JP2003515676A - プラズマ放射源を使用して機能層を製造する方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 高真空から大気圧に近い圧力範囲までで運転することができる少なくとも１個のプラズマ放射源（５）を使用して基板（１２）上に被覆を形成する方法が提案される。このためにプラズマ放射源（５）はプラズマ（１０）を形成し、プラズマはプラズマ放射線（１７）の形でプラズマ放射源（５）から放出し、基板（１２）に作用する。その際プラズマ（１０）に更に少なくとも１個の前駆物質（１６、１６′）を供給し、前駆物質がプラズマ放射線（１７）中で原子または分子の水準に分解または変性し、その後基板（１２）上に析出する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】 本発明は請求項１の上位概念に記載のプラズマ放射源を使用して機能層を製造
する方法および装置から出発する。

【０００２】 技術水準 多くの工業分野で、部品または材料の表面を摩耗または腐食から保護する、決
められた物理的および化学的特性を有する薄い、硬質層への高まる需要が存在す
る。代表的な公知の層は異なる組成、品質の特徴および機能性を有する１個以上
の層からなる。従って、例えば気相から高真空中でＰＡＣＶＤ法（ｐｈｙｓｉｃ
ａｌｌｙ ａｉｄｅｄ ｃｈｅｍｉｃａｌ ｖａｐｏｕｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏ
ｎ、物理的に援助された化学蒸着）またはＰＶＤ法（ｐｈｙｓｉｃａｌｌｙ ｖ ａｐｏｕｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、物理蒸着）を使用して定量的に高価に、緻
密に、均一かつ平坦に層を析出する。

【０００３】 記載された２つの方法は析出の際に層の原子の成長により優れている、すなわ
ち個々の原子または小さいクラスターが基板に堆積し、その際使用されるプラズ
マをすべての周波数領域の電気的場または電磁的場を用いて形成する。しかしそ
の際析出工程は拡散工程により決定され、低い被覆率およびこの方法の形式に典
型的なバッチ式運転の欠点を有する。２つの点は連続製造に使用するために不利
である。

【０００４】 他方で公知のプラズマ放射法において、低真空から大気圧に近い圧力範囲まで
で、粉末状のミクロスケールの粒子をプラズマ放射源またはプラズマ放射線に導
入し、ここで溶融し、部分的に蒸発し、引き続き速い速度で基板に方向付けされ
てメッキする。これによりかなり高い析出率で種々の機能を有する多孔質の層を
析出するが、この層は典型的なＰＡＣＶＤ層の均一性および緻密性を達成しない
。他方でプラズマ放射の利点は厚い局所的な被覆および高い析出率にある。プラ
ズマ放射線の形成は広く一般的に直流電圧により行われるが、誘導性高周波励起
により新たに形成されるプラズマ源は同様にすでに知られている。前記プラズマ
源は導入される粉末粒子がプラズマ放射線中の長い滞在時間を有し、従って強く
溶融するという利点を有する。

【０００５】 例えばＥ.ＰｆｅｎｄｅｒおよびＣ.Ｈ.Ｃｈａｎｇ著、“Ｐｌａｓｍａ Ｓｐ
ｒａｙ Ｊｅｔｓ ａｎｄ Ｐｌａｓｍａ−Ｐａｒｔｉｃｕｌａｔｅ Ｉｎｔｅ
ｒａｃｔｉｏｎ：Ｍｏｄｅｌｌｉｎｇ ａｎｄ Ｅｘｐｅｒｉｍｅｎｔｓ”、Ｔ
ａｇｕｎｇｓｂａｎｄ ｄｅｓ ＶＩ.Ｗｏｒｋｓｈｏｐ Ｐｌａｓｍａｔｅｃ
ｈｎｉｋ、ＴＵ Ｉｌｌｍｅｎａｕ、１９９８から、鍋形のシリンダー状燃焼体
中でコイルを使用して、外部に隣接する高周波の交流および誘導性高周波励起を
介してプラズマ放射源中にプラズマを形成し、プラズマがプラズマ放射線の形で
プラズマ放射源から放出することが公知である。ガスとしてヘリウム、アルゴン
または酸素を使用し、このガスをガス供給手段を介して燃焼体に裏側から同心円
状に導入することが更に知られている。このガスのほかに更にこのガスを包囲し
、鍋形の燃焼体上の形成されるプラズマ放射線の強すぎる加熱または有害な作用
を最小にするために用いられる被覆ガスを供給することは同様に知られている。
プラズマ放射線に供給されるガスに更に金属粉末を添加することができ、ミクロ
スケールの粉末を使用する公知のプラズマ放射と同様にプラズマ放射線中のこの
粒子の表面の溶融を行い、この粒子を引き続きプラズマ源の外部に基板に析出す
る。

【０００６】 この方法の欠点は、まず析出される層の高い粗さおよび低い機械的強度であり
、これは主に供給される粉末粒子がプラズマ放射線中にきわめて高い流動速度に
より短時間に部分的に９０００Ｋより高いプラズマ温度にさらされ、従って完全
に溶融せず、表面にのみ溶融することにもとづく。特に供給される粒子が原子ま
たは分子の水準に溶融せず、分解しない。数μｍの層厚を有する薄い耐摩耗性の
層または硬質材料層としてこの種の層は従って多くは適さない。更にこの種の析
出した層の組成は従来は主に金属、金属合金および金属酸化物に限定された。

【０００７】 発明の利点 請求項１の特徴部分に記載された本発明の方法は、技術水準に対して、すでに
存在する公知のＰＡＣＶＤ法およびプラズマ放射法の隙間を閉鎖するという利点
を有する。

【０００８】 このために、プラズマ放射源を使用して、変更した実施方法で、高真空から大
気圧に近い圧力範囲までで、機能被覆として、基板上の方向づけられた局所的Ｐ
ＡＣＶＤ被覆を可能にする析出法を実施する。その際数マイクロメートルからサ
ブミリメートルまでの大きさの粒子が基板にメッキされず、すなわち表面に溶融
するおよび／または部分的にのみ蒸発し、前駆物質を場合により不活性ガス、キ
ャリアガスまたは反応性ガスと混合し、装入し、形成されるプラズマ内部で原子
または分子の水準に分解するかまたは断片化し、その際同時に少なくとも部分的
に化学的に励起するおよび／またはイオン化する。その際実施条件に応じてプラ
ズマ放射線中に供給される前駆物質からなる新しい化合物が形成され、これは最
終的にかなり速い速度で方向づけられて基板に衝突し、ここで機能層として析出
される。

【０００９】 従って本発明の方法の核心は、プラズマ放射源と前駆物質の使用の結合および
高率ＰＡＣＶＤ法とよばれ、使用することができる方法に対する、典型的なＰＡ
ＣＶＤ法とプラズマ放射法の間に存在する処理パラメーターの選択にある。

【００１０】 その際本発明の方法の重要な利点は、プラズマ放射源を使用して同時に高い析
出率での、緻密な、質的に高価な、部分的に硬質から超硬質までの層の廉価な析
出にある。

【００１１】 更に本発明の方法は、公知のＰＡＣＶＤ法に比べて真空技術の費用が少ないか
または特別の場合は全くかからない方法であり、それというのも高真空または低
真空または大気圧に近い圧力範囲が実施するために十分であるかまたは適してい
るからである。同時に、被覆すべき表面に前駆物質の有効な流れを導入するため
に、プラズマ放射源の典型的な高いガス排出速度または粒子排出速度を利用する
ことが有利であり、これにより公知のＣＶＤ法またはＰＡＣＶＤ法の場合に一般
的であるような、純粋な拡散する物質の搬送の場合より明らかに高い層成長速度
が可能になる。

【００１２】 本発明の有利な構成は従属請求項に記載された手段から達成される。

【００１３】 従って前駆物質として、特にガス状の有機化合物、珪素有機化合物または金属
有機化合物が適している。そのほかこれらのガスの混合物を使用することができ
る。

【００１４】 しかし本発明の方法はガス状前駆物質に限定されず、この物質は液体の形で、
サブミクロスケールまたはナノスケールの粒子として、特に硬質材料またはセラ
ミック、例えば窒化物、特に窒化硼素、窒化珪素または金属窒化物、例えばＴｉ
Ｎ、酸化物、例えば酸化アルミニウム、二酸化チタンまたは二酸化珪素、珪化物
または珪素化合物からなる粉末粒子として、および液体の懸濁液として、特にこ
れに懸濁した前記の材料の種類からなるナノスケールの粒子を有する懸濁液とし
て、プラズマまたはプラズマ放射源に供給することができる。更に前記の材料の
混合物も本発明の方法に適している。

【００１５】 プラズマを形成するプラズマ放射源のガスとしておよび／または前駆物質のキ
ャリアガスとしてアルゴンまたは窒素のような不活性ガスが該当する。前駆物質
との化学反応のための反応性ガスとして、有利には酸素、窒素、アンモニア、メ
タン、アセチレン、シランおよび水素を使用する。

【００１６】 汚染および析出を回避し、燃焼体の熱負荷を減少するために、プラズマ放射源
内部の形成されたプラズマ放射線の集束を良好にするために、燃焼体に付加的に
、有利に形成されるプラズマをシリンダー状に包囲する被覆ガス、例えば水素ま
たはアルゴンを供給することができる。

【００１７】 その他の点でこれに選択的にまたは付加的に、プラズマに供給される前駆物質
を、プラズマ放射源の外部に配置される、プラズマ放射線を特に同心円状に包囲
するシャワーを介してプラズマ放射線に供給することができる。このために有利
にはプラズマ放射源の出口開口の周囲に配置されるノズルが適し、このノズルを
使用して前駆物質をプラズマ放射線に注入する。このノズルは更にまたはこれに
選択的に冷却するための急冷ガスの供給に利用することができる。

【００１８】 本発明の方法のために、１０^−４ミリバールから１.５バールまでの圧力で処
理空間内で作動するプラズマ放射源が適し、その際プラズマは種々の方法で、例
えば直流励起、高周波交流励起、マイクロ波励起または単極または双極の電圧パ
ルスでの励起により、点火または維持することができる。

【００１９】 従って本発明の方法の特に重要な利点は種々の層の系の製造に関するその多面
性である。これは特に種々の、それぞれ材料として知られた前駆物質の組み合わ
せおよび処理条件の変形の幅に該当し、これは再び達成可能な層の特性に作用す
る。

【００２０】 従って本発明の方法により、時間の関数として層の組成の変形により生じる種
々の層の系を製造することができる。

【００２１】 本発明の方法は特にプラズマ中の前駆物質の組成または析出の際の方法の実施
の時間的な変動を可能にし、従って材料組成の連続的移行を有する連続した部分
層の製造を可能にする。

【００２２】 全体として、記載された方法で、金属珪化物、炭化物、酸化物、窒化物、硼化
物、硫化物、非晶質から結晶質までの炭素、炭素含有材料、珪素水素またはこれ
らの材料の混合物からなる層または層の系を析出することができる。

【００２３】 同じ材料の組成においても著しく異なる形態およびこれにより異なる特性を有
する層の製造が処理パラメーターの選択により可能である。これに関して前駆物
質の流出の調節、供給される粉末または場合により懸濁液に含まれる前駆物質の
の粒度、処理圧力および供給されるガスまたは被覆ガスの種類、組成および量が
重要である。

【００２４】 これらのパラメーターの選択により非晶質、ナノ結晶質、ミクロ結晶質から粗
い結晶質までの相が製造できる。

【００２５】 図面 本発明の実施例を図面および以下の説明により詳細に説明する。

【００２６】 図１は技術水準から公知の本発明の方法を実施するためのプラズマ放射源を示
し、図２は変更したガス供給手段を有する変性したプラズマ放射源を示す。

【００２７】 実施例 本発明の方法を実施するために、例えばＥ.ＰｆｅｎｄｅｒおよびＣ.Ｈ.Ｃｈ
ａｎｇ著、“Ｐｌａｓｍａ Ｓｐｒａｙ Ｊｅｔｓ ａｎｄ Ｐｌａｓｍａ−Ｐ
ａｒｔｉｃｕｌａｔｅ Ｉｎｔｅｒａｃｔｉｏｎ：Ｍｏｄｅｌｌｉｎｇ ａｎｄ
Ｅｘｐｅｒｉｍｅｎｔｓ”、Ｔａｇｕｎｇｓｂａｎｄ ｄｅｓ ＶＩ.Ｗｏｒ
ｋｓｈｏｐ Ｐｌａｓｍａｔｅｃｈｎｉｋ、ＴＵ Ｉｌｌｍｅｎａｕ、１９９８
から公知のプラズマ放射源５が適している。

【００２８】 シリンダー形の燃焼体１１を有するこのプラズマ放射源５は図１により供給手
段１３およびシリンダー形スリーブ１４を介してインジェクターガス１５を軸方
向に供給する。インジェクターガス１５を使用して引き続き場合により直接前駆
物質１６′を燃焼体１１に供給することができる。更にインジェクターガス１５
に少なくとも一時的に中心ガス２２として他のガスを添加することができる。引
き続き燃焼体１１中で図示されていない公知の部品による電磁励起を介してプラ
ズマ１０を点火し、連続的に運転し、プラズマはプラズマ放射線１７の形でプラ
ズマ放射源５から放出する。

【００２９】 更に燃焼体１１に被覆ガス１９を場合により同心円状に導入するためにガスシ
ャワーの形のガス供給手段１２が備えられている。被覆ガス１９は、そのために
、燃焼体１１の内壁の好ましくない過度の加熱または被覆を抑制するようにスリ
ーブ１４の外部に導入する。しかし選択的に被覆ガス１９に前駆物質を混合する
ことができる。

【００３０】 従ってプラズマ１０はプラズマ放射線１７の形で典型的な高さ約１０ｃｍを有
する燃焼体１１から放出し、典型的には約１０ｃｍ〜１００ｃｍ離れて基板１２
に衝突し、ここで機能被覆１８を析出する。

【００３１】 図２はプラズマ放射源５の構造の変形を示し、その際被覆ガス１９の導入およ
びスリーブ１４の使用が省かれている。しかし図２においてプラズマ放射線１７
として燃焼体１１から放出するプラズマ１０に、プラズマ放射源５の外部に他の
前駆物質１６を供給する。このために付加的なプラズマ放射線１７を同心円状に
包囲するシャワー２０が備えられている。このシャワー２０は場合によりプラズ
マ放射源５の出口に、すなわちプラズマ放射源５からのプラズマ放射線１７の出
口の部分に適合しているノズルに組み込まれていてもよい。

【００３２】 本発明の方法の他の変形において、図２の変更において、例えば酸素または水
素のような反応性ガスを燃焼体１１にインジェクターガス１５として導入し、引
き続きインジェクターガスがまずプラズマ１０を形成し、更にインジェクターガ
スにプラズマ放射源５の外部で前駆物質１６を同心円状シャワー２０を介して供
給することにより、第１の前駆物質１６′の燃焼体１１への軸方向の注入を省く
ことができる。その際、例えば前駆物質１６の化学反応を誘発する（熱的活性化
または反応成分の供給）かまたは前駆物質１６を原子または分子の水準に分解し
、同時に少なくとも部分的に化学的に活性化するかまたはイオン化することによ
り、プラズマ１０がプラズマ放射源５の外部で前駆物質１６と反応する。しかし
供給されるインジェクターガス１５は同様に図１または図２によるプラズマ放射
源５に前駆物質１６と同時に供給される、アルゴンのような不活性ガスまたは窒
素のようなキャリアガスのみであってもよい。

【００３３】 それぞれ析出すべき機能被覆のために個々に簡単な予備試験により当業者が求
めなければならない、プラズマ放射源５を運転する際の基本的な方法パラメータ
ーは、プラズマ１０に励起される出力、燃焼体１１中のプラズマ励起の種類、燃
焼体１１の出口開口と基板１２の間隔、供給される前駆物質１６、１６′の種類
および量、インジェクターガス１５、被覆ガス１９および中心ガス２２のガス流
およびプラズマ放射源５を運転する圧力である。

【００３４】 特に、部分的に再び衝撃および放射により層を形成する前駆物質１６、１６′
で放出する、必要な最小エネルギー密度を保証するために、プラズマ１０に、所
定の最小出力を励起しなければならない。更にプラズマ放射線１７の長さにより
、この飛行時間中に再びプラズマ放射線１７からエネルギーを吸収する、プラズ
マ放射線１７中の導入される粒子または前駆物質の滞在時間を調節することがで
きる。滞在時間およびこれにより吸収されるエネルギーが十分に大きい場合には
じめて、例えば導入される前駆物質１６、１６′の原子または分子の水準までの
完全な分解が保証される。

【００３５】 本発明の第１実施例は、プラズマ放射源５中で誘導性励起した高周波によりお
よび図１による燃焼体１１中でインジェクターガス１５として酸素または水素の
ような反応性ガスを供給してプラズマ１０を形成することが用意されている。そ
の際励起される出力は約２０ｋＷであり、圧力は約２００ミリバールであり、中
心ガス２２のガス流は約２０ＳＬｐＭ（１分当たりの標準リットル、ｓｔａｎｄ
ａｒｄ ｌｉｔｅｒ ｐｅｒ ｍｉｎｕｔｅ）であり、被覆ガス１９のガス流は
約７０ＳＬｐＭであり、供給される反応性ガスのガス流は約１０ＳＬｐＭであり
、燃焼体１１の出口開口と基板１２の間隔は約２０ｃｍである。中心ガス２２お
よび被覆ガス１９はそれぞれアルゴンである。更に供給手段（インジェクター）
１３を介してガス状前駆物質１６′が５ＳＬｐＭのガス流と共に供給される。

【００３６】 この前駆物質１６′は、例えばヘキサメチルシラン（ＨＭＤＳ）またはテトラ
メチルシラン（ＴＭＳ）のような珪素有機化合物、チタン有機化合物または特に
非晶質の炭素層または炭化水素含有材料を析出するために、アセチレンまたはメ
タンのような純粋な有機化合物である。引き続きプラズマ中で前駆物質１６′と
の化学反応および反応を行い、前駆物質１６′が原子または分子の形で機能被覆
１８として基板１２に析出する。

【００３７】 前駆物質１６′は、その他の点で選択的にまたは付加的に図２によりノズル、
ガスシャワーまたはインジェクターの形のガス供給手段２０を介してプラズマ放
射線１７に供給することができる。図１により供給される被覆ガス１９として更
に水素が適している。

【００３８】 更に供給されるインジェクターガス１５は酸素のような反応性ガスの代わりに
窒素のようなキャリアガスまたはアルゴンのような不活性ガスのみであってもよ
く、このガスは、燃焼体に、例えば前駆物質１６′としてナノスケールの粉末を
供給する。

【００３９】 インジェクターガス１５の選択に応じてこのガスおよび前駆物質１６との化学
反応および／または前駆物質１６、１６′の溶融を行うので、インジェクターガ
ス１５の選択を介して機能被覆１８の組成を意図的に調節することができる。

【００４０】 記載された実施例は更に前駆物質１６または１６′の具体的な形に関して限定
されない。この物質はガス状、液状または粉末状であってもよく、異なる前駆物
質の混合物からなってもよい。従って前駆物質１６、１６′は液状の形で、例え
ばイソプロパノールまたはアセトンの形で、有利には毎分１〜１０ｍｌの流量で
供給することができ、プラズマ放射線１７またはプラズマ１０中で化学的に反応
させるかまたはインジェクターガス１５と反応させる。プラズマ放射線１７また
はプラズマ１０へのシャワー２０または供給手段１３を介する前駆物質１６、１
６′として懸濁液、粉末または粉末混合物の供給も可能である。

【００４１】 前駆物質１６、１６′として懸濁液または粉末を供給する場合は、懸濁液中の
粒子または粉末粒子は、有利にはナノスケールの粒子として存在し、それという
のもこのようにして方法および材料に応じて、粒子がプラズマ放射線１７の内部
で完全に、すなわち原子の水準にまで断片化することが達成されるからである。
更にプラズマ放射線１７中の供給される固体の少なくともきわめて十分な分解、
特に溶融または蒸発が、個々の原子または分子を方向付けして、速い速度で基板
１２に衝突することを達成する。

【００４２】 明らかに、記載された実施例において更に異なるインジェクターガス１５を異
なる前駆物質１６、１６′と組み合わせることができる。従って特に非晶質の炭
素層、金属珪化物、金属炭化物、金属酸化物、金属窒化物、金属硫化物または金
属硼化物からなる層および層系、および相当する珪素化合物を基板１２に析出す
ることを可能にし、その際異なる組成の層および／または異なる構造化された層
の連続を生じるために、付加的なパラメーターとして、供給される前駆物質１６
、１６′の種類および量の時間的変化を使用する。

【００４３】 特にプラズマ放射源５に、供給手段１３を介して、例えばＴｉＣのようなナノ
スケールの粉末をインジェクターガス１５として酸素と一緒に供給することがで
き、従ってプラズマ１０またはプラズマ放射線１７中で方法パラメーターを相当
して調節する場合にＴｉＣ粒子から高エネルギ−ガス成分を介して炭素をスパッ
タリングし、炭素を更に供給される酸素と反応させ、ＣＯ_２を形成し、排出し、
従って基板１２に最終的に非晶質のＴｉＯ_２層を析出する。

【００４４】 第２実施例は前記実施例を更に前進し、付加的な、別々に運転可能なＰＶＤ（
物理蒸着）装置またはＣＶＤ（化学蒸着）装置が備えられ、この装置は公知の方
法でマトリックス層として、例えば非晶質の層を基板１２に析出する。その際こ
のＣＶＤ装置またはＰＶＤ装置は、有利には少なくとも一時的に前駆物質１６、
１６′の析出とともに前記実施例によるプラズマ放射源５と組み合わせる。

【００４５】 特に相当するＣＶＤ装置を介してＣＶＤ法を連続的に運転し、機能被覆を析出
するために、このＣＶＤ法に一時的にのみプラズマ放射源５を接続するかまたは
プラズマ放射源５を連続的に運転し、ＣＶＤ装置を一時的にのみ接続することが
用意される。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の方法を実施するための技術水準から公知のプラズマ放射源の図である
。

【図２】 図１の放射源に対して変更したガス供給手段を有する変更したプラズマ放射源
の図である。

【符号の説明】

５ プラズマ放射源、 １０ プラズマ、 １２ 基板、 １３ 供給手段、
１５ ガス、１６、１６′ 前駆物質、 １７ プラズマ放射線、 １８ 被
覆、 １９ ガス、 ２０ シャワー、 ２２ ガス

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4K030 AA06 AA09 AA10 AA13 AA14 AA17 AA18 AA24 BA17 BA18 BA22 BA36 BA42 BA46 BA48 BA49 BA50 BB05 FA01 FA02 JA09 JA16 LA01 LA23

Claims (17)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 プラズマ放射源（５）がプラズマ（１０）を形成し、プラズ
   マがプラズマ放射線（１７）の形でプラズマ放射源（５）から放出し、基板（１
   ２）に作用する、高真空から大気圧に近い圧力範囲までで作動することができる
   、少なくとも１つのプラズマ放射源（５）を使用して基板（１２）に被覆を製造
   する方法において、プラズマ（１０）に少なくとも１種の前駆物質（１６、１６
   ′）を供給し、前駆物質がプラズマ放射線（１７）中で原子または分子の水準に
   まで分解するかまたは変性し、その後前駆物質を基板（１２）に析出することを
   特徴とする、プラズマ放射源を使用して基板に被覆を製造する方法。
2. 【請求項２】 前駆物質（１６、１６′）をプラズマ放射線（１７）中で少
   なくとも部分的にイオン化するおよび／または化学的に活性化するか、または前
   駆物質（１６、１６′）をプラズマ（１０）中で化学反応させる請求項１記載の
   方法。
3. 【請求項３】 プラズマ放射源（５）に少なくとも１個の供給手段（１３）
   を介してガス（１５，２２）を導入し、その際ガス（１５，２２）が、前駆物質
   （１６、１６′）のキャリアーガス、特に窒素、不活性ガス、特にアルゴン、前
   駆物質（１６、１６′）との化学反応のための反応性ガス、特に酸素、窒素、ア
   ンモニア、シラン、アセチレン、メタンまたは水素、ガス状の前駆物質（１６′
   ）またはこれらのガスの混合物である請求項１または２記載の方法。
4. 【請求項４】 プラズマ放射源（５）に、プラズマ（１０）を少なくとも領
   域的にシリンダー形に包囲する被覆ガス（１９）、特にアルゴンのような不活性
   ガスを導入する請求項１または３記載の方法。
5. 【請求項５】 プラズマ放射源（５）を、１０^−４ミリバールから１.５バ
   ールまでの圧力で作動する請求項１から４までのいずれか１項記載の方法。
6. 【請求項６】 プラズマ（１０）を、直流励起、高周波交流励起、マイクロ
   波励起または単極または双極の電圧パルスでの励起により形成する請求項１から
   ５までのいずれか１項記載の方法。
7. 【請求項７】 前駆物質（１６、１６′）が有機化合物、珪素有機化合物ま
   たは金属有機化合物である請求項１から６までのいずれか１項記載の方法。
8. 【請求項８】 前駆物質（１６、１６′）を、プラズマ（１０）に、ガス状
   または液状の形で、ミクロスケールまたはナノスケールの粉末粒子として、液状
   の懸濁液として、特に懸濁したミクロスケールまたはナノスケールの粒子を有す
   る懸濁液として、またはガス状または液状の物質と固体の混合物として供給する
   請求項１から７までのいずれか１項記載の方法。
9. 【請求項９】 前駆物質（１６、１６′）を、プラズマ放射源（５）の外部
   に配置された、プラズマ放射線（１７）を特に同心円状に包囲するシャワー（２
   ０）を介してまたはプラズマ放射源（５）からのプラズマ放射線（１７）の出口
   の周囲に配置されたノズルを用いてプラズマ放射線（１７）に供給する請求項１
   から８までのいずれか１項記載の方法。
10. 【請求項１０】 基板（１２）に少なくとも十分に非晶質の層を析出する請
    求項１から９までのいずれか１項記載の方法。
11. 【請求項１１】 プラズマ（１０）に少なくとも一時的に第１前駆物質およ
    び第２前駆物質（１６、１６′）を供給し、その際第１前駆物質がナノスケール
    の粉末またはナノスケールの粉末の懸濁液であり、第２前駆物質がミクロスケー
    ルの粉末またはミクロスケールの粉末の懸濁液である請求項１記載の方法。
12. 【請求項１２】 プラズマ（１０）に少なくとも一時的に第１前駆物質およ
    び第２前駆物質を供給し、その際第１前駆物質がガス状または液状であり、基板
    （１２）に析出後に少なくとも十分に非晶質の層を形成し、第２前駆物質がナノ
    スケールの粉末またはナノスケールの粉末の懸濁液である請求項１から１１まで
    のいずれか１項記載の方法。
13. 【請求項１３】 少なくとも一時的に基板（１２）に別々のＣＶＤ法および
    ／または別々のＰＡＣＶＤ法により層、特に非晶質のマトリックス層を析出する
    請求項１から１２までのいずれか１項記載の方法。
14. 【請求項１４】 ＣＶＤ法またはＰＡＣＶＤ法を、少なくとも一時的に基板
    （１２）上のプラズマ放射源（５）を使用する前駆物質（１６，１６′）の析出
    と同時に使用する請求項１から１３までのいずれか１項記載の方法。
15. 【請求項１５】 第１前駆物質が基板（１２）に少なくとも十分に非晶質の
    マトリックス層を形成し、第２前駆物質が特にナノスケールの粒子を形成し、こ
    の粒子をマトリックス層に組み込む請求項１から１４までのいずれか１項記載の
    方法。
16. 【請求項１６】 基板（１２）上の被覆（１８）として、金属珪化物、金属
    炭化物、炭化珪素、金属酸化物、酸化珪素、金属窒化物、窒化珪素、金属ホウ化
    物、金属硫化物、非晶質の炭素またはこれらの物質の混合物からなる層または連
    続層を析出する請求項１から１５までのいずれか１項記載の方法。
17. 【請求項１７】 前駆物質（１６、１６′）の組成の時間的変化により被覆
    （１８）として連続層を析出する請求項１から１６までのいずれか１項記載の方
    法。