JP2003215486A - 走査光学系 - Google Patents
走査光学系Info
- Publication number
- JP2003215486A JP2003215486A JP2002010763A JP2002010763A JP2003215486A JP 2003215486 A JP2003215486 A JP 2003215486A JP 2002010763 A JP2002010763 A JP 2002010763A JP 2002010763 A JP2002010763 A JP 2002010763A JP 2003215486 A JP2003215486 A JP 2003215486A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- scanning
- scanning direction
- lens
- optical system
- sub
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
- B41J2/47—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light
- B41J2/471—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror
- B41J2/473—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror using multiple light beams, wavelengths or colours
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/12—Scanning systems using multifaceted mirrors
- G02B26/123—Multibeam scanners, e.g. using multiple light sources or beam splitters
Abstract
(57)【要約】
【課題】 偏向点変化が非対称である場合にも、走査線
の傾きを補正することができる走査光学系を提供するこ
と。 【解決手段】 半導体レーザー１１、１１…から発した
レーザー光Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3、Ｌ4は、コリメートレンズ１
２、１２…、シリンドリカルレンズ１３を介してポリゴ
ンミラー２０により同時に偏向され、４本の光束につい
て共通に設けられた走査レンズ３０、各光束毎に設けら
れた補正レンズ５１〜５４を介して、感光体ドラム６１
〜６４上に収束してビームスポットを形成する。走査レ
ンズ３０の一面は、副走査方向のパワーの主走査方向に
おける分布が光軸に対して非対称なアナモフィック面で
あり、これにより偏向点変化の非対称性に起因する走査
線の傾きを補正することができる。
の傾きを補正することができる走査光学系を提供するこ
と。 【解決手段】 半導体レーザー１１、１１…から発した
レーザー光Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3、Ｌ4は、コリメートレンズ１
２、１２…、シリンドリカルレンズ１３を介してポリゴ
ンミラー２０により同時に偏向され、４本の光束につい
て共通に設けられた走査レンズ３０、各光束毎に設けら
れた補正レンズ５１〜５４を介して、感光体ドラム６１
〜６４上に収束してビームスポットを形成する。走査レ
ンズ３０の一面は、副走査方向のパワーの主走査方向に
おける分布が光軸に対して非対称なアナモフィック面で
あり、これにより偏向点変化の非対称性に起因する走査
線の傾きを補正することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、レーザープリン
ター等の走査光学装置に用いられる走査光学系に関す
る。
ター等の走査光学装置に用いられる走査光学系に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】レーザープリンター等に用いられる走査
光学系は、半導体レーザー等の光源から発したレーザー
光をポリゴンミラーにより偏向、走査させ、結像光学系
を介して感光体ドラム等の被走査面上にスポットとして
結像させる。被走査面上のスポットは、ポリゴンミラー
の回転に伴って走査し、この際レーザー光をオンオフ変
調することにより被走査面上に静電潜像を形成する。な
お、この明細書では、被走査面上でスポットが走査する
方向を主走査方向、これに直交する方向を副走査方向と
定義し、各光学素子の形状、パワーの方向性は、被走査
面上での方向を基準に説明することとする。
光学系は、半導体レーザー等の光源から発したレーザー
光をポリゴンミラーにより偏向、走査させ、結像光学系
を介して感光体ドラム等の被走査面上にスポットとして
結像させる。被走査面上のスポットは、ポリゴンミラー
の回転に伴って走査し、この際レーザー光をオンオフ変
調することにより被走査面上に静電潜像を形成する。な
お、この明細書では、被走査面上でスポットが走査する
方向を主走査方向、これに直交する方向を副走査方向と
定義し、各光学素子の形状、パワーの方向性は、被走査
面上での方向を基準に説明することとする。
【０００３】走査光学系には、単一の光束を用いる基本
的な構成の他にも、同一の感光体ドラム上に一度に複数
の走査線を形成するマルチビーム方式の構成、あるい
は、複数の感光体ドラムに一度に走査線を形成するタン
デム方式の構成等が知られている。マルチビーム方式、
あるいはタンデム方式において、単一のポリゴンミラー
により複数の光束を走査させる場合には、各光束の副走
査方向の断面内でのポリゴンミラーへの入射角度をそれ
ぞれ異ならせることがある。このような配置により、複
数の光束をポリゴンミラーの反射面上でほぼ同一の位置
に入射させることができ、ポリゴンミラーを薄くし、そ
のコストを抑えることができる。
的な構成の他にも、同一の感光体ドラム上に一度に複数
の走査線を形成するマルチビーム方式の構成、あるい
は、複数の感光体ドラムに一度に走査線を形成するタン
デム方式の構成等が知られている。マルチビーム方式、
あるいはタンデム方式において、単一のポリゴンミラー
により複数の光束を走査させる場合には、各光束の副走
査方向の断面内でのポリゴンミラーへの入射角度をそれ
ぞれ異ならせることがある。このような配置により、複
数の光束をポリゴンミラーの反射面上でほぼ同一の位置
に入射させることができ、ポリゴンミラーを薄くし、そ
のコストを抑えることができる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ように光束の副走査方向の断面内での入射角度が異なる
場合、ポリゴンミラーの回転軸に対して垂直な平面に対
して斜めにポリゴンミラーに入射する光束については、
被走査面上ではビームスポットの軌跡である走査線が湾
曲するという問題が生じる。走査線の湾曲はボウ(Bow)
と呼ばれる。また、光源部から発した光束が、主走査方
向においてポリゴンミラーによる光束の走査範囲外から
ポリゴンミラーに入射するよう配置されている場合に
は、ポリゴンミラーの回転中心が走査レンズの光軸上に
位置しないため、反射面と入射光束との交点(偏向点)が
ポリゴンミラーの回転に伴って光軸に対して非対称に変
化し、走査線が傾くという問題がある。この２つの問題
が組み合わさると、走査線の湾曲が左右非対称になる。
走査線の傾きの大きさは、ポリゴンミラーへの副走査方
向の入射角度により異なるため、入射角度が異なる光束
により形成される走査線を一定方向に揃えることが困難
であり、これがカラープリンターにおいては色ズレの原
因となり、印刷品質を悪化させる。
ように光束の副走査方向の断面内での入射角度が異なる
場合、ポリゴンミラーの回転軸に対して垂直な平面に対
して斜めにポリゴンミラーに入射する光束については、
被走査面上ではビームスポットの軌跡である走査線が湾
曲するという問題が生じる。走査線の湾曲はボウ(Bow)
と呼ばれる。また、光源部から発した光束が、主走査方
向においてポリゴンミラーによる光束の走査範囲外から
ポリゴンミラーに入射するよう配置されている場合に
は、ポリゴンミラーの回転中心が走査レンズの光軸上に
位置しないため、反射面と入射光束との交点(偏向点)が
ポリゴンミラーの回転に伴って光軸に対して非対称に変
化し、走査線が傾くという問題がある。この２つの問題
が組み合わさると、走査線の湾曲が左右非対称になる。
走査線の傾きの大きさは、ポリゴンミラーへの副走査方
向の入射角度により異なるため、入射角度が異なる光束
により形成される走査線を一定方向に揃えることが困難
であり、これがカラープリンターにおいては色ズレの原
因となり、印刷品質を悪化させる。
【０００５】この発明は、上記の従来技術の問題点に鑑
み、偏向点変化が非対称である場合にも、走査線の傾き
と走査線湾曲によって現れる走査線湾曲の左右非対称性
を補正することができる走査光学系を提供することを目
的とする。
み、偏向点変化が非対称である場合にも、走査線の傾き
と走査線湾曲によって現れる走査線湾曲の左右非対称性
を補正することができる走査光学系を提供することを目
的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明にかかる走査光
学系は、上記の目的を達成させるため、ポリゴンミラー
の近傍に設けられた走査レンズの一面を、副走査方向の
パワーの主走査方向における分布を光軸に対して非対称
なアナモフィック面としたことを特徴とする。
学系は、上記の目的を達成させるため、ポリゴンミラー
の近傍に設けられた走査レンズの一面を、副走査方向の
パワーの主走査方向における分布を光軸に対して非対称
なアナモフィック面としたことを特徴とする。
【０００７】すなわち、この発明にかかる走査光学系
は、光束を発生する光源部と、複数の反射面を有し、回
転駆動されることにより光源部から発して入射する光束
を反射、偏向させるポリゴンミラーと、このポリゴンミ
ラーにより反射された光束を被走査面上で主走査方向に
走査するスポットとして収束させる結像光学系とを備
え、結像光学系は、単数または複数の単レンズから構成
される走査レンズと、走査レンズより被走査面側に配置
された像面湾曲補正用の補正レンズとを備え、光源部
は、主走査方向においては、ポリゴンミラーによる光束
の走査範囲外から、副走査方向においては、ポリゴンミ
ラーの回転軸に対して垂直な平面に対して斜めに、ポリ
ゴンミラーに光束を入射させるよう配置され、走査レン
ズの少なくとも１面が上記のようなアナモフィック面で
あり、補正レンズは、副走査方向のパワーの主走査方向
における分布が面中心に対して対称な面のみで構成され
ることを特徴とする。
は、光束を発生する光源部と、複数の反射面を有し、回
転駆動されることにより光源部から発して入射する光束
を反射、偏向させるポリゴンミラーと、このポリゴンミ
ラーにより反射された光束を被走査面上で主走査方向に
走査するスポットとして収束させる結像光学系とを備
え、結像光学系は、単数または複数の単レンズから構成
される走査レンズと、走査レンズより被走査面側に配置
された像面湾曲補正用の補正レンズとを備え、光源部
は、主走査方向においては、ポリゴンミラーによる光束
の走査範囲外から、副走査方向においては、ポリゴンミ
ラーの回転軸に対して垂直な平面に対して斜めに、ポリ
ゴンミラーに光束を入射させるよう配置され、走査レン
ズの少なくとも１面が上記のようなアナモフィック面で
あり、補正レンズは、副走査方向のパワーの主走査方向
における分布が面中心に対して対称な面のみで構成され
ることを特徴とする。
【０００８】上記の構成によれば、偏向点変化の非対称
性に起因する走査線の傾きを走査レンズのアナモフィッ
ク面により補正することができ、ポリゴンミラーに対し
て副走査方向において異なる角度で入射する複数の光束
を利用する場合にも、それぞれの走査線の傾きを一致さ
せることができる。なお、面中心は、面設計時に設定さ
れる原点であり、主走査方向については、被走査面上で
走査範囲の中心に達する光束が非球面と交差する位置で
ある。
性に起因する走査線の傾きを走査レンズのアナモフィッ
ク面により補正することができ、ポリゴンミラーに対し
て副走査方向において異なる角度で入射する複数の光束
を利用する場合にも、それぞれの走査線の傾きを一致さ
せることができる。なお、面中心は、面設計時に設定さ
れる原点であり、主走査方向については、被走査面上で
走査範囲の中心に達する光束が非球面と交差する位置で
ある。
【０００９】走査レンズのアナモフィック面は、副走査
方向に対して垂直で光軸を含む平面に関して対称な形状
を有し、補正レンズは、副走査方向に対して垂直で面中
心を含む平面に関して非対称な形状のアナモフィック面
を含むことが望ましい。走査レンズのうち、少なくとも
アナモフィック面を含むレンズ素子はプラスチックレン
ズであることが望ましい。
方向に対して垂直で光軸を含む平面に関して対称な形状
を有し、補正レンズは、副走査方向に対して垂直で面中
心を含む平面に関して非対称な形状のアナモフィック面
を含むことが望ましい。走査レンズのうち、少なくとも
アナモフィック面を含むレンズ素子はプラスチックレン
ズであることが望ましい。
【００１０】また、走査レンズのアナモフィック面は、
主走査方向の断面形状が当該走査レンズの光軸からの主
走査方向の距離の関数として定義され、副走査方向の断
面形状が円弧であって、その曲率半径が光軸からの主走
査方向の距離の関数として主走査方向の断面形状とは独
立して定義されるアナモフィック非球面として構成する
ことができる。
主走査方向の断面形状が当該走査レンズの光軸からの主
走査方向の距離の関数として定義され、副走査方向の断
面形状が円弧であって、その曲率半径が光軸からの主走
査方向の距離の関数として主走査方向の断面形状とは独
立して定義されるアナモフィック非球面として構成する
ことができる。
【００１１】走査レンズのアナモフィック面は、当該面
上における主走査方向の位置を光軸を基準として光源部
からの光束が入射する側を−方向、逆側を＋方向、光軸
からの距離をＹとして表し、当該位置における副走査方
向の曲率半径をＲｚ(Ｙ)として、 ｜Ｒｚ(０)｜＜｜Ｒｚ（−Ｙ）｜＜｜Ｒｚ（Ｙ）｜ を満たすことが望ましい。
上における主走査方向の位置を光軸を基準として光源部
からの光束が入射する側を−方向、逆側を＋方向、光軸
からの距離をＹとして表し、当該位置における副走査方
向の曲率半径をＲｚ(Ｙ)として、 ｜Ｒｚ(０)｜＜｜Ｒｚ（−Ｙ）｜＜｜Ｒｚ（Ｙ）｜ を満たすことが望ましい。
【００１２】一方、補正レンズの１つの面は、副走査方
向の断面の傾きが主走査方向の位置により変化し、副走
査方向に対して垂直で面中心を含む平面に関して非対称
な形状を有する非球面であることが望ましく、この非球
面は、面中心を原点として含んで走査レンズの光軸と直
交する基準平面からのサグ量が主走査方向・副走査方向
それぞれの面中心からの距離に関する二次元多項式で表
現される二次元多項式非球面とすることができる。この
場合には、副走査方向において、ポリゴンミラーの回転
軸に対して垂直な平面に対して斜めに、ポリゴンミラー
に対して光束を入射させることに起因する走査線の湾曲
を補正することができる。
向の断面の傾きが主走査方向の位置により変化し、副走
査方向に対して垂直で面中心を含む平面に関して非対称
な形状を有する非球面であることが望ましく、この非球
面は、面中心を原点として含んで走査レンズの光軸と直
交する基準平面からのサグ量が主走査方向・副走査方向
それぞれの面中心からの距離に関する二次元多項式で表
現される二次元多項式非球面とすることができる。この
場合には、副走査方向において、ポリゴンミラーの回転
軸に対して垂直な平面に対して斜めに、ポリゴンミラー
に対して光束を入射させることに起因する走査線の湾曲
を補正することができる。
【００１３】光源部が複数の光束を発する場合には、光
源部からポリゴンミラーに入射する複数の光束の副走査
方向の断面内での入射角度をそれぞれ異ならせることに
より、ポリゴンミラーの副走査方向の高さを小さく抑え
ることができる。このような場合には、ポリゴンミラー
に近い位置に走査レンズを、複数の光束に対して共通に
１つだけ配置し、被走査面に近い位置に補正レンズを、
ほぼ同一の角度でポリゴンミラーに入射する光束毎に複
数配置することが望ましい。
源部からポリゴンミラーに入射する複数の光束の副走査
方向の断面内での入射角度をそれぞれ異ならせることに
より、ポリゴンミラーの副走査方向の高さを小さく抑え
ることができる。このような場合には、ポリゴンミラー
に近い位置に走査レンズを、複数の光束に対して共通に
１つだけ配置し、被走査面に近い位置に補正レンズを、
ほぼ同一の角度でポリゴンミラーに入射する光束毎に複
数配置することが望ましい。
【００１４】光源部は、光源部から発する複数の光束が
ポリゴンミラーに対して副走査方向の断面内で絶対値が
等しく符号が異なる入射角度で入射するように設定され
ることが望ましい。この場合、複数の補正レンズは、ポ
リンゴンミラーから各感光体ドラムまでの反射面を展開
して考えた場合、走査レンズ系の光軸の延長線に対して
対称に配置することができる。すなわち、同一設計の補
正レンズを、走査レンズ系の光軸の延長線に対して等距
離の位置に、１８０°回転させて配置することができ
る。
ポリゴンミラーに対して副走査方向の断面内で絶対値が
等しく符号が異なる入射角度で入射するように設定され
ることが望ましい。この場合、複数の補正レンズは、ポ
リンゴンミラーから各感光体ドラムまでの反射面を展開
して考えた場合、走査レンズ系の光軸の延長線に対して
対称に配置することができる。すなわち、同一設計の補
正レンズを、走査レンズ系の光軸の延長線に対して等距
離の位置に、１８０°回転させて配置することができ
る。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、この発明にかかる走査光学
系の実施形態を説明する。図１は、実施形態にかかる走
査光学系を利用したタンデム走査光学系を示す説明図で
あり、(Ａ)はポリゴンミラーより光源部側の副走査方向
の断面内での説明図、(Ｂ)はポリゴンミラーより被走査
面である感光体ドラム側の副走査方向の断面内での説明
図である。
系の実施形態を説明する。図１は、実施形態にかかる走
査光学系を利用したタンデム走査光学系を示す説明図で
あり、(Ａ)はポリゴンミラーより光源部側の副走査方向
の断面内での説明図、(Ｂ)はポリゴンミラーより被走査
面である感光体ドラム側の副走査方向の断面内での説明
図である。
【００１６】図１(Ａ)に示すタンデム走査光学系の光源
部１０は、４個の半導体レーザー１１、１１…と、これ
らの半導体レーザーから発する発散光を平行光にする４
個のコリメートレンズ１２、１２…とを備えている。半
導体レーザー１１は、図中の縦方向となる副走査方向に
４段並んで配置されている。
部１０は、４個の半導体レーザー１１、１１…と、これ
らの半導体レーザーから発する発散光を平行光にする４
個のコリメートレンズ１２、１２…とを備えている。半
導体レーザー１１は、図中の縦方向となる副走査方向に
４段並んで配置されている。
【００１７】コリメートレンズ１２により平行光とされ
た４本のレーザー光Ｌ1〜Ｌ4は、副走査方向にのみパワ
ーを持つ単一のシリンドリカルレンズ１３の作用により
副走査方向に関して収束光となり、かつ、シリンドリカ
ルレンズ１３が持つプリズム作用により偏向されてポリ
ゴンミラー２０の近傍でほぼ同一位置に線像を形成す
る。すなわち、光源部１０から発する４本の光束は、副
走査方向の断面内での入射角度がそれぞれ異なり、ポリ
ゴンミラー２０の反射面上で交差する。これにより、ポ
リゴンミラー２０の副走査方向の高さを小さく抑えるこ
とができる。内側の２本の光束L2,L3のポリゴンミラー
に対する入射角度は±βin、外側の２本の光束L1,L4の
入射角度は±βoutである。すなわち、対をなす２本ず
つの光束が、ポリゴンミラー２０に対して副走査方向の
断面内で絶対値が等しく符号が異なる入射角度で入射す
るように設定されている。
た４本のレーザー光Ｌ1〜Ｌ4は、副走査方向にのみパワ
ーを持つ単一のシリンドリカルレンズ１３の作用により
副走査方向に関して収束光となり、かつ、シリンドリカ
ルレンズ１３が持つプリズム作用により偏向されてポリ
ゴンミラー２０の近傍でほぼ同一位置に線像を形成す
る。すなわち、光源部１０から発する４本の光束は、副
走査方向の断面内での入射角度がそれぞれ異なり、ポリ
ゴンミラー２０の反射面上で交差する。これにより、ポ
リゴンミラー２０の副走査方向の高さを小さく抑えるこ
とができる。内側の２本の光束L2,L3のポリゴンミラー
に対する入射角度は±βin、外側の２本の光束L1,L4の
入射角度は±βoutである。すなわち、対をなす２本ず
つの光束が、ポリゴンミラー２０に対して副走査方向の
断面内で絶対値が等しく符号が異なる入射角度で入射す
るように設定されている。
【００１８】光源部１０から発した４本の光束Ｌ1〜Ｌ4
は、回転軸２０ａ回りに回転するポリゴンミラー２０に
より同時に偏向される。なお、光源部１０は、主走査方
向において、ポリゴンミラー２０による光束の走査範囲
外からポリゴンミラー２０に光束を入射させるよう配置
されている。偏向された４本の光束Ｌ1〜Ｌ4は、副走査
方向に関しては所定の角度で異なる方向に進み、第１レ
ンズ３１と第２レンズ３２とから構成される走査レンズ
３０に入射する。走査レンズ３０から射出した光束は、
２本ずつそれぞれ一対のミラー４０，４１により反射さ
れ、各光束毎の光路に配置された像面湾曲補正用の補正
レンズ５１〜５４を介して、それぞれ異なる感光体ドラ
ム６１〜６４上に収束して各ドラム上にビームスポット
を形成する。ポリゴンミラー２０を回転軸２０ａ回りに
回転させることにより、４本の感光体ドラム６１〜６４
上にそれぞれ１本の走査線を同時に形成することができ
る。
は、回転軸２０ａ回りに回転するポリゴンミラー２０に
より同時に偏向される。なお、光源部１０は、主走査方
向において、ポリゴンミラー２０による光束の走査範囲
外からポリゴンミラー２０に光束を入射させるよう配置
されている。偏向された４本の光束Ｌ1〜Ｌ4は、副走査
方向に関しては所定の角度で異なる方向に進み、第１レ
ンズ３１と第２レンズ３２とから構成される走査レンズ
３０に入射する。走査レンズ３０から射出した光束は、
２本ずつそれぞれ一対のミラー４０，４１により反射さ
れ、各光束毎の光路に配置された像面湾曲補正用の補正
レンズ５１〜５４を介して、それぞれ異なる感光体ドラ
ム６１〜６４上に収束して各ドラム上にビームスポット
を形成する。ポリゴンミラー２０を回転軸２０ａ回りに
回転させることにより、４本の感光体ドラム６１〜６４
上にそれぞれ１本の走査線を同時に形成することができ
る。
【００１９】なお、シリンドリカルレンズ１３は、光源
部から発する光束を副走査方向に収束させるアナモフィ
ック光学素子としての機能を有しており、走査レンズ３
０及び補正レンズ５１〜５４は、ポリゴンミラー２０に
より反射された光束を被走査面上で主走査方向に走査す
るスポットとして収束させる結像光学系としての機能を
有している。
部から発する光束を副走査方向に収束させるアナモフィ
ック光学素子としての機能を有しており、走査レンズ３
０及び補正レンズ５１〜５４は、ポリゴンミラー２０に
より反射された光束を被走査面上で主走査方向に走査す
るスポットとして収束させる結像光学系としての機能を
有している。
【００２０】結像光学系を構成する走査レンズ３０の一
面(第１レンズ３１の被走査面側の面、あるいは、第２
レンズ３２の被走査面側の面)には、副走査方向のパワ
ーの主走査方向における分布が光軸に対して非対称なア
ナモフィック非球面が採用されている。副走査方向のパ
ワーに非対称性を持たせることにより、偏向点が非対称
に変化することに起因する走査線の傾きを補正すること
ができる。
面(第１レンズ３１の被走査面側の面、あるいは、第２
レンズ３２の被走査面側の面)には、副走査方向のパワ
ーの主走査方向における分布が光軸に対して非対称なア
ナモフィック非球面が採用されている。副走査方向のパ
ワーに非対称性を持たせることにより、偏向点が非対称
に変化することに起因する走査線の傾きを補正すること
ができる。
【００２１】また、走査レンズ３０のアナモフィック非
球面は、副走査方向に対して垂直で光軸Ａｘを含む平面
に関しては対称であり、その主走査方向の断面形状は、
光軸Ａｘからの主走査方向の距離の関数として定義さ
れ、副走査方向の断面形状は、円弧であって、その曲率
半径が光軸Ａｘからの主走査方向の距離の関数として定
義される。
球面は、副走査方向に対して垂直で光軸Ａｘを含む平面
に関しては対称であり、その主走査方向の断面形状は、
光軸Ａｘからの主走査方向の距離の関数として定義さ
れ、副走査方向の断面形状は、円弧であって、その曲率
半径が光軸Ａｘからの主走査方向の距離の関数として定
義される。
【００２２】走査レンズ３０のアナモフィック非球面
は、当該面上における主走査方向の位置を光軸を基準と
して光源部１０からの光束が入射する側を−方向、逆側
を＋方向、光軸Ａｘからの距離をＹとして表し、当該位
置における副走査方向の曲率半径をＲｚ(Ｙ)として、 ｜Ｒｚ(０)｜＜｜Ｒｚ（−Ｙ）｜＜｜Ｒｚ（Ｙ）｜ を満たすよう設計されている。すなわち、光軸から離れ
るのに従って曲率半径が大きくなる。つまり中心のパワ
ーが最も大きく中心から離れるのに従ってパワーが小さ
くなる。同時に光源部１０からの光束が入射する側の曲
率半径が、反対側より小さくなるように、したがって、
光束の入射する側のパワーが反対側より大きくなるよう
に設定されている。
は、当該面上における主走査方向の位置を光軸を基準と
して光源部１０からの光束が入射する側を−方向、逆側
を＋方向、光軸Ａｘからの距離をＹとして表し、当該位
置における副走査方向の曲率半径をＲｚ(Ｙ)として、 ｜Ｒｚ(０)｜＜｜Ｒｚ（−Ｙ）｜＜｜Ｒｚ（Ｙ）｜ を満たすよう設計されている。すなわち、光軸から離れ
るのに従って曲率半径が大きくなる。つまり中心のパワ
ーが最も大きく中心から離れるのに従ってパワーが小さ
くなる。同時に光源部１０からの光束が入射する側の曲
率半径が、反対側より小さくなるように、したがって、
光束の入射する側のパワーが反対側より大きくなるよう
に設定されている。
【００２３】補正レンズ５１〜５４は、副走査方向のパ
ワーの主走査方向における分布が面中心に対して対称な
面のみで構成される。また、補正レンズ５１〜５４の一
面は、副走査方向の断面の傾きが主走査方向の位置によ
り変化し、副走査方向に対して垂直で面中心を含む平面
に関して非対称な形状を有するアナモフィック非球面で
ある。この非球面は、面中心を原点として含んで走査レ
ンズの光軸と直交する基準平面からのサグ量が主走査方
向・副走査方向それぞれの面中心からの距離に関する二
次元多項式で表現される二次元多項式非球面であり、そ
の形状は、面中心を通る副走査方向の境界線を境に対称
である。二次元多項式非球面の副走査方向の断面の傾き
は、面中心からの主走査方向の距離が大きくなるにした
がって増加するよう設定されている。
ワーの主走査方向における分布が面中心に対して対称な
面のみで構成される。また、補正レンズ５１〜５４の一
面は、副走査方向の断面の傾きが主走査方向の位置によ
り変化し、副走査方向に対して垂直で面中心を含む平面
に関して非対称な形状を有するアナモフィック非球面で
ある。この非球面は、面中心を原点として含んで走査レ
ンズの光軸と直交する基準平面からのサグ量が主走査方
向・副走査方向それぞれの面中心からの距離に関する二
次元多項式で表現される二次元多項式非球面であり、そ
の形状は、面中心を通る副走査方向の境界線を境に対称
である。二次元多項式非球面の副走査方向の断面の傾き
は、面中心からの主走査方向の距離が大きくなるにした
がって増加するよう設定されている。
【００２４】外側の光束L1,L4が入射する補正レンズ５
１，５４は、同一設計のレンズであり、これを光軸(反
射面を展開して考えたときの走査レンズ３０の光軸)に
対して対称に、すなわち、光軸を中心に１８０°回転さ
せて配置している。また、内側の光束L2,L3が入射する
補正レンズ５２，５３も、同一設計のレンズであり、こ
れを光軸を中心に１８０°回転させて配置している。た
だし、外側の光束と内側の光束とでは光軸に対する角度
が異なるため、補正レンズ５１，５４と補正レンズ５
２，５３とは異なる設計である。すなわち、補正レンズ
としては、２種類のレンズを２個ずつ用意すればよい。
なお、補正レンズの設計が異なるのは二次元多項式非球
面のみであり、他方の面は４つの補正レンズでいずれも
共通である。
１，５４は、同一設計のレンズであり、これを光軸(反
射面を展開して考えたときの走査レンズ３０の光軸)に
対して対称に、すなわち、光軸を中心に１８０°回転さ
せて配置している。また、内側の光束L2,L3が入射する
補正レンズ５２，５３も、同一設計のレンズであり、こ
れを光軸を中心に１８０°回転させて配置している。た
だし、外側の光束と内側の光束とでは光軸に対する角度
が異なるため、補正レンズ５１，５４と補正レンズ５
２，５３とは異なる設計である。すなわち、補正レンズ
としては、２種類のレンズを２個ずつ用意すればよい。
なお、補正レンズの設計が異なるのは二次元多項式非球
面のみであり、他方の面は４つの補正レンズでいずれも
共通である。
【００２５】補正レンズ５１〜５４は、入射角度の異な
る各光束について専用の設計にすることもできるが、上
記のように２つずつ同一のレンズを１８０度回転させて
利用できた方が部品の種類を削減できるために望まし
い。ただし、このように同一構成の補正レンズを対称に
配置して用いるためには、主走査方向に関して非対称性
を持たせることができず、補正レンズにより走査線の湾
曲を補正したとしても、傾きが残存する。そこで、実施
形態の走査光学系は、走査レンズ３０に主走査方向に非
対称なパワー配分を有する面を設けてボウの非対称性を
補正している。
る各光束について専用の設計にすることもできるが、上
記のように２つずつ同一のレンズを１８０度回転させて
利用できた方が部品の種類を削減できるために望まし
い。ただし、このように同一構成の補正レンズを対称に
配置して用いるためには、主走査方向に関して非対称性
を持たせることができず、補正レンズにより走査線の湾
曲を補正したとしても、傾きが残存する。そこで、実施
形態の走査光学系は、走査レンズ３０に主走査方向に非
対称なパワー配分を有する面を設けてボウの非対称性を
補正している。
【００２６】次に、図１に示したタンデム走査光学系の
具体的な実施例を４例説明する。なお、以下の実施例で
は、ミラー４０，４１を省略し、光路を展開して説明す
る。
具体的な実施例を４例説明する。なお、以下の実施例で
は、ミラー４０，４１を省略し、光路を展開して説明す
る。
【００２７】
【実施例１】図２〜図４は、実施例１の走査光学系を示
し、図２は主走査方向の説明図、図３は外側の光束L1の
光路を示す副走査方向の説明図、図４は内側の光束L2の
光路を示す副走査方向の説明図である。実施例１の走査
光学系は、走査レンズ３０が第１レンズ３１と第２レン
ズ３２との２枚構成であり、第１レンズ３１がプラスチ
ック、第２レンズ３２がガラス、そして、補正レンズ５
１〜５４がプラスチックにより形成されている。
し、図２は主走査方向の説明図、図３は外側の光束L1の
光路を示す副走査方向の説明図、図４は内側の光束L2の
光路を示す副走査方向の説明図である。実施例１の走査
光学系は、走査レンズ３０が第１レンズ３１と第２レン
ズ３２との２枚構成であり、第１レンズ３１がプラスチ
ック、第２レンズ３２がガラス、そして、補正レンズ５
１〜５４がプラスチックにより形成されている。
【００２８】表１は、実施例１の走査光学系におけるシ
リンドリカルレンズ１３より感光体ドラム６１〜６４側
の構成を示す。表中の記号ｒyは主走査方向の曲率半径
(単位:mm)、ｒzは副走査方向の曲率半径(回転対称面の
場合には省略、単位:mm)、ｄは面間の光軸上の距離(単
位:mm)、ｎは設計波長780nmでの屈折率、DECZは反射面
を展開して考えたときの走査レンズ３０の光軸を基準に
した各面の副走査方向への偏心(単位：mm)である。入射
角度は、各光束の中心軸がポリゴンミラー２０に入射す
る際に反射面の法線に対してなす副走査方向の角度(主
走査方向に対して垂直な平面に投影した際の角度)であ
る。
リンドリカルレンズ１３より感光体ドラム６１〜６４側
の構成を示す。表中の記号ｒyは主走査方向の曲率半径
(単位:mm)、ｒzは副走査方向の曲率半径(回転対称面の
場合には省略、単位:mm)、ｄは面間の光軸上の距離(単
位:mm)、ｎは設計波長780nmでの屈折率、DECZは反射面
を展開して考えたときの走査レンズ３０の光軸を基準に
した各面の副走査方向への偏心(単位：mm)である。入射
角度は、各光束の中心軸がポリゴンミラー２０に入射す
る際に反射面の法線に対してなす副走査方向の角度(主
走査方向に対して垂直な平面に投影した際の角度)であ
る。
【００２９】
【表１】
【００３０】第１面はシリンドリカル面、第２面、第３
面は平面、第４面は回転対称非球面、第５面はアナモフ
ィック非球面、第６面は平面、第７面は球面、第８面、
第１１面は二次元多項式非球面、第９面、第１２面は球
面である。
面は平面、第４面は回転対称非球面、第５面はアナモフ
ィック非球面、第６面は平面、第７面は球面、第８面、
第１１面は二次元多項式非球面、第９面、第１２面は球
面である。
【００３１】回転対称非球面は、光軸からの距離がhと
なる非球面上の座標点の非球面の光軸上での接平面から
の距離(サグ量)をＸ(h)、非球面の光軸上での曲率(1/r)
をＣ、円錐係数をκ、４次、６次の非球面係数をＡ4，
Ａ6として、以下の式で表される。表１における回転対
称非球面の曲率半径は、光軸上の曲率半径であり、円錐
係数、非球面係数は表２に示される。
なる非球面上の座標点の非球面の光軸上での接平面から
の距離(サグ量)をＸ(h)、非球面の光軸上での曲率(1/r)
をＣ、円錐係数をκ、４次、６次の非球面係数をＡ4，
Ａ6として、以下の式で表される。表１における回転対
称非球面の曲率半径は、光軸上の曲率半径であり、円錐
係数、非球面係数は表２に示される。
【００３２】
【数１】
【００３３】
【表２】
【００３４】アナモフィック非球面は、面上で光軸を通
る主走査方向の曲線を想定した際に、光軸からの主走査
方向の距離がyとなる上記曲線上の座標点での光軸上の
接線からの距離(サグ量)をＸ(y)、当該座標点でこの曲
線に接する副走査方向の円弧の曲率をCz(y)として、以
下の式で定義される。
る主走査方向の曲線を想定した際に、光軸からの主走査
方向の距離がyとなる上記曲線上の座標点での光軸上の
接線からの距離(サグ量)をＸ(y)、当該座標点でこの曲
線に接する副走査方向の円弧の曲率をCz(y)として、以
下の式で定義される。
【００３５】
【数２】
【００３６】式中、Ｃは主走査方向の曲率、κは円錐係
数、AMmは主走査方向の曲率を定義するn次の非球面係
数、Cz0は光軸上での副走査方向の曲率（=1/rz）、ASn
は副走査方向の曲率を定義するn次の非球面係数であ
る。第５面を定義する各係数の値は、表３に示されてい
る。
数、AMmは主走査方向の曲率を定義するn次の非球面係
数、Cz0は光軸上での副走査方向の曲率（=1/rz）、ASn
は副走査方向の曲率を定義するn次の非球面係数であ
る。第５面を定義する各係数の値は、表３に示されてい
る。
【００３７】
【表３】
【００３８】二次元多項式非球面は、面中心で接する平
面上での主走査方向の距離y、副走査方向の距離zの点
(y,z)におけるサグ量X(y,z)として、以下の二次元多項
式により表される。ここで、Ｃは面中心における主走査
方向の曲率(1/ry)、κは円錐係数、ｈは面中心からの距
離(=(y2+z2)1/2）、Ｂmnは係数(mは主走査方向，nは副
走査方向に関する次数)である。この二次元多項式は、
回転非対称な光学曲面を表す一般式である。Ｂmnのｎが
奇数の場合の値を０以外の値にすると、面形状は副走査
方向に対して垂直で面中心を含む平面に関して非対称と
なる。
面上での主走査方向の距離y、副走査方向の距離zの点
(y,z)におけるサグ量X(y,z)として、以下の二次元多項
式により表される。ここで、Ｃは面中心における主走査
方向の曲率(1/ry)、κは円錐係数、ｈは面中心からの距
離(=(y2+z2)1/2）、Ｂmnは係数(mは主走査方向，nは副
走査方向に関する次数)である。この二次元多項式は、
回転非対称な光学曲面を表す一般式である。Ｂmnのｎが
奇数の場合の値を０以外の値にすると、面形状は副走査
方向に対して垂直で面中心を含む平面に関して非対称と
なる。
【００３９】
【数３】
【００４０】外側光束用の補正レンズ５１に形成された
二次元多項式非球面を定義する係数の値を表４、内側光
束用の補正レンズ５２に形成された二次元多項式非球面
を定義する係数の値を表５に示す。
二次元多項式非球面を定義する係数の値を表４、内側光
束用の補正レンズ５２に形成された二次元多項式非球面
を定義する係数の値を表５に示す。
【００４１】
【表４】
【００４２】
【表５】
【００４３】上記の実施例１の走査光学系において、ポ
リゴンミラー２０の回転に伴う偏向点変化は、図５に示
すとおりであり、主走査方向について光軸に関して非対
称となる。また、光束がポリゴンミラー２０の回転軸に
対して垂直な平面に対して斜めにポリゴンミラー２０に
入射することにより生じる走査線の湾曲は、偏向点変化
の非対称性の影響を受けて、走査レンズ３０の第１レン
ズ３１のポリゴンミラー２０側のレンズ面上では図６に
示すように光軸に対して非対称に変化する。なお、図６
は外側の光束Ｌ1の軌跡を示している。
リゴンミラー２０の回転に伴う偏向点変化は、図５に示
すとおりであり、主走査方向について光軸に関して非対
称となる。また、光束がポリゴンミラー２０の回転軸に
対して垂直な平面に対して斜めにポリゴンミラー２０に
入射することにより生じる走査線の湾曲は、偏向点変化
の非対称性の影響を受けて、走査レンズ３０の第１レン
ズ３１のポリゴンミラー２０側のレンズ面上では図６に
示すように光軸に対して非対称に変化する。なお、図６
は外側の光束Ｌ1の軌跡を示している。
【００４４】実施例１では、走査レンズ３０の第１レン
ズ３１の感光体ドラム側の面、すなわち第５面の副走査
方向のパワーの主走査方向における分布を、図７に示す
ように光軸に対して非対称に設定することにより、走査
線の湾曲の非対称性を補正しており、その結果、感光体
ドラム面上での走査線湾曲(ボウ)は、図８に示すように
低く抑えられる。図８(A)は外側の光学系の光束L1に対
する走査線、図８(B)は内側の光学系の光束L2に対する
走査線をそれぞれ示している。図８の各グラフの縦軸は
主走査方向の走査位置、横軸は収差量を示し、単位はい
ずれもｍｍである。
ズ３１の感光体ドラム側の面、すなわち第５面の副走査
方向のパワーの主走査方向における分布を、図７に示す
ように光軸に対して非対称に設定することにより、走査
線の湾曲の非対称性を補正しており、その結果、感光体
ドラム面上での走査線湾曲(ボウ)は、図８に示すように
低く抑えられる。図８(A)は外側の光学系の光束L1に対
する走査線、図８(B)は内側の光学系の光束L2に対する
走査線をそれぞれ示している。図８の各グラフの縦軸は
主走査方向の走査位置、横軸は収差量を示し、単位はい
ずれもｍｍである。
【００４５】図９は、走査レンズ３０に非対称成分を導
入しない比較例の走査線を示し、図９(A)は外側の光学
系の光束L1に対する走査線、図９(B)は内側の光学系の
光束L2に対する走査線をそれぞれ示している。比較例
は、実施例１の走査レンズ３０の第１レンズ３１の感光
体ドラム側の面、すなわち第５面の副走査方向のパワー
の主走査方向における分布を光軸に対して対称に設定し
たものである。すなわち、アナモフィック非球面を表す
副走査方向の係数ASの奇数次項AS1, AS3, AS5を全て０
にして定義される面を用いている。他の構成は実施例１
と同一である。図９に示されるように、走査レンズ３０
に非対称成分を導入しないと、走査線の湾曲はある程度
補正できても、傾きを補正することができない。
入しない比較例の走査線を示し、図９(A)は外側の光学
系の光束L1に対する走査線、図９(B)は内側の光学系の
光束L2に対する走査線をそれぞれ示している。比較例
は、実施例１の走査レンズ３０の第１レンズ３１の感光
体ドラム側の面、すなわち第５面の副走査方向のパワー
の主走査方向における分布を光軸に対して対称に設定し
たものである。すなわち、アナモフィック非球面を表す
副走査方向の係数ASの奇数次項AS1, AS3, AS5を全て０
にして定義される面を用いている。他の構成は実施例１
と同一である。図９に示されるように、走査レンズ３０
に非対称成分を導入しないと、走査線の湾曲はある程度
補正できても、傾きを補正することができない。
【００４６】図１０〜図１３は、実施例１の走査光学系
の他の収差を示す。図１０はｆθ特性、図１１は像面湾
曲(M:主走査方向、S:副走査方向)、図１２はFナンバー
の変化(M:主走査方向、S:副走査方向)、図１３は波面収
差を示し、各図とも(A)は外側の光束L1が通る光学系の
収差、(B)は内側の光束L2が通る光学系の収差を示す。
各グラフとも縦軸は主走査方向の走査位置(単位:mm)、
横軸は収差量を示し、図１０〜図１１の横軸の単位はｍ
ｍ、図１２の横軸の単位は％、図１３の横軸の単位は波
長である。
の他の収差を示す。図１０はｆθ特性、図１１は像面湾
曲(M:主走査方向、S:副走査方向)、図１２はFナンバー
の変化(M:主走査方向、S:副走査方向)、図１３は波面収
差を示し、各図とも(A)は外側の光束L1が通る光学系の
収差、(B)は内側の光束L2が通る光学系の収差を示す。
各グラフとも縦軸は主走査方向の走査位置(単位:mm)、
横軸は収差量を示し、図１０〜図１１の横軸の単位はｍ
ｍ、図１２の横軸の単位は％、図１３の横軸の単位は波
長である。
【００４７】
【実施例２】図１４〜図１６は、実施例２の走査光学系
を示し、図１４は主走査方向の説明図、図１５は外側の
光束L1の光路を示す副走査方向の説明図、図１６は内側
の光束L2の光路を示す副走査方向の説明図である。実施
例２の走査光学系は、走査レンズ３０が第１レンズ３１
と第２レンズ３２との２枚構成であり、第１レンズ３
１、第２レンズ３２、そして、補正レンズ５１〜５４の
全てがプラスチックにより形成されている。表６は、実
施例２の走査光学系におけるシリンドリカルレンズ１３
より感光体ドラム６１〜６４側の構成を示す。
を示し、図１４は主走査方向の説明図、図１５は外側の
光束L1の光路を示す副走査方向の説明図、図１６は内側
の光束L2の光路を示す副走査方向の説明図である。実施
例２の走査光学系は、走査レンズ３０が第１レンズ３１
と第２レンズ３２との２枚構成であり、第１レンズ３
１、第２レンズ３２、そして、補正レンズ５１〜５４の
全てがプラスチックにより形成されている。表６は、実
施例２の走査光学系におけるシリンドリカルレンズ１３
より感光体ドラム６１〜６４側の構成を示す。
【００４８】
【表６】
【００４９】第１面はシリンドリカル面、第２面、第３
面は平面、第４面は回転対称非球面、第５面は球面、第
６面は平面、第７面はアナモフィック非球面、第８面、
第１１面は二次元多項式非球面、第９面、第１２面は球
面である。第４面の係数は表７、第７面の係数は表８、
第８面の係数は表９、第１１面の係数は表１０にそれぞ
れ示される。
面は平面、第４面は回転対称非球面、第５面は球面、第
６面は平面、第７面はアナモフィック非球面、第８面、
第１１面は二次元多項式非球面、第９面、第１２面は球
面である。第４面の係数は表７、第７面の係数は表８、
第８面の係数は表９、第１１面の係数は表１０にそれぞ
れ示される。
【００５０】
【表７】
【００５１】
【表８】
【００５２】
【表９】
【００５３】
【表１０】
【００５４】実施例２では、走査レンズ３０の第２レン
ズ３２の感光体ドラム側の面、すなわち第７面の副走査
方向のパワーの主走査方向における分布を、図１７に示
すように光軸に対して非対称に設定することにより、走
査線の湾曲の非対称性を補正しており、その結果、感光
体ドラム面上での走査線湾曲(ボウ)は、図１８に示すよ
うに低く抑えられる。図１８(A)は外側の光学系の光束L
1に対する走査線、図１８(B)は内側の光学系の光束L2に
対する走査線をそれぞれ示している。
ズ３２の感光体ドラム側の面、すなわち第７面の副走査
方向のパワーの主走査方向における分布を、図１７に示
すように光軸に対して非対称に設定することにより、走
査線の湾曲の非対称性を補正しており、その結果、感光
体ドラム面上での走査線湾曲(ボウ)は、図１８に示すよ
うに低く抑えられる。図１８(A)は外側の光学系の光束L
1に対する走査線、図１８(B)は内側の光学系の光束L2に
対する走査線をそれぞれ示している。
【００５５】図１９〜図２２は、実施例２の走査光学系
の他の収差を示す。図１９はｆθ特性、図２０は像面湾
曲(M:主走査方向、S:副走査方向)、図２１はFナンバー
の変化(M:主走査方向、S:副走査方向)、図２２は波面収
差を示し、各図とも(A)は外側の光束L1が通る光学系の
収差、(B)は内側の光束L2が通る光学系の収差を示す。
の他の収差を示す。図１９はｆθ特性、図２０は像面湾
曲(M:主走査方向、S:副走査方向)、図２１はFナンバー
の変化(M:主走査方向、S:副走査方向)、図２２は波面収
差を示し、各図とも(A)は外側の光束L1が通る光学系の
収差、(B)は内側の光束L2が通る光学系の収差を示す。
【００５６】
【実施例３】図２３〜図２５は、実施例３の走査光学系
を示し、図２３は主走査方向の説明図、図２４は外側の
光束L1の光路を示す副走査方向の説明図、図２５は内側
の光束L2の光路を示す副走査方向の説明図である。実施
例３の走査光学系は、走査レンズ３０が１枚構成であ
り、この走査レンズと補正レンズ５１〜５４とが共にプ
ラスチックにより形成されている。表１１は、実施例３
の走査光学系におけるシリンドリカルレンズ１３より感
光体ドラム６１〜６４側の構成を示す。
を示し、図２３は主走査方向の説明図、図２４は外側の
光束L1の光路を示す副走査方向の説明図、図２５は内側
の光束L2の光路を示す副走査方向の説明図である。実施
例３の走査光学系は、走査レンズ３０が１枚構成であ
り、この走査レンズと補正レンズ５１〜５４とが共にプ
ラスチックにより形成されている。表１１は、実施例３
の走査光学系におけるシリンドリカルレンズ１３より感
光体ドラム６１〜６４側の構成を示す。
【００５７】
【表１１】
【００５８】第１面はシリンドリカル面、第２面、第３
面は平面、第４面は球面、第５面はアナモフィック非球
面、第６面、第９面は二次元多項式非球面、第７面、第
１０面は球面である。第５面の係数は表１２、第６面の
係数は表１３、第９面の係数は表１４にそれぞれ示され
る。
面は平面、第４面は球面、第５面はアナモフィック非球
面、第６面、第９面は二次元多項式非球面、第７面、第
１０面は球面である。第５面の係数は表１２、第６面の
係数は表１３、第９面の係数は表１４にそれぞれ示され
る。
【００５９】
【表１２】
【００６０】
【表１３】
【００６１】
【表１４】
【００６２】実施例３では、走査レンズ３０の感光体ド
ラム側の面、すなわち第５面の副走査方向のパワーの主
走査方向における分布を、図２６に示すように光軸に対
して非対称に設定することにより、走査線の湾曲の非対
称性を補正しており、その結果、感光体ドラム面上での
走査線湾曲(ボウ)は、図２７に示すように低く抑えられ
る。図２７(A)は外側の光学系の光束L1に対する走査
線、図２７(B)は内側の光学系の光束L2に対する走査線
をそれぞれ示している。
ラム側の面、すなわち第５面の副走査方向のパワーの主
走査方向における分布を、図２６に示すように光軸に対
して非対称に設定することにより、走査線の湾曲の非対
称性を補正しており、その結果、感光体ドラム面上での
走査線湾曲(ボウ)は、図２７に示すように低く抑えられ
る。図２７(A)は外側の光学系の光束L1に対する走査
線、図２７(B)は内側の光学系の光束L2に対する走査線
をそれぞれ示している。
【００６３】図２８〜図３１は、実施例３の走査光学系
の他の収差を示す。図２８はｆθ特性、図２９は像面湾
曲(M:主走査方向、S:副走査方向)、図３０はFナンバー
の変化(M:主走査方向、S:副走査方向)、図３１は波面収
差を示し、各図とも(A)は外側の光束L1が通る光学系の
収差、(B)は内側の光束L2が通る光学系の収差を示す。
の他の収差を示す。図２８はｆθ特性、図２９は像面湾
曲(M:主走査方向、S:副走査方向)、図３０はFナンバー
の変化(M:主走査方向、S:副走査方向)、図３１は波面収
差を示し、各図とも(A)は外側の光束L1が通る光学系の
収差、(B)は内側の光束L2が通る光学系の収差を示す。
【００６４】
【実施例４】図３２〜図３４は、実施例４の走査光学系
を示し、図３２は主走査方向の説明図、図３３は外側の
光束L1の光路を示す副走査方向の説明図、図３４は内側
の光束L2の光路を示す副走査方向の説明図である。実施
例４の走査光学系は、走査レンズ３０が第１レンズ３１
と第２レンズ３２との２枚構成であり、第１レンズ３１
がプラスチック、第２レンズ３２がガラス、そして、補
正レンズ５１−５４がプラスチックにより形成されてい
る。表１５は、実施例４の走査光学系におけるシリンド
リカルレンズ１３より感光体ドラム６１〜６４側の構成
を示す。
を示し、図３２は主走査方向の説明図、図３３は外側の
光束L1の光路を示す副走査方向の説明図、図３４は内側
の光束L2の光路を示す副走査方向の説明図である。実施
例４の走査光学系は、走査レンズ３０が第１レンズ３１
と第２レンズ３２との２枚構成であり、第１レンズ３１
がプラスチック、第２レンズ３２がガラス、そして、補
正レンズ５１−５４がプラスチックにより形成されてい
る。表１５は、実施例４の走査光学系におけるシリンド
リカルレンズ１３より感光体ドラム６１〜６４側の構成
を示す。
【００６５】
【表１５】
【００６６】第１面はシリンドリカル面、第２面、第３
面は平面、第４面は回転対称非球面、第５面はアナモフ
ィック非球面、第６面は平面、第７面、第８面、第１１
面は球面、、第９面、第１２面は二次元多項式非球面で
ある。第４面の係数は表１６、第５面の係数は表１７、
第９面の係数は表１８、第１２面の係数は表１９にそれ
ぞれ示される。
面は平面、第４面は回転対称非球面、第５面はアナモフ
ィック非球面、第６面は平面、第７面、第８面、第１１
面は球面、、第９面、第１２面は二次元多項式非球面で
ある。第４面の係数は表１６、第５面の係数は表１７、
第９面の係数は表１８、第１２面の係数は表１９にそれ
ぞれ示される。
【００６７】
【表１６】
【００６８】
【表１７】
【００６９】
【表１８】
【００７０】
【表１９】
【００７１】実施例４では、走査レンズ３０の第１レン
ズ３１の感光体ドラム側の面、すなわち第５面の副走査
方向のパワーの主走査方向における分布を、図３５に示
すように光軸に対して非対称に設定することにより、走
査線の湾曲の非対称性を補正しており、その結果、感光
体ドラム面上での走査線湾曲(ボウ)は、図３６に示すよ
うに低く抑えられる。図３６(A)は外側の光学系の光束L
1に対する走査線、図３６(B)は内側の光学系の光束L2に
対する走査線をそれぞれ示している。
ズ３１の感光体ドラム側の面、すなわち第５面の副走査
方向のパワーの主走査方向における分布を、図３５に示
すように光軸に対して非対称に設定することにより、走
査線の湾曲の非対称性を補正しており、その結果、感光
体ドラム面上での走査線湾曲(ボウ)は、図３６に示すよ
うに低く抑えられる。図３６(A)は外側の光学系の光束L
1に対する走査線、図３６(B)は内側の光学系の光束L2に
対する走査線をそれぞれ示している。
【００７２】図３７〜図４０は、実施例４の走査光学系
の他の収差を示す。図３７はｆθ特性、図３８は像面湾
曲(M:主走査方向、S:副走査方向)、図３９はFナンバー
の変化(M:主走査方向、S:副走査方向)、図４０は波面収
差を示し、各図とも(A)は外側の光束L1が通る光学系の
収差、(B)は内側の光束L2が通る光学系の収差を示す。
の他の収差を示す。図３７はｆθ特性、図３８は像面湾
曲(M:主走査方向、S:副走査方向)、図３９はFナンバー
の変化(M:主走査方向、S:副走査方向)、図４０は波面収
差を示し、各図とも(A)は外側の光束L1が通る光学系の
収差、(B)は内側の光束L2が通る光学系の収差を示す。
【００７３】次に、各実施例が前述した副走査方向の曲
率半径の主走査方向における分布の条件、 ｜Ｒｚ(０)｜＜｜Ｒｚ（−Ｙ）｜＜｜Ｒｚ（Ｙ）｜ を満たしていることを説明する。以下の表２０は、走査
レンズ３０の光軸Ａｘを基準として光源部１０からの光
束が入射する−方向と、逆側である＋方向とについて、
光軸からの距離Ｙ＝３５ｍｍの位置での副走査方向の曲
率半径Ｒｚ（−３５）、Ｒｚ（３５）、および光軸Ａｘ
上での副走査方向の曲率半径Ｒｚ(０)のそれぞれの絶対
値を各実施例について示す。
率半径の主走査方向における分布の条件、 ｜Ｒｚ(０)｜＜｜Ｒｚ（−Ｙ）｜＜｜Ｒｚ（Ｙ）｜ を満たしていることを説明する。以下の表２０は、走査
レンズ３０の光軸Ａｘを基準として光源部１０からの光
束が入射する−方向と、逆側である＋方向とについて、
光軸からの距離Ｙ＝３５ｍｍの位置での副走査方向の曲
率半径Ｒｚ（−３５）、Ｒｚ（３５）、および光軸Ａｘ
上での副走査方向の曲率半径Ｒｚ(０)のそれぞれの絶対
値を各実施例について示す。
【００７４】
【表２０】
【００７５】表２０に示すように、いずれの実施例も上
述した条件を満たしている。このように、副走査方向の
曲率半径、すなわちパワーに主走査方向に関する非対称
性を持たせることにより、偏向点変化による走査線の傾
きを補正することができる。
述した条件を満たしている。このように、副走査方向の
曲率半径、すなわちパワーに主走査方向に関する非対称
性を持たせることにより、偏向点変化による走査線の傾
きを補正することができる。
【００７６】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、光束がポリゴンミラーに対して副走査方向において
斜めに入射する走査光学系において、走査レンズの一面
を副走査方向のパワーの主走査方向における分布が光軸
に対して非対称なアナモフィック非球面とすることによ
り、光源部からの光束を主走査方向においてポリゴンミ
ラーによる光束の走査範囲外から入射させることにより
生じる偏向点変化に起因する走査線の傾きを補正するこ
とができる。したがって、複数の光束を利用するタンデ
ム方式やマルチビーム方式の走査光学系では、ポリゴン
ミラーへの副走査方向の入射角度の符号が異なる各光束
により形成される走査線の方向を精度よく揃えることが
でき、カラープリンターでの色ズレの発生を防ぐことが
できる。
ば、光束がポリゴンミラーに対して副走査方向において
斜めに入射する走査光学系において、走査レンズの一面
を副走査方向のパワーの主走査方向における分布が光軸
に対して非対称なアナモフィック非球面とすることによ
り、光源部からの光束を主走査方向においてポリゴンミ
ラーによる光束の走査範囲外から入射させることにより
生じる偏向点変化に起因する走査線の傾きを補正するこ
とができる。したがって、複数の光束を利用するタンデ
ム方式やマルチビーム方式の走査光学系では、ポリゴン
ミラーへの副走査方向の入射角度の符号が異なる各光束
により形成される走査線の方向を精度よく揃えることが
でき、カラープリンターでの色ズレの発生を防ぐことが
できる。
【００７７】また、走査レンズに主走査方向の非対称性
を持たせることにより、補正レンズは主走査方向に関し
て対称形状にすることができる。したがって、ポリゴン
ミラーに対して複数の光束を入射させる場合、副走査方
向に関する入射角度の絶対値が等しく符号が異なる光束
については、同一形状の補正レンズを１８０°回転させ
て利用することができ、それぞれの光束について別形状
の補正レンズを用いるよりも部品の種類を削減すること
ができる。
を持たせることにより、補正レンズは主走査方向に関し
て対称形状にすることができる。したがって、ポリゴン
ミラーに対して複数の光束を入射させる場合、副走査方
向に関する入射角度の絶対値が等しく符号が異なる光束
については、同一形状の補正レンズを１８０°回転させ
て利用することができ、それぞれの光束について別形状
の補正レンズを用いるよりも部品の種類を削減すること
ができる。
【図１】 この発明の走査光学系の概要を示す副走査方
向の断面内の説明図である。
向の断面内の説明図である。
【図２】 実施例１の走査光学系の主走査方向の説明図
である。
である。
【図３】 実施例１の走査光学系の外側の光束の光路を
示す副走査方向の説明図である。
示す副走査方向の説明図である。
【図４】 実施例１の走査光学系の内側の光束の光路を
示す副走査方向の説明図である。
示す副走査方向の説明図である。
【図５】 実施例１の走査光学系の偏向点変化を示すグ
ラフである。
ラフである。
【図６】 実施例１の走査光学系の走査レンズの第１面
上における走査線の湾曲を示すグラフである。
上における走査線の湾曲を示すグラフである。
【図７】 実施例１の走査光学系の走査レンズに含まれ
るアナモフィック非球面の副走査方向の曲率半径の分布
を示すグラフである。
るアナモフィック非球面の副走査方向の曲率半径の分布
を示すグラフである。
【図８】 実施例１の走査光学系のボウを示すグラフで
ある。
ある。
【図９】 比較例の走査光学系のボウを示すグラフであ
る。
る。
【図１０】 実施例１の走査光学系のｆθ特性を示すグ
ラフである。
ラフである。
【図１１】 実施例１の走査光学系の像面湾曲を示すグ
ラフである。
ラフである。
【図１２】 実施例１の走査光学系のFナンバーの変化
を示すグラフである。
を示すグラフである。
【図１３】 実施例１の走査光学系の波面収差を示すグ
ラフである。
ラフである。
【図１４】 実施例２の走査光学系の主走査方向の説明
図である。
図である。
【図１５】 実施例２の走査光学系の外側の光束の光路
を示す副走査方向の説明図である。
を示す副走査方向の説明図である。
【図１６】 実施例２の走査光学系の内側の光束の光路
を示す副走査方向の説明図である。
を示す副走査方向の説明図である。
【図１７】 実施例２の走査光学系の走査レンズに含ま
れるアナモフィック非球面の副走査方向の曲率半径の分
布を示すグラフである。
れるアナモフィック非球面の副走査方向の曲率半径の分
布を示すグラフである。
【図１８】 実施例２の走査光学系のボウを示すグラフ
である。
である。
【図１９】 実施例２の走査光学系のｆθ特性を示すグ
ラフである。
ラフである。
【図２０】 実施例２の走査光学系の像面湾曲を示すグ
ラフである。
ラフである。
【図２１】 実施例２の走査光学系のFナンバーの変化
を示すグラフである。
を示すグラフである。
【図２２】 実施例２の走査光学系の波面収差を示すグ
ラフである。
ラフである。
【図２３】 実施例３の走査光学系の主走査方向の説明
図である。
図である。
【図２４】 実施例３の走査光学系の外側の光束の光路
を示す副走査方向の説明図である。
を示す副走査方向の説明図である。
【図２５】 実施例３の走査光学系の内側の光束の光路
を示す副走査方向の説明図である。
を示す副走査方向の説明図である。
【図２６】 実施例３の走査光学系の走査レンズに含ま
れるアナモフィック非球面の副走査方向の曲率半径の分
布を示すグラフである。
れるアナモフィック非球面の副走査方向の曲率半径の分
布を示すグラフである。
【図２７】 実施例３の走査光学系のボウを示すグラフ
である。
である。
【図２８】 実施例３の走査光学系のｆθ特性を示すグ
ラフである。
ラフである。
【図２９】 実施例３の走査光学系の像面湾曲を示すグ
ラフである。
ラフである。
【図３０】 実施例３の走査光学系のFナンバーの変化
を示すグラフである。
を示すグラフである。
【図３１】 実施例３の走査光学系の波面収差を示すグ
ラフである。
ラフである。
【図３２】 実施例４の走査光学系の主走査方向の説明
図である。
図である。
【図３３】 実施例４の走査光学系の外側の光束の光路
を示す副走査方向の説明図である。
を示す副走査方向の説明図である。
【図３４】 実施例４の走査光学系の内側の光束の光路
を示す副走査方向の説明図である。
を示す副走査方向の説明図である。
【図３５】 実施例４の走査光学系の走査レンズに含ま
れるアナモフィック非球面の副走査方向の曲率半径の分
布を示すグラフである。
れるアナモフィック非球面の副走査方向の曲率半径の分
布を示すグラフである。
【図３６】 実施例４の走査光学系のボウを示すグラフ
である。
である。
【図３７】 実施例４の走査光学系のｆθ特性を示すグ
ラフである。
ラフである。
【図３８】 実施例４の走査光学系の像面湾曲を示すグ
ラフである。
ラフである。
【図３９】 実施例４の走査光学系のFナンバーの変化
を示すグラフである。
を示すグラフである。
【図４０】 実施例４の走査光学系の波面収差を示すグ
ラフである。
ラフである。
１０ 光源部
１１ 半導体レーザー
１２ コリメートレンズ
１３ シリンドリカルレンズ
２０ ポリゴンミラー
３０ 走査レンズ
５１〜５４ 補正レンズ
６１〜６４ 感光体ドラム
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Ｆターム(参考） 2C362 BA52 BA86 BA90 BB14 CA22
CA39
2H045 BA22 BA34 CA04 CA34 CA68
2H087 KA19 LA22 LA28 RA07 TA01
TA02 TA08
5C051 AA02 CA07 DB22 DB30 DC04
5C072 AA03 BA19 DA02 DA21 HA02
HA06 HA09 HA13 QA14 QA17
XA05
Claims (9)
- 【請求項１】 光束を発生する光源部と、 複数の反射面を有し、回転駆動されることにより前記光
源部から発して入射する光束を反射、偏向させるポリゴ
ンミラーと、 該ポリゴンミラーにより反射された光束を被走査面上で
主走査方向に走査するスポットとして収束させる結像光
学系とを備え、 前記結像光学系は、単数または複数の単レンズから構成
される走査レンズと、該走査レンズより前記被走査面側
に配置された像面湾曲補正用の補正レンズとを備え、 前記光源部は、主走査方向においては、前記ポリゴンミ
ラーによる光束の走査範囲外から、副走査方向において
は、前記ポリゴンミラーの回転軸に対して垂直な平面に
対して斜めに、前記ポリゴンミラーに対して光束を入射
させるよう配置され、 前記走査レンズの少なくとも１面は、副走査方向のパワ
ーの主走査方向における分布が光軸に対して非対称なア
ナモフィック面であり、 前記補正レンズは、副走査方向のパワーの主走査方向に
おける分布が面中心に対して対称な面のみで構成される
ことを特徴とする走査光学系。 - 【請求項２】 前記走査レンズのアナモフィック面は、
副走査方向に対して垂直で光軸を含む平面に関して対称
な形状を有し、前記補正レンズは、副走査方向に対して
垂直で面中心を含む平面に関して非対称な形状のアナモ
フィック面を含むことを特徴とする請求項１に記載の走
査光学系。 - 【請求項３】 前記走査レンズのアナモフィック面は、
主走査方向の断面形状が当該走査レンズの光軸からの主
走査方向の距離の関数として定義され、副走査方向の断
面形状が円弧であって、その曲率半径が前記光軸からの
主走査方向の距離の関数として主走査方向の断面形状と
は独立して定義されるアナモフィック非球面であること
を特徴とする請求項１または２に記載の走査光学系。 - 【請求項４】 前記走査レンズのアナモフィック面は、
当該面上における主走査方向の位置を光軸を基準として
前記光源部からの光束が入射する側を−方向、逆側を＋
方向、光軸からの距離をＹとして表し、当該位置におけ
る副走査方向の曲率半径をＲｚ(Ｙ)として、 ｜Ｒｚ(０)｜＜｜Ｒｚ（−Ｙ）｜＜｜Ｒｚ（Ｙ）｜ を満たすことを特徴とする請求項３に記載の走査光学
系。 - 【請求項５】 前記補正レンズの１つの面は、副走査方
向の断面の傾きが主走査方向の位置により変化し、副走
査方向に対して垂直で面中心を含む平面に関して非対称
な形状を有する非球面であることを特徴とする請求項１
〜４のいずれかに記載の走査光学系。 - 【請求項６】 前記補正レンズの非球面は、前記面中心
を原点として含んで走査レンズの光軸と直交する基準平
面からのサグ量が主走査方向・副走査方向それぞれの前
記面中心からの距離に関する二次元多項式で表現される
二次元多項式非球面であることを特徴とする請求項５に
記載の走査光学系。 - 【請求項７】 前記走査レンズのうち、少なくとも前記
アナモフィック面を含むレンズ素子がプラスチックレン
ズであることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記
載の走査光学系。 - 【請求項８】 前記光源部は、複数の光束を発し、前記
光源部から前記ポリゴンミラーに入射する複数の光束の
副走査方向の断面内での入射角度がそれぞれ異なり、前
記走査レンズは、前記複数の光束に対して共通に単数配
置され、前記補正レンズは、ほぼ同一の角度で前記ポリ
ゴンミラーに入射する光束毎に複数配置されていること
を特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の走査光学
系。 - 【請求項９】 前記光源部は、該光源部から発する複数
の光束を前記ポリゴンミラーに対して副走査方向の断面
内で絶対値が等しく符号が異なる入射角度で入射させ、
前記入射角度の絶対値が等しく符号が異なる光束に対し
ては、同一形状の前記補正レンズを前記走査レンズの光
軸の延長線に対して対称に配置して用いることを特徴と
する請求項８に記載の走査光学系。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002010763A JP4227334B2 (ja) | 2002-01-18 | 2002-01-18 | 走査光学系 |
| US10/347,282 US6954296B2 (en) | 2002-01-18 | 2003-01-21 | Scanning optical system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002010763A JP4227334B2 (ja) | 2002-01-18 | 2002-01-18 | 走査光学系 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003215486A true JP2003215486A (ja) | 2003-07-30 |
| JP4227334B2 JP4227334B2 (ja) | 2009-02-18 |
Family
ID=27648406
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002010763A Expired - Fee Related JP4227334B2 (ja) | 2002-01-18 | 2002-01-18 | 走査光学系 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6954296B2 (ja) |
| JP (1) | JP4227334B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005088376A1 (ja) * | 2004-03-12 | 2005-09-22 | Nalux Co., Ltd. | ビーム整形レンズ |
| JP2006267904A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置、走査レンズおよび画像形成装置 |
| JP2006323274A (ja) * | 2005-05-20 | 2006-11-30 | Konica Minolta Business Technologies Inc | 光走査装置 |
| JP2008256862A (ja) * | 2007-04-03 | 2008-10-23 | Fuji Xerox Co Ltd | 露光装置、画像形成装置 |
| US7551337B2 (en) | 2005-08-04 | 2009-06-23 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanning apparatus and image forming apparatus |
| JP2013083705A (ja) * | 2011-10-06 | 2013-05-09 | Konica Minolta Business Technologies Inc | レーザー走査光学装置 |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4366074B2 (ja) * | 2002-12-24 | 2009-11-18 | キヤノン株式会社 | 走査光学系 |
| JP4293952B2 (ja) * | 2004-07-27 | 2009-07-08 | Ｈｏｙａ株式会社 | 走査レンズ |
| JP4654350B2 (ja) * | 2004-12-13 | 2011-03-16 | Ｈｏｙａ株式会社 | 走査光学系 |
| JP4663355B2 (ja) * | 2005-03-11 | 2011-04-06 | 株式会社リコー | 光走査装置および画像形成装置 |
| KR100683189B1 (ko) * | 2005-06-28 | 2007-02-15 | 삼성전자주식회사 | 레이저 스캐닝 장치 |
| JP4963399B2 (ja) * | 2006-10-23 | 2012-06-27 | キヤノン株式会社 | 画像形成装置 |
| JP2008224965A (ja) * | 2007-03-12 | 2008-09-25 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置、および画像形成装置 |
| JP5423760B2 (ja) | 2011-10-03 | 2014-02-19 | コニカミノルタ株式会社 | レーザ走査光学装置 |
| US10426326B2 (en) | 2017-04-19 | 2019-10-01 | Canon U.S.A, Inc. | Fiber optic correction of astigmatism |
| US10561303B2 (en) | 2018-01-24 | 2020-02-18 | Canon U.S.A., Inc. | Optical probes with correction components for astigmatism correction |
| US10806329B2 (en) | 2018-01-24 | 2020-10-20 | Canon U.S.A., Inc. | Optical probes with optical-correction components |
| US10606064B2 (en) | 2018-01-24 | 2020-03-31 | Canon U.S.A., Inc. | Optical probes with astigmatism correction |
| US10234676B1 (en) | 2018-01-24 | 2019-03-19 | Canon U.S.A., Inc. | Optical probes with reflecting components for astigmatism correction |
| US10816789B2 (en) | 2018-01-24 | 2020-10-27 | Canon U.S.A., Inc. | Optical probes that include optical-correction components for astigmatism correction |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0769521B2 (ja) * | 1988-07-13 | 1995-07-31 | 株式会社日立製作所 | 光走査装置及び走査レンズ |
| JPH06230308A (ja) | 1993-02-04 | 1994-08-19 | Konica Corp | 光ビーム走査装置 |
| JPH08122635A (ja) | 1994-10-27 | 1996-05-17 | Konica Corp | 光走査光学系 |
| JP3567408B2 (ja) | 1996-09-04 | 2004-09-22 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 走査光学装置及び走査光学装置用の走査光学レンズ |
| JP2000019444A (ja) * | 1998-07-06 | 2000-01-21 | Canon Inc | 光走査光学系及びそれを用いた画像形成装置 |
| JP2001133707A (ja) | 1999-11-01 | 2001-05-18 | Asahi Optical Co Ltd | 走査光学装置 |
| JP2001004948A (ja) | 1999-06-25 | 2001-01-12 | Asahi Optical Co Ltd | マルチビーム光源走査装置 |
| JP2001010107A (ja) | 1999-06-25 | 2001-01-16 | Asahi Optical Co Ltd | マルチビーム光源走査装置 |
| JP3831560B2 (ja) | 1999-11-01 | 2006-10-11 | ペンタックス株式会社 | 走査光学装置 |
| JP4346835B2 (ja) * | 2001-05-11 | 2009-10-21 | Ｈｏｙａ株式会社 | 走査光学系 |
-
2002
- 2002-01-18 JP JP2002010763A patent/JP4227334B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-01-21 US US10/347,282 patent/US6954296B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005088376A1 (ja) * | 2004-03-12 | 2005-09-22 | Nalux Co., Ltd. | ビーム整形レンズ |
| JP2006267904A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置、走査レンズおよび画像形成装置 |
| JP4664715B2 (ja) * | 2005-03-25 | 2011-04-06 | 株式会社リコー | 光走査装置、走査レンズおよび画像形成装置 |
| JP2006323274A (ja) * | 2005-05-20 | 2006-11-30 | Konica Minolta Business Technologies Inc | 光走査装置 |
| US7551337B2 (en) | 2005-08-04 | 2009-06-23 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanning apparatus and image forming apparatus |
| JP2008256862A (ja) * | 2007-04-03 | 2008-10-23 | Fuji Xerox Co Ltd | 露光装置、画像形成装置 |
| JP2013083705A (ja) * | 2011-10-06 | 2013-05-09 | Konica Minolta Business Technologies Inc | レーザー走査光学装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4227334B2 (ja) | 2009-02-18 |
| US6954296B2 (en) | 2005-10-11 |
| US20030193703A1 (en) | 2003-10-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4227334B2 (ja) | 走査光学系 | |
| JP4454186B2 (ja) | 走査光学系 | |
| JP3869704B2 (ja) | 走査光学系 | |
| JPH06123844A (ja) | 光走査装置 | |
| JP2000249948A (ja) | マルチビーム走査装置および画像形成装置 | |
| JP4027761B2 (ja) | 走査光学系 | |
| JP4439141B2 (ja) | 走査光学系 | |
| US7414766B2 (en) | Optical beam scanning device having two sets of fθ mirrors where the mirror base and mirror face have differing coefficients of linear expansion | |
| JP2007140418A (ja) | 走査装置及び走査光学系 | |
| US20070081218A1 (en) | Light scanning device and scanning optical system | |
| JP4293780B2 (ja) | 走査光学系 | |
| JPH06281872A (ja) | 光ビーム走査光学系 | |
| JP2002333590A (ja) | 走査光学系 | |
| JP4171213B2 (ja) | 走査光学系 | |
| JP2006072288A (ja) | 光走査装置および画像形成装置、並びにレンズ | |
| JP2004309559A (ja) | 走査光学系 | |
| JP2004157205A (ja) | 走査光学系 | |
| JPH07174998A (ja) | 走査レンズ及び光走査装置 | |
| JP2005173221A (ja) | 光走査装置及び画像形成装置 | |
| JP2000267030A (ja) | 光走査装置 | |
| JP3393033B2 (ja) | 走査光学系 | |
| JP4191562B2 (ja) | 走査光学系の生産方法 | |
| JP3784591B2 (ja) | 走査結像光学系・光走査装置および画像形成装置 | |
| JP3752124B2 (ja) | 走査光学系 | |
| JP2000147407A (ja) | 走査結像レンズおよび光走査装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041108 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20071205 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071218 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080218 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20080425 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080805 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080814 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20081125 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20081128 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111205 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4227334 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121205 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131205 Year of fee payment: 5 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |