JP2003267942A - 芳香族ニトリルおよび複素環ニトリルの製造方法 - Google Patents
芳香族ニトリルおよび複素環ニトリルの製造方法Info
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Abstract
応によりアンモ酸化させ、対応する芳香族ニトリルまた
は複素環ニトリルを製造するに際し、固定床の多管式反
応器で実用的な高強度を有し、且つ、目的生成物を高収
率で得る触媒を提案する。 【解決手段】炭素環化合物または複素環化合物と、アン
モニアおよび酸素を含む混合ガスを触媒上で接触反応さ
せて対応するニトリル化合物を製造するに際し、クロム
化合物をアルコール類、糖類、有機オキシ化合物および
水溶性アルデヒド類から選ばれる少なくとも一種のクロ
ム処理剤を用いて処理したものと、V、MoおよびFe
から選ばれた一種以上の金属の酸化物、およびアルミナ
またはチタニアを混合して調製した高強度触媒を用いる
ことを特徴とする芳香族ニトリルまたは複素環ニトリル
の製造方法。
Description
複素環化合物をアンモニアおよび酸素を含む混合ガスと
反応させ、芳香族ニトリルまたは複素環ニトリルを製造
する方法に関する。芳香族ニトリルは、合成樹脂、農薬
等の製造原料およびアミン、イソシアネート等の中間原
料として有用である。一方、複素環ニトリルは、医薬
品、飼料添加剤、食品添加剤等の中間原料として用いら
れる。
でアンモニアと酸素を反応させるアンモ酸化反応は、い
ずれも大量の反応熱が発生するために反応温度の制御が
著しく困難であり、その解決策として流動層形式の反応
器が有効とされる。触媒にはシリカを坦体に用いる特公
昭49−45860号は特公昭45−19284号を改
良したものであり、優れた性能を示す。また、特公昭5
1−15028号、特開平1−275551号、特開平
5−170724号も同じく流動層反応器を用いて好ま
しい結果が得られる。しかしながら、これらの触媒は何
れも流動状態における触媒摩耗と微粉化が免れず、安定
した反応を継続することが難しい。一方、固定床形式で
は多管式の反応器が用いられ、一般には、アルミナやチ
タニアに有効成分を担持した金属酸化物触媒が使用され
る。これら触媒は、対応するニトリル化合物を高収率で
得ることと同時に、触媒充填の際や反応条件下において
触媒粉化による反応器内の変流を防止するために、実用
上、耐えうる強度を有することが重要とされる。
00℃以上で焼結によって強固な担体を形成し、その上
に有効金属酸化物を担持することができるが、有効金属
酸化物を多く必要とする触媒系では、担体と有効金属酸
化物の間に、外的衝撃や熱応力によって、剥離やひび割
れ等の欠陥が生じ、粉化することから充分な強度を得る
ことが難しい。担体と有効金属酸化物の結合力を上げる
ために、担体と有効金属酸化物を粉末の段階で混合し、
更に化学的な結合力を有する、例えばアルミナやジルコ
ニア等の成型助剤を添加することも有効な手段ではある
が、この場合も強度が向上する一方で、それら酸化物の
化学的な活性点で分解反応が促進され、目的のニトリル
生成物を高収率で得ることができない。
環化合物または複素環化合物を気相接触反応によりアン
モ酸化させ、対応する芳香族ニトリルまたは複素環ニト
リルを製造するに際し、固定床の多管式反応器で実用的
な高強度を有し、且つ、目的生成物を高収率で得る触媒
を提案することである。
達成するために鋭意検討した結果、クロム化合物を特定
のクロム処理剤を用いて処理したものを、バナジウム、
モリブデンまたは鉄を含む金属酸化物と、アルミナまた
はチタニアに混合することにより、実用的に耐えうる強
度を有し、且つ、目的生成物が高収率で得られる触媒が
できることを見出し、本発明を完成するに至った。すな
わち本発明は、炭素環化合物または複素環化合物と、ア
ンモニアおよび酸素を含む混合ガスを触媒上で接触反応
させて対応するニトリル化合物を製造するに際し、クロ
ム化合物をアルコール類、糖類、有機オキシ化合物およ
び水溶性アルデヒド類から選ばれる少なくとも一種のク
ロム処理剤を用いて処理したものと、V、MoおよびF
eから選ばれた一種以上の金属の酸化物、およびアルミ
ナまたはチタニアを混合して調製した高強度触媒を用い
ることを特徴とする芳香族ニトリルまたは複素環ニトリ
ルの製造方法に関するものである。
る。本発明における反応は、炭素環化合物または複素環
化合物と、酸素含有ガスおよびアンモニアとの反応(ア
ンモ酸化反応)であり、触媒上で気相接触させることで
なされる。
物は芳香族化合物及び脂環族化合物であり、脂環族化合
物は酸素含有ガスおよびアンモニアとの本反応(アンモ
酸化反応)において、同時に酸化、脱水素反応により容
易に芳香族ニトリルに変換できる。芳香族化合物及び脂
環族化合物は、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、
シクロヘキセン、シクロヘキサン、ジヒドロナフタレ
ン、テトラリン、デカリン等の炭素環を有し、結合した
メチル基、エチル基、プロピル基、ホルミル基、アセチ
ル基、ヒドロキシメチル基、メトキシカルボニル基等、
アンモ酸化反応によりシアノ基を生成し得る側鎖(以
下、置換基と称す)を少なくとも1つ有する炭素環化合
物である。また、この炭素環化合物はハロゲン基、ヒド
ロキシル基、アルコキシル基、アミノ基、ニトロ基等を
含んでいても使用できる。例えば、トルエン、キシレ
ン、トリメチルベンゼン、エチルベンゼン、メチルナフ
タレン、ジメチルナフタレン、メチルテトラリン、ジメ
チルテトラリン、クロロトルエン、ジクロロトルエン、
メチルアミリン、クレゾール、メチルアニソール等が挙
げられる。これらの化合物は単独または混合物で使用で
きる。
ン、ピロール、インドール、チオフェン、ピラゾール、
イミアゾール、オキサゾール、ピラン、ピリジン、キノ
リン、イソキノリン、ピロリン、ピロリジン、イミドゾ
リン、イミダゾリジン、ペピリジン、ペピラジン等の複
素環を有する化合物であり、その側鎖には、上記炭素環
化合物と同様に置換基を有する。また、炭素環化合物と
同様に、ハロゲン基等の置換基を含んでいても良い。例
えば、フルフラール、2−メチルチオフェン、3−メチ
ルチオフェン、2−ホルミルチオフェン、4−メチルチ
アゾール、メチルピリジン、ジメチルピリジン、トリメ
チルピリジン、メチルキノリン、メチルピラジン、ジメ
チルピラジン、メチルペピラジン等が挙げられる。これ
らの化合物は単独または混合物で使用できる。
用グレードで良い。アンモニアの使用量は炭素環化合物
または複素環化合物1モルに含まれる置換基1個に対し
て1〜10倍モル、好ましくは3〜6倍モルの範囲であ
る。これより使用量が少ないと目的生成物の収率は低下
し、一方、これより多いと空時収率が小さくなる。本発
明方法では、反応ガスに含まれる未反応アンモニアを回
収し、反応系に戻し再使用できる。反応ガスから未反応
アンモニアの回収方法は種々考えられるが、工業的に
は、未反応アンモニアを水に吸収させた後、それを蒸留
操作でアンモニアを他の副生物と分離するのが有利であ
る。ここで回収されるアンモニア中の水分量は蒸留の操
作条件によってことなるが、通常は5〜20容量%が含
まれる。
の形で供給され、通常は空気が用いられる。別法とし
て、空気または酸素を不活性ガス、例えば窒素、炭酸ガ
ス、排ガス等で希釈して用いることもできる。酸素の使
用量は、炭素環化合物または複素環化合物1モルに含ま
れる置換基1個に対して1.5倍モル以上、好ましくは
2〜50倍モルの範囲である。これより使用量が少ない
と目的生成物の収率が低下し、一方、これより多いと空
時収率が小さくなる。
V、MoおよびFeから選ばれる一種以上の金属酸化物
と、後述するクロム処理物を含む組成で構成される。ク
ロム処理物は、クロムの金属酸化物基準で1.0〜1
0.0重量%の範囲であることが好ましく、クロム処理
物がこれより少ない場合には、触媒の強度と目的生成物
の収率が悪くなる。一方、これより多い場合も希釈作用
により収率低下が起こると共に、触媒費が嵩み、経済面
で不利となる。また、上記金属酸化物に対し、Mg、C
a、Ba、W、Co、Ni、B、Ge、Sn、Pb、
P、SbおよびBiの群から選ばれた少なくとも一種の
金属の酸化物を添加し、修飾した組成系が好ましく、下
記の組成式で表される金属酸化物触媒が特に好ましい。 組成式:(Cr)a(V)b(Mo)c(Fe)d
(X)e(O)f (但し、XはMg、Ca,Ba、W、Co、Ni、B、
Ge、Sn、Pb、P、SbおよびBiの群から選ばれ
た少なくとも一種の元素、添字のa,b,c,dおよび
eは原子比を各々示し、a=0.01〜1(好ましくは
0.1〜0.7)、b=0.01〜1(好ましくは0.
1〜0.7)、c=0〜1、d=0〜1(好ましくは
0.05〜0.7)、e=0〜1(好ましくは0.05
〜0.7)、およびfは上記元素が結合して得られる酸
化物の酸素数)。 これらの金属酸化物触媒は、担体としてアルミナまたは
チタニアを用いることにより、本発明における高強度触
媒とすることができる。
れる種々の金属酸化物触媒を用いることができるが、特
にCr〜V〜B〜Moに担体としてアルミナまたはチタ
ニアを50〜99重量%、好ましくは65〜97重量%
を加えた高強度触媒が好適に用いられる。
タバナジン酸アンモニウム、硫酸バナジル、およびシュ
ウ酸、酒石酸などの有機酸のバナジウム塩類が使用され
るが、その後の焼成操作で分解し、容易に酸化物となり
うるメタバナジン酸アンモニウム、シュウ酸バナジル、
酒石酸バナジルなどが好ましい。ホウ素源としては、ホ
ウ酸、ホウ酸アンモニウム、などが使用される。また、
モリブデン源としてはパラモリブデン酸アンモニウム、
モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウムなどが
あげられるが、このうち、その後の焼成操作で容易に分
解し、ナトリウムイオン、カリウムイオン等の金属陽イ
オンが触媒中に残留しないパラモリブデン酸アンモニウ
ムが好適である。
酸アンモニウム、クロム酸ナトリウム、重クロム酸アン
モニウム、重クロム酸カリウム、重クロム酸ナトリウム
などのクロム化合物を使用することができるが、これら
のうち、金属陽イオンを含む塩は、これを除去する操作
(例えばイオン交換法など)が必要であり、この操作を
必要としない無水クロム酸、クロム酸アンモニウム、重
クロム酸アンモニウムを用いることが有利である。更
に、原料の価格を考慮すると無水クロム酸が最も好まし
い。
糖類、有機オキシ化合物および水溶性アルデヒド類から
選ぶことができる。アルコール類としては、エタノー
ル、プロパノール、ブタノール、プロピレングリコー
ル、グリセリン、ペンタエリスリトール、キシロール、
ソルビトール等が例示され、糖類としては、ガラクトー
ス、マンニット、イノシット、果糖、デンプン等が挙げ
られる。また、有機オキシ化合物としては、有機オキシ
酸およびそのアンモニウム塩が好ましく、具体的には、
グリコール酸、グリセリン酸、シュウ酸および酒石酸
と、そのアンモニウム塩が挙げられる。水溶性アルデヒ
ド類としては、ホルムアルデヒド、グリコールアルデヒ
ド等が挙げられる。上記の化合物は、単独または2種以
上の混合物として使用することができる。
の水溶液と上記処理剤の水溶液を混合し、還流器付きの
反応器で加熱沸騰せしめる。その際、クロム化合物の濃
度および処理剤の濃度は臨界的ではなく、用いるクロム
化合物および処理剤の種類に応じて広範に変えうるが、
一般には、双方とも0.1〜5.0モル/リットルの濃
度が有利であり、これより濃度が低いと生産性が悪く、
経済性の面で不利であり、また、これより濃度は高いと
得られるクロム化合物の粒子成長が大きくなり、その後
の混合の際に均質性ある触媒を得ることができない。加
熱により処理する時間は2時間以内、好ましくは30分
〜1時間が有利である。この処理により上記クロムの水
溶液からゾル状物質(クロム処理物)となる。
できる。例えば、酸化バナジウムをシュウ酸に溶かした
水溶液に、ホウ酸水溶液を加え、均一水溶液とした後
に、クロム処理物および担体であるアルミナまたはチタ
ニアの粉末を加え混合する。その後、充分に触媒の均質
化を図るため機械的な操作により混練した後に、二軸押
出し成型機により適用な形状に押出し成型する。得られ
た成型体は110〜150℃で恒量になるまで乾燥し、
次いで、焼成を350〜700℃、好ましくは400〜
600℃で数時間以上、空気を流通しながら行う。な
お、この焼成に先立って200〜350℃において予備
焼成を行うと、より好ましい結果を得ることができる。
実施できるが、330〜470℃であることが好まし
い。300℃より低い温度では原料化合物の転化率が小
さく、500℃より高い温度では二酸化炭素、シアン化
水素などの生成が増加しニトリル化合物の収率が低下す
る。最高の収率を示す反応温度は、原料の種類、原料濃
度、接触時間、および触媒の焼成温度などにより変化す
るので、これらの条件に応じて適宜この範囲で選択する
ことが好ましい。反応ガスと触媒の接触時間は一般には
かなり広い範囲に採ることができるが、0.5〜30秒
であることが好ましい。
が、加圧下または減圧下にても行うことができる。反応
生成物の捕集は、任意の適当な方法、例えば、生成物が
析出するに充分な温度まで冷却し捕集する方法、水その
他適当な溶媒などで反応生成ガスを洗浄、捕集する方法
などが使用される。
に具体的に説明する。但し本発明はこれらの実施例によ
り制限されるものでない。
0mlに溶解した後に、50℃においてソルビトール3
5.3gを徐々に加え、溶解し、反応させた後に、還流
装置付きフラスコで煮沸し、クロムの処理を完全に行っ
た。一方、五酸化バナジウムV2O517.8gを水40
mlに溶解し、80〜90℃に加熱後、よく攪拌しなが
らシュウ酸44.4gを加え、溶解した液に、水30m
lに溶解したパラモリブデン酸アンモニウム(NH4)6
Mo7O24・4H2O 0.69gとホウ酸H3BO31.
21gを加えた。次に、酸化アルミニウムα-Al2O3
の粉末300gと、先に調製したクロム処理物をV、M
o、Bの混合水溶液に加えた後、石川式らいかい機によ
り、3時間を要し均質となるまで混練した。その後、得
られたケーキを二軸押出し成型機により成型し、110
℃で12時間乾燥した後、250℃で予備焼成し、最終
450℃で15時間焼成した。この触媒の原子比はC
r:V:B:Moが1.0:1.0:0.1:0.02
の割合で含有され、触媒中の担体アルミナの濃度は90
wt%である。
mmであり、圧壊強度を測定した結果、強度は113
(N)粉化率は1.0重量%と良好な値を示し、実用に耐
える強度を有していた。
内径23mmの反応器に、この触媒13mlを充填し、
メタキシレン濃度0.6容積%、アンモニア3.8容積
%、空気95.6容積%よりなるガスを、この触媒が最
高のイソフタロニトリル収率を与える温度である400
℃において、空時速度SV2330Hr-1の条件で接触
反応させた。この結果、メタキシレンに対してイソフタ
ロニトリルの収率が83.8モル%、メタトルニトリル
の収率が1.9モル%であり、反応したメタキシレンに
対するイソフタロニトリルの選択率は84.1モル%で
あった。
タキシレンに代えて3メチル−ピリジンを使用して、実
施例1と同様に活性試験を行った。3−メチルピリジン
0.7容量%、アンモニア2.0容量%、空気97.3
容量%よりなるガスを、この触媒が最高の3−シアノピ
リジン収率を与える温度である390℃、SV2290
Hr-1の条件で反応した。この結果、3−メチルピリジ
ンに対する3―シアノピリジンの収率は、90.5モル
%であり、反応した3−メチルピリジンに対する3−シ
アノピリジンの選択率は90.7モル%であった。
gを用いた以外は実施例1と同様に行った。
mmであり、圧壊強度を測定した結果、強度は126
(N)、粉化率は0.8重量%と良好な値を示し、実用に
耐える強度を有していた。
試験を行った。メタキシレン濃度0.6容積%、アンモ
ニア3.8容積%、空気95.6容積%よりなるガス
を、この触媒が最高のイソフタロニトリル収率を与える
温度である400℃において、空時速度SV2310H
r-1の条件で接触反応させた。この結果、メタキシレン
に対してイソフタロニトリルの収率が82.5モル%、
メタトルニトリルの収率が1.6モル%であり、反応し
たメタキシレンに対するイソフタロニトリルの選択率は
83.0モル%であった。
末300gを用いた以外は実施例1と同様に行った。
mmであり、圧壊強度を測定した結果、強度は103
(N)、粉化率は1.5重量%と良好な値を示し、実用に
耐える強度を有していた。
試験を行った。メタキシレン濃度0.7容積%、アンモ
ニア3.9容積%、空気95.4容積%よりなるガス
を、この触媒が最高のイソフタロニトリル収率を与える
温度である375℃において、空時速度SV2350H
r-1の条件で接触反応させた。この結果、メタキシレン
に対してイソフタロニトリルの収率が85.6モル%、
メタトルニトリルの収率が1.2モル%であり、反応し
たメタキシレンに対するイソフタロニトリルの選択率は
86.1モル%であった。
40mlに溶解し、80〜90℃に加熱後、よく攪拌し
ながらシュウ酸44.4gを加え、溶解した液に、水3
0mlに溶解したパラモリブデン酸アンモニウム(NH
4)6Mo7O24・4H2O 0.69gとホウ酸H3BO3
1.21gを加えた。次に、酸化アルミニウムα-Al2
O3の粉末164gを、先に調製したV、Mo、B混合
水溶液に加えた後、石川式らいかい機により、3時間を
要し均質となるまで混練した。その後、得られたケーキ
を二軸押出し成型機により成型し、110℃で12時間
乾燥した後、250℃で予備焼成し、最終450℃で1
5時間焼成した。この触媒の原子比はV:B:Moが
1.0:0.1:0.02の割合で含有され、触媒中の
担体アルミナの濃度は90wt%である。
mmであり、圧壊強度を測定した結果、強度は27
(N)、粉化率は6.9重量%と悪く、実用上において耐
えない強度であった。
内径23mmの反応器にこの触媒13mlを充填し、メ
タキシレン濃度0.6容積%、アンモニア3.8容積
%、空気95.6容積%よりなるガスを、この触媒が最
高のイソフタロニトリル収率を与える温度である405
℃において、空時速度SV2250Hr-1の条件で接触
反応させた。この結果、メタキシレンに対してイソフタ
ロニトリルの収率が72.8モル%、メタトルニトリル
の収率が1.0モル%であり、反応したメタキシレンに
対するイソフタロニトリルの選択率は73.0モル%で
あった。
タキシレンに代えて3メチル−ピリジンを使用して、比
較例1と同様に活性試験を行った。3−メチルピリジン
0.7容量%、アンモニア1.9容量%、空気97.4
容量%よりなるガスを、この触媒が最高の3−シアノピ
リジン収率を与える温度である395℃、SV2310
Hr-1の条件で反応した。この結果、3−メチルピリジ
ンに対する3―シアノピリジンの収率は、81.5モル
%であり、反応した3−メチルピリジンに対する3−シ
アノピリジンの選択率は81.8モル%であった。
末300gを用いた以外は比較例1と同様に行った。
mmであり、圧壊強度を測定した結果、強度は22
(N)、粉化率は7.5重量%と悪く、実用上において耐
えない強度であった。
試験を行った。メタキシレン濃度0.7容積%、アンモ
ニア3.9容積%、空気95.4容積%よりなるガス
を、この触媒が最高のイソフタロニトリル収率を与える
温度である380℃において、空時速度SV2300H
r-1の条件で接触反応させた。この結果、メタキシレン
に対してイソフタロニトリルの収率が72.2モル%、
メタトルニトリルの収率が1.5モル%であり、反応し
たメタキシレンに対するイソフタロニトリルの選択率は
72.9モル%であった。
ル類、糖類、有機オキシ化合物および水溶性アルデヒド
類から選ばれる少なくとも一種のクロム処理剤で処理し
たものと、V、MoおよびFeから選ばれた一種以上の
金属の酸化物、およびアルミナまたはチタニアを混合す
ることにより、実施例に示される如く、炭素環化合物や
複素環化合物をアンモ酸化して対応するニトリル化合物
が極めて高い収率で得られ、且つ、取扱い上において実
用に耐えうる高強度を有する触媒を得ることができる。
一般的に大量の発熱を伴うアンモ酸化反応を固定床で行
うためには多管反応器の使用が不可欠であり、本触媒は
その実施下において、充分に特性が発揮され、対応する
ニトリル化合物を工業的に極めて有利に製造することが
できる。
Claims (4)
- 【請求項1】炭素環化合物または複素環化合物と、アン
モニアおよび酸素を含む混合ガスを触媒上で接触反応さ
せて対応するニトリル化合物を製造するに際し、クロム
化合物をアルコール類、糖類、有機オキシ化合物および
水溶性アルデヒド類から選ばれる少なくとも一種のクロ
ム処理剤を用いて処理したものと、V、MoおよびFe
から選ばれた一種以上の金属の酸化物、およびアルミナ
またはチタニアを混合して調製した高強度触媒を用いる
ことを特徴とする芳香族ニトリルまたは複素環ニトリル
の製造方法。 - 【請求項2】前記クロム化合物が、無水クロム酸、クロ
ム酸アンモニウムおよび/または重クロム酸アンモニウ
ムである請求項1に記載の芳香族ニトリルまたは複素環
ニトリルの製造方法。 - 【請求項3】前記高強度触媒が、Mg、Ca,Ba、
W、Co、Ni、B、Ge、Sn、Pb、P、Sbおよ
びBiの群から選ばれた少なくとも一種の金属の酸化物
を更に含むものである請求項1または2に記載の芳香族
ニトリルまたは複素環ニトリルの製造方法。 - 【請求項4】高強度触媒に含まれる金属の酸化物が、
V、MoおよびBの酸化物である請求項3に記載の芳香
族ニトリルまたは複素環ニトリルの製造方法。
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JP2010024188A (ja) * | 2008-07-22 | 2010-02-04 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | 芳香族ニトリルの製造方法 |
JP2010024187A (ja) * | 2008-07-22 | 2010-02-04 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | 芳香族ニトリルの製造方法 |
EP2202218A1 (en) | 2008-12-26 | 2010-06-30 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Production method of xylylenediamine |
WO2012105498A1 (ja) | 2011-01-31 | 2012-08-09 | 三菱瓦斯化学株式会社 | キシリレンジアミンの製造方法 |
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WO2019188459A1 (ja) * | 2018-03-30 | 2019-10-03 | 三菱瓦斯化学株式会社 | アンモ酸化反応による芳香族ニトリルの製造方法 |
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2002
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Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7541497B2 (en) | 2003-09-10 | 2009-06-02 | Basf Aktiengesellschaft | Method for producing xylylenediamine (XDA) |
JP2010024188A (ja) * | 2008-07-22 | 2010-02-04 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | 芳香族ニトリルの製造方法 |
JP2010024187A (ja) * | 2008-07-22 | 2010-02-04 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | 芳香族ニトリルの製造方法 |
EP2202218A1 (en) | 2008-12-26 | 2010-06-30 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Production method of xylylenediamine |
WO2012105498A1 (ja) | 2011-01-31 | 2012-08-09 | 三菱瓦斯化学株式会社 | キシリレンジアミンの製造方法 |
US9024070B2 (en) | 2011-01-31 | 2015-05-05 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Method for producing xylylenediamine |
KR20160003887A (ko) | 2014-03-10 | 2016-01-11 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | 디시아노벤젠의 제조방법 및 제조장치 |
CN106068254A (zh) * | 2014-03-10 | 2016-11-02 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 二氰基苯的制造方法和制造装置 |
US9822062B2 (en) | 2014-03-10 | 2017-11-21 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Method and apparatus for producing dicyanobenzene |
WO2019188459A1 (ja) * | 2018-03-30 | 2019-10-03 | 三菱瓦斯化学株式会社 | アンモ酸化反応による芳香族ニトリルの製造方法 |
CN111770911A (zh) * | 2018-03-30 | 2020-10-13 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 基于氨氧化反应的芳香族腈的制造方法 |
JPWO2019188459A1 (ja) * | 2018-03-30 | 2021-04-15 | 三菱瓦斯化学株式会社 | アンモ酸化反応による芳香族ニトリルの製造方法 |
EP3778561A4 (en) * | 2018-03-30 | 2021-05-19 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | PROCESS FOR PRODUCING AROMATIC NITRILE BY AMMOXIDATION REACTION |
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CN111770911B (zh) * | 2018-03-30 | 2024-07-09 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 基于氨氧化反应的芳香族腈的制造方法 |
US12060311B2 (en) | 2018-03-30 | 2024-08-13 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Method for producing aromatic nitrile by ammoxidation reaction |
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