JP2003511846A5 - - Google Patents
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Description
【特許請求の範囲】
【請求項1】 少なくとも一つのHF発生器(5)を含む、スパッタ室(1)内のプラズマ放電(PL)の電気供給用給電ユニットであって、HF発生器(5)が被制御スイッチユニット(13)を含み、前記スイッチユニットにより、HF発生器(5)の出力(5a)に発生したHF給電信号が少なくとも第一の期間(tA)停止され、前記第一の期間は、HF給電信号が前記出力にある第二の期間(tB)より実質的に短く、
さらにDC発生器(25)が設けられ、その出力信号はHF発生器(5)の出力信号に重畳され、DC発生器(25)はさらに別の被制御スイッチユニット(33)を含み、それによってDC発生器(25)の出力に発生されたDC給電信号は少なくとも第三の期間(tC)の間停止され、第三の期間は、DC給電信号が前記出力に存在する第四の期間(to)より実質的に短いことを特徴とする、給電ユニット。
【請求項2】 被制御スイッチユニット(13)が、火花検出ユニット(60)の出力と作用接続された制御入力(13s)を有することを特徴とする、請求項1に記載の給電ユニット。
【請求項3】 HF発生器(5)が、出力(7a)がHF発信器(9)と作用接続された給電ユニット(7)を有し、被制御スイッチユニット(13)はHF発生器(5)の給電ユニット(7)の出力(7a)と、発生器(5)の出力(5a)との間に設けられることを特徴とする、請求項1または2に記載の給電ユニット。
【請求項4】 火花検出ユニット(60)がDC電位測定ユニットを含み、その出力は閾値検出ユニット(62)の入力と作用接続され、閾値検出ユニット(62)の出力は制御入力(13s)と作用接続されることを特徴とする、請求項2または3に記載の給電ユニット。
【請求項5】 前記DC電位測定ユニットは、調整可能であることを特徴とする、請求項4に記載の給電ユニット。
【請求項6】 第一の期間(tA)が最長40μsecであることを特徴とする、請求項1から5のいずれかに記載の給電ユニット。
【請求項7】 第一の期間(tA)が最長30μsecであることを特徴とする、請求項1から5のいずれかに記載の給電ユニット。
【請求項8】 火花検出ユニット(60)を作動させる信号が発生してから、第一の期間(tA)が始まるまでの時間が最長50μsecであることを特徴とする、請求項2
から7のいずれかに記載の給電ユニット。
【請求項9】 火花検出ユニット(60)を作動させる信号が発生してから、第一の期間(tA)が始まるまでの時間が最長30μsecであることを特徴とする、請求項2から7のいずれかに記載の給電ユニット。
【請求項10】 被制御スイッチユニットは、火花検出ユニット(60)の出力の検出信号によって作動されると、HF給電信号を期間(tA)の間停止させる単安定ユニットの態様で実現されることを特徴とする、請求項2から9のいずれかに記載の給電ユニット。
【請求項11】 前記期間(tA)は調整可能であることを特徴とする、請求項10に記載の給電ユニット。
【請求項12】 第一の期間(tA)の間、HF給電信号を繰り返し停止させる自由作動クロックユニット(15)と、被制御スイッチユニットの制御入力が作用接続されていることを特徴とする、請求項1から9のいずれかに記載の給電ユニット。
【請求項13】 DC発生器(25)のさらに別のスイッチユニット(33)の制御入力(33s)が、火花検出ユニット(60)の出力と作用接続されていることを特徴とする、請求項2に記載の給電ユニット。
【請求項14】 第三の期間(tC)が第一の期間(tA)の前に始まり、第一の期間(tA)の前または後に終わるように、HF発生器(5)の被制御スイッチユニット(13)の制御入力(13s)と、DC発生器(25)のさらに別の被制御スイッチユニット(33)の制御入力(33s)とがタイマーユニット(15,43,35)を介して作用接続されていることを特徴とする、請求項13に記載の給電ユニット。
【請求項15】 第三の期間(tC)が第一の期間(tA)の前に始まり、第一の期間(tA)の前に終わるように、HF発生器(5)の被制御スイッチユニット(13)の制御入力(13s)と、DC発生器(25)のさらに別の被制御スイッチユニット(33)の制御入力(33s)とがタイマーユニット(15,43,35)を介して作用接続されていることを特徴とする、請求項13に記載の給電ユニット。
【請求項16】 真空室(1)およびプラズマ放電セクション(PL)を備えたスパッタプラントであって、
プラズマ放電セクション(PL)は、請求項1から14のいずれかに記載のプラズマ放電セクションの電力供給のための給電ユニット(3)に接続されることを特徴とする、スパッタプラント。
【請求項17】 スパッタ被覆プラントとして実現され、1つのプラズマ放電電極がITOターゲットを含むことを特徴とする、請求項16に記載のスパッタプラント。
【請求項18】 1つのプラズマ放電電極がマグネトロン電極であることを特徴とする、請求項16または17に記載のスパッタプラント。
【請求項19】 スパッタリングでの火花形成を低減するための方法であって、プラズマ放電(PL)はHFエネルギによって少なくとも共に供給され、プラズマ放電へのHF給電は短時間(tA)中断され、
プラズマ放電はDC給電(25)によっても供給され、DC給電も短時間停止されることを特徴とする、方法。
【請求項20】 DC給電は、HF給電の前に停止されることを特徴とする、請求項19に記載の方法。
【請求項21】 室(1)内での火花発生の検出(60)に基づきHF給電が短時間(tA)停止されることを特徴とする、請求項19または20に記載の方法。
【請求項22】 HF給電を提供するためのHF発生器(5)の給電(7)を停止させることなく、HF給電が停止されることを特徴とする、請求項19から21のいずれかに記載の方法。
【請求項23】 プラズマ放電におけるDC電位の測定により火花発生が検出されることを特徴とする、請求項21または22に記載の方法。
【請求項24】 HF供給が最長40μsecの間停止されることと特徴とする、請
求項19から23のいずれかに記載の方法。
【請求項25】 HF供給が最長30μsecの間停止されることと特徴とする、請求項19から23のいずれかに記載の方法。
【請求項26】 火花発生の検出から、最長50μsec後、HF給電が停止されることを特徴とする、請求項21から25のいずれかに記載の方法。
【請求項27】 火花発生の検出から、最長30μsec後に、HF給電が停止されることを特徴とする、請求項21から25のいずれかに記載の方法。
【請求項28】 HF給電が繰返し停止されることを特徴とする、請求項19から27のいずれかに記載の方法。
【請求項29】 HF給電が周期的に停止されることを特徴とする、請求項19から27のいずれかに記載の方法。
【請求項30】 火花発生の検出に基づきDC給電が停止されることを特徴とする、請求項19に記載の方法。
【請求項31】 DC給電が高周波数給電の前または後に再び提供されることを特徴とする、請求項19に記載の方法。
【請求項32】 DC給電が高周波数給電の前に再び提供されることを特徴とする、請求項19に記載の方法。
【請求項33】 スパッタプロセスで構造部材を製造するための方法であって、スパッタプラズマ放電への給電はHF成分を有し、HF給電成分は短時間停止され、
プラズマ放電は、さらに、DC給電(25)によって給電され、DC給電は短時間停止されることを特徴とする、方法。
【請求項34】 スパッタリングプロセスによって部品を製造するための方法であって、請求項19から32のいずれかに記載の処理によってアーク形成の低減を行なう、方法。
【請求項1】 少なくとも一つのHF発生器(5)を含む、スパッタ室(1)内のプラズマ放電(PL)の電気供給用給電ユニットであって、HF発生器(5)が被制御スイッチユニット(13)を含み、前記スイッチユニットにより、HF発生器(5)の出力(5a)に発生したHF給電信号が少なくとも第一の期間(tA)停止され、前記第一の期間は、HF給電信号が前記出力にある第二の期間(tB)より実質的に短く、
さらにDC発生器(25)が設けられ、その出力信号はHF発生器(5)の出力信号に重畳され、DC発生器(25)はさらに別の被制御スイッチユニット(33)を含み、それによってDC発生器(25)の出力に発生されたDC給電信号は少なくとも第三の期間(tC)の間停止され、第三の期間は、DC給電信号が前記出力に存在する第四の期間(to)より実質的に短いことを特徴とする、給電ユニット。
【請求項2】 被制御スイッチユニット(13)が、火花検出ユニット(60)の出力と作用接続された制御入力(13s)を有することを特徴とする、請求項1に記載の給電ユニット。
【請求項3】 HF発生器(5)が、出力(7a)がHF発信器(9)と作用接続された給電ユニット(7)を有し、被制御スイッチユニット(13)はHF発生器(5)の給電ユニット(7)の出力(7a)と、発生器(5)の出力(5a)との間に設けられることを特徴とする、請求項1または2に記載の給電ユニット。
【請求項4】 火花検出ユニット(60)がDC電位測定ユニットを含み、その出力は閾値検出ユニット(62)の入力と作用接続され、閾値検出ユニット(62)の出力は制御入力(13s)と作用接続されることを特徴とする、請求項2または3に記載の給電ユニット。
【請求項5】 前記DC電位測定ユニットは、調整可能であることを特徴とする、請求項4に記載の給電ユニット。
【請求項6】 第一の期間(tA)が最長40μsecであることを特徴とする、請求項1から5のいずれかに記載の給電ユニット。
【請求項7】 第一の期間(tA)が最長30μsecであることを特徴とする、請求項1から5のいずれかに記載の給電ユニット。
【請求項8】 火花検出ユニット(60)を作動させる信号が発生してから、第一の期間(tA)が始まるまでの時間が最長50μsecであることを特徴とする、請求項2
から7のいずれかに記載の給電ユニット。
【請求項9】 火花検出ユニット(60)を作動させる信号が発生してから、第一の期間(tA)が始まるまでの時間が最長30μsecであることを特徴とする、請求項2から7のいずれかに記載の給電ユニット。
【請求項10】 被制御スイッチユニットは、火花検出ユニット(60)の出力の検出信号によって作動されると、HF給電信号を期間(tA)の間停止させる単安定ユニットの態様で実現されることを特徴とする、請求項2から9のいずれかに記載の給電ユニット。
【請求項11】 前記期間(tA)は調整可能であることを特徴とする、請求項10に記載の給電ユニット。
【請求項12】 第一の期間(tA)の間、HF給電信号を繰り返し停止させる自由作動クロックユニット(15)と、被制御スイッチユニットの制御入力が作用接続されていることを特徴とする、請求項1から9のいずれかに記載の給電ユニット。
【請求項13】 DC発生器(25)のさらに別のスイッチユニット(33)の制御入力(33s)が、火花検出ユニット(60)の出力と作用接続されていることを特徴とする、請求項2に記載の給電ユニット。
【請求項14】 第三の期間(tC)が第一の期間(tA)の前に始まり、第一の期間(tA)の前または後に終わるように、HF発生器(5)の被制御スイッチユニット(13)の制御入力(13s)と、DC発生器(25)のさらに別の被制御スイッチユニット(33)の制御入力(33s)とがタイマーユニット(15,43,35)を介して作用接続されていることを特徴とする、請求項13に記載の給電ユニット。
【請求項15】 第三の期間(tC)が第一の期間(tA)の前に始まり、第一の期間(tA)の前に終わるように、HF発生器(5)の被制御スイッチユニット(13)の制御入力(13s)と、DC発生器(25)のさらに別の被制御スイッチユニット(33)の制御入力(33s)とがタイマーユニット(15,43,35)を介して作用接続されていることを特徴とする、請求項13に記載の給電ユニット。
【請求項16】 真空室(1)およびプラズマ放電セクション(PL)を備えたスパッタプラントであって、
プラズマ放電セクション(PL)は、請求項1から14のいずれかに記載のプラズマ放電セクションの電力供給のための給電ユニット(3)に接続されることを特徴とする、スパッタプラント。
【請求項17】 スパッタ被覆プラントとして実現され、1つのプラズマ放電電極がITOターゲットを含むことを特徴とする、請求項16に記載のスパッタプラント。
【請求項18】 1つのプラズマ放電電極がマグネトロン電極であることを特徴とする、請求項16または17に記載のスパッタプラント。
【請求項19】 スパッタリングでの火花形成を低減するための方法であって、プラズマ放電(PL)はHFエネルギによって少なくとも共に供給され、プラズマ放電へのHF給電は短時間(tA)中断され、
プラズマ放電はDC給電(25)によっても供給され、DC給電も短時間停止されることを特徴とする、方法。
【請求項20】 DC給電は、HF給電の前に停止されることを特徴とする、請求項19に記載の方法。
【請求項21】 室(1)内での火花発生の検出(60)に基づきHF給電が短時間(tA)停止されることを特徴とする、請求項19または20に記載の方法。
【請求項22】 HF給電を提供するためのHF発生器(5)の給電(7)を停止させることなく、HF給電が停止されることを特徴とする、請求項19から21のいずれかに記載の方法。
【請求項23】 プラズマ放電におけるDC電位の測定により火花発生が検出されることを特徴とする、請求項21または22に記載の方法。
【請求項24】 HF供給が最長40μsecの間停止されることと特徴とする、請
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【請求項25】 HF供給が最長30μsecの間停止されることと特徴とする、請求項19から23のいずれかに記載の方法。
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【請求項32】 DC給電が高周波数給電の前に再び提供されることを特徴とする、請求項19に記載の方法。
【請求項33】 スパッタプロセスで構造部材を製造するための方法であって、スパッタプラズマ放電への給電はHF成分を有し、HF給電成分は短時間停止され、
プラズマ放電は、さらに、DC給電(25)によって給電され、DC給電は短時間停止されることを特徴とする、方法。
【請求項34】 スパッタリングプロセスによって部品を製造するための方法であって、請求項19から32のいずれかに記載の処理によってアーク形成の低減を行なう、方法。
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