JP2003277351A - 高純度4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテル又はその誘導体の製造方法 - Google Patents
高純度4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテル又はその誘導体の製造方法Info
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Abstract
スフェノールS)モノエーテルを含む混合物から、該モ
ノエーテルを、効率よく選択的に精製することができる
高純度4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエ
ーテル又はその誘導体の製造方法を提供する。 【解決手段】ビスフェノールSモノエーテル、ビスフェ
ノールSジエーテル及びビスフェノールSを含む混合物
の水性液を、pH10以上に調整して、70℃以上に加熱
し、該モノエーテルのアルカリ金属塩とビスフェノール
Sのジアルカリ金属塩を溶解し、水に不溶の該ジエーテ
ルを分離する第一工程と、該ジエーテルが分離された水
性液をpH9〜9.5に調整して、70℃以上に加熱し、
ビスフェノールSのモノアルカリ金属塩を溶解し、該モ
ノエーテルを析出させて分離する第二工程を含む高純度
4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテル
又はその誘導体の製造方法。
Description
ヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテル又はその誘
導体の製造方法に関する。さらに詳しくは、本発明は、
4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテル
若しくはその誘導体又はそれらの塩を含む混合物から、
4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテル
又はその誘導体を効率よく選択的に精製することができ
る高純度4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノ
エーテル又はその誘導体の製造方法に関する。
ンのエーテル又はその誘導体は、樹脂の改質剤や添加
剤、難燃剤原料、コンクリート減水剤などの幅広い用途
を有する化合物であり、特に、4,4'−ジヒドロキシジ
フェニルスルホンモノエーテル又はその誘導体は、感熱
記録材料の顕色剤として、あるいは、増感剤の原料とし
て有用な化合物である。通常、4,4'−ジヒドロキシジ
フェニルスルホンのエーテル又はその誘導体は、アルカ
リ性の水溶液中で4,4'−ジヒドロキシジフェニルスル
ホン又はその誘導体に、ハロゲン化アルキル、硫酸エス
テルなどのアルキル化剤を反応することにより製造され
る。4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン又はその
誘導体(以下、ジヒドロキシ体ということがある。)は
二官能化合物であるために、4,4'−ジヒドロキシジフ
ェニルスルホンモノエーテル又はその誘導体(以下、モ
ノエーテル体ということがある。)と4,4'−ジヒドロ
キシジフェニルスルホンジエーテル又はその誘導体(以
下、ジエーテル体ということがある。)が生成するの
で、反応系内のアルカリ性を調整するなどの反応条件を
最適化することにより、モノエーテル体とジエーテル体
の生成割合を調整している。ジエーテル体は、反応条件
を強くすることで生成割合を高めることが可能である
が、モノエーテル体だけを選択的に製造することは困難
である。特開平4−210955号公報には、モノエー
テル体を選択性よく経済的に製造し得る方法として、R
−Xで表される化合物と4,4'−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホンを、4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホ
ン1モルに対し1.5〜3モルのアルカリの存在下に、
4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン1重量部に対
し0.3〜1.5重量部の水溶媒中で反応させる方法が提
案されている。しかし、モノエーテル体の生成割合を高
める反応条件で反応を行っても、反応生成物中にはモノ
エーテル体以外に、ジヒドロキシ体とジエーテル体が混
在する。感熱記録材料の顕色剤としてこれらが混在する
モノエーテル体を使用した場合には、ジヒドロキシ体は
初期の地肌カブリに悪影響を及ぼし、ジエーテル体は保
存性に悪影響を及ぼすために、分離除去することが必要
である。特開昭60−56949号公報には、モノエー
テル体を純度よく工業的に容易に製造し得る方法とし
て、モノエーテル体とジヒドロキシ体の水非混和性有機
溶媒溶液を、炭酸水素塩水溶液と振盪して、ジヒドロキ
シ体を水層中に移行させて除去する方法が提案されてい
る。また、特開平10−158235号公報には、ジヒ
ドロキシ体とモノエーテル体を含有する混合物から、モ
ノエーテル体を高純度、高収率で精製し得る方法とし
て、ジヒドロキシ体のアルカリ金属塩とモノエーテル体
のアルカリ金属塩を含有する混合物の水溶液に、アルカ
リ金属イオン供給体を加えてモノエーテル体のアルカリ
金属塩を析出、分離する方法が提案されている。しか
し、これらの精製方法は工程が煩雑であり、有機溶剤の
使用や、高濃度の塩を含む廃水の発生のために、環境汚
染を防ぐ対策が必要である。
ヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテル若しくはそ
の誘導体又はそれらの塩を含む混合物から、4,4'−ジ
ヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテル又はその誘
導体を、環境汚染を引き起こすおそれがなく、効率よく
選択的に精製することができる高純度4,4'−ジヒドロ
キシジフェニルスルホンモノエーテル又はその誘導体の
製造方法を提供することを目的としてなされたものであ
る。
題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、4,4'−ジヒド
ロキシジフェニルスルホンモノエーテル又はその誘導体
を含む混合物を含有する水性液のpHと温度を特定の領域
に調整することにより、ジエーテル体、モノエーテル体
及びジヒドロキシ体をそれぞれ分離し得ることを見いだ
し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。す
なわち本発明は、(1)一般式[1]で表される4,4'
−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテル若しく
はその誘導体、一般式[2]で表される4,4'−ジヒド
ロキシジフェニルスルホンジエーテル若しくはその誘導
体、一般式[3]で表される4,4'−ジヒドロキシジフ
ェニルスルホン若しくはその誘導体及び/又はそれらの
塩を含む混合物の水性液を、pH10以上に調整して、7
0℃以上に加熱し、4,4'−ジヒドロキシジフェニルス
ルホンモノエーテル若しくはその誘導体のアルカリ金属
塩及び4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン若しく
はその誘導体のジアルカリ金属塩を溶解し、水に不溶の
4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンジエーテル若
しくはその誘導体を分離する第一工程と、4,4'−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホンジエーテル若しくはその誘
導体が分離された水性液をpH9〜9.5に調整して、7
0℃以上に加熱し、4,4'−ジヒドロキシジフェニルス
ルホン若しくはその誘導体のモノアルカリ金属塩を溶解
し、4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエー
テル若しくはその誘導体を析出させて分離する第二工程
を含むことを特徴とする高純度4,4'−ジヒドロキシジ
フェニルスルホンモノエーテル又はその誘導体の製造方
法、
であり、R2及びR3は、水素原子又はメチル基であ
る。)、(2)第一工程において、pH10.5以上に調
整して、70℃以上に加熱する第1項記載の高純度4,
4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテル又
はその誘導体の製造方法、(3)炭素数1〜4の置換基
が、アルキル基、アルケニル基又アルキニル基である第
1項記載の高純度4,4'−ジヒドロキシジフェニルスル
ホンモノエーテル又はその誘導体の製造方法、及び、
(4)一般式[1]、[2]又は[3]のR2及びR
3が、水素原子である第1項記載の高純度4,4'−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホンモノエーテルの製造方法、
を提供するものである。
キシジフェニルスルホンモノエーテル又はその誘導体の
製造方法は、一般式[1]で表される4,4'−ジヒドロ
キシジフェニルスルホンモノエーテル若しくはその誘導
体、一般式[2]で表される4,4'−ジヒドロキシジフ
ェニルスルホンジエーテル若しくはその誘導体、一般式
[3]で表される4,4'−ジヒドロキシジフェニルスル
ホン若しくはその誘導体及び/又はそれらの塩を含む混
合物の水性液を、pH10以上に調整して、70℃以上に
加熱し、4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノ
エーテル若しくはその誘導体のアルカリ金属塩及び4,
4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン若しくはその誘
導体のジアルカリ金属塩を溶解し、水に不溶の4,4'−
ジヒドロキシジフェニルスルホンジエーテル若しくはそ
の誘導体を分離する第一工程と、4,4'−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホンジエーテル若しくはその誘導体が分
離された水性液をpH9〜9.5に調整して、70℃以上
に加熱し、4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン若
しくはその誘導体のモノアルカリ金属塩を溶解し、4,
4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテル若
しくはその誘導体を析出させて分離する第二工程を含
む。
又はその誘導体とハロゲン化炭化水素、硫酸エステルな
どを反応させると、4,4'−ジヒドロキシジフェニルス
ルホンモノエーテル若しくはその誘導体、4,4'−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホンジエーテル若しくはその誘
導体及び原料の4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホ
ン若しくはその誘導体及び/又はそれらの塩の混合物が
得られる。本発明方法は、このような混合物に適用する
ことにより、4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン
モノエーテル又はその誘導体を分離、精製し、高純度
4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテル
又はその誘導体を得ることができる。本発明方法を適用
する上記の混合物の組成に特に制限はないが、モノエー
テ体の含有量が、ジヒドロキシ体、モノエーテル体及び
ジエーテル体の合計の30重量%以上であることが好ま
しく、50重量%以上であることがより好ましい。モノ
エーテル体の含有量が30重量%未満であると、分離精
製に必要なコストに比して高純度4,4'−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホンモノエーテル又はその誘導体の収量
が少なく、経済性が損なわれるおそれがある。本発明方
法は、4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエ
ーテル又はその誘導体を製造する際に副生する無機塩を
含有する混合物にも適用することができる。無機塩とし
ては、例えば、硫酸ナトリウム、硫酸水素ナトリウム、
塩化ナトリウム、硝酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸水素ナトリウム、臭化ナトリウム、沃化ナトリウム、
酢酸ナトリウムなどのナトリウム塩、硫酸カリウム、硫
酸水素カリウム、塩化カリウム、硝酸カリウム、炭酸カ
リウム、炭酸水素カリウム、臭化カリウム、沃化カリウ
ム、酢酸カリウムなどのカリウム塩などのアルカリ金属
塩などを挙げることができる。混合物に含有される無機
塩類の量は、水性液の状態で、溶媒100重量部に対し
て15重量部以下であることが好ましく、10重量部以
下であることがより好ましい。
混合物が分散又は溶解している水性液のpHを10以上、
より好ましくは10.5以上、さらに好ましくは11以
上に調整し、温度を70℃以上、好ましくは80℃以
上、溶媒の沸点以下に調整して、好ましくは30分間以
上、さらに好ましくは1時間以上保つ。この結果、4,
4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテル又
はその誘導体はアルカリ金属塩に、4,4'−ジヒドロキ
シジフェニルスルホン又はその誘導体はジアルカリ金属
塩になり、水に溶解するので、水に不溶の4,4'−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホンジエーテル又はその誘導体
を分離する。上記の混合物を分散又は溶解して水性液と
する溶媒としては、水又は低級アルコールやグリコール
類が適量含まれた水を用いることができる。これらの溶
媒の使用量は、上記の混合物100重量部に対して50
0重量部以上であることが好ましく、700重量部以上
であることがより好ましく、1,000重量部以上であ
ることがさらに好ましい。本発明方法の第一工程でpH調
整に使用するアルカリ又は酸に特に制限はなく、アルカ
リとしては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化リチウムなどのアルカリ金属水酸化物、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウムなどの炭酸塩、燐酸三ナトリ
ウム、燐酸三カリウム、ポリ燐酸ナトリウムなどの燐酸
塩やポリ燐酸塩などを、1種又は2種以上を組み合わせ
て用いることができる。酸としては、例えば、硫酸、塩
酸、燐酸、硝酸などの無機酸、蟻酸、酢酸、蓚酸、クエ
ン酸などの有機酸、トリエチルアミン塩酸塩、モノエタ
ノールアミン塩酸塩などのアミン化合物の無機酸塩など
を、1種又は2種以上を組み合わせて用いることができ
る。pH調整を行う温度は、水性液の凝固点以上、65℃
以下であることが好ましく、その温度で30分以上保つ
ことが好ましく、1時間以上保つことがより好ましい。
本発明方法の第一工程において、4,4'−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホンジエーテル又はその誘導体を分離す
る方法に特に制限はなく、例えば、減圧ろ過、加圧ろ
過、遠心ろ過などを挙げることができる。また、分離す
る際の温度にも特に制限はないが、水性液の凝固点以
上、65℃以下であることが好ましい。
程でジエーテル体を分離した水性液のpHを9〜9.5に
調整し、70℃以上、より好ましくは80℃以上、溶媒
の沸点以下に加熱して、好ましくは30分間以上、より
好ましくは1時間以上保つ。その結果、4,4'−ジヒド
ロキシジフェニルスルホン又はその誘導体はモノアルカ
リ金属塩になって溶媒に溶解し、4,4'−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホンモノエーテル又はその誘導体は析出
するので、これを分離する。pHを調整する酸としては、
例えば、硫酸、塩酸、燐酸、硝酸などの無機酸、蟻酸、
酢酸、蓚酸、クエン酸などの有機酸、トリエチルアミン
塩酸塩、モノエタノールアミン塩酸塩などのアミン化合
物の無機酸塩などを、1種又は2種以上を組み合わせて
用いることができる。pH調整を行う温度は、水性液の凝
固点以上、65℃以下であることが好ましく、その温度
で30分以上保つことが好ましく、1時間以上保つこと
がより好ましい。本発明の第二工程において、4,4'−
ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテル又はその
誘導体を分離する方法に特に制限はなく、例えば、減圧
ろ過、加圧ろ過、遠心ろ過などを挙げることができる。
分離する際の温度にも特に制限はないが、水性液の凝固
点以上、65℃以下であることが好ましい。本発明の高
純度4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエー
テル又はその誘導体の製造方法によれば、90重量%以
上の純度の4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンモ
ノエーテル又はその誘導体を高収率で得ることができ
る。本発明方法により、4,4'−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホンモノエーテル又はその誘導体を分離して残さ
れたろ液は、酸析処理を行うことにより原料として用い
た未反応の4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン又
はその誘導体を回収することができる。酸析処理は、pH
を6以下に調整し、加熱することにより、析出する4,
4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン又はその誘導体
を分離する。回収された4,4'−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホン又はその誘導体は、4,4'−ジヒドロキシジ
フェニルスルホンモノエーテル又はその誘導体の合成原
料として使用が可能な純度を有する。
に説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限
定されるものではない。 実施例1 反応容器に、水100g、4,4'−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホン100g(0.4モル)、水酸化ナトリウ
ム32g(0.8モル)及び塩化ナトリウム11.7g
(0.2モル)を仕込み、加熱して均一な溶液とし、2
−ブロモプロパン49.2g(0.4モル)を60℃で6
時間かけて滴下し、60℃で9時間撹拌、反応して、ジ
ヒドロキシ体/モノエーテル体/ジエーテル体の重量比
が29/68/3の溶液を得た。この溶液に水800g
を加え、60℃で50重量%硫酸水溶液を用いてpH1
1.0に調整し、80℃で1時間加熱し、さらに65℃
で1時間保持したのち減圧ろ過し、純度92重量%の
4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンジイソプロピ
ルエーテル2gを分離した。ろ液を30℃で50重量%
硫酸水溶液を用いてpH9.3に調整し、80℃で1時間
加熱した。次いで、30℃で1時間保持した液を減圧ろ
過して、純度98重量%の4,4'−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホンモノイソプロピルエーテル60gを得た。
ろ液を30℃で50重量%硫酸水溶液を用いてpH4.0
に調整し、80℃で1時間加熱し、さらに30℃で1時
間保持したのち減圧ろ過して、純度95重量%の4,4'
−ジヒドロキシジフェニルスルホン27gを回収した。 実施例2 反応容器に、水100g、4,4'−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホン100g(0.4モル)及び水酸化カリウ
ム44.8g(0.8モル)を仕込み、加熱して均一な溶
液とし、2−ブロモプロパン49.2g(0.4モル)を
60℃で3時間かけて滴下し、60℃で11時間撹拌、
反応して、ジヒドロキシ体/モノエーテル体/ジエーテ
ル体の重量比が27/71/2の溶液を得た。この溶液
に水800gを加え、60℃で50重量%硫酸水溶液を
用いてpH11.0に調整し、80℃で1時間加熱し、さ
らに65℃で1時間保持したのち減圧ろ過し、純度91
重量%の4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンジイ
ソプロピルエーテル1gを分離した。ろ液を30℃で5
0重量%硫酸水溶液を用いてpH9.3に調整し、80℃
で1時間加熱した。次いで、30℃で1時間保持した液
を減圧ろ過し、純度97重量%の4,4'−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホンモノイソプロピルエーテル65gを
得た。ろ液を30℃で50重量%硫酸水溶液を用いてpH
4.0に調整し、80℃で1時間加熱し、さらに30℃
で1時間保持したのち減圧ろ過して、純度95重量%の
4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン24gを回収
した。
4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン40g(0.
16モル)及び48重量%水酸化ナトリウム水溶液1
3.3g(0.16モル)を仕込み、加熱して均一な溶液
とし、アリルクロリド12.8g(0.17モル)を60
℃で2時間かけて滴下し、60℃で6時間撹拌、反応し
て、ジヒドロキシ体/モノエーテル体/ジエーテル体の
重量比が44/54/2の溶液を得た。この溶液を60
℃で48重量%水酸化ナトリウム水溶液を用いてpH1
2.0に調整し、80℃で1時間加熱し、さらに65℃
で1時間保持したのち減圧ろ過し、純度94重量%の
4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンジアリルエー
テル0.9gを分離した。ろ液を30℃で50重量%硫
酸水溶液を用いてpH9.0に調整し、80℃で1時間加
熱し、30℃で1時間保持した液を減圧ろ過し、純度9
9重量%の4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンモ
ノアリルエーテル23gを得た。ろ液を30℃で50重
量%硫酸水溶液を用いてpH4.0に調整し、80℃で1
時間加熱し、さらに30℃で1時間保持したのち減圧ろ
過して、純度97重量%の4,4'−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホン17gを回収した。 実施例4 反応容器に、水250g、4,4'−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホン25g(0.1モル)及び48重量%水酸
化ナトリウム水溶液10.4g(0.125モル)を仕込
み、硫酸ジエチル15.4g(0.1モル)を35℃で
3.5時間かけて滴下し、35℃で1時間撹拌、反応
し、さらに100℃で1時間撹拌して反応させ、ジヒド
ロキシ体/モノエーテル体/ジエーテル体の重量比が3
7/62/1の溶液を得た。この溶液を60℃で48重
量%水酸化ナトリウム水溶液を用いてpH12.0に調整
し、100℃で1時間加熱し、さらに65℃で1時間保
持したのち減圧ろ過し、純度92重量%の4,4'−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホンジエチルエーテル1gを分
離した。ろ液を30℃で50重量%硫酸水溶液を用いて
pH9.3に調整し、80℃で1時間加熱し、30℃で1
時間保持した液を減圧ろ過し、純度99重量%の4,4'
−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエチルエーテル
15gを得た。ろ液を30℃で50重量%硫酸水溶液を
用いてpH4.0に調整し、80℃で1時間加熱し、さら
に30℃で1時間保持したのち減圧ろ過して、純度97
重量%の4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン8g
を回収した。
ニルスルホン25g(0.1モル)及び炭酸ナトリウム
13.3g(0.125モル)を仕込み、硫酸ジエチル1
5.4g(0.1モル)を65℃で3時間かけて滴下し、
65℃で1時間撹拌、反応し、さらに100℃で1時間
撹拌、反応して、ジヒドロキシ体/モノエーテル体/ジ
エーテル体の重量比が46/46/8の溶液を得た。こ
の溶液を60℃で48重量%水酸化ナトリウム水溶液を
用いてpH12.0に調整し、80℃で1時間加熱し、さ
らに65℃で1時間保持したのち減圧ろ過して、純度9
2重量%の4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンジ
エチルエーテル2gを分離した。ろ液を30℃で50重
量%硫酸水溶液を用いてpH9.3に調整し、80℃で1
時間加熱し、30℃で1時間保持した液を減圧ろ過し
て、純度98重量%の4,4'−ジヒドロキシジフェニル
スルホンモノエチルエーテル11gを得た。ろ液を30
℃で50重量%硫酸水溶液を用いてpH4.0に調整し、
80℃で1時間加熱し、さらに30℃で1時間保持した
液を減圧ろ過して、純度97重量%の4,4'−ジヒドロ
キシジフェニルスルホン10gを回収した。 実施例6 反応容器に、水250g、4,4'−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホン50g(0.2モル)及び48重量%水酸
化ナトリウム水溶液16.7g(0.2モル)を仕込み、
硫酸ジエチル15.4g(0.1モル)を35℃で3時間
かけて滴下し、35℃で0.5時間撹拌、反応し、さら
に100℃で1時間撹拌して反応させ、ジヒドロキシ体
/モノエーテル体/ジエーテル体の重量比が65/32
/3の溶液を得た。この溶液を60℃で48重量%水酸
化ナトリウム水溶液を用いてpH11.5に調整し、80
℃で1時間加熱し、さらに65℃で1時間保持した液を
減圧ろ過し、純度91重量%の4,4'−ジヒドロキシジ
フェニルスルホンジエチルエーテル2gを分離した。ろ
液を30℃で50重量%硫酸水溶液を用いてpH9.3に
調整し、80℃で1時間加熱し、さらに30℃で1時間
保持したのち減圧ろ過して、純度98重量%の4,4'−
ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエチルエーテル1
6gを得た。ろ液を30℃で50重量%硫酸水溶液を用
いてpH4.0に調整し、80℃で1時間加熱し、さらに
30℃で1時間保持した液を減圧ろ過して、純度96重
量%の4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン32g
を回収した。
ニルスルホン50g(0.2モル)及び48重量%水酸
化ナトリウム水溶液33.3g(0.4モル)を仕込み、
硫酸ジエチル30.8g(0.2モル)を70℃で1.5
時間かけて滴下し、70℃で2時間撹拌、反応し、さら
に100℃で1時間撹拌して反応させ、ジヒドロキシ体
/モノエーテル体/ジエーテル体の重量比が30/47
/23の溶液を得た。この溶液を60℃で48重量%水
酸化ナトリウム水溶液を用いてpH11.0に調整し、8
0℃で1時間加熱し、さらに65℃で1時間保持したの
ち減圧ろ過し、純度92重量%の4,4'−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホンジエチルエーテル15gを分離し
た。ろ液を30℃で50重量%硫酸水溶液を用いてpH
9.3に調整し、80℃で1時間加熱し、30℃で1時
間保持したのち減圧ろ過して、純度98重量%の4,4'
−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエチルエーテル
26gを得た。ろ液を30℃で50重量%硫酸水溶液を
用いてpH4.0に調整し、80℃で1時間加熱し、さら
に30℃で1時間保持した液を減圧ろ過して、純度97
重量%の4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン14
gを回収した。 実施例8 反応容器に、水250g、4,4'−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホン50g(0.2モル)及び水酸化ナトリウ
ム8g(0.2モル)を仕込み、硫酸ジメチル25.2g
(0.2モル)を70℃で1時間かけて滴下し、70℃
で2時間撹拌、反応し、さらに100℃で2時間撹拌し
て反応させ、ジヒドロキシ体/モノエーテル体/ジエー
テル体の重量比が28/59/13の溶液を得た。この
溶液を60℃で48重量%水酸化ナトリウム水溶液を用
いてpH13.0に調整し、80℃で1時間加熱し、さら
に65℃で1時間保持したのち減圧ろ過し、純度99重
量%の4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンジメチ
ルエーテル7gを分離した。ろ液を30℃で50重量%
硫酸水溶液を用いてpH9.3に調整し、80℃で1時間
加熱し、30℃で1時間保持したのち減圧ろ過して、純
度94重量%の4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホ
ンモノメチルエーテル30gを得た。ろ液を30℃で5
0重量%硫酸水溶液を用いてpH4.0に調整し、80℃
で1時間加熱しさらに30℃で1時間保持した液を減圧
ろ過し、純度95重量%の4,4'−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホン11gを回収した。
ニルスルホン50g(0.2モル)及び水酸化ナトリウ
ム8g(0.2モル)を仕込み、硫酸ジエチル30.8g
(0.2モル)を70℃で5時間かけて滴下し、70℃
で2時間撹拌、反応して、ジヒドロキシ体/モノエーテ
ル体/ジエーテル体の重量比が42/52/6の溶液を
得た。この溶液を60℃で48重量%水酸化ナトリウム
水溶液を用いてpHl0.0に調整し、80℃で1時間加
熱し、さらに65℃で1時間保持したのち減圧ろ過し、
80重量%の4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン
モノエチルエーテルと20重量%の4,4'−ジヒドロキ
シジフェニルスルホンジエチルエーテルの混合物19g
を分離した。ろ液を30℃で50重量%硫酸水溶液を用
いてpH9.3に調整し、80℃で1時間加熱し、30℃
で1時間保持したのち減圧ろ過して、純度97重量%の
4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエチルエ
ーテル13gを得た。ろ液を30℃で50重量%硫酸水
溶液を用いてpH4.0に調整し、80℃で1時間加熱
し、さらに30℃で1時間保持した液を減圧ろ過して、
純度97重量%の4,4'−ジヒドロキシジフェニルスル
ホン20gを回収した。 実施例10 反応容器に、水800g、4,4'−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホン/4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホ
ンモノエチルエーテル/4,4'−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホンジエチルエーテルの重量比が0.5/92/
7.5の粗生成物112gを仕込み、60℃で水酸化ナ
トリウムを用いてpH10.5に調整し、100℃で1時
間加熱し、さらに65℃で1時間保持したのち減圧ろ過
して、純度95重量%の4,4'−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホンジエチルエーテル8gを分離した。ろ液を3
0℃で50重量%硫酸水溶液を用いてpH9.3に調整
し、80℃で1時間加熱し、さらに30℃で1時間保持
したのち減圧ろ過して、純度99重量%の4,4'−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホンモノエチルエーテル93g
を得た。
ニルスルホン50g(0.2モル)、48重量%水酸化
ナトリウム水溶液16.6g(0.2モル)及び硫酸ナト
リウム25gを仕込み、硫酸ジエチル30.8g(0.2
モル)を70℃で1.5時間かけて滴下し、70℃で2
時間撹拌、反応し、さらに100℃で1時間撹拌して反
応させ、ジヒドロキシ体/モノエーテル体/ジエーテル
体の重量比が53/42/5の溶液を得た。この溶液を
60℃で48重量%水酸化ナトリウム水溶液を用いてpH
9.7に調整し、80℃で1時間加熱し、さらに65℃
で1時間保持したのち減圧ろ過し、80重量%の4,4'
−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエチルエーテル
と20重量%の4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホ
ンジエチルエーテルの混合物19gを分離した。ろ液を
30℃で50重量%硫酸水溶液を用いてpH9.3に調整
し、80℃で1時間加熱し、30℃で1時間保持したの
ち減圧ろ過して、55重量%の4,4'−ジヒドロキシジ
フェニルスルホンと45重量%の4,4'−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホンモノエチルエーテルの混合物23g
を得た。ろ液を30℃で50重量%硫酸水溶液を用いて
pH4.0に調整し、80℃で1時間加熱し、さらに30
℃で1時間保持した液を減圧ろ過して、純度96重量%
の4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン15gを回
収した。 比較例2 反応容器に、水250g、4,4'−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホン50g(0.2モル)及び水酸化ナトリウ
ム8g(0.2モル)を仕込み、硫酸ジメチル25.2g
(0.2モル)を70℃で1時間かけて滴下し、70℃
で2時間撹拌、反応し、さらに100℃で2時間撹拌し
て反応させ、ジヒドロキシ体/モノエーテル体/ジエー
テル体の重量比が29/57/14の溶液を得た。この
溶液を60℃で48重量%水酸化ナトリウム水溶液を用
いてpH12.5に調整し、80℃で1時間加熱し、さら
に65℃で1時間保持したのち減圧ろ過し、純度99重
量%の4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンジメチ
ルエーテル6gを分離した。ろ液を30℃で50重量%
硫酸水溶液を用いてpH8.5に調整し、80℃で1時間
加熱し、30℃で1時間保持したのち減圧ろ過して、2
0重量%の4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンと
80重量%の4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン
モノメチルエーテルの混合物27gを得た。ろ液を30
℃で50重量%硫酸水溶液を用いてpH6.0に調整し、
80℃で1時間加熱し、さらに30℃で1時間保持した
液を減圧ろ過して、純度97重量%の4,4'−ジヒドロ
キシジフェニルスルホン11gを回収した。
の塩溶液を使用することなく、4,4'−ジヒドロキシジ
フェニルスルホンモノエーテル又はその誘導体を含む混
合物から高純度のモノエーテル体又はその誘導体を高収
率で分離し、併せて、高純度のジエーテル体及び高純度
のジヒドロキシ体を回収することができる。
Claims (4)
- 【請求項1】一般式[1]で表される4,4'−ジヒドロ
キシジフェニルスルホンモノエーテル若しくはその誘導
体、一般式[2]で表される4,4'−ジヒドロキシジフ
ェニルスルホンジエーテル若しくはその誘導体、一般式
[3]で表される4,4'−ジヒドロキシジフェニルスル
ホン若しくはその誘導体及び/又はそれらの塩を含む混
合物の水性液を、pH10以上に調整して、70℃以上に
加熱し、4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノ
エーテル若しくはその誘導体のアルカリ金属塩及び4,
4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン若しくはその誘
導体のジアルカリ金属塩を溶解し、水に不溶の4,4'−
ジヒドロキシジフェニルスルホンジエーテル若しくはそ
の誘導体を分離する第一工程と、4,4'−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホンジエーテル若しくはその誘導体が分
離された水性液をpH9〜9.5に調整して、70℃以上
に加熱し、4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン若
しくはその誘導体のモノアルカリ金属塩を溶解し、4,
4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテル若
しくはその誘導体を析出させて分離する第二工程を含む
ことを特徴とする高純度4,4'−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホンモノエーテル又はその誘導体の製造方法。 【化1】 (ただし、式中、R1及びR4は、炭素数1〜4の置換基
であり、R2及びR3は、水素原子又はメチル基であ
る。) - 【請求項2】第一工程において、pH10.5以上に調整
して、70℃以上に加熱する請求項1記載の高純度4,
4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテル又
はその誘導体の製造方法。 - 【請求項3】炭素数1〜4の置換基が、アルキル基、ア
ルケニル基又アルキニル基である請求項1記載の高純度
4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテル
又はその誘導体の製造方法。 - 【請求項4】一般式[1]、[2]又は[3]のR2及
びR3が、水素原子である請求項1記載の高純度4,4'
−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテルの製造
方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002081313A JP4212821B2 (ja) | 2002-03-22 | 2002-03-22 | 高純度4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテル又はその誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002081313A JP4212821B2 (ja) | 2002-03-22 | 2002-03-22 | 高純度4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテル又はその誘導体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003277351A true JP2003277351A (ja) | 2003-10-02 |
JP4212821B2 JP4212821B2 (ja) | 2009-01-21 |
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---|---|---|---|
JP2002081313A Expired - Lifetime JP4212821B2 (ja) | 2002-03-22 | 2002-03-22 | 高純度4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテル又はその誘導体の製造方法 |
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-
2002
- 2002-03-22 JP JP2002081313A patent/JP4212821B2/ja not_active Expired - Lifetime
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