DE19958474A1 - Verfahren zur Erzeugung von Funktionsschichten mit einer Plasmastrahlquelle - Google Patents

Verfahren zur Erzeugung von Funktionsschichten mit einer Plasmastrahlquelle

Info

Publication number
DE19958474A1
DE19958474A1 DE19958474A DE19958474A DE19958474A1 DE 19958474 A1 DE19958474 A1 DE 19958474A1 DE 19958474 A DE19958474 A DE 19958474A DE 19958474 A DE19958474 A DE 19958474A DE 19958474 A1 DE19958474 A1 DE 19958474A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
plasma
precursor material
plasma jet
substrate
gas
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
DE19958474A
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Stefan Grosse
Johannes Voigt
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Robert Bosch GmbH
Original Assignee
Robert Bosch GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Robert Bosch GmbH filed Critical Robert Bosch GmbH
Priority to DE19958474A priority Critical patent/DE19958474A1/de
Priority to PCT/DE2000/004207 priority patent/WO2001040543A1/de
Priority to EP00993268A priority patent/EP1252365A1/de
Priority to JP2001542606A priority patent/JP2003515676A/ja
Publication of DE19958474A1 publication Critical patent/DE19958474A1/de
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
    • C23C16/513—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using plasma jets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/12—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
    • C23C4/123—Spraying molten metal
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/12—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
    • C23C4/134—Plasma spraying

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
DE19958474A 1999-12-04 1999-12-04 Verfahren zur Erzeugung von Funktionsschichten mit einer Plasmastrahlquelle Ceased DE19958474A1 (de)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19958474A DE19958474A1 (de) 1999-12-04 1999-12-04 Verfahren zur Erzeugung von Funktionsschichten mit einer Plasmastrahlquelle
PCT/DE2000/004207 WO2001040543A1 (de) 1999-12-04 2000-11-25 Verfahren zur erzeugung von funktionsschichten mit einer plasmastrahlquelle
EP00993268A EP1252365A1 (de) 1999-12-04 2000-11-25 Verfahren zur erzeugung von funktionsschichten mit einer plasmastrahlquelle
JP2001542606A JP2003515676A (ja) 1999-12-04 2000-11-25 プラズマ放射源を使用して機能層を製造する方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19958474A DE19958474A1 (de) 1999-12-04 1999-12-04 Verfahren zur Erzeugung von Funktionsschichten mit einer Plasmastrahlquelle

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE19958474A1 true DE19958474A1 (de) 2001-06-21

Family

ID=7931408

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19958474A Ceased DE19958474A1 (de) 1999-12-04 1999-12-04 Verfahren zur Erzeugung von Funktionsschichten mit einer Plasmastrahlquelle

Country Status (4)

Country Link
EP (1) EP1252365A1 (ja)
JP (1) JP2003515676A (ja)
DE (1) DE19958474A1 (ja)
WO (1) WO2001040543A1 (ja)

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10104615A1 (de) * 2001-02-02 2002-08-14 Bosch Gmbh Robert Verfahren zur Erzeugung einer Funktionsbeschichtung mit einer HF-ICP-Plasmastrahlquelle
DE10104614A1 (de) * 2001-02-02 2002-08-22 Bosch Gmbh Robert Plasmaanlage und Verfahren zur Erzeugung einer Funktionsbeschichtung
DE10104613A1 (de) * 2001-02-02 2002-08-22 Bosch Gmbh Robert Plasmaanlage und Verfahren zur Erzeugung einer Funktionsbeschichtung
DE10213080A1 (de) * 2002-03-23 2003-10-16 Werner Schmitz Mit nanodünnen Funktionsschichten versehene flexible Substratbahnen
DE10239875A1 (de) * 2002-08-29 2004-03-18 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren und Vorrichtung zur großflächigen Beschichtung von Substraten bei Atmosphärendruckbedingungen
DE102004015217A1 (de) * 2004-03-23 2006-01-05 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zur Ausbildung dünner Schichten aus Siliziumnitrid auf Substratoberflächen
WO2008025353A2 (de) * 2006-09-01 2008-03-06 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Vorrichtung und verfahren zur ausbildung dünner siliciumnitridschichten auf oberflächen von kristallinen silicium-solarwafern
DE102008029681A1 (de) * 2008-06-23 2009-12-24 Plasma Treat Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Aufbringen einer Schicht, insbesondere einer selbstreinigend und/oder antimikrobiell wirkenden photokatalytischen Schicht, auf eine Oberfläche
EP2145977A2 (de) 2008-07-18 2010-01-20 Innovent e.V. Verfahren zur Abscheidung von Schichten auf einem Substrat
DE102008056968A1 (de) * 2008-11-13 2010-05-20 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zum Abscheiden einer Nanokomposit-Schicht auf einem Substrat mittels chemischer Dampfabscheidung
DE102010043949A1 (de) * 2010-11-16 2012-05-16 Innovent E.V. Vorrichtung und Verfahren zum Beschichten von Oberflächen
DE102012220986A1 (de) 2012-11-16 2014-05-22 Innovent E.V. Technologieentwicklung Dosiereinheit und Verfahren zur Abscheidung einer Schicht auf einem Substrat
DE102011015263B4 (de) * 2010-03-26 2014-07-24 Hq-Dielectrics Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum Behandeln von Substraten
DE102016104130A1 (de) * 2016-03-07 2017-09-07 Plasmatreat Gmbh Verfahren zum Beschichten einer Bauteiloberfläche sowie Verfahren zur Herstellung eines Beschichtungsmaterials
EP3527692A1 (de) * 2018-02-19 2019-08-21 FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zur herstellung einer haftvermittelnden beschichtung
DE102008001721B4 (de) * 2008-05-13 2021-01-14 Voith Patent Gmbh Verfahren zum Beschichten einer Klinge

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4983091B2 (ja) * 2006-05-02 2012-07-25 東京エレクトロン株式会社 電解質膜の形成方法、成膜装置及び固体燃料電池
CA2658210A1 (en) * 2008-04-04 2009-10-04 Sulzer Metco Ag Method and apparatus for the coating and for the surface treatment of substrates by means of a plasma beam
CN104114737A (zh) * 2011-12-14 2014-10-22 普莱克斯S.T.技术有限公司 在悬浮液等离子喷涂工艺中利用被护罩的等离子喷涂或被护罩的液体悬浮液注射的系统和方法
US20130156968A1 (en) * 2011-12-14 2013-06-20 Christopher A. Petorak Reactive gas shroud or flame sheath for suspension plasma spray processes
US9890089B2 (en) * 2014-03-11 2018-02-13 General Electric Company Compositions and methods for thermal spraying a hermetic rare earth environmental barrier coating

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1324292A (en) * 1970-05-15 1973-07-25 Anvar Methods and devices for effecting surface deposits
DE19603323A1 (de) * 1996-01-30 1997-08-07 Siemens Ag Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von SiC durch CVD mit verbesserter Gasausnutzung
DE19807086A1 (de) * 1998-02-20 1999-08-26 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zum Beschichten von Oberflächen eines Substrates, Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens, Schichtsystem sowie beschichtetes Substrat

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2691220B2 (ja) * 1988-11-29 1997-12-17 並木精密宝石株式会社 ダイヤモンドの合成法
JP2938552B2 (ja) * 1990-10-17 1999-08-23 富士通株式会社 コーティング膜の製造方法およびコーティング膜の製造装置
DE4112156A1 (de) * 1991-04-13 1992-10-15 Lugscheider Erich Mit hilfe eines plasmabrenners aufgebrachte beschichtung sowie plasmabrenner
JPH05195107A (ja) * 1992-01-21 1993-08-03 Toyota Motor Corp 粒子分散アモルファス合金の製造方法
US5435815A (en) * 1992-06-30 1995-07-25 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Cutting tool employing vapor-deposited polycrystalline diamond for cutting edge and method of manufacturing the same
CN1195884C (zh) * 1995-11-13 2005-04-06 康涅狄格大学 用于热喷涂的纳米结构的进料

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1324292A (en) * 1970-05-15 1973-07-25 Anvar Methods and devices for effecting surface deposits
DE19603323A1 (de) * 1996-01-30 1997-08-07 Siemens Ag Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von SiC durch CVD mit verbesserter Gasausnutzung
DE19807086A1 (de) * 1998-02-20 1999-08-26 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zum Beschichten von Oberflächen eines Substrates, Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens, Schichtsystem sowie beschichtetes Substrat

Cited By (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10104615A1 (de) * 2001-02-02 2002-08-14 Bosch Gmbh Robert Verfahren zur Erzeugung einer Funktionsbeschichtung mit einer HF-ICP-Plasmastrahlquelle
DE10104614A1 (de) * 2001-02-02 2002-08-22 Bosch Gmbh Robert Plasmaanlage und Verfahren zur Erzeugung einer Funktionsbeschichtung
DE10104613A1 (de) * 2001-02-02 2002-08-22 Bosch Gmbh Robert Plasmaanlage und Verfahren zur Erzeugung einer Funktionsbeschichtung
DE10213080A1 (de) * 2002-03-23 2003-10-16 Werner Schmitz Mit nanodünnen Funktionsschichten versehene flexible Substratbahnen
DE10239875A1 (de) * 2002-08-29 2004-03-18 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren und Vorrichtung zur großflächigen Beschichtung von Substraten bei Atmosphärendruckbedingungen
DE10239875B4 (de) * 2002-08-29 2008-11-06 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren und Vorrichtung zur großflächigen Beschichtung von Substraten bei Atmosphärendruckbedingungen
DE102004015217A1 (de) * 2004-03-23 2006-01-05 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zur Ausbildung dünner Schichten aus Siliziumnitrid auf Substratoberflächen
DE102004015217B4 (de) * 2004-03-23 2006-04-13 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zur Ausbildung dünner Schichten aus Siliziumnitrid auf Substratoberflächen
WO2008025353A2 (de) * 2006-09-01 2008-03-06 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Vorrichtung und verfahren zur ausbildung dünner siliciumnitridschichten auf oberflächen von kristallinen silicium-solarwafern
WO2008025353A3 (de) * 2006-09-01 2008-05-08 Fraunhofer Ges Forschung Vorrichtung und verfahren zur ausbildung dünner siliciumnitridschichten auf oberflächen von kristallinen silicium-solarwafern
DE102008001721B4 (de) * 2008-05-13 2021-01-14 Voith Patent Gmbh Verfahren zum Beschichten einer Klinge
DE102008029681A1 (de) * 2008-06-23 2009-12-24 Plasma Treat Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Aufbringen einer Schicht, insbesondere einer selbstreinigend und/oder antimikrobiell wirkenden photokatalytischen Schicht, auf eine Oberfläche
DE102008033938A1 (de) * 2008-07-18 2010-01-28 Innovent E.V. Verfahren zur Abscheidung von Schichten auf einem Substrat
DE102008033938B4 (de) * 2008-07-18 2012-04-19 Innovent E.V. Verfahren zur Abscheidung von Schichten auf einem Substrat
EP2145977A2 (de) 2008-07-18 2010-01-20 Innovent e.V. Verfahren zur Abscheidung von Schichten auf einem Substrat
DE102008056968B4 (de) * 2008-11-13 2011-01-05 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zum Abscheiden einer Nanoverbund-Schicht auf einem Substrat mittels chemischer Dampfabscheidung
DE102008056968A1 (de) * 2008-11-13 2010-05-20 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zum Abscheiden einer Nanokomposit-Schicht auf einem Substrat mittels chemischer Dampfabscheidung
DE102011015263B4 (de) * 2010-03-26 2014-07-24 Hq-Dielectrics Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum Behandeln von Substraten
DE102010043949A1 (de) * 2010-11-16 2012-05-16 Innovent E.V. Vorrichtung und Verfahren zum Beschichten von Oberflächen
DE102010043949B4 (de) * 2010-11-16 2013-06-20 Innovent E.V. Vorrichtung und Verfahren zum Beschichten von Oberflächen
EP2743373A1 (de) 2012-11-16 2014-06-18 Innovent e.V. Dosiereinheit und ihre Verwendung
DE102012220986B4 (de) * 2012-11-16 2015-04-02 Innovent E.V. Technologieentwicklung Dosiereinheit und ihre Verwendung
DE102012220986A1 (de) 2012-11-16 2014-05-22 Innovent E.V. Technologieentwicklung Dosiereinheit und Verfahren zur Abscheidung einer Schicht auf einem Substrat
DE102016104130A1 (de) * 2016-03-07 2017-09-07 Plasmatreat Gmbh Verfahren zum Beschichten einer Bauteiloberfläche sowie Verfahren zur Herstellung eines Beschichtungsmaterials
EP3527692A1 (de) * 2018-02-19 2019-08-21 FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zur herstellung einer haftvermittelnden beschichtung
DE102018202438A1 (de) * 2018-02-19 2019-08-22 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zur Herstellung einer haftvermittelnden Beschichtung
DE102018202438B4 (de) 2018-02-19 2022-11-10 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zum Verbinden eines Trägermaterials mit einem weiteren Material

Also Published As

Publication number Publication date
EP1252365A1 (de) 2002-10-30
JP2003515676A (ja) 2003-05-07
WO2001040543A1 (de) 2001-06-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE19958474A1 (de) Verfahren zur Erzeugung von Funktionsschichten mit einer Plasmastrahlquelle
EP1242649B1 (de) Verfahren zur herstellung von kompositschichten mit einer plasmastrahlquelle
EP0478909B1 (de) Verfahren zur Herstellung einer Diamantschicht und Anlage hierfür
DE19726443C2 (de) Verfahren zur Oberflächenvergütung innerer Oberflächen von Hohlkörpern und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
DE102009048397A1 (de) Atmosphärendruckplasmaverfahren zur Herstellung oberflächenmodifizierter Partikel und von Beschichtungen
DE19513614C1 (de) Verfahren zur Abscheidung von Kohlenstoffschichten, Kohlenstoffschichten auf Substraten und deren Verwendung
EP2041332A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur plasmagestützten chemischen gasphasenabscheidung an der innenwand eines hohlkörpers
WO2001079585A1 (de) Dlc-schichtsystem sowie verfahren zur herstellung eines derartigen schichtsystems
CH631743A5 (de) Verfahren zum aufdampfen von material in einer vakuumaufdampfanlage.
EP2631025A1 (de) Plasmaspritzverfahren
DE102010005375A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Pulverspritzen mit erhöhter Gasstromgeschwindigkeit
DE10104615A1 (de) Verfahren zur Erzeugung einer Funktionsbeschichtung mit einer HF-ICP-Plasmastrahlquelle
EP1872637B1 (de) Vorrichtung und verfahren zur plasmabeschichtung
DE10104614A1 (de) Plasmaanlage und Verfahren zur Erzeugung einer Funktionsbeschichtung
EP2066827B1 (de) Verfahren und vorrichtung zur abscheidung einer nichtmetallischen beschichtung mittels kaltgas-spritzen
DE102008044024A1 (de) Beschichtungsverfahren sowie Beschichtungsvorrichtung
WO1990013681A1 (de) Verfahren zum auftragen von keramischem material
EP1371271B1 (de) Plasmaanlage und verfahren zur erzeugung einer funktionsbeschichtung
DD142568A1 (de) EINRICHTUNG ZUM REAKTIVEN BESCHICHTEN MIT DEM PLASM&TRON
EP0536355B1 (de) Verfahren zum aufbringen einer beschichtung auf ein substrat
EP2186922A1 (de) Verfahren zum Abscheiden einer Nanokomposit-Schicht auf einem Substrat mittels chemischer Dampfabscheidung
EP0682719B1 (de) Vorrichtung und verfahren zur ablagerung von festen stoffen, insbesondere von sehr feinkörnigen stoffen, sowie verwendung dieses verfahrens
EP2631332A1 (de) Verfahren zur Metallisierung eines Substrats
EP1427265A2 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Beschichten eines Substrates und Beschichtung auf einem Substrat
DE19632393A1 (de) Plasmagestütztes Beschichtungsverfahren

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
8131 Rejection