JPH06211767A - アクリロニトリルの製造法 - Google Patents
アクリロニトリルの製造法Info
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- JPH06211767A JPH06211767A JP5007831A JP783193A JPH06211767A JP H06211767 A JPH06211767 A JP H06211767A JP 5007831 A JP5007831 A JP 5007831A JP 783193 A JP783193 A JP 783193A JP H06211767 A JPH06211767 A JP H06211767A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 ｎ−ブタンをモリブデン、バナジウム及びテ
ルルを含有する複合酸化物触媒の存在下，アンモニアと
気相接触酸化反応させることを特徴とするアクリロニト
リルの製造法。 【効果】 ｎ−ブタンから効率よくアクリロニトリルを
製造することができる。
ルルを含有する複合酸化物触媒の存在下，アンモニアと
気相接触酸化反応させることを特徴とするアクリロニト
リルの製造法。 【効果】 ｎ−ブタンから効率よくアクリロニトリルを
製造することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はアクリロニトリルの製造
法に関するものである。
法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】アクリロニトリルは、繊維、合成樹脂、
合成ゴム等の重要な中間体として工業的に製造されてい
るが、その製造法としては、従来、プロピレンを、触媒
の存在下でアンモニアおよび酸素と気相において高温で
接触反応させる方法が最も一般的な方法として知られて
いる。
合成ゴム等の重要な中間体として工業的に製造されてい
るが、その製造法としては、従来、プロピレンを、触媒
の存在下でアンモニアおよび酸素と気相において高温で
接触反応させる方法が最も一般的な方法として知られて
いる。
【０００３】一方、プロパンとプロピレンとの間の価格
差のために、プロパンを出発原料とし、触媒の存在下で
アンモニアおよび酸素と気相で接触反応させる、いわゆ
るアンモ酸化反応法によりアクリロニトリルを製造する
方法の開発に関心が高まっている。
差のために、プロパンを出発原料とし、触媒の存在下で
アンモニアおよび酸素と気相で接触反応させる、いわゆ
るアンモ酸化反応法によりアクリロニトリルを製造する
方法の開発に関心が高まっている。
【０００４】これらの報告の例として、例えば，本出願
人はＭｏ−Ｖ−Ｔｅ−Ｎｂ−Ｏ系触媒を用いたアルカン
からニトリル類を製造する方法がある（特開平２−２５
７号）これによれば，プロパンからアクリロニトリルを
製造する以外にイソブタンからメタクリロニトリルの製
造が具体的に示されている。また，使用しうるアルカン
原料としてメタン，エタン，ブタン等の例示もあるが，
アンモ酸化反応により原料と炭素数の異なるニトリルが
生成することは示されていない。
人はＭｏ−Ｖ−Ｔｅ−Ｎｂ−Ｏ系触媒を用いたアルカン
からニトリル類を製造する方法がある（特開平２−２５
７号）これによれば，プロパンからアクリロニトリルを
製造する以外にイソブタンからメタクリロニトリルの製
造が具体的に示されている。また，使用しうるアルカン
原料としてメタン，エタン，ブタン等の例示もあるが，
アンモ酸化反応により原料と炭素数の異なるニトリルが
生成することは示されていない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来，知
られているアクリロニトリル製造のためのアルカン原料
は専ら炭素数３個のプロパンに限定されており，特に比
較的高純度のプロパン原料を必要としていた。
られているアクリロニトリル製造のためのアルカン原料
は専ら炭素数３個のプロパンに限定されており，特に比
較的高純度のプロパン原料を必要としていた。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の現
状に鑑みアクリロニトリルの製造法について鋭意検討を
続けていたところ，驚くべきことに，特定の触媒を使用
した場合には，アクリロニトリル製造のためのアルカン
原料としてプロパンだけではなくｎ−ブタンでも有効で
あることを見い出し、本発明に到達したものである。
状に鑑みアクリロニトリルの製造法について鋭意検討を
続けていたところ，驚くべきことに，特定の触媒を使用
した場合には，アクリロニトリル製造のためのアルカン
原料としてプロパンだけではなくｎ−ブタンでも有効で
あることを見い出し、本発明に到達したものである。
【０００７】すなわち、本発明の要旨は，ｎ−ブタンを
モリブデン，バナジウム及びテルルを含有する複合酸化
物触媒の存在下，アンモニアと気相接触酸化反応させる
ことを特徴とするアクリロニトリルの製造法に存する。
モリブデン，バナジウム及びテルルを含有する複合酸化
物触媒の存在下，アンモニアと気相接触酸化反応させる
ことを特徴とするアクリロニトリルの製造法に存する。
【０００８】以下、本発明を詳細に説明する。本発明で
用いる複合酸化物触媒は，必須元素としてモリブデン，
バナジウム及びテルルを含有するものであり，その他，
通常，任意元素としてニオブ，アンチモン等を含有す
る。触媒の具体例としては，例えば，以下の式で示され
るものが挙げられる。
用いる複合酸化物触媒は，必須元素としてモリブデン，
バナジウム及びテルルを含有するものであり，その他，
通常，任意元素としてニオブ，アンチモン等を含有す
る。触媒の具体例としては，例えば，以下の式で示され
るものが挙げられる。
【０００９】Ｍｏa Ｖb Ｔｅc Ｘx Ｏn （１） （式（１）において、ＸはＮｂ，Ｔａ，Ｗ，Ｔｉ，Ａ
ｌ，Ｚｒ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｒｕ，Ｃｏ，Ｒｈ，Ｎ
ｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｂ，ＩｎおよびＣｅの中
から選ばれた１つまたはそれ以上の元素を表わし、 ａ＝１とするとき、 ｂ＝０．０１〜１．０ ｃ＝０．０１〜１．０ ｘ＝０〜１．０ であり、また、ｎは他の元素の酸化状態により決定され
る。）
ｌ，Ｚｒ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｒｕ，Ｃｏ，Ｒｈ，Ｎ
ｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｂ，ＩｎおよびＣｅの中
から選ばれた１つまたはそれ以上の元素を表わし、 ａ＝１とするとき、 ｂ＝０．０１〜１．０ ｃ＝０．０１〜１．０ ｘ＝０〜１．０ であり、また、ｎは他の元素の酸化状態により決定され
る。）
【００１０】上述の（１）式の触媒では任意成分とし
て、Ｘで示される上記の元素が用いられるが、好ましく
はＮｂ，Ｔａ，Ｗ，Ｔｉである。また、式（１）の係数
として、ａ＝１とするとき、ｂ＝０．１〜０．６、ｃ＝
０．０５〜０．４が特に好ましい。また，ｘ＝０．０１
〜０．６が好ましい。
て、Ｘで示される上記の元素が用いられるが、好ましく
はＮｂ，Ｔａ，Ｗ，Ｔｉである。また、式（１）の係数
として、ａ＝１とするとき、ｂ＝０．１〜０．６、ｃ＝
０．０５〜０．４が特に好ましい。また，ｘ＝０．０１
〜０．６が好ましい。
【００１１】以上の触媒の調製方法は次のようである。
例えば、Ｍｏa Ｖb Ｔｅc Ｎｂx Ｏ n の場合、所定量の
メタバナジン酸アンモニウム塩を含む水溶液に、テルル
酸の水溶液、シュウ酸ニオブアンモニウム塩の水溶液お
よびパラモリブデン酸アンモニウム塩の水溶液を各々の
金属元素の原子比が所定の割合となるような量比で順次
添加し、蒸発乾固法、噴霧乾燥法、真空乾燥法等で乾燥
させ、最後に、残った乾燥物を、通常３５０〜７００
℃、好ましくは４００〜６５０℃の温度で、通常０．５
〜３０時間、好ましくは１〜１０時間、焼成して目的の
複合酸化物とする。
例えば、Ｍｏa Ｖb Ｔｅc Ｎｂx Ｏ n の場合、所定量の
メタバナジン酸アンモニウム塩を含む水溶液に、テルル
酸の水溶液、シュウ酸ニオブアンモニウム塩の水溶液お
よびパラモリブデン酸アンモニウム塩の水溶液を各々の
金属元素の原子比が所定の割合となるような量比で順次
添加し、蒸発乾固法、噴霧乾燥法、真空乾燥法等で乾燥
させ、最後に、残った乾燥物を、通常３５０〜７００
℃、好ましくは４００〜６５０℃の温度で、通常０．５
〜３０時間、好ましくは１〜１０時間、焼成して目的の
複合酸化物とする。
【００１２】また、上記の焼成処理方法については、酸
素雰囲気中で行なう方法が最も一般的であるが、焼成の
雰囲気をむしろ酸素不存在下とすることが好ましい。具
体的には、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰
囲気中、または真空中で実施される。なお、上記の触媒
の原料は前述したものに限定されるのではなく、メタバ
ナジン酸アンモニウムの代わりに例えば、Ｖ2 Ｏ5 ，Ｖ
2 Ｏ3 ，ＶＯＣｌ3 あるいはＶＣｌ4 等を使用すること
ができ、テルル酸の代わりにＴｅＯ2 等が使用され、シ
ュウ酸ニオブアンモニウム塩の代わりに、ＮｂＣｌ5 ，
Ｎｂ2 Ｏ5 ，ニオブ酸等が使用され、パラモリブデン酸
アンモニウム塩の代わりにＭｏＯ3 ，ＭｏＣｌ 5 等を使
用することができる。
素雰囲気中で行なう方法が最も一般的であるが、焼成の
雰囲気をむしろ酸素不存在下とすることが好ましい。具
体的には、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰
囲気中、または真空中で実施される。なお、上記の触媒
の原料は前述したものに限定されるのではなく、メタバ
ナジン酸アンモニウムの代わりに例えば、Ｖ2 Ｏ5 ，Ｖ
2 Ｏ3 ，ＶＯＣｌ3 あるいはＶＣｌ4 等を使用すること
ができ、テルル酸の代わりにＴｅＯ2 等が使用され、シ
ュウ酸ニオブアンモニウム塩の代わりに、ＮｂＣｌ5 ，
Ｎｂ2 Ｏ5 ，ニオブ酸等が使用され、パラモリブデン酸
アンモニウム塩の代わりにＭｏＯ3 ，ＭｏＣｌ 5 等を使
用することができる。
【００１３】以上のように調製された複合酸化物は、そ
のままでも触媒としての活性を有するものであるが、ア
クリロニトリルの選択率および収率を、更に高めるため
に、該複合酸化物に特定酸化物を後添加した物質を触媒
として使用してもよい。この特定の酸化物としては、ア
ンチモン、ビスマス、セリウム，ホウ素等の酸化物が用
いられ、アンチモン酸化物が特に好ましい。これらの特
定の酸化物としては，例えば，アンチモン酸化物として
は、Ｓｂ2 Ｏ3 ，Ｓｂ2 Ｏ4 ，Ｓｂ2 Ｏ5 のアンチモン
酸化物が例示される。また、場合によっては、酒石酸ア
ンチモニルアンモニウム、シュウ酸アンチモン等のアン
チモンを含有する有機化合物を（１）式の複合酸化物に
添加し、焼成した物質を触媒として用いてもよい。この
場合、アンチモンを含有する有機化合物を焼成すること
によりアンチモン酸化物に変換される。
のままでも触媒としての活性を有するものであるが、ア
クリロニトリルの選択率および収率を、更に高めるため
に、該複合酸化物に特定酸化物を後添加した物質を触媒
として使用してもよい。この特定の酸化物としては、ア
ンチモン、ビスマス、セリウム，ホウ素等の酸化物が用
いられ、アンチモン酸化物が特に好ましい。これらの特
定の酸化物としては，例えば，アンチモン酸化物として
は、Ｓｂ2 Ｏ3 ，Ｓｂ2 Ｏ4 ，Ｓｂ2 Ｏ5 のアンチモン
酸化物が例示される。また、場合によっては、酒石酸ア
ンチモニルアンモニウム、シュウ酸アンチモン等のアン
チモンを含有する有機化合物を（１）式の複合酸化物に
添加し、焼成した物質を触媒として用いてもよい。この
場合、アンチモンを含有する有機化合物を焼成すること
によりアンチモン酸化物に変換される。
【００１４】以上の特定酸化物の複合酸化物への添加方
法としては、特定酸化物の複合酸化物との接触が有効に
行なわれるように両者を粉砕し混合しつつ実施される。
複合酸化物への特定酸化物の添加量は、複合酸化物に対
して重量比で、通常０．０００１〜０．２、好ましく
は、０．００１〜０．０５である。添加後は、好ましく
は、通常３００〜６５０℃、特に３５０〜６００℃で焼
成する。焼成は窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガ
ス雰囲気中が好ましい。
法としては、特定酸化物の複合酸化物との接触が有効に
行なわれるように両者を粉砕し混合しつつ実施される。
複合酸化物への特定酸化物の添加量は、複合酸化物に対
して重量比で、通常０．０００１〜０．２、好ましく
は、０．００１〜０．０５である。添加後は、好ましく
は、通常３００〜６５０℃、特に３５０〜６００℃で焼
成する。焼成は窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガ
ス雰囲気中が好ましい。
【００１５】本発明における触媒は、単独で用いること
ができるが、周知の担体、例えば、シリカ、アルミナ、
チタニア、アルミノシリケート、珪藻土等と共に使用す
ることもでき、反応の規模、方式等により適宜の形状お
よび粒径に成型される。
ができるが、周知の担体、例えば、シリカ、アルミナ、
チタニア、アルミノシリケート、珪藻土等と共に使用す
ることもでき、反応の規模、方式等により適宜の形状お
よび粒径に成型される。
【００１６】本発明の方法は、上述の触媒の存在下で、
ｎ−ブタンをアンモニアと気相接触酸化反応させること
によりアクリロニトリルを製造するものである。原料の
ｎ−ブタンは，反応生成物の精製等を考慮した場合，純
度の高いものが好ましいが，上述の触媒ではプロパンや
プロピレンからも有利にアクリロニトリルを製造するこ
とができるので，原料のｎ−ブタン中にプロパンやプロ
ピレンが含まれていても何ら支障はない。
ｎ−ブタンをアンモニアと気相接触酸化反応させること
によりアクリロニトリルを製造するものである。原料の
ｎ−ブタンは，反応生成物の精製等を考慮した場合，純
度の高いものが好ましいが，上述の触媒ではプロパンや
プロピレンからも有利にアクリロニトリルを製造するこ
とができるので，原料のｎ−ブタン中にプロパンやプロ
ピレンが含まれていても何ら支障はない。
【００１７】本発明での酸化反応の機構の詳細は明らか
ではないが、上述の酸化物中に存在する酸素原子、ある
いは供給ガス中に存在させる分子状酸素によって行なわ
れる。供給ガス中に分子状酸素を存在させる場合、分子
状酸素は純酸素ガスでもよいが、特に純度は要求されな
いので、一般には空気のような酸素含有ガスを使用する
のが経済的である。供給ガスとしては、通常、ｎ−ブタ
ン、アンモニアと酸素含有ガスの混合ガスを使用する
が、ｎ−ブタンとアンモニアの混合ガスと酸素含有ガス
とを交互に供給してもよい。
ではないが、上述の酸化物中に存在する酸素原子、ある
いは供給ガス中に存在させる分子状酸素によって行なわ
れる。供給ガス中に分子状酸素を存在させる場合、分子
状酸素は純酸素ガスでもよいが、特に純度は要求されな
いので、一般には空気のような酸素含有ガスを使用する
のが経済的である。供給ガスとしては、通常、ｎ−ブタ
ン、アンモニアと酸素含有ガスの混合ガスを使用する
が、ｎ−ブタンとアンモニアの混合ガスと酸素含有ガス
とを交互に供給してもよい。
【００１８】また、実質的に分子状酸素が存在しないｎ
−ブタンとアンモニアのみを供給ガスとして気相接触反
応させることもできる。かかる場合は、反応帯域より触
媒の一部を適宜、抜き出して、該触媒を酸化再生器に送
り込み、再生後、触媒を反応帯域に再供給する方法が好
ましい。触媒の再生方法としては、触媒を、酸素、空
気、一酸化窒素等の酸化性ガスを再生器内の触媒に対し
て、通常３００〜６００℃で流通させる方法が例示され
る。
−ブタンとアンモニアのみを供給ガスとして気相接触反
応させることもできる。かかる場合は、反応帯域より触
媒の一部を適宜、抜き出して、該触媒を酸化再生器に送
り込み、再生後、触媒を反応帯域に再供給する方法が好
ましい。触媒の再生方法としては、触媒を、酸素、空
気、一酸化窒素等の酸化性ガスを再生器内の触媒に対し
て、通常３００〜６００℃で流通させる方法が例示され
る。
【００１９】反応器方式は固定床、流動層等いずれも採
用できるが、発熱反応であるため、流動層方式の方が反
応温度の制御が容易である。反応に供給する空気の割合
は、生成するアクリロニトリルの選択率に関して重要で
あり、空気は、通常ｎ−ブタンに対して２５モル倍量以
下、特に１〜１８モル倍量の範囲が高いアクリロニトリ
ル選択率を示す。また、反応に供与するアンモニアの割
合は、ｎ−ブタンに対して０．２〜５モル倍量、特に
０．５〜３モル倍量の範囲が好適である。なお、本反応
は通常大気圧下で実施されるが、低度の加圧下または減
圧下で行なうこともできる。
用できるが、発熱反応であるため、流動層方式の方が反
応温度の制御が容易である。反応に供給する空気の割合
は、生成するアクリロニトリルの選択率に関して重要で
あり、空気は、通常ｎ−ブタンに対して２５モル倍量以
下、特に１〜１８モル倍量の範囲が高いアクリロニトリ
ル選択率を示す。また、反応に供与するアンモニアの割
合は、ｎ−ブタンに対して０．２〜５モル倍量、特に
０．５〜３モル倍量の範囲が好適である。なお、本反応
は通常大気圧下で実施されるが、低度の加圧下または減
圧下で行なうこともできる。
【００２０】本発明方法における反応温度としては，通
常３５０〜５００℃，好ましくは３８０〜４８０℃程度
である。また、気相反応におけるガス空間速度ＳＶは、
通常１００〜１００００ｈ-1、好ましくは３００〜２０
００ｈ-1である。また，空間速度と酸素分圧を調整する
ための希釈ガスとして、窒素、アルゴン、ヘリウム等の
不活性ガスを用いることができる。なお，反応生成物と
して，アクリロニトリルの外にアセトニトリル、青酸等
が副生するが、その生成量は極めて少ない。
常３５０〜５００℃，好ましくは３８０〜４８０℃程度
である。また、気相反応におけるガス空間速度ＳＶは、
通常１００〜１００００ｈ-1、好ましくは３００〜２０
００ｈ-1である。また，空間速度と酸素分圧を調整する
ための希釈ガスとして、窒素、アルゴン、ヘリウム等の
不活性ガスを用いることができる。なお，反応生成物と
して，アクリロニトリルの外にアセトニトリル、青酸等
が副生するが、その生成量は極めて少ない。
【００２１】
【実施例】以下、本発明を、実施例および比較例を挙げ
てさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えな
いかぎりこれらの実施例に限定されるものではない。ま
た，生成物の分析はガスクロマトグラフィーにて行っ
た。なお、以下の実施例および比較例における転化率
（％）、選択率（％）および収率（％）は、各々次式で
示される。
てさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えな
いかぎりこれらの実施例に限定されるものではない。ま
た，生成物の分析はガスクロマトグラフィーにて行っ
た。なお、以下の実施例および比較例における転化率
（％）、選択率（％）および収率（％）は、各々次式で
示される。
【００２２】
【数１】ｎ−ブタンの転化率（％）＝（消費ｎ−ブタン
のモル数／供給ｎ−ブタンのモル数）×１００ アクリロニトリルの収率（％）＝（アクリロニトリルの
モル数／供給ｎ−ブタンのモル数）×１００
のモル数／供給ｎ−ブタンのモル数）×１００ アクリロニトリルの収率（％）＝（アクリロニトリルの
モル数／供給ｎ−ブタンのモル数）×１００
【００２３】実施例１ 実験式Ｍｏ1 Ｖ0.3 Ｔｅ0.23Ｎｂ0.12Ｏn で示される複
合酸化物と，該複合酸化物に対して２０重量％ＳｉＯ2
から成る触媒を次のように調製した。温水３２５ミリリ
ットルに１５．７ｇのメタバナジン酸アンモニウム塩を
溶解し、これにテルル酸２３．６ｇ、パラモリブデン酸
アンモニウム塩７８．９ｇを順次添加し、均一な水溶液
を調製した。該水溶液に、ニオブの濃度が０．４５６モ
ル／ｋｇのシュウ酸ニオブアンモニウム水溶液１１７．
５ｇと所定料のＳｉＯ2を含むシリカゾル水溶液を混合
し、スラリーを調製した。該スラリーを蒸発乾固させ、
固体を得た。この固体を打錠成型器を用いて５ｍｍΦ×
３ｍｍＬに成型したのち、粉砕し、１６〜２８メッシュ
に篩別し、窒素気流中窒素気流中６００℃、２時間焼成
した。
合酸化物と，該複合酸化物に対して２０重量％ＳｉＯ2
から成る触媒を次のように調製した。温水３２５ミリリ
ットルに１５．７ｇのメタバナジン酸アンモニウム塩を
溶解し、これにテルル酸２３．６ｇ、パラモリブデン酸
アンモニウム塩７８．９ｇを順次添加し、均一な水溶液
を調製した。該水溶液に、ニオブの濃度が０．４５６モ
ル／ｋｇのシュウ酸ニオブアンモニウム水溶液１１７．
５ｇと所定料のＳｉＯ2を含むシリカゾル水溶液を混合
し、スラリーを調製した。該スラリーを蒸発乾固させ、
固体を得た。この固体を打錠成型器を用いて５ｍｍΦ×
３ｍｍＬに成型したのち、粉砕し、１６〜２８メッシュ
に篩別し、窒素気流中窒素気流中６００℃、２時間焼成
した。
【００２４】このようにして得た固体触媒０．５ｍｌを
反応器に充填し、反応温度４１０℃、空間速度ＳＶを１
０００ｈ-1に固定して、ｎ−ブタン：アンモニア：空気
＝１：１．２：１５のモル比でガスを供給し、気相接触
反応を行なった。その結果，ｎ−ブタンの転化率は８３
％，アクリロニトリルの収率は１３％であり，青酸は
０．１％未満（検出限界以下）であった。
反応器に充填し、反応温度４１０℃、空間速度ＳＶを１
０００ｈ-1に固定して、ｎ−ブタン：アンモニア：空気
＝１：１．２：１５のモル比でガスを供給し、気相接触
反応を行なった。その結果，ｎ−ブタンの転化率は８３
％，アクリロニトリルの収率は１３％であり，青酸は
０．１％未満（検出限界以下）であった。
【００２５】実施例２ 実験式Ｍｏ1 Ｖ0.3 Ｔｅ0.23Ｎｂ0.12Ｏnの複合酸化物
を次のように調製した。温水３２５ミリリットルに１
５．７ｇのメタバナジン酸アンモニウム塩を溶解し、こ
れにテルル酸２３．６ｇ、パラモリブデン酸アンモニウ
ム塩７８．９ｇを順次添加し、均一な水溶液を調製し
た。該水溶液に、ニオブの濃度が０．４５６モル／ｋｇ
のシュウ酸ニオブアンモニウム水溶液１１７．５ｇを混
合し、スラリーを調製した。該スラリーを蒸発乾固さ
せ、固体を得た。この固体を打錠成型器を用いて５ｍｍ
Φ×３ｍｍＬに成型したのち、粉砕し、１６〜２８メッ
シュに篩別し、窒素気流中，６００℃、２時間焼成し
た。
を次のように調製した。温水３２５ミリリットルに１
５．７ｇのメタバナジン酸アンモニウム塩を溶解し、こ
れにテルル酸２３．６ｇ、パラモリブデン酸アンモニウ
ム塩７８．９ｇを順次添加し、均一な水溶液を調製し
た。該水溶液に、ニオブの濃度が０．４５６モル／ｋｇ
のシュウ酸ニオブアンモニウム水溶液１１７．５ｇを混
合し、スラリーを調製した。該スラリーを蒸発乾固さ
せ、固体を得た。この固体を打錠成型器を用いて５ｍｍ
Φ×３ｍｍＬに成型したのち、粉砕し、１６〜２８メッ
シュに篩別し、窒素気流中，６００℃、２時間焼成し
た。
【００２６】次に，該複合酸化物３０ｇをメノウ乳鉢中
で粉砕し、これに４価の酸化アンチモン（Ｓｂ2 Ｏ4 ）
を０．２３ｇ添加混合した。この混合物を打錠成型器を
用いて５ｍｍΦ×３ｍｍＬに成型したのち、粉砕し、１
６〜２８メッシュに篩別し、窒素気流中，５５０℃、２
時間焼成した。このようにして得た触媒０．５ｍｌを反
応器に充填し、反応温度４４０℃、空間速度ＳＶを１０
００ｈ-1に固定して、ｎ−ブタン：アンモニア：空気＝
１：１．２：１５のモル比でガスを供給し、気相接触反
応を行なった。その結果，ｎ−ブタンの転化率は７６
％，アクリロニトリルの収率は１７％であり，青酸は
０．１％未満（検出限界以下）であった。
で粉砕し、これに４価の酸化アンチモン（Ｓｂ2 Ｏ4 ）
を０．２３ｇ添加混合した。この混合物を打錠成型器を
用いて５ｍｍΦ×３ｍｍＬに成型したのち、粉砕し、１
６〜２８メッシュに篩別し、窒素気流中，５５０℃、２
時間焼成した。このようにして得た触媒０．５ｍｌを反
応器に充填し、反応温度４４０℃、空間速度ＳＶを１０
００ｈ-1に固定して、ｎ−ブタン：アンモニア：空気＝
１：１．２：１５のモル比でガスを供給し、気相接触反
応を行なった。その結果，ｎ−ブタンの転化率は７６
％，アクリロニトリルの収率は１７％であり，青酸は
０．１％未満（検出限界以下）であった。
【００２７】
【発明の効果】本発明により，ｎ−ブタンよりアクリロ
ニトリルを効率よく製造することができる。従来，アク
リロニトリルの工業的製造原料として考えうるものとし
てはプロピレン，プロパンに限られていたので，原料の
多様化という面においても本発明の価値は大である。
ニトリルを効率よく製造することができる。従来，アク
リロニトリルの工業的製造原料として考えうるものとし
てはプロピレン，プロパンに限られていたので，原料の
多様化という面においても本発明の価値は大である。
Claims (3)
- 【請求項１】 ｎ−ブタンをモリブデン，バナジウム及
びテルルを含有する複合酸化物触媒の存在下，アンモニ
アと気相接触酸化反応させることを特徴とするアクリロ
ニトリルの製造法。 - 【請求項２】 ｎ−ブタンを下記（１）式で表される複
合酸化物から成る触媒の存在下，アンモニアと気相接触
酸化反応させることを特徴とするアクリロニトリルの製
造法。 Ｍｏa Ｖb Ｔｅc Ｘx Ｏn （１） （式（１）において、ＸはＮｂ，Ｔａ，Ｗ，Ｔｉ，Ａ
ｌ，Ｚｒ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｒｕ，Ｃｏ，Ｒｈ，Ｎ
ｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｂ，ＩｎおよびＣｅの中
から選ばれた１つまたはそれ以上の元素を表わし、 ａ＝１とするとき、 ｂ＝０．０１〜１．０ ｃ＝０．０１〜１．０ ｘ＝０〜１．０ であり、また、ｎは他の元素の酸化状態により決定され
る。） - 【請求項３】 ｎ−ブタンを請求項２の複合酸化物にア
ンチモン酸化物を後添加して成る触媒の存在下，アンモ
ニアと気相接触酸化反応させることを特徴とするアクリ
ロニトリルの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5007831A JPH06211767A (ja) | 1993-01-20 | 1993-01-20 | アクリロニトリルの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5007831A JPH06211767A (ja) | 1993-01-20 | 1993-01-20 | アクリロニトリルの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06211767A true JPH06211767A (ja) | 1994-08-02 |
Family
ID=11676548
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5007831A Pending JPH06211767A (ja) | 1993-01-20 | 1993-01-20 | アクリロニトリルの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06211767A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001122625A (ja) * | 1999-10-26 | 2001-05-08 | Mitsubishi Chemicals Corp | ニオブ含有複合金属酸化物の製造方法 |
-
1993
- 1993-01-20 JP JP5007831A patent/JPH06211767A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001122625A (ja) * | 1999-10-26 | 2001-05-08 | Mitsubishi Chemicals Corp | ニオブ含有複合金属酸化物の製造方法 |
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