JP2003512205A - 石膏板又は石膏タイルの処理方法 - Google Patents

石膏板又は石膏タイルの処理方法

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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B28B11/00—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles
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Abstract

(57)【要約】 本発明は、穴の開けられた石膏板（Ｇ）を処理する方法に関する。石膏板に穴が開けられた時、石膏板がそれぞれ通路に沿って移動しながら以下の手順の段階が実施される。移動している石膏板は、石膏板の穴開けによって形成された穴又はスロットに入るように石膏板の反対面に向けられた加圧水で吹きかけられ、石膏板に対して加圧空気を吹き、石膏板から水を吸引することによって移動している石膏板から水が除去され、石膏板上の屑は水の中に伴出され、石膏板から水と共に除去される。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 発明の属する技術分野 本発明は、各側面に紙の保護層及び結合層を有する石膏コアからなる石膏板又
は石膏タイルや、石膏と繊維材料の混合物からなる石膏板又は石膏タイルを含む
、壁構造のフレーム枠上に又は天井や壁の内張りとして取り付けられる石膏板又
は石膏タイルを処理する方法に関する。より一般的には、本質的な成分として石
膏を含んだ任意の板又はタイルに関する。以下に、語「板」は、石膏板と共に石
膏タイルを含むものとして使用されている。
【０００２】 とりわけ、本発明は、例えば穿孔又は鋸挽きによる例えば円形又は四角形状の
穴の開いた任意の前述の種類の石膏板の処理方法に関する。このような穴の開い
た石膏板には、一側面には織布又はフェルト材料が設けられていることが多く、
この織布又はフェルト材料は、穴又はスロットと組み合わせて石膏板の音吸収特
性を改良している。石膏板には、石膏板の概観を改良するためにニスが塗られて
もよい。
【０００３】 従来の技術 石膏板を穴開けすると、穴又はスロットには被覆されていないせん断面をつく
る。このせん断面から石膏粒子が分離し、石膏板が積まれる又は取り付けられる
又は使用される時にこのような粒子が屑として周囲に放射される。石膏板を貯蔵
、分布及び使用する間、穴の開いた石膏板を操作する時にこのような粒子が放射
することが問題とされている。石膏板から石膏粒子を除去するためには石膏板を
ブラシで掃くことは、ちりの問題を避けるには十分でないということがわかって
いる。さらに、石膏板の表面に石膏屑が覆うと、この屑によって塗料が石膏板面
に接着するのを防ぐので石膏板が塗装される時に困難となる。
【０００４】 本発明の概要 本発明の目的は、必要な製造方法において変更することなく自動的で連続的な
製造ラインに容易に組み込まれることができる処理段階によって問題をなくすこ
とである。
【０００５】 本発明によれば、この目的は請求項１の方法によって実現される。この方法に
よって、石膏屑が石膏板を損傷させることなく石膏板から有効に除去される。石
膏板の効率的な清掃のために少量の水が使用されることができ、水が吹かれ及び
／又は吸引され、水が吹きかけられた時に石膏板を乾燥させるためのエネルギ消
費を満足できる低いレベルに維持することができる。
【０００６】 発明の実施の形態 本発明の方法の図示的な実施例を添付図面を参照して以下に説明する。添付図
面に開示された装置は、その中に取り付けられているロールコンベヤ１１を有す
るフレーム枠１０とを備えている。このロールコンベヤは、ディスク上に積まれ
た石膏板を支持するために相互に離間した共通のシャフト上に取り付けられた薄
ディスクを備えているロールを有しているタイプである。このコンベヤは、一端
、すなわち図１中左端において石膏板Ｇを受容するため、他端、すなわち図１中
右端において、開示した装置において本発明の方法による処理をした後に石膏板
を搬送するために、コンベヤの各端においてコンベヤ通路に接続している。この
装置に到着する石膏板は、前述の任意のタイプとすることができ、例えば、円形
又は四角形穴又はスロットに穴開けされている。好ましくは、複数の石膏板がコ
ンベヤ１１に到着する前にこれら石膏板はブラシで掃かれ、穿孔又は鋸挽きの後
に石膏板に接着した石膏屑を可能な限り除去する。本発明の方法による石膏板を
処理する目的は、穴又はスロットの中の大部分にある屑をブラシで掃くことによ
って除去されなかった残留している石膏屑を除去してさらに石膏板を清掃するこ
とである。水の吸収を低減するために、石膏板の表面及び／又はコアは、石膏板
の製造時にシリコーン又はワックスで含浸されることができる。
【０００７】 この装置は、上又は下からロールコンベヤ上に積んである石膏板Ｇの表面に吹
きかけるためのスプレイノズル１３が取り付けられている室１２を備えている。
【０００８】 石膏板Ｇの移動方向（左から右へ）に見て室１１の下流には、上から及び下か
らロールコンベヤ上の石膏板に向けて空気噴流を指向し、かつ石膏板から水を吸
引するためのノズル１４が設けられている。これらのノズルは、適切なレベルに
配置するために垂直方向に調節することができ、コンベヤの幅にわたってコンベ
ヤの横断方向に平行に延びている狭い出口開口及び入口開口を有するタイプでな
ければならない。このタイプの装置は、「エアナイフ」と呼ばれている。入口開
口及び出口開口は互いに向けて収束しており、この収束角度は調節可能である。
これらのノズルによって、鋭い噴流の加圧空気が、ノズルの出口開口を通してコ
ンベヤの幅にわたって上から及び下から石膏板Ｇに向けられ、水及び空気が同時
にノズルの入口開口を通して吸引される。ノズルから石膏板に対して吹かれる加
圧空気の速度は、好ましくはノズルの口では約５０ｍ毎秒である。あるいは、石
膏板の一方側で吹き飛ばしが行なわれて他方側で吸引が行なわれることができ、
吹き飛ばし及び吸引が製造ラインに沿って一方側と他方側それぞれで交互に行な
うことができる。供給された余剰の水を収集するための桶１５がフレーム枠に設
けられている。水タンク１７を有するポンプ集合体１６は、水ノズルへ再循環す
るために桶１５から水を汲み、タンク１７から必要な再循環水へ新鮮な水を足す
。ノズルによって回収された空気中の水は、空気から分離され、再循環のために
ポンプ集合体へ供給される。
【０００９】 開示されている装置は、水及び湿り空気が周辺環境に逃げないように包囲され
ている。
【００１０】 穴開けされかつブラシで掃かれた石膏板（Ｇ）は、図１で見て左から右へ、ロ
ールコンベヤ１１上の記載された装置を通して移動する時、室１２内の上側スプ
レイ及び下側スプレイ１３を通過する時に石膏板は霧状の水が吹きかけられる。
屑を減じるためにラテックスを基礎とした結合剤などの適切な結合剤が水に足さ
れてもよい。供給される水の圧力は低いので、石膏板が損傷する危険がない。ノ
ズル１３は、石膏板の各側面で面全体を洗浄し、石膏板の中にある石膏屑をすす
ぎ落とすために十分な量だけ水を石膏板の穴又はスロットを通過させるために必
要な量を供給するほど十分に大きいだけでなければならない。
【００１１】 石膏板はさらに装置を通して進む時、石膏板は、石膏板の面上や石膏板の穴の
中に残っている水を除去するエアナイフ１４に到着する。石膏板を去る空気は、
そこから、また、穴又はスロットから石膏屑を除去する。このような屑は、石膏
板から除去される水の中に伴出される。水が再循環させられ、水が装置内で再使
用させられる前に、水から固体状粒子を分離するために水は再循環システム内の
フィルタを通過することができる。
【００１２】 本発明の方法を実施する装置から、コンベヤの右端において石膏板Ｇは、乾燥
、シール、塗装、織物材料の塗布や包装などの処理をさらに行なうために処理ラ
インに続いている。
【００１３】 石膏板を経済的に処理するために、石膏板から屑を効率的に除去し、その中で
伴出された石膏屑を有する水を石膏板から除去するために必要なエネルギを可能
な限り低くするために処理パラメータが最適化されなければならない。
【図面の簡単な説明】
【図１】 石膏板を処理するための製造ラインに組み込まれることができる、本発明の方
法を実施する装置の長手方向断面図である。
【図２】 図１の装置の端面図である。

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 穴の開いた石膏板を処理する方法において、 複数の石膏板（Ｇ）は、穴を開けられた後に、 通路に沿って前記石膏板の各々を移動させる段階と、 前記石膏板の穴開けによって形成された穴又はスロットに入るように前記移動
    している石膏板に前記石膏板の反対の面に向けて水を吹きかける段階と、 前記石膏板に対して加圧空気を吹きかけて前記石膏板から水を吸引するエアナ
    イフによって前記移動している石膏板から水を除去する段階によって処理される
    ことを特徴とする穴の開いた石膏板を処理する方法。
  2. 【請求項２】 前記空気の噴流が前記石膏板（Ｇ）に対して斜角に向けられ
    ている請求項１に記載の方法。
  3. 【請求項３】 前記空気の噴流が前記石膏板（Ｇ）の幅全体又は長さ全体に
    わたって延びている請求項１又は２に記載の方法。
  4. 【請求項４】 前記水が霧として前記移動している石膏板（Ｇ）上に吹きか
    けられる請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
  5. 【請求項５】 前記水は結合剤と混合されている請求項１〜４のいずれか１
    項に記載の方法。
  6. 【請求項６】 前記石膏板（Ｇ）の表面又はコアが含浸されている請求項１
    〜５のいずれか１項に記載の方法。
  7. 【請求項７】 前記石膏板（Ｇ）上に吹きかけられた水が収集され、吹きか
    けるための水として繰り返し使用するために前記水が再循環させられる請求項１
    〜６のいずれか１項に記載の方法。
  8. 【請求項８】 前記石膏板（Ｇ）は、前記石膏板に水を吹きかける前に前記
    石膏板から石膏屑を除去するためにブラシで掃かれる請求項１〜７のいずれか１
    項に記載の方法。
  9. 【請求項９】 前記石膏板（Ｇ）に対して吹きかけられる加圧空気の速度は
    約５０ｍ毎秒である請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
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