2005-04-16 Brooks Automation Gmbh Estacion de carga y descarga para instalaciones de tratamiento de semiconductores.
JP2000286319A (ja) * 1999-03-31 2000-10-13 Canon Inc 基板搬送方法および半導体製造装置
US6811369B2 (en) * 1999-09-02 2004-11-02 Canon Kabushiki Kaisha Semiconductor fabrication apparatus, pod carry apparatus, pod carry method, and semiconductor device production method
US6949143B1 (en) * 1999-12-15 2005-09-27 Applied Materials, Inc. Dual substrate loadlock process equipment
JP2002184831A (ja) * 2000-12-11 2002-06-28 Hirata Corp Foupオープナ
DE10134755B4 (de) * 2001-07-17 2004-08-05 Infineon Technologies Ag Verfahren zur Messung einer charakteristischen Abmessung wenigstens einer Struktur auf Halbleiterwafern
US7316966B2 (en) 2001-09-21 2008-01-08 Applied Materials, Inc. Method for transferring substrates in a load lock chamber
US20030194299A1 (en) * 2002-04-15 2003-10-16 Yoo Woo Sik Processing system for semiconductor wafers
US7204669B2 (en) 2002-07-17 2007-04-17 Applied Materials, Inc. Semiconductor substrate damage protection system
US6869263B2 (en) * 2002-07-22 2005-03-22 Brooks Automation, Inc. Substrate loading and unloading station with buffer
US7677859B2 (en) * 2002-07-22 2010-03-16 Brooks Automation, Inc. Substrate loading and uploading station with buffer
JP2004071730A (ja) * 2002-08-05 2004-03-04 Sendai Nikon:Kk レチクルハンドリング方法、レチクルハンドリング装置及び露光装置
FR2844258B1 (fr) * 2002-09-06 2005-06-03 Recif Sa Systeme de transport et stockage de conteneurs de plaques de semi-conducteur, et mecanisme de transfert
JP3865703B2 (ja) * 2002-10-25 2007-01-10 ファナック株式会社 物品搬送システム及び搬送方法
EP1560944B1 (en) * 2002-11-15 2014-03-05 TEL Solar AG Apparatus for vacuum treating two dimensionally extended substrates and method for manufacturing such substrates
CN101894779B (zh) * 2003-08-29 2013-05-01 交叉自动控制公司 用于半导体处理的方法和装置
US7207766B2 (en) 2003-10-20 2007-04-24 Applied Materials, Inc. Load lock chamber for large area substrate processing system
US7621714B2 (en) * 2003-10-23 2009-11-24 Tdk Corporation Pod clamping unit in pod opener, pod corresponding to pod clamping unit, and clamping mechanism and clamping method using pod clamping unit
US10086511B2 (en) 2003-11-10 2018-10-02 Brooks Automation, Inc. Semiconductor manufacturing systems
US20050113964A1 (en) 2003-11-10 2005-05-26 Blueshift Technologies, Inc. Sensor methods and systems for semiconductor handling
US7458763B2 (en) 2003-11-10 2008-12-02 Blueshift Technologies, Inc. Mid-entry load lock for semiconductor handling system
US20070269297A1 (en) 2003-11-10 2007-11-22 Meulen Peter V D Semiconductor wafer handling and transport
US7345736B2 (en) * 2004-06-21 2008-03-18 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
DE112005001989T5 (de) * 2004-08-17 2007-08-02 Mattson Technology Inc., Fremont Kostengünstige Prozessierplattform mit hohem Durchsatz
US8668422B2 (en) * 2004-08-17 2014-03-11 Mattson Technology, Inc. Low cost high throughput processing platform
US7845891B2 (en) 2006-01-13 2010-12-07 Applied Materials, Inc. Decoupled chamber body
US7665951B2 (en) 2006-06-02 2010-02-23 Applied Materials, Inc. Multiple slot load lock chamber and method of operation
US7845618B2 (en) 2006-06-28 2010-12-07 Applied Materials, Inc. Valve door with ball coupling
US8124907B2 (en) 2006-08-04 2012-02-28 Applied Materials, Inc. Load lock chamber with decoupled slit valve door seal compartment
WO2008144664A1 (en) 2007-05-18 2008-11-27 Brooks Automation, Inc. Compact substrate transport system with fast swap robot
WO2008144670A1 (en) 2007-05-18 2008-11-27 Brooks Automation, Inc. Load lock fast pump vent
US10541157B2 (en) 2007-05-18 2020-01-21 Brooks Automation, Inc. Load lock fast pump vent
US9748125B2 (en) * 2012-01-31 2017-08-29 Applied Materials, Inc. Continuous substrate processing system
CN112005356A (zh) * 2018-05-03 2020-11-27 应用材料公司 高速旋转分类器中的基板倾斜控制
US11508593B2 (en) * 2018-10-26 2022-11-22 Applied Materials, Inc. Side storage pods, electronic device processing systems, and methods for operating the same
JP2022122205A (ja) * 2021-02-09 2022-08-22 株式会社ディスコ シートの貼着装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08288191A (ja) * 1995-04-20 1996-11-01 Hitachi Ltd 半導体製造装置
JPH1187467A (ja) * 1997-09-10 1999-03-30 Tokyo Electron Ltd ロードロック機構及び処理装置

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5431529A (en) 1992-12-28 1995-07-11 Brooks Automation, Inc. Articulated arm transfer device
DE69304038T2 (de) 1993-01-28 1996-12-19 Applied Materials Inc Vorrichtung für ein Vakuumverfahren mit verbessertem Durchsatz
KR100221983B1 (ko) 1993-04-13 1999-09-15 히가시 데쓰로 처리장치
EP0696242B2 (en) 1993-04-16 2004-10-13 Brooks Automation, Inc. Articulated arm transfer device
CH687986A5 (de) * 1993-05-03 1997-04-15 Balzers Hochvakuum Plasmabehandlungsanlage und Verfahren zu deren Betrieb.
US5934856A (en) * 1994-05-23 1999-08-10 Tokyo Electron Limited Multi-chamber treatment system
JPH08213446A (ja) * 1994-12-08 1996-08-20 Tokyo Electron Ltd 処理装置
ES2229247T3 (es) * 1995-03-28 2005-04-16 Brooks Automation Gmbh Estacion de carga y descarga para instalaciones de tratamiento de semiconductores.
US5664925A (en) * 1995-07-06 1997-09-09 Brooks Automation, Inc. Batchloader for load lock
US6062798A (en) 1996-06-13 2000-05-16 Brooks Automation, Inc. Multi-level substrate processing apparatus
TW344847B (en) * 1996-08-29 1998-11-11 Tokyo Electron Co Ltd Substrate treatment system, substrate transfer system, and substrate transfer method
US6048154A (en) * 1996-10-02 2000-04-11 Applied Materials, Inc. High vacuum dual stage load lock and method for loading and unloading wafers using a high vacuum dual stage load lock
US5909994A (en) * 1996-11-18 1999-06-08 Applied Materials, Inc. Vertical dual loadlock chamber
US5855681A (en) 1996-11-18 1999-01-05 Applied Materials, Inc. Ultra high throughput wafer vacuum processing system
US5964561A (en) * 1996-12-11 1999-10-12 Applied Materials, Inc. Compact apparatus and method for storing and loading semiconductor wafer carriers
US5882413A (en) 1997-07-11 1999-03-16 Brooks Automation, Inc. Substrate processing apparatus having a substrate transport with a front end extension and an internal substrate buffer
US6053688A (en) * 1997-08-25 2000-04-25 Cheng; David Method and apparatus for loading and unloading wafers from a wafer carrier
US6042623A (en) * 1998-01-12 2000-03-28 Tokyo Electron Limited Two-wafer loadlock wafer processing apparatus and loading and unloading method therefor
JP3286240B2 (ja) * 1998-02-09 2002-05-27 日本エー・エス・エム株式会社 半導体処理用ロードロック装置及び方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08288191A (ja) * 1995-04-20 1996-11-01 Hitachi Ltd 半導体製造装置
JPH1187467A (ja) * 1997-09-10 1999-03-30 Tokyo Electron Ltd ロードロック機構及び処理装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014080851A1 (ja) * 2012-11-22 2014-05-30 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、蓋開閉機構、遮蔽機構及び容器の内部パージ方法
JP2020524901A (ja) * 2017-06-23 2020-08-20 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated 側方収納ポッド、機器フロントエンドモジュール、及び、基板を処理する方法
JP2022095763A (ja) * 2017-06-23 2022-06-28 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド 側方収納ポッド、機器フロントエンドモジュール、及び、基板を処理する方法
JP7267210B2 (ja) 2017-06-23 2023-05-01 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド 側方収納ポッド、機器フロントエンドモジュール、及び、基板を処理する方法
JP7413428B2 (ja) 2017-06-23 2024-01-15 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド 側方収納ポッド、機器フロントエンドモジュール、及び、基板を処理する方法

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