JP2003272103A - 光アシスト磁気記録ヘッドおよび光アシスト磁気記録ディスク装置 - Google Patents

光アシスト磁気記録ヘッドおよび光アシスト磁気記録ディスク装置

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magnetic
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 小型で、レーザ光の利用効率が高く、それに
より、高密度・高転送レートの記録・再生を可能とする
光アシスト磁気記録ヘッドおよび光アシスト磁気記録デ
ィスク装置を提供する。 【解決手段】 薄膜磁気記録トランスデューサ4の一対
の磁気ポール6a,6bを光導波路3のレーザ光出射口
に配置することにより、レーザ光の照射位置と磁界印加
位置が一致するため、レーザ光照射から磁界印加までの
間に加熱部が熱拡散により広がらないので、記録部分を
狭めることができ、高記録密度化が可能となる。トラン
スデューサ4の薄膜コイル44およびヨーク42,43
を光導波路3の側方に配置することにより、小型化が可
能となり、光導波路3と磁気抵抗センサ5の距離を近づ
けることができ、同一トラックをトラッキングさせるこ
とが容易となる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光アシスト磁気記
録ヘッドおよび光アシスト磁気記録ディスク装置に関
し、特に、小型で、レーザ光の利用効率が高く、それに
より、高密度・高転送レートの記録・再生を可能とする
光アシスト磁気記録ヘッドおよび光アシスト磁気記録デ
ィスク装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、ハード磁気記録装置(HDD)の
記録密度は年率100%で増大しており、実験段階で
は、60Gbpsiを超えるに至っている。しかし、超
常磁性効果や、磁気ヘッドのギャップ幅の狭窄の難しさ
から、そろそろ従来型のHDDの記録密度の限界が見
え、100〜300Gbpsiが限界と言われ、その限
界を超えるものとして、光アシスト磁気記録が期待され
ている。
【0003】ここで、「超常磁性効果」とは、熱や隣接
磁区の磁界などにより記録磁区の磁化が乱されて記録情
報が失われていく現象である。これを防ぐには、磁化や
その異方性の大きな磁気記録媒体を使用することが一つ
の手段であるが、通常の磁気ヘッドでは記録できなくな
る。それを解決する手段として、光アシスト磁気記録が
提案されている。この「光アシスト磁気記録」は、レー
ザ光の照射により記録媒体をキュリー温度付近まで加熱
することによりその磁化を下げたところで記録する方法
である。
【0004】図8は、従来の光アシスト磁気記録ヘッド
を示す。この光アシスト磁気記録ヘッド1は、図8
(a)に示すように、浮上スライダ2の後端面2aに、
光導波路3、薄膜磁気記録トランスデューサ4および磁
気抵抗センサ5を順次積層したものである。
【0005】光導波路3は、図8(b)に示すように、
コア31と、コア31の周囲に形成されたクラッド32
とから構成され、光導波路3の上部に位置する半導体レ
ーザ(図示せず)から入射したレーザ光を底面まで伝送
する。コア31は、開口38を有する金属膜37により
出射口が絞られ、出射されるレーザ光のサイズの微細化
が図られている。
【0006】薄膜磁気記録トランスデューサ4は、誘電
体絶縁膜45により支持される薄膜コイル44、光導波
路3側の下部ヨーク46、中部ヨーク46a、および磁
気抵抗センサ5側の上部ヨーク47により磁気回路を形
成する。
【0007】磁気抵抗センサ5は、スピンバルブ膜51
とその電極52a,52bが誘電体絶縁膜53a,53
bを介して上部磁気ポール47と磁気シールド膜54に
挟まれた構造である。
【0008】上記の構造の光アシスト磁気記録ヘッド1
は、浮上スライダ2の凹部2cを有する浮上面2bによ
り磁気ディスク8の基板8b上に形成された磁気記録層
8a上を浮上走行し、光導波路3の開口38から出射さ
れる近接場光35により磁気記録層8aを加熱して抗磁
力を下げ、薄膜磁気記録トランスデューサ4により磁気
記録層8aに情報を記録し、磁気抵抗センサ5により情
報を再生するものである。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の光アシ
スト磁気記録ヘッドによると、半導体レーザ3によるレ
ーザ光照射位置と薄膜磁気記録トランスデューサ4の磁
気ギャップで形成される磁界印加位置とが離れているた
め、レーザ光による加熱から磁界印加による記録までの
間にレーザ光により加熱した部分が熱伝導により広がる
とともに、温度勾配がなだらかになるため、磁区の境界
位置がばらつきやすく、微細な磁区が形成できないなど
の問題がある。
【0010】従って、発明の目的は、小型で、レーザ光
の利用効率が高く、それにより、高密度・高転送レート
の記録・再生を可能とする光アシスト磁気記録ヘッドお
よび光アシスト磁気記録ディスク装置を提供することに
ある。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するために、磁気記録媒体上を浮上走行する浮上スラ
イダの後端面に、レーザ光出射口から前記磁気記録媒体
にレーザ光を出射するレーザ光出射手段、前記レーザ光
の出射によって加熱された前記磁気記録媒体に一対の磁
気ポールから磁界を印加して情報を記録する薄膜磁気記
録トランスデューサ、および前記磁気記録媒体に記録さ
れた前記情報を検出する磁気抵抗センサを順次積層した
光アシスト磁気記録ヘッドにおいて、前記薄膜磁気記録
トランスデューサは、前記一対の磁気ポールが前記レー
ザ光出射手段の前記レーザ光出射口に配置され、前記一
対の磁気ポールを先端に有するヨークと前記ヨークに巻
回された薄膜コイルを備え、前記薄膜コイルおよび前記
ヨークの少なくとも一方が、前記レーザ光出射手段の前
記レーザ出射口の側方に配置されていることを特徴とす
る光アシスト磁気記録ヘッドを提供する。この構成によ
り、レーザ光の照射位置と一対の磁気ポール間の磁気ギ
ャップで形成される磁界印加位置が一致するため、磁界
印加位置を正確に加熱することができる。従って、レー
ザ光照射から磁界印加までの間に加熱部が熱拡散により
広がらないので、記録部分を狭めることができ、高記録
密度化が可能となる。また、薄膜磁気記録トランスデュ
ーサの薄膜コイルおよびヨークの少なくとも一方をレー
ザ出射口の側方に配置することにより、小型化が可能と
なるとともに、レーザ出射口と磁気抵抗センサの距離を
近づけることができるため、同一トラックをトラッキン
グさせることが容易となる。
【0012】本発明は、前記目的を達成するために、磁
気記録媒体上を浮上走行する浮上スライダの後端面に、
レーザ光出射口から前記磁気記録媒体にレーザ光を出射
するレーザ光出射手段、前記レーザ光の出射によって加
熱された前記磁気記録媒体に一対の磁気ポールから磁界
を印加して情報を記録する薄膜磁気記録トランスデュー
サ、および前記磁気記録媒体に記録された前記情報を検
出する磁気抵抗センサを順次積層した光アシスト磁気記
録ヘッドにおいて、前記薄膜磁気記録トランスデューサ
は、前記一対の磁気ポールが前記レーザ光出射手段の前
記レーザ光出射口に配置され、前記一対の磁気ポールを
先端に有するヨークと前記ヨークに巻回された薄膜コイ
ルを備え、前記薄膜コイルが、前記レーザ光出射手段の
前記レーザ出射口と前記磁気抵抗センサの検出部を結ぶ
線上から外れた位置に形成されていることを特徴とする
光アシスト磁気記録ヘッドを提供する。この構成によ
り、薄膜磁気記録トランスデューサの薄膜コイルをレー
ザ出射口と磁気抵抗センサの検出部を結ぶ線上から外れ
た位置に配置することにより、小型化が可能となるとと
もに、レーザ出射口と磁気抵抗センサの距離を近づける
ことができるため、同一トラックをトラッキングさせる
ことが容易となる。
【0013】本発明は、前記目的を達成するために、磁
気記録ディスク上を浮上走行し、前記磁気記録ディスク
の磁気記録媒体に対して情報の記録を行う光アシスト磁
気記録ヘッドを有する光アシスト磁気記録ディスク装置
において、前記光アシスト磁気記録ヘッドは、前記磁気
記録媒体上を浮上走行する浮上スライダの後端面に、レ
ーザ光出射口から前記磁気記録媒体にレーザ光を出射す
るレーザ光出射手段、前記レーザ光の出射によって加熱
された前記磁気記録媒体に一対の磁気ポールから磁界を
印加して前記情報を記録する薄膜磁気記録トランスデュ
ーサ、および前記磁気記録媒体に記録された前記情報を
検出する磁気抵抗センサが順次積層され、前記薄膜磁気
記録トランスデューサは、前記一対の磁気ポールが前記
レーザ光出射手段の前記レーザ光出射口に配置され、前
記一対の磁気ポールを先端に有するヨークと前記ヨーク
に巻回された薄膜コイルを備え、前記薄膜コイルおよび
前記ヨークの少なくとも一方が、前記レーザ光出射手段
の前記レーザ出射口の側方に配置されていることを特徴
とする光アシスト磁気ディスク装置を提供する。この構
成により、レーザ光の利用効率を高めた光アシスト磁気
記録ヘッドを用いることができ、高密度・高転送レート
の記録・再生が可能となる。
【0014】
【発明の実施の形態】図1は、本発明の第1の実施の形
態に係る光アシスト磁気記録・再生ヘッド(以下、「光
アシスト磁気記録ヘッド」という。)を示す。この光ア
シスト磁気記録ヘッド1は、図1(a)に示すように、
浮上スライダ2の後端面2aに、光導波路3、薄膜磁気
記録トランスデューサ4および磁気抵抗センサ5を順次
積層したものである。光アシスト磁気記録ヘッド1は、
浮上スライダ2の凹部2cを有する浮上面2bにより、
磁気ディスク8の基板8b上に形成された磁気記録層8
a上を浮上走行し、図示しない半導体レーザから光導波
路3を介して出射されるレーザ光により、磁気記録層8
aを加熱して抗磁力を下げ、薄膜磁気記録トランスデュ
ーサ4によりその磁気記録層8aに情報を記録し、磁気
抵抗センサ5により情報を再生する。
【0015】光導波路3は、図1(b)に示すように、
誘電体層30上に形成された、SiN層からなるコア3
1と、それを取り巻くSiO2からなるクラッド32か
ら構成され、光導波路3の上部に位置する図示しない半
導体レーザから入射したレーザ光を底面まで伝送するも
のである。光導波路3のクラッド32の幅は、カップリ
ング効率を上げ、光損失を下げるために約3μmと幅広
くしている。一方、底面のレーザ出射端での光スポット
のサイズは小さい方が光利用効率がよいため、光導波路
3の内部に平面型の集光レンズなどの集光系を形成して
もよい。光導波路3の底面のレーザ出射端には、後述す
る磁気ポール6a,6bが形成される。
【0016】薄膜磁気記録トランスデューサ4は、図1
(b)に示すように、誘電体層30から光導波路3が後
方に突出するように光導波路3の外周辺をメサエッチン
グで除去し、光導波路3の左右に一対の凹部を形成し、
下部ヨーク42、薄膜コイル44、および薄膜コイル4
4を支持する磁気シールド膜45を一対の凹部内にそれ
ぞれ積層し、更に下部ヨーク42の後端で接合される中
部ヨーク43、および誘電体膜40を介して中部ヨーク
43,43の後端を結合する上部ヨーク53を順次積層
したものである。また、図1(d)に示すように、下部
ヨーク42のそれぞれの先端42aに底面部ヨーク6d
を介して磁気ポール6aおよび磁気ポール6bが形成さ
れる。磁気ポール6aと磁気ポール6b間に磁気ギャッ
プ6cが形成される。下部ヨーク42、中部ヨーク4
3、上部ヨーク53、底面部ヨーク6dを介して形成さ
れる磁気ポール6aおよび磁気ポール6bにより磁気回
路を形成する。薄膜コイル44は、図1(c)に示すよ
うに、磁気回路と差交するように巻かれており、薄膜コ
イル44に流れる電流に比例して磁気ポール6aおよび
磁気ポール6b間の磁気ギャップ6cに磁界を発生し、
その磁界の変調により磁気記録層8aに記録を行う。下
部ヨーク42、薄膜コイル44、中部ヨーク43、上部
ヨーク53、底面部ヨーク6d、磁気ポール6aおよび
磁気ポール6bは、それぞれパーマロイなどの軟磁性体
で形成してもよい。なお、44aは、薄膜コイル44に
記録信号に基づく電流を供給するためのリード線であ
る。
【0017】磁気ポール6a,6bは、これらの並び方
向と光導波路3からのレーザ光の偏光方向36を一致さ
せている。このように形成することにより、磁気ポール
6a,6b中にレーザ光によりその周波数に等しい電子
の集団運動が励起され、その極性が磁気ポール6aと磁
気ポール6bが逆位相になることから、磁気ポール6
a,6bがダイポールアンテナの役割を果たし、磁気ギ
ャップ6cに強力な近接場光が誘起される。磁気ポール
6a,6bの先端は、テーパー状に細くなっており、そ
れにより強力な磁界が形成できるとともに、近接場光の
増強効果も高めることができ、光利用効率をあげること
ができる。なお、符号9は、記録トラックである。
【0018】磁気抵抗センサ5は、図1(b),(d)
に示すように、スピンバルブ膜51とその電極52a、
52bが誘電体55に支持され、磁気シールド膜54と
上部ヨーク53に挟まれた構造を有する。磁気抵抗セン
サ5は、光導波路3との間に熱導電率の低い誘電体膜4
0を介して積層されている。情報信号の再生は、スピン
バルブ膜51と差交する磁気記録層8aからの磁界の強
度を、スピンバルブ膜51の抵抗変化として検出するこ
とにより行う。なお、磁気記録媒体として、遷移金属と
希土類金属からなるフェリ磁性体を使用する場合には、
補償点温度を調節することで加熱によって読み出し磁化
の強度を上げることができ、その場合には、再生時にも
照射を行う。それによって、記録層の加熱された部分だ
けからの信号を再生できるため、記録感度を上げられる
のみならず、再生時の隣接トラックからのクロストーク
を下げることができる。
【0019】次に、上記の光アシスト磁気記録ヘッド1
の製造方法の一例を説明する。浮上スライダ2の材質
は、通常のハードディスク用磁気ヘッドに使用されるア
ルチック(Al23−TiO2)を用いる。磁気抵抗セ
ンサ5は、通常のGMR(GiantMagnetic Sensor)を使
用する。アルチックのウェーハ上に1次元状又は2次元
状に配されるように複数の光導波路を形成し、光導波路
のクラッドの外周辺部をメサエッチングして、光導波路
3の左右に一対の凹部を形成し、一対の凹部内に、構成
要素である薄膜コイル44および下部ヨーク42を配置
した複数の薄膜磁気記録トランスデューサ4および複数
の磁気抵抗センサ5を薄膜プロセス法を用いて積層した
後、通常の磁気ヘッド製造の際になされるように、光導
波路3、薄膜磁気記録トランスデューサ4および磁気抵
抗センサが1次元状に配列されたチップバーを切り出
し、その断面を浮上スライダ2の浮上面2bとして加工
した後、各ヘッドチップに切断する。磁気ポール6a,
6bは、メサエッチングにより光導波路のレーザ光射出
端の高屈折率の誘電体膜の一部を除去して凹部を形成
し、その凹部にパーマロイなどの軟磁性膜を着膜して形
成する。
【0020】次に、上記の光アシスト磁気記録ヘッド1
の動作を説明する。光アシスト磁気記録ヘッド1は、浮
上スライダ2の凹部2cを有する浮上面2bにより、磁
気ディスク8の基板8b上に形成された磁気記録層8a
上を浮上走行し、光導波路3から出射されるレーザ光に
より、磁気記録層8aを加熱して抗磁力を下げ、薄膜磁
気記録トランスデューサ4の薄膜コイル44に記録信号
に基づく電流を供給し、その電流に比例した磁界を磁気
ギャップ6cに発生させ、その磁界の変調により磁気記
録層8aに情報の記録を行う。信号再生は、スピンバル
ブ膜51と交差する、磁気記録層8aからの磁界の強度
変化をスピンバルブ膜51の抵抗変化として検出するこ
とにより行う。
【0021】以上述べた第1の実施の形態によれば、以
下の効果が得られる。 (イ)この近接場光のサイズは磁気ギャップ6cと同程
度であり、この近接場光を磁気記録層8aの加熱に使用
することにより、微細な記録領域を効率よく加熱するこ
とが可能となり、高密度の光アシスト磁気記録が達成で
きる。 (ロ)磁気ポール6a、6bは、磁界の発生と近接場光
の発生を兼ねているため、構造が簡単で作製しやすい構
造となる。このことは、ギャップ長が数十nmと現在の
加工精度の限界を要求されることから特に重要である。 (ハ)この構造によれば、下部ヨーク42、中部ヨーク
43の幅に制限がなく、この部分を微細化する必要がな
いため、磁気回路の磁気抵抗を下げることができる。そ
のため高速の磁界変調が可能となり、記録の高速化が図
れる。 (ニ)下部ヨーク42、中部ヨーク43は、磁気抵抗を
高めずに薄くできるため、磁気トランスデューサ4の凹
凸を少なくでき、磁気トランスデューサ4の上部の誘電
体膜を用いた平坦化がしやすくなる。これは、その上に
形成される磁気抵抗センサ5のスピンバルブ膜51の形
成に特に平坦な面が必要とされることから重要である。
【0022】なお、本実施の形態では、光導波路3を用
いてレーザ光を導入したが、光導波路3の代わりに半導
体レーザを使用することも可能である。この場合には、
半導体レーザの活性層(図示せず)が光導波路3のコア
31の位置に来るように形成する。このようにしても、
光利用効率を上げることが可能となる。半導体レーザと
しては、端面発光型のレーザが磁気ヘッド部との作製プ
ロセスとなじみがよいが、面発光型(VCSEL)レー
ザも使用可能である。この場合には、面発光型レーザの
出力面まで形成したのち、その上に磁気ヘッド部を集積
することで使用可能となる。
【0023】図2は、本発明の第2の実施の形態に係る
光アシスト磁気記録ヘッドの要部を示す。この第2の実
施の形態は、薄膜磁気記録トランスデューサ4の薄膜コ
イル44を1つとし、一対の中部ヨーク43,43の一
方が光導波路3の近くに形成されている点を除き、他
は、前述した第1の実施の形態と同じである。すなわ
ち、薄膜磁気記録トランスデューサ4は、図2(a)に
示すように、下部ヨーク42、薄膜コイル44を支持す
る誘電体絶縁膜45、下部ヨーク42の後端で接合され
る中部ヨーク43、および誘電体膜40を介して中部ヨ
ーク43,43の後端を結合する上部ヨーク53を順次
積層したもので、図の上方に一つの薄膜コイル44が形
成されている。下部ヨーク42の先端に底面部ヨーク6
dを介して磁気ポール6aが形成され、中部ヨーク43
の先端に底面部ヨーク6dを介して磁気ポール6bが形
成され、図2(c)に示すように、磁気ポール6aと磁
気ポール6b間に磁気ギャップ6cが形成される。この
第2の実施の形態においても、情報の記録、再生が第1
の実施の形態と同様に行われ、効果も第1の実施の形態
と同様である。
【0024】図3は、本発明の第3の実施の形態に係る
光アシスト磁気記録ヘッドの要部を示す。この第3の実
施の形態は、下部ヨーク42に導体を巻回して薄膜コイ
ル48を形成する点を除き、他は、前述した第1の実施
の形態と同じである。なお、同図中48aは、薄膜コイ
ル48に記録信号に基づく電流を供給するためのリード
線である。この第3の実施の形態においても、情報の記
録、再生が第1の実施の形態と同様に行われ、効果も第
1の実施の形態と同様である。
【0025】図4は、本発明の第4の実施の形態に係る
光アシスト磁気記録ヘッドの要部を示す。この第4の実
施の形態の光アシスト磁気記録ヘッドは、図4(a)に
示すように、浮上スライダ2の後端面2aに、光導波路
3、薄膜磁気記録トランスデューサ4および磁気抵抗セ
ンサ5を順次集積したものである。
【0026】光導波路3は、図4(a)に示すように、
SiN層からなるコア31と、それを取り巻くSiO2
からなるクラッド32とにより構成され、浮上スライダ
2の後端面2aに形成された誘電体層30中に形成す
る。光導波路3の底面のレーザ出射端に後述する磁気ポ
ール6a,6bが形成される。
【0027】薄膜磁気記録トランスデューサ4は、図4
(a)に示すように、誘電体層30上に下部ヨーク4
2、薄膜コイル44を支持する誘電体絶縁膜45、下部
ヨーク42の後端で接合される中部ヨーク43、および
中部ヨーク43,43の後端を結合する上部ヨーク53
を順次積層したものである。また、図4(c)に示すよ
うに、下部ヨーク42のそれぞれの先端42aに底面部
ヨーク6dを介して磁気ポール6aおよび磁気ポール6
bが形成される。磁気ポール6aと磁気ポール6b間に
磁気ギャップ6cが形成される。下部ヨーク42、中部
ヨーク43、上部ヨーク53、底面部ヨーク6dを介し
て形成される磁気ポール6aおよび磁気ポール6bによ
り磁気回路を形成する。薄膜コイル44は、図4(b)
に示すように、磁気回路と差交するように巻かれてお
り、薄膜コイル44に流れる電流に比例して磁気ギャッ
プ6cに磁界を発生させる。
【0028】磁気ポール6a,6bは、これらの並び方
向と光導波路3からのレーザ光の偏光方向36を一致さ
せている。このように形成することにより、磁気ポール
6a,6b中にレーザ光によりその周波数に等しい電子
の集団運動が励起され、その極性が磁気ポール6aと磁
気ポール6bが逆位相になることから、磁気ポール6
a,6bがダイポールアンテナの役割を果たし、磁気ギ
ャップ6cに強力な近接場光が誘起される。磁気ポール
6a,6bの先端は、テーパー状に細くなっており、そ
れにより強力な磁界が形成できるとともに、近接場光の
増強効果も高めることができる。
【0029】磁気抵抗センサ5は、図4(a),(c)
に示すように、スピンバルブ膜51とその電極52a,
52bが誘電体55に支持され、磁気シールド膜54と
上部ヨーク53に挟まれた構造を有する。磁気抵抗セン
サ5は、光導波路3との間に熱導電率の低い誘電体膜4
0を介して積層されている。
【0030】以上述べた第4の実施の形態によれば、以
下の効果が得られる。 (イ)薄膜コイル44や下部ヨーク42を光導波路3と
磁気抵抗センサとを結ぶ線上から外れる位置に形成する
こととしたため、レーザ光が出射される光導波路3と磁
気抵抗センサとの距離を短くすることができることか
ら、同一トラックをトラッキングさせるのが容易とな
り、レーザ光を効率よく利用でき、記録領域に記録され
た情報信号が微弱でも再生することができる。 (ロ)この近接場光のサイズは磁気ギャップ6cと同程
度であり、この近接場光を磁気記録層8aの加熱に使用
することにより、微細な記録領域を効率よく加熱するこ
とが可能となり、高密度の光アシスト磁気記録が達成で
きる。 (ハ)磁気ポール6a,6bは、磁界の発生と近接場光
の発生を兼ねているため、構造が簡単で作製しやすい構
造となる。このことは、ギャップ長が数十nmと現在の
加工精度の限界を要求されることから特に重要である。 (ニ)この構造によれば、下部ヨーク42、中部ヨーク
43の幅に制限がなく、この部分を微細化する必要がな
いため、磁気回路の磁気抵抗を下げることができる。そ
のため高速の磁界変調が可能となり、記録の高速化が図
れる。 (ホ)下部ヨーク42、中部ヨーク43は、磁気抵抗を
高めずに薄くできるため、薄膜磁気記録トランスデュー
サ4の凹凸を少なくでき、薄膜磁気記録トランスデュー
サ4の上部の誘電体膜を用いた平坦化がしやすくなる。
これは、その上に形成される磁気抵抗センサ5のスピン
バルブ膜51の形成に特に平坦な面が必要とされること
から重要である。 (ヘ)端面に比較的簡単な薄膜プロセスにより、磁気ポ
ール6a,6bを光出力位置に形成でき、それにより磁
気抵抗の低い磁気回路ができるとともに、表面プラズモ
ンを効率よく励起することができ、それによって高密度
・高速、かつ、高効率の光アシスト磁気記録が可能とな
る。
【0031】図5は、光導波路のレーザ光出射口に配さ
れる磁気ポール6a,6bの構造の変形例を示す。図5
(a)は、レーザ光出射口であるコア31に配される一
方の磁気ポール6bの先端を平坦にした例である。他方
の磁気ポール6aは、先端が台形状に形成し、底面部ヨ
ーク6dを介して下部ヨークに取り付けられる。磁気ポ
ール6aの先端は、三角形状あるいは長方形状でもよ
い。なお、符号36は、光導波路3からのレーザ光の偏
光方向である。この構造により、さらに磁気ポールの加
工性を高めることができる。また、レーザ光出射口から
発生する近接場光の強度を実質的に弱めることなく、磁
気ポール6a,6bでの磁気飽和を防ぐことができる。
【0032】図5(b)は、磁気ポール6a,6bの並
びにより形成される磁気ギャップ6cの方向を記録トラ
ック9に対して90度回転した例である。この場合、レ
ーザ光の偏光方向36も同様に90度回転されている。
このようにして、記録トラック9に対して垂直方向の磁
化を有する記録を行うことが可能となる。
【0033】図5(c)は、光導波路3の断面拡大図で
あり、光導波路のコア31の出力端部および磁気ポール
6a,6bの先端をテーパー状に形成した例を示す。こ
れらの先端部をテーパー状に形成することにより、光導
波路3の出力端での集光性能を上げることができるため
高密度化が可能となり、かつ、底面部ヨーク6dの厚さ
を厚くできるため磁気回路の磁気抵抗を下げることがで
き、さらに高速動作が可能となる。なお、符号49は、
磁気ポール6a,6b間で発生する磁界を示す。
【0034】図5(d)は、コア31のレーザ光射出端
に開口38が形成された金属薄膜37を配した例であ
る。金属薄膜37は、Au,Ag,Al(金、銀、アル
ミニウム)等の低抵抗金属、あるいはその合金から形成
する。開口38の代わりにスリットを形成してもよい。
これにより、横方向への漏れ磁界を抑えられ、トラック
幅を狭められるという利点がある。また、磁気ギャップ
6cの形成には磁気ポール用の金属膜を被着した後、磁
気ギャップ6cをエッチングすることにより、ギャップ
の位置精度を高めることができる。
【0035】図5(e)は、コア31のレーザ光射出端
に、ボータイ型のダイポールアンテナを構成する一対の
微小金属39,39を、一対の微小金属39,39およ
び磁気ポール6a,6bのそれぞれの並び方向が互いに
直角をなすように配し、それらの先端に開口38が形成
された例である。このとき、レーザ光の偏向方向36
は、磁気トラックと直角な方向、すなわち、ダイポール
アンテナを形成する微小金属39,39の並びと同方向
である。これにより、横方向への漏れ磁界を抑えられ、
開口38に強力な近接場光が誘起される。また、磁気ポ
ール6a,6bの先端がテーパー状に細く形成すること
により強力な磁界が形成できるとともに、近接場光を更
に増強する効果をも奏する。
【0036】以上の磁気ポール6a,6bは、材料とし
てパーマロイを使用したが、その表面にAuやAg,A
lの薄膜をコーティングしてもよい。これにより、表面
プラズモンの励起効率を上げることができ、より高効
率、低エネルギー消費の光アシスト磁気記録が可能とな
る。
【0037】図6は、磁気ギャップを複数形成した例を
示す。この例では、図に示すように、2つの磁気ポール
6a,6a’に対向した2つの磁気ポール6b,6b’
により2つの磁気ギャップ6c,6c’が2本の記録ト
ラック9,9’上に形成されている。磁気ポール6b,
6b’は、それぞれ底面部ヨーク6d,6d’を介して
下部ヨーク42,42’に接続されて、それぞれ独立な
2つの磁気回路を構成する。また、下部ヨーク42,4
2’と中部ヨークの間には2つの薄膜コイル(図示せ
ず)が形成されており、それぞれの磁気回路を独立に駆
動することが可能である。また、磁気抵抗センサも磁気
ギャップ6c,6c’の位置に合わせて、2つ形成され
る(図示せず)。
【0038】この構成によれば、底面部ヨークの膜厚を
薄くできるため、複数のヨークを高密度に並べることが
できるので、並列記録に適した構造を有している。従っ
て、磁気ギャップ6c,6c’と磁気抵抗センサを複数
構成するだけで、磁気ギャップの数だけ記録再生速度を
上げることができる。本実施の形態では、記録・再生速
度を2倍に高めることができる。
【0039】図6は、本発明の第5の実施の形態の光ア
シスト磁気記録・再生ディスク装置を示す。この実施の
形態の光アシスト磁気記録・再生ディスク装置60は、
磁気記録層61aとしてPt/Crなどからなる垂直磁
気記録媒体を使用した磁気ディスク61と、その磁気デ
ィスク61を回転するためのモータ62と、磁気記録層
61a上を浮上走行して、磁気記録層61aに記録・再
生を行う第1〜第4の実施の形態に係る光アシスト磁気
記録ヘッド70と、光アシスト磁気記録ヘッド70を支
えるスイングアーム63と、スイングアーム63を走査
するためのボイスコイルモータ64と、記録時には記録
信号を処理し、光アシスト磁気記録ヘッド70のレーザ
光を変調し、再生時には光アシスト磁気記録ヘッド70
からの光強度信号を用いて記録情報を再生する信号処理
回路65と、記録・再生時にモータ62やボイスコイル
モータ64を制御する制御回路66とを備える。
【0040】この構成により、記録時には半導体レーザ
から出射された信号入力に基づいて強度変調されたレー
ザ光が光導波路の出射面から出射され、その直下に配置
された磁気記録層61aに入射して、磁気記録層61a
に情報を記録する。また、再生時には、半導体レーザか
らの磁気記録層61aの記録に影響を与えない程度に弱
いレーザ光を磁気記録層61aに照射する。また、記録
・再生時には、ヘッド70から出射した光を磁気記録層
61a上の特定の記録トラック(図示せず)上に移動
し、かつ、トラッキングさせる必要がある。これは、ボ
イスコイルモータ64の駆動による位置制御により行
う。すなわち、磁気ディスク61のアドレス情報を読み
取り、その情報に基づいて形成した駆動信号により、ボ
イスコイルモータ64を駆動してヘッド70を所定のト
ラック付近に移動させた後、ボイスコイルモータ64と
ビームスポット走査型半導体レーザ(図示せず)の駆動
により、精細に所定のトラックを追従させる。また、ヘ
ッド70が自体、小型・軽量であるため、このヘッド7
0全体を圧電素子(図示せず)により、駆動させて精細
なトラッキングをさせてもよい。また、磁気抵抗センサ
の信号を用いてトラッキング誤差信号を形成することも
可能である。
【0041】この第5の実施の形態によれば、高効率の
光アシスト磁気記録ヘッド70を磁気ディスク61の記
録・再生に使用することができ、高速記録・再生、高密
度、特に高体積記録密度の光アシスト磁気ディスク装置
を提供することが可能となる。
【0042】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
レーザ光の照射位置と磁界印加位置が一致するため、レ
ーザ光照射から磁界印加までの間に加熱部が熱拡散によ
り広がらないので、記録部分を狭めることができ、高記
録密度化が可能となる。また、レーザ光の偏光方向を一
対の磁気ポールが並ぶ方向と一致させることにより、一
対の磁気ポールがレーザ光に対してダイポールアンテナ
の役割を果たし、ダイポールアンテナから強度の高い近
接場光が放出されるので、レーザ光の利用効率を大幅に
向上する。また、薄膜磁気記録トランスデューサの薄膜
コイルおよびヨークの少なくとも一方をレーザ出射口の
側方に配置することにより、小型化が可能となるととも
に、レーザ出射口と磁気抵抗センサの距離を近づけるこ
とができるため、同一トラックをトラッキングさせるこ
とが容易となる。また、薄膜磁気記録トランスデューサ
の薄膜コイルをレーザ出射口と磁気抵抗センサの検出部
を結ぶ線上から外れた位置に配置することにより、小型
化が可能となるとともに、レーザ出射口と磁気抵抗セン
サの距離を近づけることができるため、同一トラックを
トラッキングさせることが容易となる。更に、レーザ光
の利用効率を高めた光アシスト磁気ヘッドを用いるた
め、高密度・高転送レートでの記録・再生が可能とな
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態に係る光アシスト磁
気記録ヘッドを示ずであり、(a)は光ヘッドの側面概
略断面図、(b)は主要部の横断面の拡大図、(c)は
図(a)のA−A線に沿う断面図、(d)は底面主要部
の拡大図である。
【図2】本発明の第2の実施の形態に係る光アシスト磁
気記録ヘッドの要部を示す図であり、(a)は主要部の
横断面の拡大図、(b)は(a)のB−B線に沿う断面
図、(c)は磁気ポールの詳細図である。
【図3】本発明の第3の実施の形態に係る光アシスト磁
気記録ヘッドの要部を示す図であり、(a)は主要部の
横断面の拡大図、(b)は(a)のC−C線に沿う断面
図である。
【図4】本発明の第4の実施の形態に係る光アシスト磁
気記録ヘッドの要部を示す図であり、(a)は主要部の
横断面の拡大図、(b)は図(a)のD−D線に沿う断
面図、(c)は底面主要部の拡大図である。
【図5】(a)から(e)は、レーザ光出射口に配され
る磁気ポールの構造の変形例を示す図である。
【図6】磁気ギャップを複数形成した例を示す図であ
る。
【図7】本発明の第5の実施の形態の光アシスト磁気記
録・再生ディスク装置を示す図である。
【図8】(a)は従来の光アシスト磁気記録ヘッドの概
略構成を示す断面図、(b)はその要部断面図である。
【符号の説明】
1 光アシスト磁気記録ヘッド 2 浮上スライダ 2a 浮上スライダの後端面 2b 浮上スライダの浮上面 2c 浮上スライダの凹部 3 光導波路 4 薄膜磁気記録トランスデューサ 5 磁気抵抗センサ 6a 磁気ポール 6b,6b’ 磁気ポール 6c,6c’ 磁気ギャップ 6d,6d’ 底面部ヨーク 8 磁気ディスク 8a 磁気記録層 8b 基板 9,9’ 記録トラック 30 誘電体層 31 薄膜コア 32 クラッド 35 近接場光 36 レーザ光の偏光方向 37 金属膜 38 開口 39 微小金属 40 熱導電率の低い誘電体膜 42,42’ 下部ヨーク 42a 下部ヨークの先端 43 中部ヨーク 44 薄膜コイル 44a リード線 45 誘電体絶縁膜 46 下部ヨーク 46a 中部ヨーク 47 上部ヨーク 48 薄膜コイル 48a リード線 49 磁界 51 スピンバルブ膜 52a,52b 電極 53 上部ヨーク 53a 誘電体絶縁膜 53b 誘電体絶縁膜 54 磁気シールド膜 55 誘電体 60 光アシスト磁気記録・再生ディスク装置 61 磁気ディスク 61a 磁気記録層 62 モータ 63 スイングアーム 64 ボイスコイルモータ 65 信号処理回路 66 制御回路 70 光アシスト磁気記録ヘッド

Claims (21)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】磁気記録媒体上を浮上走行する浮上スライ
    ダの後端面に、レーザ光出射口から前記磁気記録媒体に
    レーザ光を出射するレーザ光出射手段、前記レーザ光の
    出射によって加熱された前記磁気記録媒体に一対の磁気
    ポールから磁界を印加して情報を記録する薄膜磁気記録
    トランスデューサ、および前記磁気記録媒体に記録され
    た前記情報を検出する磁気抵抗センサを順次積層した光
    アシスト磁気記録ヘッドにおいて、 前記薄膜磁気記録トランスデューサは、前記一対の磁気
    ポールが前記レーザ光出射手段の前記レーザ光出射口に
    配置され、前記一対の磁気ポールを先端に有するヨーク
    と前記ヨークに巻回された薄膜コイルを備え、前記薄膜
    コイルおよび前記ヨークの少なくとも一方が、前記レー
    ザ光出射手段の前記レーザ出射口の側方に配置されてい
    ることを特徴とする光アシスト磁気記録ヘッド。
  2. 【請求項2】前記薄膜磁気記録トランスデューサは、前
    記薄膜コイルおよび前記ヨークが、前記レーザ光出射手
    段の前記レーザ出射口の左右の両側方にそれぞれ配置さ
    れていることを特徴とする請求項1記載の光アシスト磁
    気記録ヘッド。
  3. 【請求項3】前記レーザ光出射手段は、前記レーザ光の
    偏光方向が、前記一対の磁気ポールが並ぶ方向と一致す
    ることを特徴とする請求項1記載の光アシスト磁気記録
    ヘッド。
  4. 【請求項4】前記レーザ光出射手段は、半導体レーザか
    ら構成されていることを特徴とする請求項1記載の光ア
    シスト磁気記録ヘッド。
  5. 【請求項5】前記レーザ光出射手段は、レーザ光を出射
    する半導体レーザと、前記半導体レーザからの前記レー
    ザ光を一端から導入して他端の前記レーザ光出射口から
    出射する光導波路とを備えたことを特徴とする請求項1
    記載の光アシスト磁気記録ヘッド。
  6. 【請求項6】前記レーザ光出射手段および前記磁気抵抗
    センサは、熱伝導率の低い膜を介して積層されているこ
    とを特徴とする請求項1記載の光アシスト磁気記録ヘッ
    ド。
  7. 【請求項7】前記薄膜磁気記録トランスデューサの前記
    薄膜コイルは、前記浮上スライダのスライド方向に沿う
    軸回りに巻回されていることを特徴とする請求項1記載
    の光アシスト磁気記録ヘッド。
  8. 【請求項8】前記薄膜磁気記録トランスデューサの前記
    薄膜コイルは、前記浮上スライダのスライド方向に対し
    て垂直な方向の軸周りに巻回されていることを特徴とす
    る請求項1記載の光アシスト磁気記録ヘッド。
  9. 【請求項9】前記薄膜磁気記録トランスデューサの前記
    薄膜コイルは、複数形成されていることを特徴とする請
    求項1記載の光アシスト磁気記録ヘッド。
  10. 【請求項10】前記一対の磁気ポールは、少なくとも一
    方の磁気ポールが先端に向けて厚さが徐々に薄くなるよ
    うに形成されたこと特徴とする請求項1記載の光アシス
    ト磁気記録ヘッド。
  11. 【請求項11】前記一対の磁気ポールは、少なくとも一
    方の先端が三角形状、台形状あるいは長方形状に形成さ
    れていること特徴とする請求項1記載の光アシスト磁気
    記録ヘッド。
  12. 【請求項12】前記一対の磁気ポールは、少なくとも一
    方の先端が平坦に形成されていること特徴とする請求項
    1記載の光アシスト磁気記録ヘッド。
  13. 【請求項13】前記一対の磁気ポールは、前記磁気記録
    媒体の記録方向に磁気ギャップが形成されていること特
    徴とする請求項1記載の光アシスト磁気記録ヘッド。
  14. 【請求項14】前記一対の磁気ポールは、前記磁気記録
    媒体の記録方向に対して垂直な方向に磁気ギャップが形
    成されていることを特徴とする請求項1記載の光アシス
    ト磁気記録ヘッド。
  15. 【請求項15】前記一対の磁気ポールは、その先端が、
    高屈折率を有する誘電体に埋め込まれていることを特徴
    とする請求項1記載の光アシスト磁気記録ヘッド。
  16. 【請求項16】前記磁気ポールは、複数の磁気ギャップ
    を有することを特徴とする請求項1記載の光アシスト磁
    気記録ヘッド。
  17. 【請求項17】前記レーザ光出射手段の前記レーザ出射
    口は、開口あるいはスリットが形成されたAu,Ag,
    Al等の低抵抗金属、あるいはその合金からなる金属薄
    膜が配置されていることを特徴とする請求項1記載の光
    アシスト磁気記録ヘッド。
  18. 【請求項18】前記レーザ光出射手段の前記レーザ出射
    口は、Au,Ag,Al等の低抵抗金属、あるいはその
    合金からなるボータイ型のダイポールアンテナが、前記
    ダイポールアンテナおよび前記一対の磁気ポールのそれ
    ぞれの並び方向が互いに直角をなすように配置され、前
    記レーザ光の偏光方向が前記ダイポールアンテナの並ぶ
    方向と同方向であることを特徴とする請求項1記載の光
    アシスト磁気記録ヘッド。
  19. 【請求項19】磁気記録媒体上を浮上走行する浮上スラ
    イダの後端面に、レーザ光出射口から前記磁気記録媒体
    にレーザ光を出射するレーザ光出射手段、前記レーザ光
    の出射によって加熱された前記磁気記録媒体に一対の磁
    気ポールから磁界を印加して情報を記録する薄膜磁気記
    録トランスデューサ、および前記磁気記録媒体に記録さ
    れた前記情報を検出する磁気抵抗センサを順次積層した
    光アシスト磁気記録ヘッドにおいて、 前記薄膜磁気記録トランスデューサは、前記一対の磁気
    ポールが前記レーザ光出射手段の前記レーザ光出射口に
    配置され、前記一対の磁気ポールを先端に有するヨーク
    と前記ヨークに巻回された薄膜コイルを備え、前記薄膜
    コイルが、前記レーザ光出射手段の前記レーザ出射口と
    前記磁気抵抗センサの検出部を結ぶ線上から外れた位置
    に形成されていることを特徴とする光アシスト磁気記録
    ヘッド。
  20. 【請求項20】前記レーザ光出射手段および前記磁気抵
    抗センサは、熱伝導率の低い膜を介して積層されている
    ことを特徴とする請求項19記載の光アシスト磁気記録
    ヘッド。
  21. 【請求項21】磁気記録ディスク上を浮上走行し、前記
    磁気記録ディスクの磁気記録媒体に対して情報の記録を
    行う光アシスト磁気記録ヘッドを有する光アシスト磁気
    記録ディスク装置において、 前記光アシスト磁気記録ヘッドは、前記磁気記録媒体上
    を浮上走行する浮上スライダの後端面に、レーザ光出射
    口から前記磁気記録媒体にレーザ光を出射するレーザ光
    出射手段、前記レーザ光の出射によって加熱された前記
    磁気記録媒体に一対の磁気ポールから磁界を印加して前
    記情報を記録する薄膜磁気記録トランスデューサ、およ
    び前記磁気記録媒体に記録された前記情報を検出する磁
    気抵抗センサが順次積層され、 前記薄膜磁気記録トランスデューサは、前記一対の磁気
    ポールが前記レーザ光出射手段の前記レーザ光出射口に
    配置され、前記一対の磁気ポールを先端に有するヨーク
    と前記ヨークに巻回された薄膜コイルを備え、前記薄膜
    コイルおよび前記ヨークの少なくとも一方が、前記レー
    ザ光出射手段の前記レーザ出射口の側方に配置されてい
    ることを特徴とする光アシスト磁気ディスク装置。
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