JP2691220B2 - ダイヤモンドの合成法 - Google Patents
ダイヤモンドの合成法Info
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/26—Deposition of carbon only
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- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、気相合成によるダイヤモンドの製造方法に
関するものである。
関するものである。
[従来の技術および解決しようとする課題] 熱プラズマCVD法は、高速でダイヤモンドを合成でき
るが、均一性が悪くダイヤモンドと母材との付着性が劣
化している。他の合成法ではSiH4,TiH4等の水素化物、S
iCl4,TiCl4等の塩化物または有機金属化合物等を添加
し、生成速度,付着力等を向上させているが生成速度が
十分でなく、またこれらの添加ガスは毒性,引火性が強
く取扱いが難しい。
るが、均一性が悪くダイヤモンドと母材との付着性が劣
化している。他の合成法ではSiH4,TiH4等の水素化物、S
iCl4,TiCl4等の塩化物または有機金属化合物等を添加
し、生成速度,付着力等を向上させているが生成速度が
十分でなく、またこれらの添加ガスは毒性,引火性が強
く取扱いが難しい。
[課題を解決するための手段] 本発明は取扱いが容易なSiC,TiC等の炭化物の微粉末
をプラズマ中へ添加することにより、高速度かつ高付着
性を有するダイヤモンドの合成法であり、この微粉末の
粒径を0.01〜10μmとするものである。SiC,TiC等微粉
末の粒径が0.01μm未満では導入が難しく、10μmを越
えると核としての効果が十分でなくなり、粒径は特に0.
1〜1μmが好ましい。
をプラズマ中へ添加することにより、高速度かつ高付着
性を有するダイヤモンドの合成法であり、この微粉末の
粒径を0.01〜10μmとするものである。SiC,TiC等微粉
末の粒径が0.01μm未満では導入が難しく、10μmを越
えると核としての効果が十分でなくなり、粒径は特に0.
1〜1μmが好ましい。
[実施例] モリブデンを基板としてアルゴン40/min,水素4/
min,メタン40ml/min圧力200Torrにおいてプラズマジェ
ットを発生させて、SiC微粉末(粒径0.5μm)を10mg/m
inで添加し、10minダイヤモンドの生成を行った。基板
上に約20μmの析出物が生成した。析出物の硬さはビッ
カース硬度8000を示し、X線回折よりダイヤモンドと同
定された。このダイヤモンドが析出したモリブデンを18
0゜に折曲げたが、ダイヤモンドは剥離することなく強
い付着力を示した。
min,メタン40ml/min圧力200Torrにおいてプラズマジェ
ットを発生させて、SiC微粉末(粒径0.5μm)を10mg/m
inで添加し、10minダイヤモンドの生成を行った。基板
上に約20μmの析出物が生成した。析出物の硬さはビッ
カース硬度8000を示し、X線回折よりダイヤモンドと同
定された。このダイヤモンドが析出したモリブデンを18
0゜に折曲げたが、ダイヤモンドは剥離することなく強
い付着力を示した。
[作用] ダイヤモンドの生成において核発生の中心となるSiC,
TiC等の微粒子が、母材の表面にプラズマジェットの流
れにより運ばれ熱により反応し母材表面に結合する。Si
C,TiC等の炭化物微粒子を核としてダイヤモンドが生成
する。SiC,TiC等が母材とダイヤモンドのバインダーと
して作用しているため、母材の材質に左右されることな
く強い付着力が得られる。
TiC等の微粒子が、母材の表面にプラズマジェットの流
れにより運ばれ熱により反応し母材表面に結合する。Si
C,TiC等の炭化物微粒子を核としてダイヤモンドが生成
する。SiC,TiC等が母材とダイヤモンドのバインダーと
して作用しているため、母材の材質に左右されることな
く強い付着力が得られる。
[発明の効果] 本発明により、プラズマ中に添加されたSiC,TiC等の
炭化物の微粉末が母材表面において、ダイヤモンド生成
の核となるために均一にダイヤモンドが生成し、またSi
C,TiC等がバインダーとして作用するため付着力が強く
なるという効果があった。SiCl4,TiCl4の等の塩化物、S
iH4,TiH4等の水素化物および有機金属化合物は有毒また
は引火性であるが、本発明による添加物であるSiC,TiC
等は炭化物であるために取扱いが容易である。したがっ
て本発明によるダイヤモンドコーティングにより各種の
機能材料を供することができるようになった。
炭化物の微粉末が母材表面において、ダイヤモンド生成
の核となるために均一にダイヤモンドが生成し、またSi
C,TiC等がバインダーとして作用するため付着力が強く
なるという効果があった。SiCl4,TiCl4の等の塩化物、S
iH4,TiH4等の水素化物および有機金属化合物は有毒また
は引火性であるが、本発明による添加物であるSiC,TiC
等は炭化物であるために取扱いが容易である。したがっ
て本発明によるダイヤモンドコーティングにより各種の
機能材料を供することができるようになった。
第1図は本発明を実施するための装置の概略図。 1:プラズマトーチ 2:アルゴンガスボンベ 3:水素ガスボンベ 4:メタンガスボンベ 5:フィーダー用ガスボンベ 6:粉末フィーダー 7:基板 8:チャンバー 9:ロータリーポンプ
Claims (2)
- 【請求項1】プラズマジェットを用いた熱プラズマCVD
法によるダイヤモンドの合成法において、プラズマ中へ
SiC,TiC等炭化物の微粉末を添加することを特徴とした
ダイヤモンドの合成法。 - 【請求項2】微粉末の粒径が0.01〜10μmである請求項
(1)記載のダイヤモンドの合成法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63302050A JP2691220B2 (ja) | 1988-11-29 | 1988-11-29 | ダイヤモンドの合成法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63302050A JP2691220B2 (ja) | 1988-11-29 | 1988-11-29 | ダイヤモンドの合成法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02149412A JPH02149412A (ja) | 1990-06-08 |
JP2691220B2 true JP2691220B2 (ja) | 1997-12-17 |
Family
ID=17904307
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63302050A Expired - Fee Related JP2691220B2 (ja) | 1988-11-29 | 1988-11-29 | ダイヤモンドの合成法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2691220B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5260106A (en) * | 1990-08-03 | 1993-11-09 | Fujitsu Limited | Method for forming diamond films by plasma jet CVD |
DE19958473A1 (de) | 1999-12-04 | 2001-06-07 | Bosch Gmbh Robert | Verfahren zur Herstellung von Kompositschichten mit einer Plasmastrahlquelle |
DE19958474A1 (de) * | 1999-12-04 | 2001-06-21 | Bosch Gmbh Robert | Verfahren zur Erzeugung von Funktionsschichten mit einer Plasmastrahlquelle |
JP4827858B2 (ja) * | 2006-01-10 | 2011-11-30 | ローム株式会社 | 負出力レギュレータ回路及びこれを用いた電気機器 |
CN114561629B (zh) * | 2021-06-25 | 2022-10-14 | 杭州超然金刚石有限公司 | 锂氮共掺杂的金刚石半导体的制造设备 |
-
1988
- 1988-11-29 JP JP63302050A patent/JP2691220B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH02149412A (ja) | 1990-06-08 |
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