JP5841313B2 - 近接場光ヘッド及び情報記録再生装置 - Google Patents

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Description

本発明は、近接場光を利用して磁気記録媒体に各種の情報を超高密度で記録する近接場光ヘッドと、この近接場光ヘッドを有する情報記録再生装置とに関する。
近年、コンピュータ機器におけるハードディスク等の容量増加に伴い、単一記録面内における情報の記録密度が増加している。例えば、磁気ディスクの単位面積当たりの記録容量を多くするためには、面記録密度を高くする必要がある。ところが、記録密度が高くなるにつれて、記録媒体上で1ビット当たりの占める記録面積が小さくなっている。このビットサイズが小さくなると、1ビットの情報が持つエネルギーが、室温の熱エネルギーに近くなり、記録した情報が熱揺らぎ等のために反転したり、消えてしまったりする等の熱減磁の問題が生じる。
一般的に用いられてきた面内記録方式では、磁化の方向が記録媒体の面内方向に向くように磁気を記録する方式であるが、この方式では上述した熱減磁による記録情報の消失等が起こり易い。そこで、このような不具合を解消するために、記録媒体に対して垂直な方向に磁化信号を記録する垂直記録方式に移行しつつある。この方式は、記録媒体に対して、単磁極を近づける原理で磁気情報を記録する方式である。この方式によれば、記録磁界が記録膜に対してほぼ垂直な方向を向く。垂直な磁界で記録された情報は、記録膜面内においてN極とS極とがループを作り難いため、エネルギー的に安定を保ち易い。そのため、この垂直記録方式は、面内記録方式に対して熱減磁に強くなっている。
しかしながら、近年の記録媒体は、より大量且つ高密度情報の記録再生を行いたい等のニーズを受けて、さらなる高密度化が求められている。そのため、隣り合う磁区同士の影響や、熱揺らぎを最小限に抑えるために、保磁力の強いものが記録媒体として採用され始めている。そのため、上述した垂直記録方式であっても、記録媒体に情報を記録することが困難になっていた。
そこで、この不具合を解消するために、近接場光により磁区を局所的に加熱して一時的に保磁力を低下させ、その間に書き込みを行うハイブリッド磁気記録方式(近接場光アシスト磁気記録方式)が提供されている。このハイブリッド磁気記録方式は、近接場光ヘッドに形成された近接場光発生素子によって発生する近接場光を利用する方式である。この近接場光発生素子を利用することで、従来の光学系において限界とされていた光の波長以下となる領域における光学情報を扱うことが可能となる。よって、従来の光情報記録再生装置等を超える記録ビットの高密度化を図ることができる。
なお、近接場光発生素子は、例えば、光の波長以下のサイズに形成され、光の回折限界を超えた光学的微小開口やナノメートルサイズに形成された突起部等により構成されるものである。
上述したハイブリッド磁気記録方式による記録ヘッドとしては、各種のものが提供されているが、その1つとして、光スポットのサイズを縮小して記録密度の増大化を図った近接場光ヘッドが知られている(例えば、特許文献1及び2参照)。
この近接場光ヘッドは、主に主磁極と、補助磁極と、螺旋状の導体パターンが絶縁体の内部に形成されたコイル巻線と、照射されたレーザ光から近接場光を発生させる金属散乱体と、金属散乱体に向けてレーザ光を照射する平面レーザ光源と、照射されたレーザ光を集束させるレンズとを備えている。これら各構成品は、ビームの先端に固定されたスライダの側面に取り付けられている。
主磁極は、一端側が記録媒体に対向した面となっており、他端側が補助磁極に接続されている。つまり、主磁極及び補助磁極は、1本の磁極(単磁極)を垂直方向に配置した単磁極型垂直ヘッドを構成している。また、コイル巻線は、磁極と補助磁極との間を一部が通過するように補助磁極に固定されている。これら磁極、補助磁極及びコイル巻線は、全体として電磁石を構成している。
主磁極の先端には、金等からなる上記金属散乱体が取り付けられている。また、金属散乱体から離間した位置に上記平面レーザ光源が配置されると共に、この平面レーザ光源と金属散乱体との間に上記レンズが配置されている。
上述した各構成品は、スライダの側面側から、補助磁極、コイル巻線、主磁極、金属散乱体、レンズ、平面レーザ光源の順に取り付けられている。
このように構成された近接場光ヘッドを利用する場合には、近接場光を発生させると同時に記録磁界を印加することで、記録媒体に各種の情報を記録している。即ち、平面レーザ光源からレーザ光を照射させる。このレーザ光は、レンズによって集光され、金属散乱体に照射される。すると、金属散乱体は、内部の自由電子がレーザ光の電場によって一様に振動させられるのでプラズモンが励起されて先端部分に近接場光を発生させる。その結果、記録媒体の磁気記録層は、近接場光によって局所的に加熱され、一時的に保磁力が低下する。
また、上記レーザ光の照射と同時に、コイル巻線の導体パターンに駆動電流を供給することで、主磁極に近接する記録媒体の磁気記録層に対して記録磁界を局所的に印加する。これにより、保磁力が一時的に低下した磁気記録層に各種の情報を記録することができる。つまり、近接場光と磁場との協働により、記録媒体への記録を行うことができる。
特開2004−158067号公報 特開2005−4901号公報
しかしながら、上述した従来の近接場光ヘッドには、まだ以下の課題が残されていた。
即ち、情報の記録に不可欠な近接場光を発生させる際に、平面レーザ光源からレンズを介して金属散乱体にレーザ光を集光させながら照射させている。ところが、主磁極の先端に金属散乱体が取り付けられているので、平面レーザ光源からレーザ光の光軸を斜めにして照射せざるを得なかった。よって、レンズ位置をうまく位置調整したとしても、レーザ光を金属散乱体に効率良く集光させることが難しいものであった。特に、記録媒体への干渉を考慮しながらレンズを配置する必要があるので半円形状のレンズを使用しているが、このことも集光効率の低下を招く要因であった。
その結果、効率良く近接場光を発生させることができず、情報の書き込みを行うことができない場合があった。
また、レンズを金属散乱体から離間した位置に配置する必要があるので、ヘッドのサイズが大きくなってしまい、コンパクトに構成することができなかった。しかも、レンズ位置と金属散乱体の位置とを考慮しながら平面レーザ光源を配置する必要があるので、容易に設置することができるものではなかった。
本発明は、このような事情に考慮してなされたもので、その目的は、小型化を図りながら近接場光を効率良く発生させることができると共に、書き込みの信頼性が向上した近接場光ヘッドと、この近接場光ヘッドを有する情報記録再生装置とを提供することである。
本発明は、前記課題を解決して係る目的を達成するために以下の手段を提供する。
(1)本発明に係る近接場光ヘッドは、導入された光束から近接場光を発生させて、一定方向に回転する磁気記録媒体を加熱すると共に、この磁気記録媒体に対して垂直方向の記録磁界を与えることで磁化反転を生じさせ、情報を記録させる近接場光ヘッドであって、前記磁気記録媒体の表面に対向配置されたスライダと;前記記録磁界を発生させる主磁極及び補助磁極を有し、前記スライダの先端面側に前記補助磁極が位置した状態で前記主磁極及び前記補助磁極が前記スライダの長手方向に並ぶように前記スライダの先端面に固定された記録素子と;他端側を前記磁気記録媒体側に向けた状態で前記主磁極に隣接して固定され、一端側から導入された前記光束を前記他端側に向けて伝播させて前記近接場光を生成すると共に、この近接場光を前記他端側から外部に発する近接場光発生素子と;前記スライダに固定され、前記一端側から前記近接場光発生素子内に前記光束を導入させる光束導入手段と;を備え、前記近接場光発生素子は、前記光束を前記一端側から前記他端側に伝播させるコアと、このコアの他端側を露出させた状態で、前記コアを内部に閉じ込めるクラッドとを有し、前記コアの他端は、前記磁気記録媒体に対する垂直方向および前記スライダの長手方向と直交する前記コアの幅方向における両端を前記クラッドで画されるとともに、前記近接場光発生素子の内部を伝播する前記光束の光軸に対して傾斜して且つ前記他端側に向かうにしたがって前記主磁極に接近する傾斜面を前記他端側に有し;前記傾斜面には、前記近接場光の光強度を増加させる金属膜が前記両端を含む一面に亘り形成されている。
上記近接場光ヘッドによれば、近接場光発生素子で発生した近接場光と、記録素子で発生した記録磁界とを協働させたハイブリッド磁気記録方式により、回転する磁気記録媒体に対して情報の記録を行うことができる。
まず、スライダは、磁気記録媒体の表面に対向した状態で配置されている。そして、このスライダの先端面に主磁極及び補助磁極を有する記録素子が固定されている。この際、スライダの先端面側に補助磁極が位置し、この補助磁極に隣接して並ぶように主磁極が配置されている。さらに主磁極に隣接して近接場光発生素子が固定されている。つまり、スライダの先端面には、スライダ側から順に補助磁極、主磁極、近接場光発生素子が配置されている。また、近接場光発生素子は、近接場光が発生する他端側が磁気記録媒体側に向けた状態で固定されている。よって、光束が導入される一端側が、磁気記録媒体から離間した位置に配置されている。そして、この一端側にスライダに固定された光束導入手段が接続されている。
ここで、記録を行う場合には、光束導入手段から光束を近接場光発生素子の一端側から内部に導入させる。すると、導入された光束は、磁気記録媒体側に位置する他端側に向かって内部を伝播する。そして、光束が他端側の近傍まで進むと、光軸に対して傾斜した状態で形成された傾斜面の金属膜に入射する。すると、この金属膜には表面プラズモンが励起される。励起された表面プラズモンは、共鳴効果によって増強されながら金属膜と近接場光発生素子との界面に沿って、即ち傾斜面に沿って他端側に向かって伝播する。そして、他端側に達した時点で、光強度の強い近接場光となって外部に漏れ出す。特に、この傾斜面は、近接場光発生素子に隣接している主磁極に対向した状態で傾斜しているので、他端側に向かうにしたがって主磁極に接近している。従って、傾斜面に沿って進む表面プラズモンも同様に、徐々に主磁極に向かっていくことになる。その結果、主磁極に極めて近い位置で、光強度の強い近接場光を発生させることができる。
すると、磁気記録媒体は、発生した近接場光によって局所的に加熱されて一時的に保磁力が低下する。特に、上述したように主磁極に極めて近い位置で近接場光が発生するので、主磁極の近傍で磁気記録媒体の保磁力を低下させることができる。
一方、上述した光束の導入と同時に、記録素子を作動させて主磁極と補助磁極との間に記録磁界を発生させる。これにより、近接場光によって保磁力が低下した磁気記録媒体の局所的な位置に対してピンポイントで記録磁界を発生させることができる。なお、この記録磁界は、記録する情報に応じて向きが変化する。そして、磁気記録媒体は、記録磁界を受けると、この記録磁界の方向に応じて磁化の方向が垂直方向に変化する。その結果、情報の記録を行うことができる。
つまり、近接場光と記録磁界とを協働させたハイブリッド磁気記録方式により情報の記録を行うことができる。また、垂直磁気記録方式であるので、熱揺らぎの現象を受け難く、書き込みの信頼性が高い安定した記録を行うことができる。しかも、主磁極に極めて近い位置で磁気記録媒体の保磁力を低下させることができるので、記録磁界が局所的に作用する位置に加熱温度のピーク位置を入れることができる。従って、より確実に記録を行うことができると共に、高密度記録化を可能することができる。
また、スライダに固定された光束導入手段によって導入された光束を、磁気記録媒体に向かう他端側に向けて略一直線の光軸に沿って集光させながら伝播させて近接場光を生成できるので、従来のように光軸が斜めになることがなく、また位置調整が困難であったレンズが不要である。従って、近接場光を効率良く生成することができ、磁気記録媒体を効率良く加熱することができる。この点においても、書き込みの信頼性を向上することができる。
また、光束導入手段を利用して光束を導入する上、近接場光発生素子内を伝播させるので、従来のように光束を空中伝播させることがない。よって、導光損失を極力低下させることができる。また、スライダの流出端側でもある先端面に、記録素子及び近接場光発生素子を配置しているので、光束導入手段以外の各構成品がスライダの厚み方向に重なることを極力防止している。従って、コンパクトな設計で薄型化を図ることができる。
また、コアとクラッドとで近接場光発生素子を構成できるので、構成の容易化を図
ることができる。特に、クラッドがコアを内部に閉じ込めているので、一端側から他端側
に向けてコアの内部を伝播している光束は外部に漏れ難い。従って、導入された光束を無
駄にすることなく他端側に伝播させることができ、近接場光を効率よく発生させることが
できる。
(2)前記クラッドに、前記コアを前記主磁極側に露出させる溝部が形成され;前記主磁極が、前記溝部を介して前記コアに接触する突出部を有する;構成を採用してもよい。
この場合、主磁極がクラッドに形成された溝部を介してコアに接触する突出部を有しているので、近接場光をさらに主磁極に近い位置に発生させることができる。そのため、近接場光と記録磁界とをさらに効率良く協働させることができる。その結果、さらなる高密度記録化を図ることができる。
(3)前記クラッドが、前記コアの一端側を外部に露出させた状態で形成されていてもよい。
この場合、クラッドがコアの一端側を外部に露出させた状態で形成されているので、クラッドを介さずに直接コアの内部に光束を導入することができる。そのため、損失をできるだけ抑えた状態で光束を導入することができる。その結果、磁気記録媒体をさらに効率良く加熱することができる。
(4)前記磁気記録媒体から漏れ出た磁界の大きさに応じた電気信号を出力する再生素子をさらに備えてもよい。
この場合、再生素子が、磁気記録媒体から漏れ出た磁界の大きさに応じた電気信号を出力する。そのため、情報の記録だけでなく、再生素子から出力された電気信号に基づいて、磁気記録媒体に記録されている情報の再生を行うことができる。
(5)前記再生素子が、前記スライダと前記記録素子との間に設けられていてもよい。
この場合、スライダと記録素子との間に再生素子が設けられているので、スライダの先端面側から順に再生素子、記録素子、近接場光発生素子が並んだ状態になる。そのため、磁気記録媒体の表面に対向配置されるスライダが、先端面を磁気記録媒体側に向けた状態で斜めになったとしても、記録素子及び近接場光発生素子をできるだけ磁気記録媒体に近づけることができる。従って、磁気記録媒体に対して、近接場光及び記録磁界をより効率良く作用させることができ、高密度な記録を行うことができる。
(6)前記再生素子が、前記近接場光発生素子に埋め込まれていてもよい。
この場合、再生素子が近接場光発生素子に埋め込まれているので、再生素子の厚みを近接場光発生素子で吸収することができる。そのため、磁気記録媒体の表面に対向配置されるスライダが、先端面を磁気記録媒体側に向けた状態で斜めになったとしても、記録素子及び近接場光発生素子をできるだけ磁気記録媒体に近づけることができる。従って、磁気記録媒体に対して、近接場光及び記録磁界をより効率良く作用させることができ、高密度な記録を行うことができる。
(7)また、本発明に係る情報記録再生装置は、上記(1)〜(6)の何れか1項に記載の近接場光ヘッドと;前記磁気記録媒体の前記表面に平行な方向に移動可能とされ、この磁気記録媒体の前記表面に平行で且つ互いに直交する2軸回りに回動自在な状態で、前記近接場光ヘッドを先端側で支持するビームと;前記ビームの基端側を支持すると共に、このビームを前記磁気記録媒体の前記表面に平行な方向に向けて移動させるアクチュエータと;前記磁気記録媒体を前記一定方向に回転させる回転駆動部と;前記記録素子及び前記光束の入射タイミングを制御する制御部と;を備えている。
上記情報記録再生装置によれば、回転駆動部により磁気記録媒体を一定方向に回転させた後、アクチュエータによりビームを移動させて近接場光ヘッドをスキャンさせる。そして、近接場光ヘッドを磁気記録媒体上の所望する位置に配置させる。この際、近接場光ヘッドは、磁気記録媒体の表面に平行で且つ互いに直交する2軸回りに回動自在な状態、即ち、2軸を中心として捻れることができるようにビームに支持されている。よって、磁気記録媒体にうねりが生じたとしても、うねりに起因する風圧変化、又は、直接伝わってくるうねりの変化を捩じりによって吸収でき、近接場光ヘッドの姿勢を安定にすることができる。
その後、制御部によって記録素子を作動させると共に光束を近接場光発生素子内に導入させる。これにより近接場光ヘッドは、近接場光と記録磁界とを協働させて、磁気記録媒体に情報を記録することができる。特に、上述した近接場光ヘッドを備えているので、書き込みの信頼性が高く、高密度記録化に対応することができ、高品質化を図ることができる。また、同時にコンパクト化及び薄型化を図ることができる。
本発明に係る近接場光ヘッドによれば、光束から近接場光を効率良く生成することができ、書き込みの信頼性を向上することができる。しかも、主磁極に極めて近い位置に光強度の強い近接場光を発生させることができるので、高密度記録化を可能することもできる。また、全体サイズのコンパクト化及び薄型化を図ることもできる。
また、本発明に係る情報記録再生装置によれば、上述した近接場光ヘッドを備えているので、書き込みの信頼性が高く、高密度記録化に対応することができ、高品質化を図ることができる。また、同時にコンパクト化及び薄型化を図ることもできる。
図1は、本発明の第1実施形態を示す図であって、情報記録再生装置の構成図である。 図2は、図1に示す近接場光ヘッドの拡大断面図である。 図3は、図2に示す近接場光ヘッドを、ディスク面側から見た図である。 図4は、図2に示す近接場光ヘッドの流出端側の側面を拡大した断面図であり、近接場光発生素子及び記録素子の構成を示すと共に、記録を行っている際の近接場光と磁界との関係を示す。 図5は、図4に示す近接場光発生素子のコアを、矢印A方向から見た図である。 図6は、図5に示すコアの他端側を拡大した図である。 図7は、図4に示す近接場光発生素子の他端側を拡大した断面図である。 図8は、図4に示す近接場光発生素子をディスク側から見た図である。 図9は、本発明に係る第2実施形態を示す図であって、コアに直接接触する主磁極を有する近接場光ヘッドの一部拡大断面図である。 図10は、図9に示す近接場光ヘッドをディスク側から見た図である。 図11は、図9に示す近接場光ヘッドの変形例を示す図であって、コアと主磁極との間にシールド膜が形成された近接場光ヘッドの一部拡大断面図である。 図12は、図11に示す近接場光ヘッドをディスク側から見た図である。 図13は、本発明に係る第3実施形態を示す図であって、傾斜面の一部に金属膜が形成されているコアの他端側周辺を拡大した図である。 図14は、図13に示すコアを有する近接場光ヘッドの一部拡大断面図である。 図15は、図14に示す近接場光ヘッドをディスク側から見た図である。 図16は、本発明に係る第4実施形態を示す図であって、スライダと記録素子との間に再生素子が配置された近接場光ヘッドの流出端側の側面を拡大した断面図である。 図17は、図16に示す近接場光ヘッドが傾いた状態でディスク上を浮上している状態を示す図である。 図18は、本発明に係る第5実施形態を示す図であって、近接場光発生素子のクラッドに再生素子が埋め込まれるように配置された近接場光ヘッドの流出端側の側面を拡大した断面図である。 図19は、本発明に係る第6実施形態を示す図であって、近接場光発生素子のコアの一端側がクラッドで覆われている近接場光ヘッドの流出端側の側面を拡大した断面図である。 図20は、本発明に係る変形例を示す図であって、レーザ光源を利用してコア内に光束を導入する近接場光ヘッドの拡大断面図である。 図21は、本発明に係る変形例を示す図であって、レーザ光源を利用してコア内に略垂直に光束を導入する近接場光ヘッドの拡大断面図である。 図22は、本発明に係る近接場光発生素子のコアの変形例を示す斜視図である。 図23は、図22に示すコアの傾斜面に金属膜が形成された状態を示す図である。 図24は、図23に示すコアを有する近接場光ヘッドの一部拡大断面図である。 図25は、図24に示す近接場光ヘッドをディスク側から見た図である。 図26は、本発明に係る近接場光発生素子のコアの別の変形例を示す斜視図である。 図27は、図26に示すコアの傾斜面に金属膜が形成された状態を示す図である。 図28は、図27に示すコアを有する近接場光ヘッドの一部拡大断面図である。 図29は、図28に示す近接場光ヘッドをディスク側から見た図である。 図30は、本発明に係る近接場光ヘッドの変形例を示す図であって、他端側に端面が形成されたコアを有する近接場光ヘッドの一部拡大断面図である。 図31は、図30に示す近接場光ヘッドをディスク側から見た図である。 図32は、本発明に係る近接場光ヘッドの変形例を示すであって、傾斜面に垂直面が一体的に形成されたコアを有する近接場光ヘッドの一部拡大断面図である。 図33は、図32に示す近接場光ヘッドをディスク側から見た図である。
符号の説明
D ディスク(磁気記録媒体)
D1 ディスク面(磁気記録媒体の表面)
L 光束
L1 レーザ光(光束)
R 近接場光
1 情報記録再生装置
2、50、60、70、80、90、95、97、100、110、120 近接場光ヘッド
3 ビーム
4 光導波路(光束導入手段)
6 アクチュエータ
7 スピンドルモータ(回転駆動部)
8 制御部
20 スライダ
21 記録素子
22、102、112、122 スポットサイズ変換器(近接場光発生素子)
23 再生素子
30 補助磁極
32 主磁極
32a 主磁極の突出部
40、101、111、121 コア
40d 傾斜面
41 クラッド
41b クラッドの溝部
42 金属膜
51 シールド膜
96 レーザ光源(光束導入手段)
(第1実施形態)
以下、本発明に係る第1実施形態を、図1から図8を参照して説明する。なお、本実施形態の情報記録再生装置1は、垂直記録層d2を有するディスク(磁気記録媒体)Dに対して、垂直記録方式で書き込みを行う装置である。また、本実施形態では、ディスクDが回転する際の空気の流れを利用して近接場光ヘッド2を浮かせた空気浮上タイプを例に挙げて説明する。
本実施形態の情報記録再生装置1は、図1に示すように、後述するスポットサイズ変換器(近接場光発生素子)22を有する光近接場光ヘッド2と、ディスク面(磁気記録媒体の表面)D1に平行なXY方向に移動可能とされ、ディスク面D1に平行で且つ互いに直交する2軸(X軸、Y軸)回りに回動自在な状態で近接場光ヘッド2を先端側で支持するビーム3と、光導波路(光束導入手段)4の基端側からこの光導波路4に対して光束Lを入射させる光信号コントローラ(光源)5と、ビーム3の基端側を支持すると共に、このビーム3をディスク面D1に平行なXY方向に向けてスキャン移動させるアクチュエータ6と、ディスクDを一定方向に回転させるスピンドルモータ(回転駆動部)7と、情報に応じて変調した電流を後述するコイル33に対して供給すると共に、光信号コントローラ5の作動を制御して光束Lの入射タイミングを制御する制御部8と、これら構成品を内部に収容するハウジング9とを備えている。
ハウジング9は、アルミニウム等の金属材料により、上面視四角形状に形成されていると共に、内側に各構成品を収容する凹部9aが形成されている。また、このハウジング9には、凹部9aの開口を塞ぐように図示しない蓋が着脱可能に固定されるようになっている。凹部9aの略中心には、上記スピンドルモータ7が取り付けられており、このスピンドルモータ7に中心孔を嵌め込むことでディスクDが着脱自在に固定される。凹部9aの隅角部には、上記アクチュエータ6が取り付けられている。このアクチュエータ6には、軸受10を介してキャリッジ11が取り付けられており、このキャリッジ11の先端にビーム3が取り付けられている。そして、キャリッジ11及びビーム3は、アクチュエータ6の駆動によって共に上記XY方向に移動可能とされている。
なお、キャリッジ11及びビーム3は、ディスクDの回転停止時にアクチュエータ6の駆動によって、ディスクD上から退避するようになっている。また、近接場光ヘッド2とビーム3とで、サスペンション12を構成している。また、光信号コントローラ5は、アクチュエータ6に隣接するように凹部9a内に取り付けられている。そして、このアクチュエータ6に隣接して、上記制御部8が取り付けられている。
上記近接場光ヘッド2は、回転するディスクDを加熱すると共に、ディスクDに対して垂直方向の記録磁界を与えることで磁化反転を生じさせ、情報を記録させるものである。この近接場光ヘッド2は、図2及び図3に示すように、ディスク面D1から所定距離Hだけ浮上した状態でディスクDに対向配置され、ディスク面D1に対向する対向面20aを有するスライダ20と、このスライダ20の先端面(以降、流出端側の側面と表現する)に固定された記録素子21と、この記録素子21に隣接して固定されたスポットサイズ変換器22と、このスポットサイズ変換器22の後述するコア40内に光信号コントローラ5からの光束Lを導入する光導波路4とを備えている。また、本実施形態の近接場光ヘッド2は、スポットサイズ変換器22に隣接して固定された再生素子23を備えている。
上記スライダ20は、石英ガラス等の光透過性材料や、AlTiC(アルチック)等のセラミック等によって直方体状に形成されている。このスライダ20は、対向面20aをディスクD側にした状態で、ジンバル部24を介してビーム3の先端にぶら下がるように支持されている。このジンバル部24は、X軸回り及びY軸回りにのみ変位するように動きが規制された部品である。これによりスライダ20は、上述したようにディスク面D1に平行で且つ互いに直交する2軸(X軸、Y軸)回りに回動自在とされている。
スライダ20の対向面20aには、回転するディスクDによって生じた空気流の粘性から、浮上するための圧力を発生させる凸条部20bが形成されている。本実施形態では、レール状に並ぶように、長手方向に沿って延びた凸条部20bを2つ形成している場合を例にしている。但し、この場合に限定されるものではなく、スライダ20をディスク面D1から離そうとする正圧とスライダ20をディスク面D1に引き付けようとする負圧とを調整して、スライダ20を最適な状態で浮上させるように設計されていれば、どのような凹凸形状でも構わない。なお、この凸条部20bの表面はABS(Air Bearing Surface)と呼ばれる面とされている。
スライダ20は、この2つの凸条部20bによってディスク面D1から浮上する力を受けている。また、ビーム3は、ディスク面D1に垂直なZ方向に撓むようになっており、スライダ20の浮上力を吸収している。つまり、スライダ20は、浮上した際にビーム3によってディスク面D1側に押さえ付けられる力を受けている。よってスライダ20は、この両者の力のバランスによって、上述したようにディスク面D1から所定距離H離間した状態で浮上するようになっている。しかもスライダ20は、ジンバル部24によってX軸回り及びY軸回りに回動するようになっているので、常に姿勢が安定した状態で浮上するようになっている。
なお、ディスクDの回転に伴って生じる空気流は、スライダ20の流入端側(ビーム3の基端側)から流入した後、ABSに沿って流れ、スライダ20の流出端側(ビーム3の先端側)から抜けている。
上記記録素子21は、図4に示すように、スライダ20の流出端側の側面に固定された補助磁極30と、磁気回路31を介して補助磁極30に接続され、ディスクDに対して垂直な記録磁界を補助磁極30との間で発生させる主磁極32と、磁気回路31を中心としてこの磁気回路31の周囲を螺旋状に巻回するコイル33とを備えている。つまり、スライダ20の流出端側から順に、補助磁極30、磁気回路31、コイル33、主磁極32が、スライダ20の長手方向に並ぶように配置されている。
両磁極30、32及び磁気回路31は、高飽和磁束密度(Bs)材料(例えば、CoNiFe合金、CoFe合金等)により形成されている。また、コイル33は、ショートしないように、隣り合うコイル線間、磁気回路31との間、両磁極30、32との間に隙間が空くように配置されており、この状態で絶縁体34によってモールドされている。そして、コイル33は、情報に応じて変調された電流が制御部8から供給されるようになっている。即ち、磁気回路31及びコイル33は、全体として電磁石を構成している。なお、主磁極32及び補助磁極30は、ディスクDに対向する端面がスライダ20のABSと面一となるように設計されている。
上記スポットサイズ変換器22は、図4及び図5に示すように、一端側がスライダ20の上方側に向くと共に、他端側がディスクD側に向いた状態で、記録素子21に隣接して固定されている。より具体的には、主磁極32に隣接して固定されている。なお、図5は、後述するコア40を図4に示す矢印A方向から見た図である。
このスポットサイズ変換器22は、一端側から導入された光束Lから近接場光Rを生成すると共に、生成した近接場光Rを他端側から外部に発する素子であって、図4から図8に示すように、多面体のコア40と、このコア40を内部に閉じ込めるクラッド41とから構成されており、全体として略板状に形成されている。
なお、図6は図5に示すコア40の他端側周辺の拡大図であり、図7は図4で示すスポットサイズ変換器22の他端側周辺の拡大図であり、図8は図4に示すスポットサイズ変換器22をディスクD側から見た図である。
上記コア40は、一端側から導入された光束Lを他端側に向けて伝播させて近接場光Rを生成すると共に、この近接場光Rを他端側から外部に発するものである。なお、本実施形態では、一端側から他端側に向けて全体的に漸次絞り成形されているコアを例に挙げて説明する。即ち、本実施形態のコア40は、反射面40aと、光束集光部40bと、近接場光生成部40cとにより一体的に形成されており、一端側から他端側に向けて全体的に漸次絞り成形されている。なお、光束集光部40bは、3つの側面を有するように形成されており、そのうちの1つの側面が主磁極32に対向するように配置されるようになっている。
反射面40aは、一端側から光導波路4によって導入された光束Lを導入方向とは異なる方向に反射させている。本実施形態では、光束Lの向きが略90度変わるように反射させている。また、光束集光部40bは、一端側から他端側に向かう方向に漸次絞り成形された部分であり、反射面40aによって反射された光束Lを集光させながら他端側に向けて伝播させている。つまり光束集光部40bは、導入された光束Lのスポットサイズを小さいサイズに絞ることができるようになっている。
近接場光生成部40cは、光束集光部40bの端部から他端側に向けてさらに絞り成形された部分である。具体的には、他端側の近傍において、内部を伝播する光束Lの光軸に対して傾斜した状態で主磁極32に対向するように形成された傾斜面40dによって絞り成形されている。この傾斜面40dによって、コア40は他端側が尖形した状態となっている。そのため、図8に示すように、コア40の他端側は、主磁極32に接するクラッド41に沿ってライン状に露出する。
しかも、この傾斜面40dには、近接場光Rの光強度を増強させる金属膜42が一面に亘って形成されている。このような金属膜42としては、例えば、金膜、銀膜やプラチナ膜等である。特に金膜は、酸化に強く耐久性に優れているので好ましい。
上記クラッド41は、図4及び図5に示すように、コア40よりも屈折率が低い材料で形成されており、コア40の他端側を少なくとも外部に露出させた状態でコア40に密着して、コア40を内部に閉じ込めている。よって、コア40とクラッド41との間に隙間が生じないようになっている。また、本実施形態のクラッド41は、コア40の一端側において溝部41aが形成されており、コア40の一端側の一部を外部に露出させるように設計されている。
なお、クラッド41及びコア40として使用される材料の組み合わせの一例を記載すると、例えば、石英(SiO2)でコア40を形成し、フッ素をドープした石英でクラッド41を形成する組み合わせが考えられる。この場合には、光束Lの波長が400nmのときに、コア40の屈折率が1.47となり、クラッド41の屈折率が1.47未満となるので好ましい組み合わせである。また、ゲルマニウムをドープした石英でコア40を形成し、石英(SiO2)でクラッド41を形成する組み合わせも考えられる。この場合には、光束Lの波長が400nmのときに、コア40の屈折率が1.47より大きくなり、クラッド41の屈折率が1.47となるのでやはり好ましい組み合わせである。
特に、コア40とクラッド41との屈折率差が大きいほど、コア40内に光束Lを閉じ込める力が大きくなるので、コア40に酸化タンタル(Ta25:波長が550nmのときに屈折率が2.16)を用い、クラッド41に石英等を用いて、両者の屈折率差を大きくすることがより好ましい。また、赤外領域の光束Lを利用する場合には、赤外光に対して透明な材料であるシリコン(Si:屈折率が約4)でコア40を形成することも有効である。
上記光導波路4は、図4及び図5に示すように、コア40とクラッド41とからなる2軸の導波路であり、コア40内を光束Lが伝播するようになっている。この光導波路4は、クラッド41に形成された溝部41a及びスライダ20の上面に形成された図示しない溝部内に嵌った状態で固定されている。これにより、光導波路4は、スライダ20に対して平行に配置された状態となっている。
また、光導波路4の先端は、スポットサイズ変換器22の一端側に接続されており、光束Lをコア40内に導入している。また、光導波路4の基端側は、ビーム3及びキャリッジ11等を介して光信号コントローラ5に引き出された後、この光信号コントローラ5に接続されている。
なお、図5に示すように、光導波路4からコア40内に導入された光束Lが反射面40aの略中心に入射するように、スポットサイズ変換器22及び光導波路4の位置関係が調整されている。
また、上記再生素子23は、ディスクDの垂直記録層d2から漏れ出ている磁界の大きさに応じて電気抵抗が変換する磁気抵抗効果膜である。この再生素子23には、図示しないリード膜等を介して制御部8からバイアス電流が供給されている。これにより制御部8は、ディスクDから漏れ出た磁界の変化を電圧の変化として検出することでき、この電圧の変化から信号の再生を行うことができるようになっている。
なお、本実施形態のディスクDは、少なくとも、ディスク面D1に垂直な方向に磁化容易軸を有する垂直記録層d2と、高透磁率材料からなる軟磁性層d3との2層で構成される垂直2層膜ディスクを使用する。このようなディスクDとしては、例えば、図2に示すように、基板d1上に、軟磁性層d3と、中間層d4と、垂直記録層d2と、保護層d5と、潤滑層d6とを順に成膜したものを使用する。
基板d1としては、例えば、アルミ基板やガラス基板等である。軟磁性層d3は、高透磁率層である。中間層d4は、垂直記録層d2の結晶制御層である。垂直記録層d2は、垂直異方性磁性層となっており、例えばCoCrPt系合金が使用される。保護層d5は、垂直記録層d2を保護するためのもので、例えばDLC(ダイヤモンド・ライク・カーボン)膜が使用される。潤滑層d6は、例えば、フッ素系の液体潤滑材が使用される。
次に、このように構成された情報記録再生装置1により、ディスクDに各種の情報を記録再生する場合について以下に説明する。
まず、スピンドルモータ7を駆動させてディスクDを一定方向に回転させる。次いで、アクチュエータ6を作動させて、キャリッジ11を介してビーム3をXY方向にスキャンさせる。これにより、図1に示すように、ディスクD上の所望する位置に近接場光ヘッド2を位置させることができる。この際、近接場光ヘッド2は、スライダ20の対向面20aに形成された2つの凸条部20bによって浮上する力を受けると共に、ビーム3等によってディスクD側に所定の力で押さえ付けられる。近接場光ヘッド2は、この両者の力のバランスによって、図2に示すようにディスクD上から所定距離H離間した位置に浮上する。
また、近接場光ヘッド2は、ディスクDのうねりに起因して発生する風圧を受けたとしても、ビーム3によってZ方向の変位が吸収されると共に、ジンバル部24によってXY軸回りに変位することができるようになっているので、うねりに起因する風圧を吸収することができる。そのため、近接場光ヘッド2を安定した状態で浮上させることができる。
ここで、情報の記録を行う場合、制御部8は光信号コントローラ5を作動させると共に、情報に応じて変調した電流をコイル33に供給する。
まず、光信号コントローラ5は、制御部8からの指示を受けて光束Lを光導波路4の基端側から入射させる。入射した光束Lは、光導波路4のコア40内を先端側に向かって進み、図4に示すように、スポットサイズ変換器22の一端側からコア40内に導入される。この際光束Lは、スライダ20に対して平行な方向でコア40内に導入される。すると、導入された光束Lは、反射面40aで反射されて向きが略90度変わる。そして、向きが変わった光束Lは、ディスクD側に位置する他端側に向かって光束集光部40bで集光されながら伝播して近接場光生成部40cに入射する。
この際、光束集光部40bは、一端側から他端側に向かって漸次絞り成形されている。そのため、光束Lはこの光束集光部40bを通過する際に、側面で反射を繰り返しながら徐々に集光されてコア40の内部を伝播していく。特に、コア40の側面にはクラッド41が密着しているので、コア40の外部に光が漏れることなく、導入された光束Lを無駄にすることなく絞りながら他端側に伝播させることができる。また、光束Lは、伝播するにしたがって徐々に絞り込まれてスポットサイズが小さくなる。
スポットサイズが小さくなった光束Lは、続いて、近接場光生成部40cに入射する。すると、光束Lは、光軸に対して傾斜した状態で形成された傾斜面40dの金属膜42に入射する。これにより、金属膜42には表面プラズモンが励起される。励起された表面プラズモンは、共鳴効果によって増強されながら金属膜42とコア40(詳細には近接場光生成部40c)との界面に沿いながら、即ち、傾斜面40dに沿いながら、コア40の他端側に向かって伝播する。そして、他端側に達した時点で、光強度の強い近接場光Rとなって外部に漏れ出す。
特に、この傾斜面40dは、スポットサイズ変換器22に隣接している主磁極32に対向した状態で傾斜しているので、コア40の他端側に向かうにしたがって主磁極32に接近している。従って、傾斜面40dに沿って進む表面プラズモンも同様に、徐々に主磁極32に向かっていくことになる。その結果、図8に示すように、主磁極32に極めて近い位置で、光強度の強い近接場光Rを、金属膜42と近接場光生成部40cとの界面に局在化させた状態で発生させることができる。この近接場光Rによって、ディスクDは局所的に加熱されて一時的に保磁力が低下する。特に、上述したように主磁極32に極めて近い位置で近接場光Rが発生するので、主磁極32の近傍でディスクDの保磁力を低下させることができる。
一方、上述した光束Lの導入と同時に、制御部8によってコイル33に電流が供給されると、電磁石の原理により電流磁界が磁気回路31内に磁界を発生させるので、主磁極32と補助磁極30との間にディスクDに対して垂直方向の記録磁界を発生させることができる。すると、主磁極32側から発生した磁束が、図4に示すように、ディスクDの垂直記録層d2を真直ぐ通り抜けて軟磁性層d3に達する。これによって、垂直記録層d2の磁化をディスク面D1に対して垂直に向けた状態で記録を行うことができる。また、軟磁性層d3に達した磁束は、この軟磁性層d3を経由して補助磁極30に戻る。この際、補助磁極30に戻るときには磁化の方向に影響を与えることはない。これは、ディスク面D1に対向する補助磁極30の面積が、主磁極32よりも大きいので磁束密度が大きく磁化を反転させるほどの力が生じないためである。つまり、主磁極32側でのみ記録を行うことができる。
その結果、近接場光Rと両磁極30、32で発生した記録磁界とを協働させたハイブリッド磁気記録方式により情報の記録を行うことができる。しかも垂直記録方式で記録を行うので、熱揺らぎ現象等の影響を受け難く、安定した記録を行うことができる。よって、書き込みの信頼性を高めることができる。
特に、主磁極32に極めて近い位置でディスクDの保磁力を低下させることができるので、記録磁界が局所的に作用する位置に加熱温度のピーク位置を入れることができる。従って、確実に記録を行うことができ、信頼性の向上化を図ることができると共に高密度記録化を図ることができる。
次に、ディスクDに記録された情報を再生する場合には、スポットサイズ変換器22に隣接して固定されている再生素子23が、ディスクDの垂直記録層d2から漏れ出ている磁界を受けて、その大きさに応じて電気抵抗が変化する。よって、再生素子23の電圧が変化する。これにより制御部8は、ディスクDから漏れ出た磁界の変化を電圧の変化として検出することができる。そして制御部8は、この電圧の変化から信号の再生を行うことで、情報の再生を行うことができる。
上述したように、本実施形態の近接場光ヘッド2によれば、光束Lを効率良く集光させて近接場光Rを生成することができ、書き込みの信頼性を向上することができる。しかも、主磁極32に極めて近い位置に光強度の強い近接場光Rを発生させることができるので、高密度記録化を図ることができる。
また、スライダ20に平行に配置された光導波路4によって導入された光束Lを、ディスクDに向かう他端側に向けて略一直線の光軸に沿って集光させながら伝播させて近接場光Rを生成できるので、従来のように光軸が斜めになることがなく、また位置調整が困難であったレンズ等が不要である。従って、光束Lを効率良く集光して近接場光Rを生成することができ、ディスクDを効率良く加熱することができる。この点においても、書き込みの信頼性を考慮することができる。
また、光導波路4を利用して光束Lを導入する上、コア40内を伝播させるので、従来のように光束Lを空中伝播させることがない。よって、導光損失を極力低下させることができる。また、スライダ20の流出端側の側面に、順に記録素子21、スポットサイズ変換器22及び再生素子23を配置しているので、光導波路4以外の各構成品がスライダ20の厚み方向に重なることを防止している。従って、近接場光ヘッド2をコンパクトに設計でき、薄型化を図ることができる。更に、本実施形態の近接場光ヘッド2は、クラッド41に溝部41aが形成されているため、この溝部41aを利用してクラッド41を介さずに直接コア40の内部に光束Lを導入することができる。そのため、損失をできるだけ抑えた状態で光束Lを導入することができる。この点においても、ディスクDを効率良く加熱することができる。
また、本実施形態の情報記録再生装置1によれば、上述した近接場光ヘッド2を備えているので、書き込みの信頼性が高く、高密度記録化に対応することができ、高品質化を図ることができる。また、同時に薄型化を図ることができる。
なお、本実施形態の近接場光ヘッド2を製造する場合には、フォトリソグラフィ技術及びエッチング加工技術等の半導体技術を利用して製造を行うことができる。つまり、スポットサイズ変換器22を有している場合であっても、特別な手法を用いずに、従来の製造プロセスの流れの中でスポットサイズ変換器22も同時に作りこむことができる。
具体的に説明すると、スライダ20を所定の外形形状に加工した後、このスライダ20の流出端側の側面に上記半導体技術を利用して記録素子21を作りこむ。次いで、この記録素子21上に同様に半導体技術を利用して、スポットサイズ変換器22を作りこむ。そして最後に、スポットサイズ変換器22上に再生素子23を作りこめば良い。このように、スライダ20側から順々に各構成品を作りこむ途中で、スポットサイズ変換器22の製造工程を一工程追加するだけで、容易に近接場光ヘッド2を製造することができる。
また、スポットサイズ変換器22を製造する際には、まず、主磁極32上にクラッド41を成膜する。この際、後に光導波路4を一端側に接続させるために、クラッド41に溝部41aが形成されるようにパターニングする。次いで、このクラッド41上にコア40を凸状に成膜した後、適宜エッチングを行って反射面40a、光束集光部40b、傾斜面40dを有する近接場光生成部40cをそれぞれ形成する。次いで、傾斜面40d上に金属膜42を形成する。次いで、コア40を内部に閉じ込めるように再度クラッド41を成膜する。そして、最後にクラッド41の外形形状が所定の形になるように加工する。このように半導体技術を利用して、容易にスポットサイズ変換器22を製造することができる。
(第2実施形態)
次に、本発明に係る第2実施形態を、図9から図12を参照して説明する。なお、この第2実施形態においては、第1実施形態における構成要素と同一の部分については、同一の符号を付しその説明を省略する。
第2実施形態と第1実施形態との異なる点は、第1実施形態では、スポットサイズ変換器22のコア40と主磁極32とがクラッド41を間に挟んで配置されていたが、第2実施形態の近接場光ヘッド50は、コア40と主磁極32とが直接接触している点である。
即ち、本実施形態のスポットサイズ変換器22のクラッド41には、図9及び図10に示すように、コア40を主磁極32側に露出させる溝部41bが形成されている。また主磁極32は、この溝部41bに入り込んでコア40に直接接触する突出部32aを有している。そのため、本実施形態の近接場光ヘッド50によれば、近接場光Rをさらに主磁極32に近い位置に発生させることができる。よって、近接場光Rと記録磁界とをさらに効率良く協働させることができる。その結果、さらなる高密度記録化を図ることができる。
(参考形態)
なお、上述した場合において、図11及び図12に示すように、突出部32aとコア40との間に、電気的又は磁気的な繋がりのうち少なくともいずれか一方の繋がりを遮断する薄い(例えば、膜厚が数nm〜数十nm)シールド膜51を両者に密着した状態で形成しても構わない。
こうすることで、傾斜面40dに金属膜42が形成されたコア40側と主磁極32側とを、電気的或いは磁気的に絶縁させることができる。特に、コア40は他端側が尖形となるように形成されているので、シールド膜51がない場合には金属膜42と主磁極32の突出部32aとが線接触した状態となってしまう。しかしながら、両者の間にシールド膜51が形成されているので、金属膜42と主磁極32とが直接接触してしまうことを防止することができる。よって、外乱の影響を受けることなく近接場光Rと記録磁界とを設計通りに協働させることができ、ハイブリッド磁気記録方式により安定した記録を行うことができる。
(第3実施形態)
次に、本発明に係る第3実施形態を、図13から図15を参照して説明する。なお、この第3実施形態においては、第2実施形態における構成要素と同一の部分については、同一の符号を付しその説明を省略する。
第3実施形態と第2実施形態との異なる点は、第2実施形態では、金属膜42が傾斜面40dの全面に亘って形成されていたが、第3実施形態の近接場光ヘッド60は、金属膜42が傾斜面40dの一部だけに形成されている点である。
即ち、本実施形態の近接場光ヘッド60の金属膜42は、図13から図15に示すように、傾斜面40dの全面ではなく、他端側に向かって均等な幅L1となるように略矩形状にパターニングされた状態で、傾斜面40dの一部に形成されている。そのため、金属膜42の幅L1は、外部に露出するコア40の他端側の長さL2よりも短い長さとされている。このように金属膜42を形成した場合には、この金属膜42と近接場光生成部40cとの界面に近接場光Rが局在化した状態で発生するので、図15に示すように、近接場光Rの幅は金属膜42の幅L1に略等しくなる。そのため、近接場光Rの幅を第2実施形態の場合と比べて、短くすることができる。
従って、ディスクDのトラック間隔を狭めたとしても、隣接するトラックに影響を与えずに加熱することができる。よって、トラック密度を上げることができ、ならなる高密度記録化を図ることができる。しかも、コア40の物理的な設計ではなく、金属膜42のパターニングで近接場光Rの幅をコントロールできるので、高密度記録化に比較的簡単に対応することができる。
更に、近接場光Rの幅を狭くすることができるので、近接場光Rをより狭い箇所に集中して局在化させることができる。そのため、より強い強度の近接場光Rを発生させることができる。
(第4実施形態)
次に、本発明に係る第4実施形態を、図16及び図17を参照して説明する。なお、この第4実施形態においては、第1実施形態における構成要素と同一の部分については、同一の符号を付しその説明を省略する。
第4実施形態と第1実施形態との異なる点は、第1実施形態では、スライダ20の流出端側の側面から順に、記録素子21、スポットサイズ変換器22、再生素子23が固定されていたが、第4実施形態の近接場光ヘッド70は、スライダ20の流出端側の側面から順に、再生素子23、記録素子21、スポットサイズ変換器22が固定されている点である。
即ち、本実施形態の近接場光ヘッド70の再生素子23は、図16に示すように、スライダ20の流入端側の側面と記録素子21との間に設けられている。そのため、スポットサイズ変換器22及び記録素子21は、第1実施形態の場合と比較して、再生素子23の厚み分だけスライダ20の流出端側に移動した状態となっている。
ここで、浮上時のスライダ20の姿勢についてより詳細に説明すると、図17に示すように、スライダ20はディスク面D1に対して水平ではなく、僅かに傾いている。具体的には、流出端側がディスクDに接近した状態で、ディスク面D1とスライダ20のABSとのなす角度θが微小角度(例えば、1°〜5°程度)を保つように傾いている。そのため、スライダ20の流出端から流入端に向かうにつれて、ディスク面D1との距離Hが徐々に離間してしまう。つまり、スライダ20の流出端側が、最もディスク面D1に接近した状態となっている。
従って、本実施形態の近接場光ヘッド70によれば、スポットサイズ変換器22及び記録素子21がスライダ20の流出端側により近づいているので、第1実施形態の場合と比較してスポットサイズ変換器22及び記録素子21をディスク面D1により近づけることができる。そのため、より効率良くディスクDに対してスポット光R及び記録磁界を作用させることができ、より高密度な記録を行うことができる。なお、その他の作用効果は、第1実施形態と同様である。
(第5実施形態)
次に、本発明に係る第5実施形態を、図18を参照して説明する。なお、この第5実施形態においては、第1実施形態における構成要素と同一の部分については、同一の符号を付しその説明を省略する。
第5実施形態と第1実施形態との異なる点は、第1実施形態では、スライダ20の流出端側の側面から順に、記録素子21、スポットサイズ変換器22、再生素子23が固定されていたが、第5実施形態の近接場光ヘッド80は、再生素子23がスポットサイズ変換器22のクラッド41に埋め込まれた状態で設けられている点である。
即ち、本実施形態の近接場光ヘッド80の再生素子23は、図18に示すように、コア40を内部に閉じ込めているクラッド41の一部に埋め込まれている。そのため、再生素子23の厚みをクラッド41で吸収することができ、第4実施形態と同様に、スポットサイズ変換器22及び記録素子21をスライダ20の流出端側により近づけることができる。従って、スライダ20が傾いて浮上したときに、第1実施形態の場合と比較してスポットサイズ変換器22及び記録素子21をディスク面D1により近づけることができる。そのため、より効率良くディスクDに対してスポット光R及び記録磁界を作用させることができ、より高密度な記録を行うことができる。なお、その他の作用効果は、第1実施形態と同様である。
(第6実施形態)
次に、本発明に係る第6実施形態を、図19を参照して説明する。なお、この第6実施形態においては、第1実施形態における構成要素と同一の部分については、同一の符号を付し、その説明を省略する。
第6実施形態と第1実施形態との異なる点は、第1実施形態では、コア40の一端側がクラッド41に形成された溝部41aを介して外部に露出されていたが、第6実施形態の近接場光ヘッド90は、コア40の一端側がクラッド41で覆われている点である。
即ち、本実施形態の近接場光ヘッド90のスポットサイズ変換器22は、図19に示すように、コア40の一端側がクラッド41で覆われている。よって、光導波路4のコア40内を進んできた光束Lは、クラッド41を通過した後、スポットサイズ変換器22のコア40内に導入されるようになっている。本実施形態の場合であっても、第1実施形態と同様の作用効果を奏することができる。それに加え、本実施形態のスポットサイズ変換器22を製造する場合には、第1実施形態の場合と異なり、コア40の一端側が露出するようにクラッド41をパターニングする必要がない。そのため、製造し易く、より短時間で効率良く製造することができる利点を有している。
なお、本発明の技術範囲は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば、上記各実施形態では、近接場光ヘッドを浮上させた空気浮上タイプの情報記録再生装置1を例に挙げて説明したが、この場合に限られず、ディスク面D1に対向配置されていればディスクDとスライダ20とが接触していても構わない。つまり、本発明に係る近接場光ヘッドは、コンタクトスライダタイプのヘッドであっても構わない。この場合であっても、同様の作用効果を奏することができる。
また、上記各実施形態では、光束導入手段を光導波路4とし、光信号コントローラ5から発せられた光束Lを光導波路4で導いてコア40に入射させた場合を例に挙げて説明したが、この場合に限定されず、光束導入手段をレーザ光源とし、レーザ光(光束)を直接コア40内に導入するように構成しても構わない。
この場合の近接場光ヘッドの一例を、図20を参照して説明する。なお、第1実施形態における構成要素と同一の部分については、同一の符号を付しその説明を省略する。
図20に示すように、この近接場光ヘッド95は、光導波路4に代わってスライダ20の上面に固定されたレーザ光源96を備えている。この際、レーザ光源96は、スライダ20に対して平行に配置されており、コア40の傾斜面40aに向けてレーザ光L1を照射するようになっている。
このように構成された近接場光ヘッド95であっても、第1実施形態と同様の作用効果を奏することができる。なお、このように構成した場合には、レーザ光源96が直接レーザ光L1をコア40内に導入できるので、第1実施形態では必要であった光信号コントローラ5が不要である。従って、部品点数を少なくすることができ、構成の簡略化に繋げることができる。また、この場合には、制御部8がレーザ光源96の作動を制御してレーザ光L1の入射タイミングを制御するように設計すれば良い。
更に、レーザ光源96を利用する場合には、スライダ20の上面に固定する構成に限定されるものではなく、例えば、図21に示す近接場光ヘッド97のように、スポットサイズ変換器22の上部にレーザ光源96を配置して、スポットサイズ変換器22及び記録素子21を介してスライダ20に固定されるように構成しても構わない。
この場合のレーザ光源96は、垂直に配置されるので真上からレーザ光L1を略垂直に照射して、コア40内に導入するようになっている。また、この場合には、反射面40aが不要であるので、光束集光部40bと近接場光生成部40cとでコア40を構成すれば良い。
このように構成された近接場光ヘッド97であっても、第1実施形態と同様の作用効果を奏することができる。なお、第2実施形態から第6実施形態において、上述したようにレーザ光源96を利用した構成としても構わない。
また、上記各実施形態では、光束集光部40bが3つの側面で形成された三角柱状のコア40を有するスポットサイズ変換器22を例に挙げて説明したが、この形状に限定されるものではない。つまり、コア40の形状としては、一端側から導入された光束を他端側に向けて伝播できればどのような形状であっても構わない。
例えば、図22に示すように、略四角柱状に形成されたコア101でスポットサイズ変換器を構成しても構わない。このように構成されたコア101からなるスポットサイズ変換器(近接場光発生素子)102を有する近接場光ヘッド100を、図23から図25に示す。なお、第2実施形態のように、主磁極32の突出部32aとコア101とが直接接触する場合を例に挙げて図示している。このように構成された近接場光ヘッド100であっても、第2実施形態と同様の作用効果を奏することができる。
なお、図26に示すようにコア111を構成しても構わない。このコア111は、反射面40aが形成された一端側から傾斜面40dが形成された他端側に向かって漸次絞り成形されているのではなく、光束集光部40bがストレート状に形成されている。
このように構成されたコア111であっても、導入された光束Lを一端側から他端側に向かって伝播させることができ、他端側から光強度の強い近接場光Rを発生させることができる。
ここで、このコア111からなるスポットサイズ変換器112を有する近接場光ヘッド110を、図27から図29に示す。なお、第2実施形態のように、主磁極32の突出部32aとコア111とが直接接触する場合を例に挙げて図示している。
このように構成された近接場光ヘッド110であっても、第2実施形態と同様の作用効果を奏することができる。つまり、光束集光部40bがストレート状に形成され、全体として一端側から他端側に向かって漸次絞り成形されていないコア111であっても、本発明の目的を達成することができる。
また、上記各実施形態では、他端側が尖形となったコアを例に挙げて説明したが、図30及び図31に示すように、傾斜面40dの角度を調整して、他端側に端面40eが露出するように形成されたコア121でも構わない。このように構成されたコア121からなるスポットサイズ変換器(近接場光発生素子)122を有する近接場光ヘッド120であっても、同様の作用効果を奏することができる。
また、上記各実施形態では、傾斜面40dをコア40の他端側まで延在させたが、図32及び図33に示すように、ディスク面D1に略垂直な垂直面40fを傾斜面40dに一体的に形成しても構わない。なお、図32及び図33では、主磁極32の突出部32aとコア40とが直接接触する第2実施形態を例に挙げて図示している。
このように傾斜面40dに垂直面40fを一体的に形成することで、コア40は他端側が略ストレート状に形成され、且つ、端面40eが露出した状態となる。この場合においても、端面40eの幅だけ金属膜42が主磁極32の突出部32aから若干離れてしまうが、突出部32aの近傍に近接場光Rを発生させることができ、同様の作用効果を奏することができる。
特に、この場合には、スポットサイズ変換器22を製造する際に、端面40e側(図32において下面)を研磨加工したとしても、コア40の他端側が略ストレート状となっているので同一形状を保ったまま(コア40の他端側の開き具合を一定にしたまま)研磨加工を行える。従って、品質を保ったまま容易且つ簡便な加工を行うことができる。
また、上記各実施形態では、コアとクラッドとでスポットサイズ変換器を構成したが、光束を一端側から他端側に向けて伝播させて近接場光を生成し、この近接場光を他端側から外部に発することができれば、コア及びクラッド以外で構成しても構わない。
また、コアとクラッドとでスポットサイズ変換器を構成する際に、このスポットサイズ変換器を中空状に設計しても構わない。この場合には、中空となった空気部分がコアとして機能し、その周囲を囲んでいる部分がクラッドとして機能する。この場合であっても、光束の伝播と近接場光の生成とを行うことができ、同様の作用効果を奏することができる。また、この場合には、クラッドの一部を傾斜させて傾斜面とすれば良い。

Claims (7)

  1. 導入された光束から近接場光を発生させて、一定方向に回転する磁気記録媒体を加熱すると共に、この磁気記録媒体に対して垂直方向の記録磁界を与えることで磁化反転を生じさせ、情報を記録させる近接場光ヘッドであって、
    前記磁気記録媒体の表面に対向配置されたスライダと;
    前記記録磁界を発生させる主磁極及び補助磁極を有し、前記スライダの先端面側に前記補助磁極が位置した状態で前記主磁極及び前記補助磁極が前記スライダの長手方向に並ぶように前記スライダの先端面に固定された記録素子と;
    他端側を前記磁気記録媒体側に向けた状態で前記主磁極に隣接して固定され、一端側から導入された前記光束を前記他端側に向けて伝播させて前記近接場光を生成すると共に、この近接場光を前記他端側から外部に発する近接場光発生素子と;
    前記スライダに固定され、前記一端側から前記近接場光発生素子内に前記光束を導入させる光束導入手段と;
    を備え、
    前記近接場光発生素子は、前記光束を前記一端側から前記他端側に伝播させるコアと、このコアの他端側を露出させた状態で、前記コアを内部に閉じ込めるクラッドとを有し、前記コアの他端は、前記磁気記録媒体に対する垂直方向および前記スライダの長手方向と直交する前記コアの幅方向における両端を前記クラッドで画されるとともに、前記近接場光発生素子の内部を伝播する前記光束の光軸に対して傾斜して且つ前記他端側に向かうにしたがって前記主磁極に接近する傾斜面を前記他端側に有し;
    前記傾斜面には、前記近接場光の光強度を増加させる金属膜が前記両端を含む一面に亘り形成されている;
    ことを特徴とする近接場光ヘッド。
  2. 請求項1に記載の近接場光ヘッドであって、
    前記クラッドには、前記コアを前記主磁極側に露出させる溝部が形成され;
    前記主磁極は、前記溝部を介して前記コアに接触する突出部を有する。
  3. 請求項1に記載の近接場光ヘッドであって、
    前記クラッドは、前記コアの一端側を外部に露出させた状態で形成されている。
  4. 請求項1に記載の近接場光ヘッドであって、
    前記磁気記録媒体から漏れ出た磁界の大きさに応じた電気信号を出力する再生素子をさらに備える。
  5. 請求項4に記載の近接場光ヘッドであって、
    前記再生素子は、前記スライダと前記記録素子との間に設けられている。
  6. 請求項4に記載の近接場光ヘッドであって、
    前記再生素子は、前記近接場光発生素子に埋め込まれている。
  7. 請求項1から6のいずれか1項に記載の近接場光ヘッドと;
    前記磁気記録媒体の前記表面に平行な方向に移動可能とされ、この磁気記録媒体の前記表面に平行で且つ互いに直交する2軸回りに回動自在な状態で、前記近接場光ヘッドを先端側で支持するビームと;
    前記ビームの基端側を支持すると共に、このビームを前記磁気記録媒体の前記表面に平行な方向に向けて移動させるアクチュエータと;
    前記磁気記録媒体を前記一定方向に回転させる回転駆動部と;
    前記記録素子及び前記光束の入射タイミングを制御する制御部と;
    を備えていることを特徴とする情報記録再生装置。
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