JP2003515699A - 高粘度の流体をポンピングするための装置および方法 - Google Patents
高粘度の流体をポンピングするための装置および方法Info
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Abstract
Description
し、またこのようなポンプで製造する様々な製品に関する。
子が剪断され易い流体に有用なポンピング装置に関する。本発明はまた、上記ポ
ンピング装置および方法で製造され、従来技術による装置と比べて製品の品質お
よび歩留まりが改善され得た、シリコンチップやウエハなどのマイクロエレクト
ロニクス部品、マイクロエレクトロニクス基板、および回路に関する。
号、および同第5,516,429号に開示されている。本発明は様々に応用することが
できるが、特にマイクロエレクトロニクスの分野で有用である。この分野では、
小さな基板上に極めて多数の回路を含める集積化が進んでいる。また、回路の外
形がますます縮小され、ますます高価な材料が使用されるようになり、それに応
じた汚染物質が除去されたクリーンルーム環境や、製造装置、濾過装置、および
処理装置が今まで以上に求められている。また、経済的な理由等から最終製品の
歩留まりを改善することが重要であろう。
装置および方法は、様々な条件や応用に対応している。本発明は、上記技術の更
なる改良、およびこのような改良の別の技術への応用に関する。
純化、およびその経路を直立上向きにすることによって、汚染のリスク、または
空気の巻き込みなどの問題が低減されると共に、流体の所望の濾過、分注、およ
びその他の処理を従来と同等以上の信頼性および精度で制御することができる。
本発明による更なる製造方法および設計の改良によって、流体の全経路をテフロ
ンや類似の非汚染性の材料で被覆したり、そのような材料から形成することが可
能となり、あらゆる汚染のリスクが低減される。
同第5,516,429号によって、多くの問題点が解決された。特に、特定の実施例に
おけるこれらの装置は、流体を正確な量分注するべく別個の2つのコンピュータ
制御されたポンプを含む、ダイアフラム型流体分注装置が用いられている。しか
しながら、上記特許における好適な実施例では、流体の経路がポンプ装置内を曲
がりくねっている。適用例によっては、このような経路では、流体内やシステム
内に閉じ込められ得る汚染性の気泡を最適に排気することができない。たとえ再
プライミングが必要でないにしても、例えば、原料となる流体を周期的に変更す
る際の少量の気泡の混入は避けがたいものである。流体の経路の部分が金属やそ
の他の比較的汚染の危険のある材料から形成されると、その程度は低いがその材
料に応じた好ましくない流体の汚染のリスクが発生する。
かではあるが適用例によっては最終製品の品質がある程度低下する恐れがある。
別法では、原料の容器を変える時に、このような気泡や汚染物質を所定時間フラ
ッシュして、流体分注システムの精度が低下(低下したとしてもその程度は低い
)しないようにする。前記したこれらの特許および発明は、上記の点で十分に機
能し、それ以前の技術に比べれば格段の進歩を遂げており、上記の潜在的な問題
点に十分に対応できるように構成されているが、本発明は上記の点についての改
良を提供する。
な構成部品を単純化し、かつその数を減らすことによって、それに応じて組み立
てやメンテナンスが単純になる。連結部、シール部、継手部、および関連する潜
在的な漏れ部の数を減らして、汚染や空気の巻き込みなどのリスクを低減するこ
とがより重要であろう。更に、流体の経路を減らして再配置し、従来の装置より
本装置のハウジングのフットプリントを小さくする或いはその他の方法で本装置
を小型化して、その分、本ポンプ装置に必要な工場の貴重な空間を縮小すること
ができる。
分注装置を提供することである。この装置の特徴は、装置が通常の直立した状態
にある場合、流路が入口から出口にかけて実質的に垂直になっており、また全流
路の濡れる表面がテフロン或いは類似の非汚染性の材料から形成されることであ
る。好適な実施例では、様々な部品が一体形成されて単一構造になっていること
により、継手および接合部の数が少ないなど、従来の装置に比べ流路が単純化さ
れている。
ング手段との組み合わせを含み、前記第1のポンピング手段と前記第2のポンピ
ング手段によって、前記流体が前記第1のポンピング手段から前記第2のポンピ
ング手段に実質的に一貫して上方に流れる流体の経路が提供される、正確な制御
で流体を処理するための装置を提供することである。上記したように、流体と接
触する第1および第2のポンピング手段の表面は、例えばテフロンなどの比較的
非汚染性の材料から形成されるか或いはそのような材料でコーティングされるの
が好ましい。こうすることで、クリーンルームなどの環境において高純度流体用
に本装置を利用しやすくなる。
れたフィルタ手段を含み、第1のポンピング手段からフィルタ手段を通って第2
のポンピング手段に、流体が実質的に一貫して上向きに流れるような経路が好ま
しく、実質的に全ての接触表面が非汚染性であるのが好ましい。好適な実施例で
は、ポンプヘッド部および該ポンプヘッド部内の弁は、実際にテフロンから形成
されており、流路に沿った全ての継手は、テフロンから形成されたフレア継手で
あるか、或いは流体に対して非汚染性である濡れた表面を有するフレア継手であ
る。本発明の非汚染性の材料には、限定するものではないが、テフロン(TFE &
PFA)、Kalrez(フッ素化されたテフロン様エラストマー)、またはその他の材
料を含むあらゆる好適な非汚染性の材料を用いることができる。本発明には様々
な継手を用いることができるが、その一例として、市販されているFuron Flare
Grip(登録商標)PFA管継手を容易に用いることができる。
部分から取り外し可能な上側ヘッド部分と、上側ヘッド部分と下側部分との間に
ポンプ室が形成されるように、両部分を一時的に組み付けるための手段とを含む
ことを特徴とする装置或いはシステムを提供することである。上側ヘッド部分が
、その上側ヘッド部内に一体形成された濾過室に向かって実質的に上方にプロセ
ス流体を流すように構成された一体形成された弁手段を含むのが好ましい。この
一体形成された弁によって、粘着性の流体およびその他の流体を比較的低圧で濾
過することができるようになると共に流体における分子の剪断が低下する。これ
は部分的に、従来の装置に比べ、この弁の内部の流路が比較的多く、障害が少な
いことによる。この弁はまた、流体がこの弁を通過する際の圧力差すなわち圧力
低下を抑制する。
が、下側部分から取り外し可能な上側ヘッド部分と、前記上側ヘッド部分と前記
下側部分との間にポンプ室が形成されるように両部分を一時的に組み付けるため
の手段とを含むことを特徴とする装置或いはシステムを提供することである。第
2のポンピング手段の上側ヘッド部分が、その内部に一体形成されたT字形流路
を含み、そのT字形流路によって、ポンプ室から上側ヘッド部分からのディスペ
ンサに至る、流体が実質的に真上に向いて流れる、流路が設けられるのが好まし
い。好適なT字流路は、第1のポンピング手段によってポンピングされた後、そ
の流体を受け取るための入口部分を含み、本装置が通常の直立した状態に配置さ
れている場合は、第2のポンプの上側ヘッド部分からのディスペンサが、入口部
分より高い位置に配置されている。
1のポンピング手段より全体的に高い位置に配置されており、第1のポンピング
手段の出口から第2のポンピング手段の入口に至る流体の経路が、本装置が通常
の直立した状態に配置されている場合に下向きの部分を含まないという特徴を有
する装置或いはシステムを提供することである。
プを有し、前記ヘッドが、流体が前記第1のダイアフラム型ポンプに流れるよう
に制御するように一体形成された弁を含む流体を分注するための装置を提供する
ことである。この装置は更に、前記第1のダイアフラム型ポンプより全体的に上
方に配置され、第1のダイアフラム型ポンプによってポンピングされた流体を受
け取るように構成された第2のダイアフラム型ポンプと、実質的に上向きである
前記第1のダイアフラム型ポンプから前記第2のダイアフラム型ポンプへの流路
を含む。
るように、前記フィルタハウジングの上方すなわち上流にベント弁を設けること
である。このベント弁が、圧力解放弁すなわち安全弁として機能して、流体の圧
力および装置自体の圧力が選択したレベルを超えないようにすることが好ましい
。また、ベント弁が、濾過室内の高い位置に配置されることが好ましい。
れ、前記流体を受け取って、前記第1のポンピング部材から実質的に上向きの経
路に前記流体を流すように適合された弁手段を設けるステップ、前記第1のポン
ピング部材を動作させて前記流体を流体源から吸入するステップ、および前記第
1のポンピング手段を動作させて前記第1のポンピング部材から前記流体を上方
に供給するステップの内の1つ以上を含む流体を濾過して分注する方法を提供す
ることである。上記したこれらのステップは更に、前記第1のポンピング部材の
前記上側ヘッドに一体的に形成される濾過室を設けるステップと、前記第1のポ
ンピング部材の更なる動作によって、前記流体が前記第1のポンピング部材から
前記濾過室に上向きに送られるように、前記第1のポンピング部材から前記弁手
段を経て前記濾過室に至る実質的に真上へに向いた流路を前記上側ヘッド内部に
設けるステップとを含む。
方に第2のポンピング部材を設けるステップと、前記第1のポンピング部材と前
記第2のポンピング部材の間では前記流体が下向きに流れないような流路手段を
、それらのポンピング部材間に設けるステップと、前記流体を前記下向きでない
流路に沿ってポンピングするステップとが含まれる。
めに、前記第2のポンピング部材の下流に、前記流体を汚染しないすなわち前記
流体の中に気体を導入しない実質的に押し出す量が0の弁を設けることを含む装
置および方法を提供することである。特に、好適な弁によって、本発明の供給量
の精度或いはその他の性能を低下させるような、弁の動作により、例えば供給ラ
インから流体を押し出すなどの流体が押し出される可能性が排除或いは低減され
る。
他にも様々に適用できるであろう。さらに、好適な実施例は、2つのポンピング
手段の間にフィルタが配置された該2つのポンピング手段を含むが、フィルタを
含まなくても、またフィルタの有無に関わらず1つのポンピング手段であっても
本発明の利点が得られるであろう。
る流体の方向および圧力はもちろん、分注の速度や間隔を制御するためにコンピ
ュータ或いは他の自動化されたディジタル制御を利用することができる。従って
、本発明の別の目的は、動作を様々に変更することができ様々に応用可能な分注
装置を提供することである。本装置は、ステッパーやサーボモータ、または類似
の技術、様々なコンピュータソフトウエア、ハードウエア、および無線或いは有
線の通信システムで制御すなわち運転することができる。
低減するような比較的短い流路、および比較的小さいフットプリントを有する比
較的コンパクトなポンプの設計を提供することである。
ップ、または他のミクロエレクトロニクスデバイスを提供することである。
になるであろう。
ステム10の好適な実施例が示されている。システム10は、吸入口12から吐
出口46に流体を送出するべく機能的に連結された第1のポンピング手段すなわ
ちマスターポンプ20、および第2のポンピング手段すなわちスレーブポンプ3
0を有するのが好ましい。ここで記載するように、濾過手段は、流体を濾過する
べくマスターポンプ20とスレーブポンプ30との間、或いはマスターポンプ2
0内に設けられるのが好ましい。
要が、米国特許第5,167,837号、同第5,516,429号、及び同第5,772,899号に開示
されており、言及することを以ってこれらを本明細書の一部とする。本発明の好
適な動作方法の概要が図8に例示されている。まず、マスターポンプ20の動作
によって流体源60(図8)から流体が吸入口12を介してシステム10内に導
入される。このプロセスの一部として、マスターポンプに一体形成された三方弁
140が、流体がダイアフラム型の第1のポンプ18に吸入されるように配置さ
れている(前述の特許に記載されているように、ダイアフラムが下方に移動する
ことにより吸入される)。次に、弁140が、流体がポンプ18から上方に送ら
れ、弁140を経てフィルタ27に流入するように動作する。1或いは複数のベ
ント弁または逆止弁(ベント弁36及び逆止弁49など)を、好ましくない巻き
込まれた気体を排気したり、好ましくない逆流を防止するために流路の適切な位
置に沿って配置することができる。この詳細については後述する。ベント弁36
は、流体を流体源60に戻す、或いは排出する(図示せず)。ベント弁36に流
れる以外のフィルタを通過した流体は、好ましくは別の三方弁99に流体を送る
第2のダイアフラム型ポンプ44に送られるのが好ましい、図8を参照すると、
弁99(例えばここに記載する変位が0で非汚染性の弁などのあらゆる好適な弁
を用いることができる)を、任意の好適な位置に配置することができるが、通常
は実際のディスペンサに隣接するように第2のポンプ44から離れた位置に配置
して、最終的な分注、滴下、吸い戻し(suckback)などを正確に制御する能力を
高めるようにす)。第2の弁99を選択的に動作させて、流体を供給源60に戻
したり、基板やその他のマイクロエレクトロニクスチップ、または処理中のデバ
イス上に分注することができる(図示せず)。
同第5,516,429号、及び同第5,772,899号に開示した概念の多くが本発明の説明に
適用できることを理解できるであろう。このような従来の発明に対して改良され
た重要ないくつかの点をここに開示、すなわち説明する。
て、その経路が実質的に上方に向かっているのが好ましい(しかしながら、弁9
9によって流体が流体源に戻される場合は、明らかに流体が下方に流れ、元のレ
ベルに戻される)。この好適な上方向流路は、第1のポンピング部材20におい
て可能な限り低く位置に好適に配置された吸入口12を含む。流体がポンプ室1
8及び44に導入される経路のみが、下方向であるのが好ましい。当分野の通常
の技術を有する者であれば、この下方向の流れが、ポンプのプライミング、その
他の有利な性能、及びシステム10のパッケージ化を促進し(比較的小さなフッ
トプリント内に好適な液圧式ポンプ、ダイアフラム式ポンプ、及びポンプ上部や
フィルタをパッケージ化の実現を促進することを含む)、これらのポンピング室
18及び44のそれぞれに隣接する下流側の部品及び要素を好適に実質的に直立
上向きに配置及び構成することによって、このようにしなければ発生し得るあら
ゆる気体の連行或いはそれに関連する問題を最小にすることができる。例えば、
好適な実施例は、ポンプ室18及び44の最も高い位置にある領域からベント弁
36(図6を参照)及び第2のポンプの吐出口46に至る相対的に垂直な経路2
2、23、及び45(図3及び図7を参照)を提供する。従って、好適な実施例
では、全ての下方への流れの後、直ちにダイアフラムポンプによって流体が上方
に送られるため、すべての巻き込まれた空気がパージされ、流体の全体的な上方
への流れが続くようになる。
全流路は、従来のシステムより接合部の数が少なくされると共に、接合部及び流
路自体が好ましくはテフロン或いは類似の材料から形成されるか、或いはそのよ
うな材料でコーティングされ、流体のあらゆる汚染のリスクが低減されている。
上記したように、市販されているFlare Grip(登録商標)PFA管継手などのフレ
ア管継手を容易に利用できるのが好ましい。
2とが互いに組み付けられることにより形成された第1のポンプ室18を含む。
この上部ヘッド部分120と下側部分122との間には、フレキシブルダイアフ
ラム124が挟持されかつシールされている。流体の漏れを防止するためにシー
リング部材127を配設するのが好ましい。ダイアフラム124は、テフロンや
類似の非汚染性の材料から形成される或いはそれらの材料でコーティングされる
のが好ましい。
にそれぞれの図2に少なくともある程度類似しており、ダイアフラム124及び
下側部分122は、ダイアフラムの正確に制御された動作及びフレックスによっ
て流体の送出が可能となるように構成されるのが好ましい。これは、ダイアフラ
ム124の下側空間125に流体を流入させ、かつそこから流体を流出させるス
テッパーアセンブリ、サーボモータ、または類似の装置によって達成できる。好
適な実施例では、比較的圧縮されにくい動作流体を、端部にステッパーアセンブ
リ180などが連結されている(図示せず)配管或いは経路126内にポンピン
グして達成することができる。当分野の通常の技術を有する者であれば、以下に
示すように、経路126を、その他の内部経路も可能であるが、図13に示され
ている経路226などの内部経路を含むあらゆる適切な構成にしてもよい。ベー
ス部161などのベース部材は任意の好適な丈夫な材料から形成されるのが好ま
しいが、流体がそのベース部或いはその内部のいかなる経路とも接触しないため
、汚染についてそれほど気を遣う必要はない。図1及び図2に示されている位置
を示すフィードバックフラッグ184及び194、リミットスイッチ182及び
192が、システム10の制御及び動作を容易にするためにピストン或いはステ
ップアセンブリに配置されるのが好ましい。例えば、図9−図14に例示されて
いるような本発明の別の実施例では、ピストンから延出したそのピストンと共に
移動するフラッグ284及び294を検出する光学リミットスイッチ282及び
292を用いている。
同第5,516,429号、及び同第5,772,899号の図2に例示されている構成に類似して
いる。動作流体のための一体型経路が、例えば、図12及び図13に示されてい
るように、機械加工或いはその他の方法でベース部161の様々な方向に設けら
れている。図12では、二次ポンプを動作するための経路225の例が、図13
では、主ポンプを動作するための経路226の例が示されている。
的に働くように保持することができる。好ましくは、ねじが設けられているナッ
ト128は、上側ヘッド部分120の外側に設けられた溝に配置された保持フラ
ンジ129によって上側ヘッド部分120に保持されると共に、下側部分122
の外側に設けられた対応するねじ130と螺合している。ナット128及び下側
部分122の材料はあらゆる材料が可能であるが、ヘッド部分120と下側部分
122との組付けが強固にかつ何度も行えるように金属から形成されるのが好ま
しい。好適な実施例では、部材130及び128に設けられているねじが比較的
粗くなっており、第1のポンピング手段20の整備やその他のメンテナンスのた
めの2つの部分120と122との組み付け及び分解が迅速に行える。また大き
なねじは、小さな細かいねじよりも清掃が比較的簡単である。
るモノリシック部材が好ましい。本明細書で説明するように、モノリシックであ
るため、そのヘッド内に様々な構造や部材を直接設けることができる。従って、
改良された流体の経路の上記した利点が得られ、汚染の恐れのある接合部の数を
減らすことができる。
アセンブリ140(図3及び図4を参照)をその内部に含むのが特に好ましい。
弁140は、吸入口12に連結された流体源から弁140を介してポンプ室18
に至る選択的な流れ(1)、およびポンプ室18から上方に弁140を介してフ
ィルタ27に至る選択された流れ(2)を可能にする三方弁が好ましい。好適な
実施例では、弁手段140は、米国特許第5,261,442号に開示されたものに類似
の要素を含むが、当業者であれば様々なタイプのバルブを使用できることを理解
できるであろう。
弁を含むが、本発明の別の実施例は別のバルブ構造を利用するか、或いはバルブ
構造を全く含まないようにしても良い。例えば、別の実施例では、スレーブポン
プ30の記載において本明細書で説明したような逆止弁49に類似した逆止弁を
、吸入口12とポンプ室18との間の流体の経路に沿って配置しても良い。当分
野で通常の技術を有する者であれば、逆止弁は、ポンプ室18内へ流体が流れる
ように作用するが、ポンプ室18から力が加わっても流体が流体源に向かって逆
流しないように作用することを理解できるであろう。いずれの場合も、好適な流
体の流れは、ポンプ室18(その分注ストロークにおける)からモノリシック部
材120の実質的に垂直な経路22及び23に流れる。
2及び23、及びその他の要素を、上側ヘッド部分120を形成するための機械
加工、穿孔、切断、またはその他の方法を含むあらゆる適切な手段で形成できる
ことを理解できるであろう。これらの要素をヘッド部分120と一体的に形成す
ることによって、ヘッド部分120自体の材料が従来の装置に用いられている様
々な接合部の代わりとなり、従来の装置に比べて単純化した流体の経路を提供す
るのが好ましい。
入口12から流体がシステム内に導入される。本明細書で示したように、本明細
書で説明したその他の接合部と同様の接合部13は、例えばテフロンまたはテフ
ロン被覆された非汚染性のフレア接合部を含むのが好ましい。フレア接合部は半
導体業界では一般的である。一般に、ナット205(図9及び図12)などのナ
ットは、形成される本接合部に隣接して設けられ、管は特殊な工具やプロセスを
用いて外側に向いてフレア(膨張している或いは広がっている)にされており、
接合マンドリル上を滑動する。ナットを締めると、フレア配管が所定の位置に保
持されシールされる。
リングすなわちタング202を有するニップル201が示されている。このタン
グ202は、ヘッド220(図3のヘッド120に対応する)上の対応する溝2
03の中に嵌合してシールされる。図12の実施例では、保持ショルダーすなわ
ちプレート204と共に一体的に形成されたニップル201が例示されている。
ねじすなわちボルト206(図9)またはその他の方法及び装置を用いて管継手
をヘッド220に固定する。好適な実施例では、ヘッド220の好適なテフロン
材は、ボルトのねじを直接簡単かつ確実には係合させることは困難である(ヘッ
ド220のテフロン材に直接ねじ206が形成された場合などに起こる)。従っ
て、1或いは複数のロッド207(図12)が、ヘッド220を貫通している或
いは貫通していない孔208に挿入される。当業者であれば、孔208の一方或
いは両方の端部が、少なくともある程度はヘッド220の外側から見えるように
して、孔208を穿孔してロッド207を挿入し、以下に説明するように孔20
8の中にボルト206を嵌合するようにもできるが、一体式三方弁上のプレート
209で覆っても良い。ねじ込まないでもテフロンヘッド220の中にボルト2
06を挿入できるような大きさ及び位置に、追加の孔(図示せず)をそのヘッド
220に形成する。ロッド207は好ましくはステンレス鋼から形成され、エル
ボーを蓋に固定するためのねじを受容するためのクロスドリルされた或いはタッ
ピングされた孔を有する。ボルト206の端部は、ロッド207に設けられたク
ロスドリル及びタッピングされた孔と係合するように挿入されるのが好ましい。
具体的には、これらのロッド207に設けられたこれらの孔のねじ及びその位置
が、ボルト206の位置および大きさと一致するようにして、ボルト206がこ
れらの孔に螺合して固定される。ロッド207はまた、ねじ回しなどで孔208
内のロッド207を回転させることができるように、ロッド207の両端に1或
いは複数のスロット或いはその他の構造を設けるのが好ましく、そうすることに
よってボルト206とロッド207が整合させ係合し、ヘッド220に固定する
ことができる。
に取り付けるのが便利な場合もある。特に、L字継手をニップル201に取り付
けられる或いは設ける場合である。このようにニップルが回転できるようにする
ために、スプリットリング(図示せず)或いは類似の環状構造をヘッド220に
近接した継手の外側に設け、プレート204に類似のスリーブ或いはプレートを
スプリットリングすなわちショルダーと係合するように設けることができる。プ
レート204に類似のスリーブ或いはプレートは、上記したようにヘッド220
と係合し得る。スイベルの調節は、ねじすなわちボルト206を締める前に行う
ことができるが、ねじすなわちボルトを締めた後にも行えるのが更に好ましい。
送られるようにするために、コンピュータ制御された空気動作(図示せず)によ
り開口146を介してプランジャーアセンブリ142の端部144を押して、弁
140の中央のプランジャーアセンブリ142を図4の矢印Aの方向に押し下げ
る(図10の別の実施例における要素246の説明を参照)。好適な実施例では
、プランジャーアセンブリ142の空気動作は、ダイアフラムによって制御され
るのが好ましいが、ピストンで制御することもできる。実際に、分割ロッドまた
はプランジャーなどのアクチュエータ(図示せず)或いはその他の機械機構を、
プランジャーアセンブリ144/142を動作させるために配置することができ
る。いずれの場合も、動作圧力はばね140によるばねの力より強くし、ばね1
48が、流体がポンプ室18から弁140を通ってフィルタ27に送られるデフ
ォルト位置にバルブ146を保持するようにする。プランジャー142を押し下
げてばね148を収縮させると、流体が吸入管12から垂直な流路22を経てポ
ンプ室18に送られる。プランジャー142の端部144に圧力がかからないよ
うにすると、ばね148によってプランジャー142が図4に示されている位置
に戻り、流体がポンプ室18から弁140を介してフィルタ27に送られる。
152(図3及び図4を参照)及び154(線4−4に沿った断面であるため、
図3のみ)が好ましい。経路152は、図3において観察者に向かって開いてい
て、経路154は、反対方向すなわち観察者から離れる方向すなわち図3の裏側
に向かって開いているのが好ましい。流体の流れを制限しないように好適な腎臓
形をした経路152及び154を大きくして、システム10の全体的、特にプロ
セス中の剪断応力性(shear-sensitive)、かつ/または粘度の高い流体における
効率を高める。図3及び図4を参照すると、当業者であれば理解できるように、
第1のダイアフラム124の供給ストロークによって、占有されていない中心の
空間147を通って流体が経路22の上方に送られ、環状経路149、後面を向
いた腎臓形の開口154、および経路23を経て、フィルタ27に流入する。流
体が濾過される適用例では、上側ヘッド部分が、一体成形或いは一体加工された
フィルタハウジングすなわち濾過室160を含むのが好ましい。濾過室160は
、フィルタ要素27のメンテナンスなどが容易に行えるように取り外し可能な蓋
部材162を有するのが好ましい。本明細書で説明した小型化及び非汚染性など
の利点を有するように、蓋部材162も、テフロン或いは類似の材料からなるモ
ノリシックブロックから形成されるのが好ましい。Oリングまたは類似のシール
手段166を蓋部材162と上側本体部分120との間に挟持されるように配置
して、接合部の漏れを防止するのが好ましい。第1のポンピング手段の下部外側
のナット128に類似したナット164をねじ込み、蓋部材を上側本体部分12
0に組み付けるのが好ましい。また、容易に取り外しができるようにねじが比較
的粗いのが好ましい。接合部のシールを改善し、かつ接合部およびその部分の部
品の寿命を長くするために、ナット164がポリプロピレン、テフロン、または
類似のプラスチック材料から形成されるのが好ましい。こうすることによって、
ナットを金属から形成し、上側本体部分120に形成された対応するテフロンの
ねじ部が浸食され得るような場合に比べ、接合部のねじの寿命を延ばすことがで
きる。
対応する蓋部材262(図9−図14の200番台の要素の多くは図1−図8の
100番台の要素に対応する)は、濾過室260内の下側に延出している。Oリ
ング266を外側環状溝256内に配設することによって、例えば、システムに
圧力がかかっている時に蓋部材262及びナット264の全体が垂直方向上方に
移動した場合に、図1−図8のOリング166の面シール構造と比べ、より効果
的に漏れを防止することができる。このような垂直方向の変位の可能性は、特に
ナット164或いは264の材料に左右され、ナットがプラスチックから形成さ
れている場合にはその可能性が高い。
ことができる。好適なフィルタ27の例としては、Millipore Corporationが製
造しているPI-250 Cartridge (カタログ番号:DZUP CZI K1) Wafergard F Cartr
idge (カタログ番号:WGFG 40H P1)がある。好ましくは、フィルタ手段は、第1
のポンプ20内に一体的に配設されており、それによって流体の経路の全体の長
さが短くなり、また少なくとも流体の経路内に必要な接合部の数が減っている。
理想的な非汚染性を実現するために、フィルタ27はテフロン或いは類似の材料
から形成されるか或いはそれらの材料でコーティングされるのが好ましい。
口経路165を通る時に、その流体を濾過するように構成されるのが好ましい。
垂直経路23から濾過室内へ流体が理想的に流入するようにするために、好適な
実施例は、フィルタエレメント27が濾過室の底部と離間するように1或いは複
数の隆起部分170(図3及び図5を参照)を有する。この構造では、フィルタ
手段27が、経路23の上部から濾過室内への流体の流れを遮断しないようにな
っている。好適な実施例では、これらの部分170は、濾過室を機械加工する際
にモノリシックブロック120の切断部分から形成される。図示したように、4
つのこのような部分170は中心開口23の周りに等間隔に配置されているが、
別の形に適切に配置したり、その他の要素を用いることもできる。
施例は皿穴すなわちテーパー部分24(図3及び図5)を有する。
65は、穿孔或いは類似の機械加工を含む様々な方法で形成したり組み立てるこ
とができる。蓋部材162を貫通した流体が流れる経路165は、エルボー16
7に連結されるのが好ましい。当業者であれば、吐出経路にはあらゆる経路が可
能であるが、流体を下方に流すような経路は好ましくないことを理解できよう。
様々な継手やその他の部品を好適な方法で互いに組み付けることができるが、本
明細書に記載した様々な取り付けのための好適な方法及び構造が、図12及び図
13に最もよく例示されている。特に、これらの図面には、エルボー167など
のシステム内の接合部の様々なテフロン部品(例えば、テフロンから形成された
主ブロック部材など)への好適な取り付け方法の例が示されている。本明細書に
記載するように、エルボー167は、その他方の端部が別のテフロンのフレア継
手部168及び配管169に接続され、それによってシステム10の第2のポン
ピング手段に連結されるのが好ましい。配管169はテフロンまたは類似の材料
から形成されるか、或いはそれらの材料でコーティングされるのが好ましい。
好ましい。このベント弁アセンブリ36は、濾過室の比較的高い位置に機械加工
によって形成された経路174(図12及び図13の部材246及び274に対
応)によって機能的に連結されている。好適な実施例では、ベント弁は全てテフ
ロンから形成される二方弁であって、通常は閉じられており、流体から気体を選
択的にベントするために用いられる。この目的に適した弁は、例えば、Furon Co
mpany(前出のFuronと同一であり、3340 East La Palma Avenue, Anaheim, Cali
f. 92806, USAに所在する)が製造しており、その例が米国特許第5,575,311号に
示されている。当業者であれば、このベント弁をシステムの高い部分に連結する
ことによって、流体内に巻き込まれた好ましくない気体を収集してベントするこ
とが可能であることを理解できよう。更に、このような気体は全て、より中心に
近い蓋部材162の経路165ではなく、経路174(または図12の実施例の
経路274)からベントされ易い。これは、経路165に到達するためにはフィ
ルタエレメント27を通過しなければならないが、経路174に到達するために
は必ずしもフィルタエレメント27を通過する必要がないためである。本発明の
好適な実施例では、ベント弁はポンプ制御器によって自動的に動作し、ユーザー
がプログラムを組むことができる。更に、濾過サイクルの開始或いは終了時に短
時間開放されるのが好ましくそれが一般的である(好ましくは数秒単位)。ベン
ト36は、ばね37及び関連する調節装置を含むのが好ましい。この調節装置の
開放圧力を設定して、安全弁すなわちレリーフ弁として機能するようにして、流
体の圧力が所定のレベルを超えないようにしたり、フィルタエレメント27が詰
まった場合などに開放することができる。
837号、同第5,516,429号、及び同第5,772,899号に開示されているような適用例
)、スレーブすなわち第2のポンプ手段30(図7)が設けられるのが好ましい
。好適なポンプ30の多くの要素が、上記した第1のポンピング手段20に類似
している。その類似する要素には、流体をポート55に送ることができるアセン
ブリ190などのステッパーアセンブリ(図7には示されていないが図2に示さ
れている)或いは類似の機構によって動作が正確に制御されるダイアフラムを内
部に有するポンプ室44がある。
きるが、流体がポンプ20とポンプ30との間の配管169を上方に流れるよう
に十分に高い位置に配置されるのが好ましい。下向きの経路はシステム10内に
存在するガスを巻き込む可能性があるため、流体が第1のポンプ20から第2の
ポンプ30に送られる間の配管169は、少なくとも下向きに流れないようにす
るのが好ましい。一実施例(図示せず)では、第2のポンプ30が第1のポンプ
20の真上に配置されているため、配管169やその他の経路、またはポンプ2
0とポンプ30との間の接合部が、実質的に垂直であって気体が巻き込まれるリ
スクが実質的に存在しない。システム10の製造を容易であり、かつその組み立
て及び維持が容易になるように、好適な実施例では、図1及び図2に最も良く例
示されているように第1のポンプ20と第2のポンプ30を互いに配置する。
ク上側部分42を含むのが好ましい。上側部分42がモノリシックであるため、
本明細書に記載したように流れが改善され、かつ汚染のリスクも減少する。好ま
しくは、T字経路は上側部分42に穿孔或いはその他の機械加工、または成形に
よって設けられ、別の経路47に対してT字になった実質的に垂直な経路45を
含む。経路47には、好適なテフロンのフレア継手48(或いはその他の非汚染
性の接合部)、及び上側部分42内に一体的に形成された逆止弁49を通過した
後、配管169からの流体が流れ込むのが好ましい。
が好ましい。逆止弁49は、ポンプ室44のポンピング/ディスペンス・ストロ
ークにより流体が経路47を逆流してフィルタ27に流れるのを防止する。従っ
て、逆止弁49の機能およびポンプ室44のポンピング/ディスペンス・ストロ
ークにより流体が経路45内を通って上方に送られ、エルボー51及びテフロン
のフレア継手52に至る(第1のポンピング部材20のエルボー167及び継手
部168の説明がエルボー51及び継手部52にも当てはまる)。逆止弁49と
して利用可能な好適な弁の例としては、Furonによって販売されている製品(部
品番号MCV 246)がある。
、ステンレス鋼、アルミニウム、またはその他の金属から形成されるのが好まし
く、保持ナット54も同様に金属から形成されるのが好ましい。当業者であれば
、本発明の概念から逸脱することなくその他の様々な材料がこれらの部品の製造
に用いられ得ることを理解できよう。
三方弁(図8に要素99として文字で記したが図示しない)に送られるのが好ま
しく、そこで流体が選択的に流体源60に戻されたり、基板或いはその他のマイ
クロエレクトロニクスチップ或いはプロセス中のデバイス(図示せず)上に分注
される。好適な実施例では、三方弁99は、第1のポンピング部材20の内部に
設けられた一体式の弁140とは対照的にスタンドアローンバルブであって、上
記した非汚染性のテフロンのフレア継手部によって配管46及び戻り配管(図示
しないが図8に文字で記す)に取り付けられている。三方弁手段99は、弁が動
作した時に流体が全く押し出されないような押し出す量が0の値の弁が好ましい
。上記したように、特に、好適な弁によって、本発明の供給量の精度或いはその
他の性能を低下させるような、弁の動作により、例えば供給ラインから流体を押
し出すなどの流体が押し出される可能性が排除或いは低減される。
できよう。特に、第2のポンプ230は図1−図8の実施例の第1のポンプより
やや高い位置にあり、ポンプ間に配置されている配管269が非コイル状の経路
に形成されている。流体が流入および送出されるポンプ上の様々な継手の向きを
変えて、別の配置や取り付けに容易に用いられるようにできる。図10に示され
ている継手246は、好適な一体型三方弁の空気動作を容易にするために設けら
れている。
5と第2のステッパーアセンブリ290に関連する圧力変換器295を例示する
。2つの下側ユニット(図10の要素293、図10及び図14の上側ユニット
283に対応)は、上記したが図14には示されていないサーボモータアセンブ
リである。図14には、変換器285及び295がより良く示されている。当業
者であれば、変換器は、第1及び第2のステッパーアセンブリ280及び290
の作動流体の圧力を検出し、その値をコンピュータ制御機構(アセンブリ10に
おけるその他の入力などを検出して処理するコンピュータ制御が好ましい)に送
信するように構成できることを理解できよう。変換器は、限定するものではない
が、再注入圧力(負)のモニタリング、フィルタの圧力或いはフィルタの前後の
圧力差のモニタリングなどによるフィルタの交換或いは清掃の必要性の表示、高
度のプロセス制御に用いられ得る全体の圧力サイクルまたは分注圧力のモニタリ
ングなどを含む様々な目的に利用することができる。
たが、開示した構造及びステップに本発明が限定されるものではない。また、当
業者に明らかな改良及び変更は、本発明から逸脱するものではなく本発明に含ま
れることを理解されたい。
。
図。
角投影図。
とは反対方向を向いている、図9および図10に示した装置の上面図(当業者で
あれば、装置の継手が様々な位置および様々な方向に配置できることを理解でき
よう)。
とは反対方向を向いている、図9および図10に示した装置の上面図。但し、線
13−13の異なった断面を含む。
に上述した好適な三方弁を含んでいない。
、図9および図10を示されている2つの角とは別の上側の角から見た、図10
に類似した図9の装置の等角投影図。但し、サーボモータアセンブリを表す2つ
の下側部分(図10の要素293、図10および図14における上側ユニット2
83に対応)は、好適な圧力変換器285および295がより良く見えるように
するためにこの図面には示していない。
Claims (32)
- 【請求項1】 流体を正確に制御して処理するための装置であって、 互いに連通した第1のポンピング手段と第2のポンピング手段との組み合わせ
を含み、前記第1のポンピング手段と前記第2のポンピング手段によって、前記
流体が前記第1のポンピング手段から前記第2のポンピング手段に実質的に一貫
して上方に流れる流体の経路が提供されることを特徴とする装置。 - 【請求項2】 前記第1及び第2のポンピング手段のそれぞれが、前記流
体と接触する面を有し、前記接触面の実質的に全てが比較的非汚染性の材料から
形成される或いはその材料でコーティングされていることを特徴とする請求項1
に記載の装置。 - 【請求項3】 前記第1のポンピング手段と前記第2のポンピング手段と
の間にフィルタ手段を更に含み、前記流体の流れる経路が、前記第1のポンピン
グ手段から前記フィルタ手段を経て、前記第2のポンピング手段に至り、実質的
に一貫して上向きであることを特徴とする請求項1に記載の装置。 - 【請求項4】 前記第1及び第2のポンピング手段及び前記フィルタ手段
のそれぞれが、前記流体と接触する面を有し、前記接触面の実質的に全てが、比
較的非汚染性の材料から形成される或いはその材料でコーティングされることを
特徴とする請求項3に記載の装置。 - 【請求項5】 前記第1のポンピング手段が、下側部分から取り外し可能
な上側ヘッド部分と、前記上側ヘッド部分と前記下側部分との間にポンプ室が形
成されるように両部分を一時的に組み付けるための手段とを含み、前記上側ヘッ
ド部分がその中に一体形成された弁手段を含むことを特徴とする請求項1、請求
項2、請求項、または請求項4に記載の装置。 - 【請求項6】 前記弁手段が、流体源からの前記流体の流れを受け取り、
かつ前記流体を前記上側ヘッド部分に形成された前記フィルタ手段の一部を形成
する濾過室に向かって実質的に真上に流すように構成されていることを特徴とす
る請求項5に記載の装置。 - 【請求項7】 前記弁手段が、前記流体を前記ポンプ室から前記上側ヘッ
ド部分に一体形成された前記フィルタ手段の一部を形成する濾過室に流すための
実質的に真上へに向いた流路を提供するように構成されていることを特徴とする
請求項5に記載の装置。 - 【請求項8】 前記第2のポンピング手段が、下側部分から取り外し可能
な上側ヘッド部分と、前記上側ヘッド部分と前記下側部分との間にポンプ室が形
成されるように両部分を一時的に連結するための手段とを含み、前記上側ヘッド
部分が、その内部に一体的に形成されたT字形の流路を含み、前記T字形の流路
によって、前記流体を前記ポンプ室から前記上側ヘッド部分からのディスペンサ
に流すための実質的に真上を向いた経路が提供されることを特徴とする請求項1
、請求項2、請求項、または請求項4に記載の装置。 - 【請求項9】 前記T字形経路が、前記第1のポンピング手段によって前
記流体がポンピングされた後、その流体を受け取るための入口部分を有し、前記
装置が通常に直立して配置されている場合は、前記上側ヘッド部分からの前記デ
ィスペンサが、前記入口部分より高い位置に配置されていることを特徴とする請
求項8に記載の装置。 - 【請求項10】 前記第2のポンピング手段が全体的に前記第1のポンピ
ング手段より高い位置に配置されており、前記第1のポンピング手段の吐出口か
ら前記第2のポンピング手段の吸入口までの前記流体の経路が、前記装置が通常
に直立して配置されている場合、下方に向かう部分を全く含んでいないことを特
徴とする請求項1、請求項2、請求項3、または請求項4に記載の装置。 - 【請求項11】 流体を分注するための装置であって、ポンピングヘッド
を有する第1のダイアフラム型ポンプを有し、前記ヘッドが、流体が前記第1の
ダイアフラム型ポンプに流れるように制御するように一体形成された三方弁を含
むことを特徴とする装置。 - 【請求項12】 前記第1のダイアフラム型ポンプより全体的に上方に配
置され、前記第1のダイアフラム型ポンプによってポンピングされた流体を受け
取るように構成された第2のダイアフラム型ポンプと、前記第1のダイアフラム
型ポンプから前記第2のダイアフラム型ポンプへの実質的に上向きの流路とを更
に含むことを特徴とする請求項11に記載の装置。 - 【請求項13】 前記第1のダイアフラム型ポンプのポンピングヘッドに
一体的に形成されたフィルタハウジングを更に含むことを特徴とする請求項11
または請求項12に記載の装置。 - 【請求項14】 前記ポンピングヘッド及び前記三方弁によって、前記流
体を前記第1のダイアフラム型ポンプから前記フィルタハウジングへ流すための
実質的に真上に向いた流路が提供されることを特徴とする請求項13に記載の装
置。 - 【請求項15】 前記流体に巻き込まれた全ての気体が選択的にベントす
ることができるように、前記フィルタハウジングの上方に設けられたベント弁を
更に含むことを特徴とする請求項14に記載の装置。 - 【請求項16】 前記流体によって濡れる実質的に全ての表面が、比較的
非汚染性の材料から形成される或いはその材料でコーティングされていることを
特徴とする請求項13に記載の装置。 - 【請求項17】 流体を濾過して分注する方法であって、 第1のポンピング部材の上側ヘッドに一体的に形成され、前記流体を受け取っ
て、前記第1のポンピング部材から実質的に上向きの経路に前記流体を流すよう
に適合された弁手段を設けるステップと、 前記第1のポンピング部材を動作させて前記流体を流体源から吸入するステッ
プと、 前記第1のポンピング手段を動作させて前記第1のポンピング部材から前記流
体を上方に供給するステップとを含むことを特徴とする方法。 - 【請求項18】 前記第1のポンピング部材の前記上側ヘッドに一体的に
形成される濾過室を設けるステップと、 前記第1のポンピング部材から前記弁手段を経て前記濾過室に至る実質的に真
上へに向いた流路を前記上側ヘッド内に設けるステップとを更に含み、 前記真上へに向いた流路が設けられることにより、前記第1のポンピング部材
の更なる動作によって、前記流体が前記第1のポンピング部材から前記濾過室に
上向きに送られることを特徴とする請求項17に記載の方法。 - 【請求項19】 前記第1のポンピング部材の実質的に上方に第2のポン
ピング部材を設けるステップと、 前記第1のポンピング部材と前記第2のポンピング部材の間では前記流体が下
方に流れないような流路手段を、それらのポンピング部材間に設けるステップと
、 前記流体を前記下向きでない流路に沿ってポンピングするステップとを含むこ
とを特徴とする請求項17または請求項18に記載の方法。 - 【請求項20】 前記流体に巻き込まれた好ましくない気体を前記流体か
ら全てベントするべく、前記流体の経路に沿って少なくとも1つのベント手段を
設けるステップを更に含むことを特徴とする請求項17または請求項18に記載
の方法。 - 【請求項21】 前記流体を選択的に供給したり、前記流体源に戻すため
に、前記第2のポンピング部材の下流に弁を設けるステップを更に含み、前記下
流の弁の押し出す量が、好ましくない押し出しがなく実質的に0であることを特
徴とする請求項17または請求項18に記載の方法。 - 【請求項22】 前記流体によって濡れる実質的に全ての面が比較的非汚
染性の材料から形成される或いはその材料でコーティングされることを特徴とす
る請求項17または請求項18に記載の方法。 - 【請求項23】 流体を濾過して分注するための装置であって、 第1のダイアフラム型ポンピング手段と、 前記第1のダイアフラム型ポンピング手段と連通した第2のダイアフラム型ポ
ンピング手段と、 前記第1のポンピング手段によってポンピングされた前記流体が実質的に垂直
方向上方にその中を通過するように、前記第1及び第2のポンピング手段との間
に配置された濾過手段と、 前記流体が前記濾過手段から第2のポンピング手段の前記ハウジングに流れる
時、前記流体が下方へ流れないようにした、前記濾過手段と前記第2のポンピン
グ手段のハウジングとの間の流路手段とを含むことを特徴とする装置。 - 【請求項24】 前記第1のポンピング手段への吸入口に隣接し、前記流
路手段の一部となる継手部を更に含み、前記継手部が、前記流体を汚染しない濡
れた表面を有するフレア継手であることを特徴とする請求項23に記載の装置。 - 【請求項25】 第1のポンプと流路とを含む分注を濾過および分注する
ための装置であって、 前記第1のポンプが、上側ヘッド部分によって部分的に画定されたポンプ室を
含み、前記ヘッド部分が、その内部に一体形成された弁および濾過室を含み、前
記濾過室が、前記弁の実質的に上方に配置され、当該濾過室の上側密閉部分を形
成する取り外し可能な蓋部材と、当該濾過室の比較的情報に配置された出口およ
びベントとを含んでおり、 前記流路が、前記上側ヘッド部分に一体的に形成された、前記ポンプ室から前
記濾過室への流れを可能にする実質的に直立上向きの流路であることを特徴とす
る装置。 - 【請求項26】 前記上側ヘッド部分が、金属から形成され、ねじが設け
られたナットによって下側ヘッド部分に保持されることを特徴とする請求項25
に記載の装置。 - 【請求項27】 前記蓋部材と前記上側ヘッド部分との間に配置されたO
リングシールを含み、前記Oリングが前記上側ヘッド部分の内周部に配設されて
いることを特徴とする請求項25に記載の装置。 - 【請求項28】 クリーンルームなどに用いられる、流体を分注するため
の主ポンプと二次ポンプとの組み合わせ装置であって、 前記組み合わせ装置内を通る流体の経路を含み、 前記主ポンプが、その内部に一体形成された弁及び濾過室を有するポンプヘッ
ドを含んでおり、 前記経路が、前記流体に対して非汚染性の材料から形成され、前記主ポンプの
吸入口から前記濾過室を経て前記二次ポンプを至る実質的に上向きの経路である
ことを特徴とする組み合わせ装置。 - 【請求項29】 前記ポンプヘッド及びその中に設けられている前記弁が
、Teflon(登録商標)(以下テフロンと呼ぶ)から形成されることを特徴とする請
求項28に記載の組み合わせ装置。 - 【請求項30】 前記濾過室内の高い位置に配置されたベント弁を含むこ
とを特徴とする請求項28または請求項29に記載の組み合わせ装置。 - 【請求項31】 前記ベント弁によって、前記流体から巻き込まれた空気
のベントが可能であり、かつ前記流体のポンピング圧力が選択された圧力を越え
た場合の圧力の解放が可能であることを特徴とする請求項30に記載の組み合わ
せ。 - 【請求項32】 ダイアフラム型ポンプへの流体の流れを制御するために
一体的に形成されたバルブを含むポンピングヘッドを有する、該ダイアフラム型
ポンプからの流体を被着することによって形成されることを特徴とするマイクロ
エレクトロニクス基板。
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