JP2003510646A - 主に半導体の製造に用いられる検査用顕微鏡 - Google Patents

主に半導体の製造に用いられる検査用顕微鏡

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JP2003510646A
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illumination light
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エンゲル トーマス
ハーニッシュ ヴォルフガング
シェラー ローランド
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カール ツァイス イエナ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
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Abstract

(57)【要約】 【課題】半導体製造用フォトマスクの品質管理および欠陥類別化を高品質に行う、パルスレーザ光線を顕微鏡へ連結させるための検査用顕微鏡 【解決手段】特に紫外線領域用に照明パルスレーザが装備され、そのレーザの後に、照明光の均質化用として回転式制御ディスクが少なくとも一つ設置され、照明光の光路内には、直接的あるいは間接的に相前後する位置に互いに逆方向に回転する二つの制御ディスクが配置された、主に半導体の製造に用いられる検査用顕微鏡。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、特に半導体製造用フォトマスクの品質管理および欠陥類別化を目的
として構成された、パルスレーザ光線を顕微鏡へ連結させるための装置に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】
検査対象物の撮像では複数のレーザパルスを当てるのが得策である。 しかしながら、レーザは、１〜数パルスの段階で、既にその特質強度に４０％
に達する変調が現われることがあり、判定を損なわせている。
【０００３】
【発明の実施の形態】
図１は、パルス紫外レーザを有するレーザ素子ＬＭ、伝送ポートＵＰ、対物レ
ンズＯ付き顕微鏡ＭＩ、走査テーブルＳＴ、ＣＣＤ（電荷結合素子）カメラＫＡ
、画像スクリーンＢＳおよび顕微鏡コントローラＭＣで構成される検査機器の全
体を図式化したものである。 図２ａおよび図２ｂには、レーザ光を顕微鏡ＭＩへ伝送するための連結ユニッ
トＵＰが描かれている。
【０００４】 レーザ光は転向ミラーＵ１,Ｕ２を経て回転式第一制御ディスクＳ１に到達し
、そこから、好ましくは逆向き回転の第二制御ディスクＳ２に至り、光線拡大レ
ンズＬおよび光線絞り装置Ｂを通って、図１の入口Ｅから図にはない顕微鏡光路
に入り、検査対象物を照射するものとする。 レーザの光線特質は少なくとも一つの制御ディスクによって均質化される。 制御ディスクの回転速度は、２レーザパルス間のパルス周期よりも低速である
。
【０００５】 このことは、例えばレーザパルスの持続時間を１０ｎｓ（ナノ秒）とすれば、
制御ディスクはその間あたかも停止状態にあるが、しかし二つのレーザパルス間
（反復周波数、例えば２００Ｈｚ）では後のレーザパルスが発する前に制御ディ
スクが少しは前進していることを意味している。 これは、制御ディスクの粒状性または粗面性を確かめる上で、さらにはレーザ
光のコヒーレンスを原因とする斑点状模様（スペックル）を突き止める上でも有
利である。
【０００６】 それに基づき、雑音の減少および画像コントラストの増進、つまり画質の改善
が達成される。 その場合、制御ディスクの回転速度は、粒子大を０.１ｍｍと想定して２パル
ス間で少なくとも一粒子分の移動が達成されるように、一秒当り約一回転という
実現容易なレベル（ｃｍ／秒の速度領域）に設定することができる。
【０００７】 均質化効果は逆方向に回転する第二制御ディスクによってさらに増強される。 制御ディスクとしては粒状化（腐食加工又は噴射吹付け加工）したディスクの
ほか、ホログラフィーによって製作したディスクも使用できる。 均質化にはＣＧＨ（計算機ホログラム）を使用することもできる。
【図面の簡単な説明】
【図１】検査機器の全体を図式化して示す図
【図２】レーザ光を顕微鏡へ伝送するための連結ユニット
【符号の説明】
ＫＡ カメラ ＭＩ 顕微鏡 ＳＴ 走査テーブル Ｏ 対物レンズ Ｅ 入口 ＵＰ 連結ユニット ＬＭ レーザ素子 ＢＳ 画像スクリーン ＭＣ 顕微鏡コントローラ Ｕ１,Ｕ２ 転向ミラー Ｓ１,Ｓ２ 回転式制御ディスク Ｌ 拡大レンズ Ｂ 光線絞り装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ローランド シェラー ドイツ国 07747 イエナ ルドルフ・ブ ライツシャイド・ストラッセ ９ Ｆターム(参考） 2H049 CA05 CA24 2H052 AC05 AC12 AC34 AD02 AD16 AD31 AF02 AF14 AF21 2H095 BD02 BD12 BD18

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】特に紫外線領域の照明用パルスレーザが装備されていて、そのレ
    ーザの後には照明光の均質化用として回転式制御ディスクが少なくとも一つ設置
    されている、半導体の製造に用いられる検査用顕微鏡。
  2. 【請求項２】照明光の光路内に、直接的あるいは間接的に相前後する位置に互
    いに逆方向に回転する二つの制御ディスクが配置された、請求項１に記載の顕微
    鏡。
  3. 【請求項３】制御ディスクが、粒状化加工によって、またはホログラフィーに
    よって製作されている、前記請求項の一に記載の顕微鏡。
  4. 【請求項４】２レーザパルスの間に、少なくとも一粒子分だけおよび／または
    ホログラフィーで生成された構造または構成単位の少なくとも分解能限界量だけ
    は回転できる速度の回転装置を持つ、前記請求項の一に記載の顕微鏡。
  5. 【請求項５】照明用レーザ光の波長が、半導体製造時の照明用波長にほぼ一致
    していて、それぞれ許容誤差±２ｎｍにて、主として１９３±２ｎｍ、２４８±
    ２ｎｍ、２６６±２ｎｍまたは３６６±２ｎｍの領域にある、前記請求項の一に
    記載の顕微鏡。
JP2001526647A 1999-09-29 2000-09-20 主に半導体の製造に用いられる検査用顕微鏡 Pending JP2003510646A (ja)

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