JP2003286214A - ビスフェノールａの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ビスフェノールＡの製造方法において、反応
混合物からビスフェノールＡを取出す際に、ビスフェノ
ールＡとフェノールとの付加物を高純度で効率良く反応
母液から回収する。 【解決手段】 ビスフェノールＡとフェノールとの付加
物が結晶状態で含有するビスフェノールＡのフェノール
スラリー溶液(1）をフィルター濾過することにより、該
フィルター上に結晶状態のビスフェノールＡとフェノー
ルとの付加物層を形成させ、洗浄後の付加物層をフェノ
ール含有液に溶解後、晶析させることにより、ビスフェ
ノールＡとフェノールとの付加物が結晶状態で含有する
ビスフェノールＡのフェノールスラリー溶液(2）を製造
し、該スラリー溶液(2）を遠心分離させることにより結
晶状態のビスフェノールＡとフェノールとの付加物を分
離する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ビスフェノールＡ
〔２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン〕
の製造方法に関し、詳しくは該製造方法におけるビスフ
ェノールＡとフェノールとの付加物の分離方法に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】ビスフェノールＡはポリカーボネート樹
脂やポリアリレート樹脂などのエンジニアリングプラス
チック、あるいはエポキシ樹脂などの原料として重要な
化合物であることが知られており、近年その需要はます
ます増大する傾向にある。このビスフェノールＡは、酸
性触媒及び場合により用いられる硫黄化合物などの助触
媒の存在下に、過剰のフェノールとアセトンとを縮合さ
せることにより製造される。

【０００３】反応混合物からビスフェノールＡを取出す
方法としては、反応混合物から直接に粗結晶状で分離す
る方法や、反応混合物からアセトン、水等を除去した後
の液状混合物を濃縮・冷却することでビスフェノールＡ
とフェノールとの付加物を析出させ分離する方法（特開
昭５１−９１２４０号、特開昭５７−７７６３７号等）
が知られている。前者の反応混合物から直接に粗結晶状
で分離する方法ではビスフェノールＡが微結晶質で何回
も洗浄する必要があり、ロスが多い等の欠点がある。こ
のため現状では、後者のビスフェノールＡとフェノール
との付加物を析出させ分離する方法が主流となってい
る。この場合、ビスフェノールＡとフェノールとの付加
物を晶析させ、濾過や遠心分離機を用いる公知の固液分
離法により、母液からの結晶の分離が行なわれている
（特開昭５７−７７６３７号、特開平５−３３１０８８
号、特開昭６３−２７５５３９号、特開平６−１０７５
７８号、特開平６−３０６００２号等）。

【０００４】上記の固液分離法において、濾過法による
分離では吸引式ベルトフィルターやドラムフィルターが
使用出来るが（特開平６−３０６０２号）、その際に濾
材の目開きによるロスを防いだり高純度化のために、大
きな結晶とし、表面積を小さくする必要がある（特開平
５−３３１０８８号）。また、濾過法による分離では含
液率が高く、結晶間に含まれる母液等が充分除かれ難
く、更に、大きな結晶内に母液を噛み込む危険性もあ
り、それを防ぐために結晶を小さくすると、結晶層中を
母液が通り難くなったり、濾材の目詰まりが起こり、処
理効率の著しい低下を来たす。遠心分離機を使用する方
法（特開平６−１０７５７８号、特開平６−３０６００
２号）は結晶間にある含液量を下げ、より乾燥した付加
体を得る上では好ましいが、遠心負荷がかかるため、結
晶の破砕などが起こり母液や洗浄液等の置換効率が濾過
法に比べて悪くなる。従って、大量の製品を処理する際
に、純度を上げるために一般的には複数個の機器を用い
て洗浄を繰返すことが必須で、機器数の増加や運転時間
の延長をもたらし、経済的に好ましくない。純度を上げ
るために複数段の晶析処理することは、特開平１−２３
０５３８号や特開平７−２５７９７８号等に記載されて
いる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上の如き
状況から、ビスフェノールＡの製造方法において、反応
混合物からビスフェノールＡを取出す際に、ビスフェノ
ールＡとフェノールとの付加物を高純度で効率良く反応
母液から回収することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】発明者らは、上記課題を
有するビスフェノールＡの製造方法について鋭意検討し
た結果、晶析工程を二段で行ない、第一工程後の分離に
濾過法を用い、結晶表面の不純物を除き、第二工程で結
晶内部の不純物を再溶解した後、再結晶させて不純物を
除去したものを遠心分離機にかけ、洗浄液を充分除去し
てから次工程に進むことで、高純度のビスフェノールＡ
とフェノールとの付加物を効率的に得ることができるこ
とを見出し、本発明に到達した。

【０００７】即ち本発明は、酸触媒の存在下にフェノー
ルとアセトンを反応させて得られるビスフェノールＡの
フェノール溶液からビスフェノールＡとフェノールとの
付加物を晶析させ、生成したスラリーの固液分離後、固
体成分からフェノールを除去するビスフェノールＡの製
造方法において、ビスフェノールＡとフェノールとの付
加物が結晶状態で含有するビスフェノールＡのフェノー
ルスラリー溶液(1）をフィルター濾過することにより、
該フィルター上に結晶状態のビスフェノールＡとフェノ
ールとの付加物層を形成させ、次いで該付加物層を洗浄
液にて洗浄し、洗浄後の付加物層をフェノール含有液に
溶解後、晶析させることにより、ビスフェノールＡとフ
ェノールとの付加物を結晶状態で含有するビスフェノー
ルＡのフェノールスラリー溶液(2）を製造し、該スラリ
ー溶液(2）を遠心分離させることにより結晶状態のビス
フェノールＡとフェノールとの付加物を分離することを
特徴とするビスフェノールＡの製造方法である。

【０００８】

【発明の実施の形態】本発明のビスフェノールＡの製造
方法においては、（Ａ）フェノールとアセトンの反応工
程、（Ｂ）副生水および未反応原料の低沸点物質除去工
程、（Ｃ）ビスフェノールＡの濃縮工程、（Ｄ）晶析・
固液分離工程、（Ｅ）ビスフェノールＡとフェノールと
の付加物の溶解、晶析・固液分離工程、（Ｆ）加熱溶融
工程、（Ｇ）ビスフェノールＡの脱フェノール工程およ
び（Ｈ）造粒工程を経てビスフェノールＡが製造され
る。次に、ビスフェノールＡの製造方法における各工程
について説明する。

【０００９】（Ａ）反応工程 この反応工程においては、酸性触媒の存在下、過剰のフ
ェノールとアセトンを縮合させて、ビスフェノールＡを
生成させる。上記酸性触媒としては、酸型イオン交換樹
脂を用いることができる。この酸型イオン交換樹脂とし
ては、特に制限はなく、従来ビスフェノールＡの触媒と
して慣用されているものを用いることができるが、特に
触媒活性などの点から、スルホン酸型陽イオン交換樹脂
が好適である。

【００１０】該スルホン酸型陽イオン交換樹脂について
は、スルホン酸基を有する強酸性陽イオン交換樹脂であ
ればよく特に制限されず、例えばスルホン化スチレン−
ジビニルベンゼンコポリマー、スルホン化架橋スチレン
ポリマー、フェノールホルムアルデヒド−スルホン酸樹
脂、ベンゼンホルムアルデヒド−スルホン酸樹脂などが
挙げられる。これらはそれぞれ単独で用いてもよく、二
種以上を組み合わせて用いてもよい。

【００１１】本工程においては、上記酸型イオン交換樹
脂と共に、通常助触媒として、メルカプタン類が併用さ
れる。このメルカプタン類は、分子内にＳＨ基を遊離の
形で有する化合物を指し、このようなものとしては、ア
ルキルメルカプタンや、カルボキシル基、アミノ基、ヒ
ドロキシル基などの置換基一種以上を有するアルキルメ
ルカプタン類、例えばメルカプトカルボン酸、アミノア
ルカンチオール、メルカプトアルコールなどを用いるこ
とができる。このようなメルカプタン類の例としては、
メチルメルカプタン、エチルメルカプタン、ｎ−ブチル
メルカプタン、ｎ−オクチルメルカプタンなどのアルキ
ルメルカプタン、チオグリコール酸、β−メルカプトプ
ロピオン酸などのチオカルボン酸、２−アミノエタンチ
オールなどのアミノアルカンチオール、メルカプトエタ
ノールなどのメルカプトアルコールなどが挙げられる
が、これらの中で、アルキルメルカプタンが助触媒とし
ての効果の点で、特に好ましい。また、これらのメルカ
プタン類は、単独で用いてもよく、二種以上を組み合わ
せて用いてもよい。これらのメルカプタン類は、前記酸
型イオン交換樹脂上に固定化させ、助触媒として機能さ
せることもできる。

【００１２】前記メルカプタン類の使用量は、一般に原
料のアセトンに対して、０．１〜２０モル％、好ましく
は、１〜１０モル％の範囲で選定される。また、フェノ
ールとアセトンとの使用割合については特に制限はない
が、生成するビスフェノールＡの精製の容易さや経済性
などの点から、未反応のアセトンの量はできるだけ少な
いことが望ましく、したがって、フェノールを化学量論
的量よりも過剰に用いるのが有利である。通常、アセト
ン１モル当たり、３〜３０モル、好ましくは５〜１５モ
ルのフェノールが用いられる。また、このビスフェノー
ルＡの製造においては、反応溶媒は、反応液の粘度が高
すぎたり、凝固して運転が困難になるような低温で反応
させる以外は、一般に必要ではない。

【００１３】フェノールとアセトンとの縮合反応は、回
分式及び連続式のいずれであってもよいが、酸型イオン
交換樹脂を充填した反応塔に、フェノールとアセトンと
メルカプタン類（メルカプタン類が酸型イオン交換樹脂
に固定化されない場合）を連続的に供給して反応させる
固定床連続反応方式を用いるのが有利である。この際、
反応塔は１基でもよく、また２基以上を直列に配置して
もよいが、工業的には、酸型イオン交換樹脂を充填した
反応塔を２基以上直列に連結し、固定床多段連続反応方
式を採用するのが、特に有利である。

【００１４】この固定床連続反応方式における反応条件
について説明する。まず、アセトン／フェノールモル比
は、通常１／３０〜１／３、好ましくは１／１５〜１／
５の範囲で選ばれる。このモル比が１／３０より小さい
場合、反応速度が遅くなりすぎるおそれがあり、１／３
より大きいと不純物の生成が多くなり、ビスフェノール
Ａの選択率が低下する傾向がある。一方、メルカプタン
類が酸型イオン交換樹脂に固定化されない場合、メルカ
プタン類／アセトンモル比は、通常０．１／１００〜２
０／１００、好ましくは１／１００〜１０／１００の範
囲で選ばれる。このモル比が０．１／１００より小さい
場合、反応速度やビスフェノールＡの選択率の向上効果
が十分に発揮されないおそれがあり、２０／１００より
大きいとその量の割りには効果の向上はあまり認められ
ない。

【００１５】また、反応温度は、通常４０〜１５０℃、
好ましくは６０〜１１０℃の範囲で選ばれる。該温度が
４０℃未満では反応速度が遅い上、反応液の粘度が極め
て高く、場合により、固化するおそれがあり、１５０℃
を超えると反応制御が困難となり、かつビスフェノール
Ａ（ｐ，ｐ′−体）の選択率が低下する上、触媒の酸型
イオン交換樹脂が分解又は劣化することがある。さら
に、原料混合物のＬＨＳＶ（液空間速度）は、通常０．
２〜３０ｈｒ−１、好ましくは０．５〜１０ｈｒ−１の
範囲で選ばれる。

【００１６】（Ｂ）低沸点物質除去工程 低沸点物質除去工程においては、前記の（Ａ）工程の反
応工程で得られたビスフェノールＡを含む反応混合液
を、実質上酸型イオン交換樹脂が含まれない状態、すな
わち回分反応方式の場合は該触媒を濾過などにより除去
し、固定床連続反応方式の場合は、そのままの状態で低
沸点物質除去処理が施される。この工程においては、通
常、まず、蒸留塔を用いた減圧蒸留により、未反応アセ
トン、副生水及びアルキルメルカプタンなどの低沸点物
質を除去することが行われる。この減圧蒸留は、一般に
圧力６．５〜８０ｋＰａ、温度７０〜１８０℃の条件で
実施される。この際、未反応フェノールが共沸し、その
一部が上記低沸点物質と共に、蒸留塔の塔頂より系外へ
除かれる。この蒸留においては、ビスフェノールＡの熱
分解を防止するために、使用する加熱源の温度は１９０
℃以下とすることが望ましい。また、機器の材料として
は、一般にＳＵＳ３０４、ＳＵＳ３１６及びＳＵＳ３１
６Ｌが用いられる。

【００１７】（Ｃ）濃縮工程 反応混合物から低沸点物質を除いた塔底液には、ビスフ
ェノールＡ及びフェノールなどが含まれており、減圧蒸
留によりフェノールを留去させ、ビスフェノールＡを濃
縮する。この濃縮条件については特に制限はないが、通
常温度１００〜１７０℃程度及び圧力５〜７０ｋＰａの
条件で行なわれる。この温度が１００℃より低いと高真
空が必要となり、１７０℃より高いと次の晶析工程で余
分の除熱が必要となり、好ましくない。また、濃縮残液
中のビスフェノールＡの濃度は、好ましくは２０〜５０
重量％、より好ましくは２０〜４０重量％の範囲であ
る。この濃度が２０重量％未満ではビスフェノールＡの
回収率が低く、５０重量％を超えると晶析後のスラリー
移送が困難となるおそれがある。

【００１８】（Ｄ）晶析・固液分離工程 晶析・固液分離工程は、上記（Ｃ）工程の濃縮工程で得
られた濃縮残液からビスフェノールＡとフェノールとの
１：１付加物（以下、フェノールアダクトと称すること
がある。）を晶析・分離する工程である。この工程にお
いては、まず、上記濃縮残液を４０〜７０℃程度に冷却
し、フェノールアダクトを晶析させ、スラリーとする。
この際の冷却は、外部熱交換器を用いて行ってもよく、
また、濃縮残液に水を加え、減圧下での水の蒸発潜熱を
利用して冷却する真空冷却晶析法によって行ってもよ
い。この真空冷却晶析法においては、該濃縮残液に、水
を３〜２０重量％程度添加し、通常温度４０〜７０℃、
圧力４〜１６ｋＰａの条件で晶析処理が行われる。上記
水の添加量が３重量％未満では除熱能力が十分ではな
く、２０重量％を超えるとビスフェノールＡの溶解ロス
が大きくなり、好ましくない。このような晶析操作にお
いて、晶析温度が４０℃未満では晶析液の粘度の増大や
固化をもたらすおそれがあり、７０℃を超えるとビスフ
ェノールＡの溶解ロスが大きくなり、好ましくない。

【００１９】次に、晶析されたフェノールアダクトを含
むスラリーを、本発明では濾過法により、フェノールア
ダクトと、反応副生物を含む晶析母液とに分離する。濾
過法は洗浄の際に遠心分離法よりも溶媒置換率が高くで
きるので、結晶の表面や結晶間に含まれている不純物を
効果的に除去することができる。濾材から抜け出た微結
晶を含む晶析母液は、そのまま一部を反応器へリサイク
ルしたり、少なくとも一部をアルカリ分解処理して、フ
ェノールとイソプロペニルフェノールとして回収しても
よい。また、一部又は全部を異性化して、晶析原料にリ
サイクルすることもできる。このようにビスフェノール
Ａとフェノールとの付加物が結晶状態で含有するビスフ
ェノールＡのフェノールスラリー溶液(1）をフィルター
で濾過することにより該フィルター上に結晶状態のビス
フェノールＡとフェノールとの付加物層を形成させ、次
いで該付加物層を洗浄液にて洗浄する。この洗浄液に
は、前記（Ｃ）工程の濃縮工程で得られた回収フェノー
ルや、次の（Ｅ）のフェノールアダクトの溶解、晶析・
固液分離工程で用いた後の洗浄水を用いることができ
る。なお、溶媒置換率を高めるために上記のフィルター
濾過および洗浄を４０〜９０ｋＰａ程度の減圧下で行な
うことが好ましい。用いられるフィルターとしては、フ
ィルターの目開きは、結晶分離できる程度の大きさであ
れば良いが、大きすぎてもまた逆に小さすぎても濾過分
離の効率が悪くなる。晶析・固液分離は、高純度の製品
を得るために、複数回繰り返すことが有効である。すな
わち、本発明では、（Ｄ）晶析・固液分離工程と、次の
（Ｅ）フェノールアダクトの溶解、晶析・固液分離工程
とを１回以上繰り返したのち、（Ｆ）工程を経て（Ｇ）
の脱フェノール工程に移る。

【００２０】（Ｅ）フェノールアダクトの溶解、晶析・
固液分離工程 （Ｄ）工程で晶析・分離されたフェノールアダクトを、
フェノール含有溶液を用いて溶解する。この工程におい
て用いられるフェノール含有溶液としては特に制限はな
く、例えば前記（Ｃ）工程の濃縮工程で得られた回収フ
ェノール、（Ｄ）工程の晶析・固液分離工程で生成する
フェノールアダクトの洗浄液、本（Ｅ）工程以降の工程
で生成する、晶析したフェノールアダクトの固液分離に
おける母液や該フェノールアダクトの洗浄液などを挙げ
ることができる。

【００２１】この工程においては、（Ｄ）工程で得られ
たフェノールアダクトに上記フェノール含有溶液を加
え、８０〜１１０℃程度に加熱し、該フェノールアダク
トを加熱溶解させ、晶析操作に好ましいビスフェノール
Ａ濃度を有するビスフェノールＡ含有溶液を調製する。
このように洗浄後の付加物層をフェノールに溶解後、晶
析させることにより、ビスフェノールＡとフェノールと
の付加物を結晶状態で含有するビスフェノールＡのフェ
ノールスラリー溶液(2）が得られる。こうして調製され
たビスフェノールＡのフェノールスラリー溶液(2）は、
比較的低い温度でも粘度が低くて取扱いが比較的容易で
あり、フィルターでの濾過や遠心分離に適しているが、
本発明では遠心分離法を用いることにより、含液率を少
なくすることができ、次の（Ｆ）および（Ｇ）工程、特
に（Ｇ）工程での負荷を軽減することができる。この遠
心分離法で使用される遠心力は、２００〜１２００Ｇ、
好ましくは３００〜１０００Ｇの範囲で用いられる。用
いられる遠心力が１２００Ｇより大きいと、結晶の破砕
やそれに伴って発生する母液への同伴による結晶ロスが
著しく起こるようになり、好ましくない。また、２００
Ｇより小さいと結晶中の含液率が著しく高くなり、好ま
しくない。この遠心分離法で分離されたフェノールアダ
クトの洗浄液には、前記（Ｃ）工程の濃縮工程で得られ
た回収フェノールを用いることもできる。このようにビ
スフェノールＡ含有溶液から、フェノールアダクトを晶
析・固液分離し、さらに当該フェノールアダクトをフェ
ノール含有溶液を用いて溶解したのち、晶析・固液分離
する操作を１回以上繰り返す。

【００２２】（Ｆ）加熱溶融工程 加熱溶融工程は、上記（Ｅ）工程で晶析・分離されたフ
ェノールアダクトを加熱溶融する工程である。この工程
では、フェノールアダクトを１００〜１６０℃程度に加
熱・溶融して液状混合物となる。

【００２３】（Ｇ）脱フェノール工程 脱フェノール工程は減圧蒸留によってフェノールを留去
し、溶融状態のビスフェノールＡを回収する工程であ
る。上記減圧蒸留は、一般に圧力１．３〜１３．３ｋＰ
ａ、温度１５０〜１９０℃の範囲の条件で実施される。
残存フェノールは、さらにスチームストリッピングによ
り除去することができる。

【００２４】（Ｈ）造粒工程 造粒工程においては、上記（Ｇ）工程で得られた溶解状
態のビスフェノールＡを、スプレードライヤーなどの造
粒装置により、液滴にし、冷却固化して製品とする工程
である。該液滴は噴霧、散布などにより形成され、窒素
や空気などによって冷却される。

【００２５】本発明のビスフェノールＡの製造方法にお
ける特徴は、前記（Ｄ）晶析・固液分離工程において濾
過法を用い、該フィルター上に結晶状態のビスフェノー
ルＡとフェノールとの付加物層を洗浄液を用いて洗浄す
ることであり、これにより溶媒置換率が高められ、結晶
の表面や結晶間に含まれている不純物を効果的に除去す
ることができる。また、次の（Ｅ）フェノールアダクト
の溶解、晶析・固液分離工程で遠心分離法を用いること
により、含液率を少なくし、（Ｆ）加熱溶融工程と
（Ｇ）ビスフェノールＡの脱フェノール工程での負荷を
軽減することができる。このようにして、本発明によ
り、反応混合物からビスフェノールＡを取出す際に、ビ
スフェノールＡとフェノールとの付加物を高純度で効率
良く反応母液から回収することができる。

【００２６】

【実施例】次に、本発明を実施例によりさらに詳細に説
明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定さ
れるものではない。

【００２７】製造例１ 陽イオン交換樹脂が６００ｇ充填された反応器に、フェ
ノールを４６００ｇ／ｈｒ、アセトンを２８０ｇ／ｈｒ
及びエチルメルカプタンを１６ｇ／ｈｒの速度で温度を
７５℃に維持しながら、連続的に供給した。反応混合物
は、未反応アセトンを主とした低沸点物質を除去するた
めの低沸点物質成分除去工程に送り、未反応アセトンを
主とした低沸点減分が除去された。低沸点減分除去工程
から生成したビスフェノールＡ及び未反応フェノールを
主とした反応生成物が４６４０ｇ／ｈｒで得られた。こ
の反応生成物は、１６５℃、５３．３ｋＰａの条件でフ
ェノールを一部除去して、ビスフェノールＡの濃度が３
０重量％となるように濃縮調整した。このビスフェノー
ルＡ濃縮液に水を加え、攪拌下４５℃の条件で冷却晶析
し、ビスフェノールＡとフェノールとの付加物（アダク
ト）を晶析した。

【００２８】実施例１ 製造例１で得られたビスフェノールＡとフェノールとの
スラリー液３０００ｇを、６３μｍのステンレス金網を
敷いた約６０℃に加熱した濾過器に注いで、８０ｋＰａ
で６０秒吸引濾過した。得られた湿潤ケーキの厚みは約
８３ｍｍであった。この湿潤ケーキの一部採取し、等重
量のヘキサンで洗浄し、室温で２４時間減圧乾燥した
後、乾燥付加体の重量を測定した。その結果含液率は２
４．６％であった。一方、湿潤ケーキ３００ｇ採り、ふ
るい目開き６３μｍのステンレス金網を敷いた約４５℃
に加熱した濾過器に約５０℃の溶融フェノール７５ｇを
ほぼ均一に注ぎ、１０秒保持後８０ｋＰａで吸引濾過
し、更に同様の操作を一回繰返した。濾液および湿潤ケ
ーキを溶解した液中の2,4-異性体の量を液体クロマトグ
ラフィーで定量した結果から９８．４％以上置換された
ことが分かった。この湿潤ケーキをフェノール２５０ｇ
と水６ｇに９５℃で再溶解した。得られた溶液のハーゲ
ン指数は１７５℃、２０分でＡＰＨＡ５であった。これ
を攪拌下４５℃で冷却晶析し、ビスフェノールＡとフェ
ノールとの付加物を含有するスラリーを得た。得られた
スラリー液を予め５０℃に加熱してあるステンレス製の
筒にふるい目開き１００μｍの金網を取り付け、ここに
スラリー液を入れて最大４００Ｇの遠心力で４０秒間回
転した。所定時間経過し、停止した後、含液率を測定し
た結果、４．２重量％であった。更にスラリー液の約半
分量の溶融フェノール（５０℃）で浸し、最大４００Ｇ
の遠心力で２０秒間回転した。分離液中の2,4-異性体量
を測定した結果、ビスフェノールＡとフェノールとの付
加物中の2,4-異性体量はほぼ１００％除去されていた。
圧力１０ｋＰａの減圧蒸留（温度１６７℃）によりフェ
ノールを除去した後、ビスフェノールＡ中の異性体量を
測定した結果、０．０２５％であった。

【００２９】比較例１ 製造例１で得られたスラリー液を実施例１に記載した遠
心筒に入れて最大４００Ｇの遠心力で２０秒間回転し
た。得られた湿潤ケーキの含液率は５．７％、置換率は
８２％であった。この湿潤ケーキをフェノール２５０ｇ
と水６ｇに９５℃で再溶解し、攪拌下４５℃で冷却晶析
した後、最大４００Ｇの遠心力で２０秒間回転した。得
られた湿潤ケーキの含液率を測定した結果、４．３％で
あった。また、実施例１と同様の減圧蒸留でフェノール
を除去した後、ビスフェノールＡ中の2,4-異性体の量を
測定したところ０．２％であった。このように（Ｄ）工
程と（Ｅ）工程の固液分離を遠心分離法により行なった
場合には、反応母液からビスフェノールＡとフェノール
との付加物を高純度で回収することができない。

【００３０】比較例２ 製造例１で得られたスラリー液を実施例１に記載した方
法で濾過した。得られた湿潤ケーキを再度フェノール２
５５ｇを水６ｇに９５℃で溶解し、攪拌下４５℃で冷却
晶析し、同様の目開きの金網を用いて濾過し、一回洗浄
した。得られた湿潤ケーキの含液率は２３．８％、実施
例１と同様の減圧蒸留でフェノールを除去した後のビス
フェノールＡ中の2,4-異性体の量は０．０２０％であっ
た。このように（Ｄ）工程と（Ｅ）工程の固液分離を共
に濾過法により行なった場合には、得られたビスフェノ
ールＡとフェノールとの付加物中の含液率が高く、
（Ｆ）加熱溶融工程および特に（Ｇ）ビスフェノールＡ
の脱フェノール工程の負荷が増大する。

【００３１】実施例２ 実施例１の前段の濾過を実施例１で使用したステンレス
製金網の代わりに、厚さ１．３ｍｍ、通気度７３ｍｌ／
ｃｍ² のポリプロピレン製濾布（大和紡績（株）製）を
用いた。得られた湿潤ケーキの含液率は２５．４％、2,
4-異性体の置換率は９９％であった。遠心分離の後のビ
スフェノールＡとフェノールとの付加物中の含液率は
４．０％であり、実施例１と同様の減圧蒸留でフェノー
ルを除去した後のビスフェノールＡ中の2,4-異性体量は
０．０３％であった。

【００３２】

【発明の効果】本発明のビスフェノールＡの製造方法に
よれば、（Ｄ）晶析・固液分離工程において溶媒置換率
が高められ、結晶の表面や結晶間に含まれている不純物
を効果的に除去することができ、また、次の（Ｅ）フェ
ノールアダクトの溶解、晶析・固液分離工程において含
液率を少なくし、（Ｆ）加熱溶融工程および（Ｇ）ビス
フェノールＡの脱フェノール工程での負荷を軽減するこ
とができる。従って、本発明により、ビスフェノールＡ
とフェノールとの付加物を高純度で効率良く反応母液か
ら回収することができる。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 酸触媒の存在下にフェノールとアセトン
   を反応させて得られるビスフェノールＡのフェノール溶
   液からビスフェノールＡとフェノールとの付加物を晶析
   させ、生成したスラリーの固液分離後、固体成分からフ
   ェノールを除去するビスフェノールＡの製造方法におい
   て、ビスフェノールＡとフェノールとの付加物が結晶状
   態で含有するビスフェノールＡのフェノールスラリー溶
   液(1）をフィルター濾過することにより、該フィルター
   上に結晶状態のビスフェノールＡとフェノールとの付加
   物層を形成させ、次いで該付加物層を洗浄液にて洗浄
   し、洗浄後の付加物層をフェノール含有液に溶解後、晶
   析させることにより、ビスフェノールＡとフェノールと
   の付加物が結晶状態で含有するビスフェノールＡのフェ
   ノールスラリー溶液(2）を製造し、該スラリー溶液(2）
   を遠心分離させることにより結晶状態のビスフェノール
   Ａとフェノールとの付加物を分離することを特徴とする
   ビスフェノールＡの製造方法。
2. 【請求項２】 フェノールスラリー溶液(1）のフィルタ
   ー濾過および／またはビスフェノールＡとフェノールと
   の付加物層の洗浄を減圧条件下にて行う請求項１に記載
   のビスフェノールＡの製造方法。