JP2003309158A - 処理装置 - Google Patents

処理装置

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JP2003309158A
JP2003309158A JP2002111115A JP2002111115A JP2003309158A JP 2003309158 A JP2003309158 A JP 2003309158A JP 2002111115 A JP2002111115 A JP 2002111115A JP 2002111115 A JP2002111115 A JP 2002111115A JP 2003309158 A JP2003309158 A JP 2003309158A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 熱処理装置などの半導体製造装置は、全体が
筐体で囲まれているが、メンテナンス時にインターロッ
ク機能を解除する場合などにおいて、例えばウエハの搬
送容器(キャリア)を搬送する搬送機構と筐体の一部で
あるパネル部との間に作業者が挟まって事故につながる
おそれがある。 【解決手段】パネル部の上縁側を当該上縁に沿った軸の
回りに回動自在に支持し、このパネル部が搬送機構の移
動領域側から押圧されたときに当該移動領域とは反対側
に回動してパネル部が開くように構成する。また搬送機
構の一部である昇降部例えば搬送アームをガイドするガ
イドレールを含む昇降部を、昇降機構側に設けられた基
端部分と、この基端部分により水平な軸の回りに回動自
在にかつ下方側への回動を阻止された状態で支持された
ガイドレールとに分け、ガイドレールが下方側から押圧
されたときに上側に向かって回動するように構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、搬送機構を備える
と共に、搬送容器の中から例えば半導体ウエハなどの被
処理体を取り出して処理を行う処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体製造装置の一つとして、多数の半
導体ウエハ(以下ウエハという)に対してバッチで熱処
理を行う熱処理装置がある。この熱処理装置は、複数枚
のウエハを収納したキャリアが自動送ロボットまたはオ
ペレータにより搬入搬出される搬入搬出領域と、キャリ
ア内のウエハを基板保持具であるウエハボートに移載し
て熱処理炉への搬入搬出を行うローディングエリアとを
備えている。
【0003】このような熱処理装置においては、ローデ
ィングエリアを搬入搬出領域よりもクリーン度の高い雰
囲気にすると共にウエハの自然酸化膜の発生などを防止
するために、大気側の搬入搬出領域とローディングエリ
アとを隔壁で仕切り、ローディングエリア内を不活性ガ
ス例えば窒素(N2)ガスで満たした不活性ガス雰囲気
とすることが好ましい。またこの場合、ウエハのパーテ
ィクル汚染を抑えるために、キャリア本体の前面のウエ
ハ取り出し口が蓋で密閉されている密閉型のキャリア
(クローズ型キャリアとも呼ばれている)を適用するこ
とが更に好ましい。
【0004】本出願人は、密閉型のキャリアを用いた熱
処理装置を具体的に検討しており、既に特許出願した特
願2000-358600号にその一例を開示している。図9は前
記出願において開示している熱処理装置について、キャ
リアの搬入に関する部位を示す概略図である。101は
筐体100の正面パネル部をなす隔壁であり、この隔壁
101の前面側に搬入搬出用の載置台102が設けられ
る。先ず図示しない自動搬送ロボットあるいはオペレー
タによりこの載置台102にキャリア2が載置され(a
の状態)、次いで載置台102が隔壁101側に移動
し、隔壁101に設けられた図示しない蓋開閉機構によ
りキャリア2の蓋が開けられウエハ状況を確認後キャリ
ア2の蓋が閉じられる。更に載置台102が筐体100
内のキャリア搬送機構103の受け渡し位置(bの状
態)まで移動し、キャリア搬送機構103によりキャリ
ア2がキャリア保管棚106に移送される。その後キャ
リア保管棚106からウエハ移し替え位置(cの状態)
までキャリア搬送機構103によりキャリア2が移送さ
れ、図示しない蓋開閉機構によりキャリア2の蓋が開け
られ、キャリア2内のウエハをウエハ搬送機構105に
より図示しないウエハボートに移載される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ここで本出願人は、図
9の装置を一歩進め、載置台102に移動機構を設けず
固定状態とし、図示しない自動搬送ロボットあるいはオ
ペレータにより載置台102上に載置されたキャリア2
の上部を保持し、キャリア搬送機構103によりキャリ
ア保管棚106に移送させ、その後キャリア搬送機構1
03によりウエハ移し替え位置に搬送することを検討し
ている。このような構成によれば、載置台102に移動
機構を設けなくて済み、スペースもより小さくなる利点
がある。
【0006】ところで図9の装置では、載置台102上
に載置されたキャリア2が装置内に取り込まれた後、キ
ャリア搬送機構103により搬送されるため、載置台1
02上のキャリア2の位置調整などのメンテナンス作業
を行う場合には、作業者に対する危険はほとんどない。
しかしながら載置台102上に載置されたキャリア2上
までキャリア搬送機構103が移動するため、キャリア
2の載置時、キャリア2の取り出し時及びメンテナンス
作業時において作業者がキャリア搬送機構103の移動
領域内に位置するため、作業者への危険性が生じる。
【0007】本発明はこのような背景の下になされたも
のであり、その目的は作業者の安全を確保することので
きる処理装置を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、被処理体を収
納した搬送容器が搬入される搬入領域と、搬送容器の搬
送を行う搬送機構と、この搬送機構の移動領域に面し、
装置を囲む筐体の一部をなすパネル部とを備え、搬入領
域に搬入された搬送容器の中から被処理体を取り出して
処理を行う処理装置において、前記パネル部の一縁側を
当該一縁に沿った軸の回りに回動自在に支持し、このパ
ネル部が搬送機構の移動領域側から押圧されたときに当
該移動領域とは反対側に回動してパネル部が開くように
構成したことを特徴とする。
【0009】具体的な構成例としては、例えば前記パネ
ル部はほぼ垂直に配置されると共に前記一縁部はパネル
部の上縁部であり、搬送機構は昇降自在に構成されてい
る。本発明ではパネル部の前記一縁側以外の箇所を前記
筐体に止着し、搬送機構の移動領域側からの押圧により
止着状態が解除される止着手段を備えるようにしてもよ
い。この発明によれば、搬送機構とパネル部との間に身
体の一部が挟まった場合にパネル部が例えば上に跳ね上
がって開くので、作業者の安全を確保できる。
【0010】他の発明は、被処理体を収納した搬送容器
が搬入される搬入領域と、昇降機構により昇降する昇降
部を有する搬送機構とを備え、搬入領域に搬入された搬
送容器の中から被処理体を取り出して処理を行う処理装
置において、前記昇降部は、昇降機構側に設けられた支
持部と、この支持部により水平な軸の回りに回動自在に
かつ下方側への回動を阻止された状態で支持された可動
部とを備え、可動部は下方側から押圧されたときに上側
に向かって回動するように構成されたことを特徴とす
る。昇降部は、例えば容器を保持する搬送アームを横方
向に移動するための案内部材である。この発明によれ
ば、昇降部が下降して昇降部とその下の部材との間に作
業者の身体の一部が挟まったときに昇降部が跳ね上がる
ので、作業者の安全を確保できる。
【0011】
【発明の実施の形態】以下に本発明に係る処理装置を縦
型熱処理装置に適用した実施の形態について説明する。
図1は縦型熱処理装置の概観を示す斜視図、図2及び図
3は夫々縦型熱処理装置の内部を示す縦断側面図及び概
略平面図である。図中の1は装置の外装体を構成する筐
体であり、この筐体1内には、被処理体である基板例え
ばウエハを収納した搬送容器であるキャリア2が装置に
対して搬入、搬出されるための搬入搬出領域S1と、キ
ャリア2内のウエハを搬送して後述の熱処理炉内に搬入
するための処理領域であるローディングエリアS2とが
形成されている。なお便宜上図1では領域S1、S2は
筐体1の外側で符号を示してある。搬入搬出領域S1と
ローディングエリアS2とは隔壁3により仕切られてお
り、搬入搬出領域S1は大気雰囲気とされ、ローディン
グエリアS2は不活性ガス雰囲気例えば窒素(N2)ガ
ス雰囲気とされている。
【0012】搬入搬出領域S1は、装置の正面側から見
て手前側に位置する第1の領域4と奥側に位置する第2
の領域5とからなる。第1の領域4には2個のキャリア
2を夫々載置するために左右に配置された第1の載置台
41、42が設けられている。キャリア2は、被処理体
である例えば直径300mmのウエハW(図1参照)が
複数枚例えば13枚棚状に配列されて収納され、蓋によ
り塞がれた例えば樹脂からなる密閉型のキャリアが用い
られる。またキャリア2は、図2に示すように上面に四
角形のフランジ部21が当該上面と隙間を介して設けら
れ、後述のキャリア搬送機構によりこのフランジ部21
が保持されて搬送されることになる。第1の載置台4
1、42の載置面には、キャリア2の底部に設けられた
凹部に嵌合してキャリア2を位置決めする位置決め部で
あるピン43(図1参照)が例えば3個所に設けられて
いる。
【0013】また筐体1の前面側には、第1の領域4の
左右両側を仕切るように側板61、62が対向して垂直
に配置されると共に、一方の側板部61の前縁部の上部
側と他方の側板部62の前縁部の上部側との間に筐体1
の一部をなす正面パネル部6がほぼ垂直に架け渡されて
設けられている。従って筐体1の正面には、オペレータ
が第1の載置台41、42に対してキャリア2の受け渡
しを行ったり、メンテナンスを行ったりするための四角
形の開口部(正面開口部)30が形成され、この開口部
30の上に正面パネル部6が位置していることになる。
第1の領域4を上から見ると、側板部61、62及び正
面パネル部6によりコ字型形状になっており、これらで
囲まれた領域は、クリーンルーム内の図示しない天井部
に沿って移動する自動搬送ロボットがキャリア2を保持
して第1の載置台41、42との間で受け渡しをするた
めの昇降領域をなすものである。
【0014】正面パネル部6及びその周辺の部位につい
て図4及び図5を参照しながら説明する。側板部61、
62の前縁頂部は前方に突出する突出部61a、62a
として構成され、これら突出部61a、62aにてほぼ
水平で左右方向に伸びる回転軸63により、正面パネル
部6の一縁側である上縁側を回動自在に支持している。
つまりこの例では、正面パネル部6は、その上縁部に沿
った軸(この例では水平な軸)の回りに回動自在に支持
されていることになる。なお回転軸63よりも上側にお
いては、正面パネル部6と側板部61、62の前縁部と
の間に正面パネル部6が回動できるように隙間Gを設け
てある。
【0015】そして正面パネル部6の下縁側及びこの側
板部61、62の前縁部には、両者を止着する止着手段
である例えばボールキャッチ方式の止め具64が設けら
れている。この止め具64は、図5に拡大して示すよう
に正面パネル部6の裏面側に設けられたボール65と、
側板部61、62の前縁部に形成され、前記ボール65
が収まる凹部66と、この凹部66の例えば上下からバ
ネ67a、68aにより付勢されてボール65の脱出を
阻止する押圧子67、68と、を備えている。このよう
に正面パネル部6はボールキャッチ方式の止め具64に
より側板部61、62に止着されているが、例えば15
kg程度で裏側(内側)から押圧されると、前記押圧子
67、68がバネ67a、68aに抗して広がり、止着
状態が解除されて跳ね上がる。
【0016】図1〜図3に戻って装置の説明を進める
と、搬入搬出領域S1における第2の領域5には、第1
の載置台41、42に対して夫々一列に前後に並ぶよう
に載置部である第2の載置台51、52が配置されてい
る。第2の載置台51、52の載置面にも第1の載置台
41、42と同様にキャリア2を位置決めする位置決め
部であるピン53(図1参照)が3個所に設けられてい
る。これら載置台51、52は、後述のキャリア搬送機
構によりキャリア2が置かれる位置とキャリア2が隔壁
3に当接される位置との間で図示しない駆動部により前
後に移動可能に構成される。
【0017】一方第2の領域5の上部側にはキャリア2
を保管するキャリア保管部54が設けられ(図2参
照)、キャリア保管部54はこの例では2段の棚により
構成されている。そして第2の領域5には、キャリア2
を第1の載置台41、42及び第2の載置台51、52
並びにキャリア保管部54の間で搬送するキャリア搬送
機構7が設けられている。
【0018】このキャリア搬送機構7について主に図
6、図7を参照しながら説明すると、例えば第2の領域
5の左端側にほぼ垂直に設けられた垂直レール71と、
この垂直レール71に沿って昇降自在に設けられ、左右
に伸びるガイド部材であるガイドレール83を備えた昇
降部8と、ガイドレール83にガイドされながら左右に
移動する移動部72と、この移動部72に設けられ、キ
ャリア2の上面のフランジ部21を保持してキャリア2
を水平方向に搬送する2本のアーム73a及び73bか
らなる関節アームである搬送アーム73と、アーム73
bの下方側に設けられ、キャリア2の上面のフランジ部
21を保持する保持部74とを備えている。なお保持部
74は互いに対向する一対のL字部分により前記フラン
ジ部21の下面側を保持するものであり、このため常に
同じ方向に向くようにアーム73bに対して回動可能に
構成されている。
【0019】昇降部8は、図示しない昇降機構により垂
直レール71にガイドされながら昇降する基端部分81
と、この基端部分81により水平な回転軸82を介して
水平な軸の回りに回動自在に設けられたガイドレール
(案内部材)83とを含む。なお搬送アーム73及び保
持部74も昇降部8の一部である。基端部分81に対す
るガイドレール83の取り付け構造については、図6に
示すようにガイドレール83の一端側から水平に突出し
ている突出部83aを基端部分81の凹部81a内に嵌
入した状態で回転軸82により当該突出部83aを支持
すると共に、図7に示すように基端部分81における凹
部81aの前面側の面81bとガイドレール83におけ
る突出部83aの下部両側の面83bとが当接してお
り、この当接によりガイドレール83の下方側への回動
が阻止されている。この実施の形態では、基端部分81
が特許請求の範囲に記載した支持部に相当し、ガイドレ
ール83が特許請求の範囲に記載した可動部に相当す
る。なお図7中にて昇降部8の下面部及び保持部74の
下面部に符号80を用いて黒丸で示してある部位は、接
触を検知するセンサであり、このセンサ80がオンした
ときに図示しない制御部を介して搬送機構7の動作が停
止するようになっている。
【0020】基端部分81を昇降する昇降機構として
は、例えば基端部分81を上下に貫通しかつ基端部分8
1に対して螺合するネジ軸を設け、例えば垂直レール7
1の一端側に固定されたモータによりネジ軸を回転させ
て基端部分81を昇降させるボールネジ機構を用いるこ
とができる。
【0021】図2及び図3に説明を戻すと、隔壁3に
は、第2の載置台51(52)に載置されたキャリア2
が当該隔壁3に当接したときにキャリア2内とローディ
ングエリアS2とを連通する開口部31が形成されてい
る。また隔壁3におけるローディングエリアS2側に
は、開口部31を開閉する扉32が設けられると共にこ
の扉32を閉じたままでキャリア2の蓋を開閉する蓋開
閉機構33が設けられている。この扉32は、キャリア
2の蓋が開かれた後、図示しない扉開閉機構により蓋開
閉機構33及び蓋と共にウエハWの移載の邪魔にならな
いように例えば上方側に退避するように構成される。
【0022】ローディングエリアS2の奥側には、下端
が炉口として開口された処理部である縦型の熱処理炉9
1が設けられ、この縦型の熱処理炉91の下方側には、
多数枚のウエハWを棚状に保持する保持具であるウエハ
ボート92が断熱部93を介してキャップ94の上に載
置されている。キャップ94はボートエレベータ95の
上に支持されており、このボートエレベータ95により
ウエハボート92が熱処理炉91に対して搬入あるいは
搬出される。またウエハボート92と隔壁3の開口部3
1との間には、ウエハ搬送機構96が設けられている。
このウエハ搬送機構96は、左右に伸びるガイド機構9
7に沿って移動すると共に鉛直軸の回りに回動できる移
動体98に複数例えば5枚の進退自在なアーム99を設
けて構成され、ウエハボート92と、第2の載置台5
1、52上のキャリア2との間でウエハWを搬送する役
割を持っている。
【0023】次に上述実施の形態の作用について説明す
る。先ずクリーンルームの天井部に沿って移動する図示
しない自動搬送ロボットによりキャリア2が正面パネル
部6の裏側の空間を通って下降し、第1の載置台41
(42)に載置される。続いてキャリア搬送機構7によ
り前記キャリア2が第2の載置台51(52)に搬送さ
れる。キャリア2が第2の載置台51(52)に載置さ
れると、第2の載置台51(52)が隔壁3側に移動し
てキャリア2の取り出し口の口縁部が隔壁3の開口部3
1の口縁部に気密に当接する。しかる後、蓋開閉機構3
3によりキャリア2の蓋が取り外され、その後、扉3
2、蓋開閉機構33及び蓋が例えば上昇して開口部31
から退避し、キャリア2内とローディングエリアS2と
が連通した状態となる。
【0024】その後、ウエハ搬送機構96によりキャリ
ア2内のウエハWが順次取り出されてウエハボート92
に移載される。キャリア2内のウエハWが空になると、
上述と逆の動作でキャリア2の蓋が閉じられ、第2の載
置台51(52)が後退してキャリア2が隔壁3から離
れ、キャリア搬送機構7によりキャリア保管部54に搬
送されて一時的に保管される。一方ウエハボート92に
所定枚数のウエハWが搭載されると、熱処理炉91内に
搬入されてウエハWに対して熱処理例えばCVD、アニ
ール処理、酸化処理などが行われる。熱処理が終了する
と、上述と逆の動作でウエハWがキャリア2内に戻され
る。
【0025】そしてメンテナンス時には、作業者が正面
開口部30から上体を筐体1の中に入れて載置台41、
42、51、52の点検、キャリア搬送機構7の動作確
認などを行い、このとき例えばハンディターミナルなど
によりマニュアルでキャリア搬送機構7を動作させる。
このような作業時に例えば誤った操作により搬送機構7
の昇降部8が上昇し、作業者の身体の一部が正面パネル
部6と例えばガイドレール83との間に挟まると、挟ま
った身体の一部が正面パネル部6を押圧する。これによ
り正面パネル部6の止め具64の止着状態が解除されて
正面パネル部6が跳ね上がり、挟まった身体の一部が圧
迫から開放される。なお図8は、キャリア2の載置時、
キャリア2の取り出し時またはメンテナンス作業時にお
いて、作業者がキャリア搬送機構103の移動領域内に
位置している状態を示している。また例えば誤った操作
によりキャリア搬送機構7の昇降部8が下降して、例え
ばガイドレール83と載置台41(42)あるいはキャ
リア2との間に作業者の身体の一部が挟まれても、昇降
部8が下側から押圧される状態になるので、図7に示す
ように当該昇降部8が回転軸82を中心として上側に回
転する。ここでガイドレール83及び保持部74には、
センサ80が設けられているが、このセンサ80が配置
されていない部位にて作業者が挟まれた場合でも、また
センサ80の接触の検出により動作を停止するインター
ロック機能を解除していたとしても、同様に昇降部8が
跳ね上がる。
【0026】このように上述の実施の形態によれば、作
業者の身体の一部がキャリア搬送機構7の昇降部8と正
面パネル部6との間、あるい昇降部8とその下方側の部
材との間に挟まっても、正面パネル部6あるい昇降部8
が跳ね上がるので、挟まった身体の一部が強い圧迫を受
ける前に開放され、従って作業者が怪我を免れるかある
いは仮に怪我をしたとしてもその程度は軽くて済み、作
業者の安全を確保できる。本発明では、パネル部との間
に作業者を挟むおそれのある搬送機構としては、キャリ
ア搬送機構に限らずその他の搬送機構例えばウエハ搬送
機構であってもよく、また搬送機構との間に作業者を挟
むおそれのあるパネル部としては、正面パネル部に限ら
ず側面、背面あるいは上面のパネル部であってもよい。
そしてパネル部は水平な軸の回りに回動することに限ら
ず、例えば側面パネル部が垂直な軸の回りに回動して開
く構造であってもよい。
【0027】更にまた昇降部が跳ね上がる搬送機構とし
ては、キャリア搬送機構に限らずその他の搬送機構例え
ばウエハ搬送機構であってもよい。なお本発明は、縦型
熱処理装置に限らず例えば枚葉式の熱処理装置やレジス
トの塗布、現像を行う装置、イオン注入装置など、被処
理基板に対して所定の処理を行う処理装置に適用でき
る。
【0028】
【発明の効果】本発明によれば、パネル部が搬送機構の
移動領域側から押圧されたときに当該移動領域とは反対
側に回動してパネル部が開くように構成したので、パネ
ル部と搬送機構との間に作業者の身体の一部が挟まった
場合でも作業者の安全を確保できる。また他の発明によ
れば、搬送機構の昇降部が下方側から押圧されたときに
上側に向かって回動するように構成したので、昇降部に
より作業者の身体の一部が押しつけられそうになっても
作業者の安全を確保できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の処理装置の実施の形態である縦型熱処
理装置の概観を示す斜視図である。
【図2】上記の縦型熱処理装置の内部の概略構成を示す
縦断側面図である。
【図3】上記の縦型熱処理装置の内部の概略構成を示す
横断平面図である。
【図4】上記の縦型熱処理装置の正面パネル部及びその
周辺を示す上面図である。
【図5】上記の縦型熱処理装置の正面パネル部及びその
周辺を示す側面図及び正面パネル部の止め具を示す断面
図である。。
【図6】上記の縦型熱処理装置に用いられるキャリア搬
送機構を示す斜視図である。
【図7】上記の縦型熱処理装置に用いられるキャリア搬
送機構を示す側面図である。
【図8】上記の縦型熱処理装置においてキャリア搬送機
構の移動領域内に作業者が位置している状態を示す説明
図である。
【図9】縦型熱処理装置の構成の一例を示す概略側面図
である。
【符号の説明】
S1 搬入搬出領域 S2 ローディングエリア W 半導体ウエハ 1 筐体 2 キャリア 3 隔壁 31 開口部 32 扉 4 第1の領域 41、42 第1の載置台 5 第2の領域 51、52 第2の載置台 6 正面パネル部 61、62 側板 63 回転軸 64 止め具 7 キャリア搬送機構 71 垂直レール 72 移動部 73 搬送アーム 74 保持部 8 昇降部 81 基端部分 82 回転軸 83 ガイドレール 91 熱処理炉 96 ウエハ搬送機構
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成14年4月16日(2002.4.1
6)
【手続補正1】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正内容】
【図2】
【図1】
【図3】
【図4】
【図8】
【図5】
【図6】
【図9】
【図7】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/324 H01L 21/30 567 Fターム(参考) 5F031 CA02 DA08 EA14 EA20 FA01 FA03 FA09 FA11 FA12 GA43 GA47 GA48 GA49 KA20 LA12 MA13 MA16 MA30 NA04 NA09 NA10 PA08 5F046 CD01 KA01 KA07

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被処理体を収納した搬送容器が搬入され
    る搬入領域と、搬送容器の搬送を行う搬送機構と、この
    搬送機構の移動領域に面し、装置を囲む筐体の一部をな
    すパネル部とを備え、搬入領域に搬入された搬送容器の
    中から被処理体を取り出して処理を行う処理装置におい
    て、 前記パネル部の一縁側を当該一縁に沿った軸の回りに回
    動自在に支持し、このパネル部が搬送機構の移動領域側
    から押圧されたときに当該移動領域とは反対側に回動し
    てパネル部が開くように構成したことを特徴とする処理
    装置。
  2. 【請求項2】 前記パネル部はほぼ垂直に配置されると
    共に前記一縁部はパネル部の上縁部であり、搬送機構は
    昇降自在に構成されていることを特徴とする請求項1記
    載の処理装置。
  3. 【請求項3】 パネル部の前記一縁側以外の箇所を前記
    筐体に止着し、搬送機構の移動領域側からの押圧により
    止着状態が解除される止着手段を備えたことを特徴とす
    る請求項1または2記載の処理装置。
  4. 【請求項4】 被処理体を収納した搬送容器が搬入され
    る搬入領域と、昇降機構により昇降する昇降部を有する
    搬送機構とを備え、搬入領域に搬入された搬送容器の中
    から被処理体を取り出して処理を行う処理装置におい
    て、 前記昇降部は、昇降機構側に設けられた支持部と、この
    支持部により水平な軸の回りに回動自在にかつ下方側へ
    の回動を阻止された状態で支持された可動部とを備え、 可動部は下方側から押圧されたときに上側に向かって回
    動するように構成されたことを特徴とする処理装置。
  5. 【請求項5】 昇降部は、容器を保持する搬送アームを
    横方向に移動するための案内部材であることを特徴とす
    る請求項4記載の処理装置。
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006287107A (ja) * 2005-04-04 2006-10-19 Nec Electronics Corp ベーク装置
JP2009059775A (ja) * 2007-08-30 2009-03-19 Tokyo Electron Ltd 容器交換システム及び容器交換方法
WO2011148412A1 (ja) * 2010-05-26 2011-12-01 ムラテックオートメーション株式会社 装置前自動倉庫
JP2012069957A (ja) * 2004-12-22 2012-04-05 Applied Materials Inc 基板を処理するクラスタツールアーキテクチャ
CN103137523A (zh) * 2011-11-30 2013-06-05 株式会社安川电机 机器人系统和工件制造方法
US8911193B2 (en) 2004-12-22 2014-12-16 Applied Materials, Inc. Substrate processing sequence in a cartesian robot cluster tool
JP2015141915A (ja) * 2014-01-27 2015-08-03 東京エレクトロン株式会社 基板熱処理装置、基板熱処理装置の設置方法
JP2015141916A (ja) * 2014-01-27 2015-08-03 東京エレクトロン株式会社 基板熱処理装置、基板熱処理装置の設置方法
KR20150104047A (ko) * 2014-03-04 2015-09-14 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 반송 방법 및 기판 처리 장치
WO2018135137A1 (ja) * 2017-01-23 2018-07-26 村田機械株式会社 物品中継装置及びストッカ

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012069957A (ja) * 2004-12-22 2012-04-05 Applied Materials Inc 基板を処理するクラスタツールアーキテクチャ
US8550031B2 (en) 2004-12-22 2013-10-08 Applied Materials, Inc. Cluster tool architecture for processing a substrate
US8911193B2 (en) 2004-12-22 2014-12-16 Applied Materials, Inc. Substrate processing sequence in a cartesian robot cluster tool
JP2006287107A (ja) * 2005-04-04 2006-10-19 Nec Electronics Corp ベーク装置
JP2009059775A (ja) * 2007-08-30 2009-03-19 Tokyo Electron Ltd 容器交換システム及び容器交換方法
WO2011148412A1 (ja) * 2010-05-26 2011-12-01 ムラテックオートメーション株式会社 装置前自動倉庫
CN103137523A (zh) * 2011-11-30 2013-06-05 株式会社安川电机 机器人系统和工件制造方法
JP2013111736A (ja) * 2011-11-30 2013-06-10 Yaskawa Electric Corp ロボットシステムおよび加工品の製造方法
JP2015141915A (ja) * 2014-01-27 2015-08-03 東京エレクトロン株式会社 基板熱処理装置、基板熱処理装置の設置方法
JP2015141916A (ja) * 2014-01-27 2015-08-03 東京エレクトロン株式会社 基板熱処理装置、基板熱処理装置の設置方法
KR20150104047A (ko) * 2014-03-04 2015-09-14 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 반송 방법 및 기판 처리 장치
JP2015170623A (ja) * 2014-03-04 2015-09-28 東京エレクトロン株式会社 搬送方法及び基板処理装置
KR101879021B1 (ko) * 2014-03-04 2018-07-16 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 반송 방법 및 기판 처리 장치
WO2018135137A1 (ja) * 2017-01-23 2018-07-26 村田機械株式会社 物品中継装置及びストッカ
CN110235234A (zh) * 2017-01-23 2019-09-13 村田机械株式会社 物品中继装置及储存库
JPWO2018135137A1 (ja) * 2017-01-23 2019-11-07 村田機械株式会社 物品中継装置及びストッカ
EP3573093A4 (en) * 2017-01-23 2020-11-04 Murata Machinery, Ltd. ARTICLE TRANSFER DEVICE AND FILLER

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