JPH06281872A - 光ビーム走査光学系 - Google Patents

光ビーム走査光学系

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JPH06281872A
JPH06281872A JP6003424A JP342494A JPH06281872A JP H06281872 A JPH06281872 A JP H06281872A JP 6003424 A JP6003424 A JP 6003424A JP 342494 A JP342494 A JP 342494A JP H06281872 A JPH06281872 A JP H06281872A
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JP
Japan
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mirror
scanning direction
curvature
main scanning
light beam
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JP6003424A
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Hiroshi Nakamura
弘 中村
Akiyoshi Hamada
明佳 濱田
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Minolta Co Ltd
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Minolta Co Ltd
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    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/435Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
    • B41J2/47Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light
    • B41J2/471Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/10Scanning systems
    • G02B26/12Scanning systems using multifaceted mirrors
    • G02B26/125Details of the optical system between the polygonal mirror and the image plane
    • G02B26/126Details of the optical system between the polygonal mirror and the image plane including curved mirrors

Abstract

(57)【要約】 【目的】 fθミラーを備えた光ビーム走査光学系にお
いて、fθミラーを走査光路のほぼ中央に配置しなけれ
ばならないという制約を緩和し、かつ、種々の光学的性
能を満足させること。 【構成】 半導体レーザ1、コリメータレンズ6、シリ
ンドリカルレンズ7、ポリゴンミラー10、fθミラー
20で光学系を構成する。fθミラー20は主走査方向
の曲率が画角の変化に応じて変化する自由トーリック面
からなる。fθミラー20の走査光路中の位置に対応し
てfθミラー20の主走査方向曲率を画角に応じて適切
に設定することにより、歪曲収差と主走査方向像面湾曲
の両者が同時に補正される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光ビーム走査光学系、
特にレーザビーム・プリンタやファクシミリ等に組み込
まれ、画像情報を乗せた光ビームを記録媒体上に集光さ
せる光ビーム走査光学系に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、レーザビーム・プリンタやファ
クシミリで使用されている光ビーム走査光学系は、基本
的には、光源としての半導体レーザ、ポリゴンミラーや
ガルバノミラー等の偏向器、fθレンズにより構成され
ている。偏向器は半導体レーザから放射された光ビーム
を等角速度で走査するものであり、そのままでは像面上
で主走査方向中心部から両端部にわたって走査速度に差
を生じ、等質な画像が得られない。fθレンズは、この
ような走査速度差(歪曲収差)を補正するために設置さ
れている。しかし、fθレンズは種々の凹レンズ,凸レ
ンズ等を組み合わせたものであり、レンズ設計が極めて
複雑で、研摩面数が多くて加工上の精度向上が図り難
く、高価でもある。しかも、透光性の良好な材質を選択
しなければならないという材質面からの制約もある。
【0003】そこで、高価で制約の多いfθレンズに代
えて、加工が容易で加工精度を高めることができる球面
ミラーを採用し、光学系のコンパクト化を図った光学系
が提案されている(特開平1−200219号公報参
照)。さらに、この種のfθミラーを用いた光学系の改
良として、本願発明者によって、トロイダルミラーを用
いた光学系が提案されている(特開平4−194814
号公報参照)。この光学系は、反射面1面のみで歪曲収
差(fθ性)補正機能、主走査方向像面湾曲補正機能、
副走査方向像面湾曲補正機能及びポリゴンミラーの面倒
れ補正機能の全てを満足する。しかし、このような全て
の機能を満足しようとすると、fθミラーを走査光路の
ほぼ中央に配置すること、即ち、ポリゴンミラーからf
θミラーまでの距離と、fθミラーから像面までの距離
をほぼ等しく設定することが必要となる。換言すれば、
前記二つの距離の比が1:1から外れていくと、歪曲収
差と主走査方向像面湾曲のいずれかが良好に補正できな
くなる。そのため、各種光学部品の配置の自由度が少な
くなり、配置スペースの条件によっては、光路折り返し
ミラーの枚数を増加せざるを得ないという問題点が生じ
た。
【0004】
【発明の目的、構成、作用、効果】そこで、本発明の目
的は、fθミラーを走査光路のほぼ中央に配置しなけれ
ばならないという制約を緩和し、かつ、種々の光学的性
能を満足した光ビーム走査光学系を提供することにあ
る。以上の目的を達成するため、本発明に係る光ビーム
走査光学系は、主走査方向の曲率が画角の変化に応じて
変化する自由トーリック面からなり、偏向器で走査され
た光ビームを折り返して記録媒体上に集光させるfθミ
ラーを備えている。ここで、自由トーリック面とは、主
走査方向曲率半径と副走査方向曲率半径が異なり、か
つ、主走査方向曲率半径と副走査方向曲率半径の少なく
ともいずれかが画角の変化に応じて変化する面を称す
る。画角の変化に応じて自由トーリック面の主曲線の曲
率を変化させることをデビエーションという。
【0005】以上の構成において、光源から放射された
光ビームは偏向器によって等角速度に走査され、この走
査ビームはfθミラーで反射され、記録媒体上に集光す
る。前記偏向器による主走査及び記録媒体の移動による
副走査で画像が形成される。そして、fθミラーによる
反射ビームは主走査方向に対する走査速度を走査域中心
からその両端部にわたって均等となるように歪曲収差が
補正される。さらに、光源から放射された光ビームは光
学素子によって主走査方向(偏向面内)に直線状に収束
されて偏向器に入射される。そして、fθミラーは偏向
器で走査された光ビームを記録媒体上へ集光させ、前記
光学素子と協働して偏向器の面倒れによる誤差を補正す
る。
【0006】また、本発明に係る光ビーム走査光学系に
おいて、前記fθミラーは自由トーリック面からなり、
その主曲線はデビエーションを持っている。主曲線は主
走査方向のパワーを決定し、前述の歪曲収差の補正機能
を損うことなく主走査方向の像面湾曲を補正する。この
特性は、fθミラーの走査光路中での位置に応じてデビ
エーションを適切に設定することにより、十分に発揮さ
れる。さらに、fθミラーのプロファイル曲線は副走査
方向のパワーを決定し、副走査方向の像面湾曲を補正す
る。ここで、プロファイル曲線とは、副走査方向に沿っ
た面とミラー面の交わる線を意味する。
【0007】さらに、本発明に係る光ビーム走査光学系
において、前記fθミラーは反射面の母線が画角の増大
に伴って副走査方向に曲がっていることが好ましい。母
線はプロファイル曲線の頂点の軌跡であり、副走査方向
の照射位置をコントロールし、集光面での走査線の曲が
り(ラインボー)が補正されることとなる。
【0008】
【実施例】以下、本発明に係る光ビーム走査光学系の実
施例につき、添付図面を参照して説明する。図1は第1
実施例、図2は第2実施例を示し、これらの図1、図2
において、1は半導体レーザ、6はコリメータレンズ、
7はシリンドリカルレンズ、10はポリゴンミラー、2
0はfθミラー、30はドラム状の感光体である。ま
た、図2において、15はハーフミラーであり、ポリゴ
ンミラー10とfθミラー20との間に配置されてい
る。図1及び図2に示す光学系の部品構成はこのハーフ
ミラー15の存否のみが相違する。
【0009】半導体レーザ1は図示しない制御回路によ
って強度変調(オン、オフ)され画像情報を乗せた光ビ
ームを放射する。この光ビームはコリメータレンズ6を
通過することにより収束具合を修正される。さらに、こ
の光ビームはシリンドリカルレンズ7を通過することに
より主走査方向に直線状にポリゴンミラー10の反射面
付近に収束される。ポリゴンミラー10は図示しないモ
ータにて支軸11を中心に矢印a方向に一定速度で回転
駆動される。従って、シリンドリカルレンズ7から射出
された収束ビームは、ポリゴンミラー10の各反射面で
連続的に反射され、等角速度で走査される。この走査ビ
ームは、図1に示す光学系にあっては、ミラー20にて
反射された後感光体30上に集光される。一方、図2に
示す光学系にあっては、ポリゴンミラー10で走査され
た光ビームはハーフミラー15を透過した後、fθミラ
ー20にて反射され、さらにハーフミラー15で反射さ
れた後感光体30上に集光される。光ビームは最終的に
感光体30上で軸方向に等速で走査され、これを主走査
と称する。また、感光体30は矢印b方向に一定速度で
回転駆動され、この回転による走査を副走査と称する。
そして、前記半導体レーザ1の強度変調と前記主走査、
副走査とによって感光体30上に画像(静電潜像)が形
成される。
【0010】ここで、fθミラー20の反射面(自由ト
ーリック面)について説明する。図3に示すように、自
由トーリック面は主走査方向(図中y方向)の曲率と副
走査方向(図中z方向)の曲率が異なり、且つ主走査方
向の画角の変化に応じて主走査方向の曲率が徐々に変化
する曲面をさす。プロファイル曲線とは、副走査方向に
沿った面(xz平面に平行な面)とミラー面の交わる線
のことをさす。図中20bはxz平面上でのプロファイ
ル曲線である。母線(20a)とはプロファイル曲線の
頂点の軌跡をさす。主曲線(20a’)とは母線の走査
面(xy平面)に対する射影である。
【0011】このような自由トーリック面において、主
曲線20a’は主走査方向のパワーを決定する。つま
り、主走査方向の像面湾曲と歪曲収差をコントロールす
る。プロファイル曲線20bは副走査方向のパワーを決
定する。つまり、副走査方向の像面湾曲をコントロール
する。母線20aは副走査方向の照射位置(感光体30
上でのビーム位置)をコントロールする。また、主曲線
20a’は主走査方向の画角に応じて曲率が変化する曲
線である。このような曲率変化を以下、デビエーション
と記す。このようなデビエーションの効果について順を
追って説明する。
【0012】(ポリゴンミラーの走査による収差)図4
は、fθミラーを設けない場合、ポリゴンミラー10に
よる走査の結果生じる光ビームの主走査方向像面湾曲と
fθ性(歪曲収差)の様子を示す。画角0度のビームフ
ォーカスが像面30aで一致するように調整すると、ビ
ームウエスト位置はポリゴンミラー10での反射点を中
心とした円弧30a’を描く。即ち、主走査方向にあっ
ては、画角周辺部でマイナス方向の像面湾曲となる。ま
た、定速度で回転するポリゴンミラー10で反射された
光ビームは等角速度で走査されるため、これを平面(像
面30a)で受けると、画角周辺部で速度が増加し(y
n<yn+1)、プラス方向のfθ性を示す。
【0013】(fθミラーの作用)ここで、走査光路に
fθミラーとして曲率一定の球面ミラー20’を介在さ
せる(図5参照)。球面ミラー20’の反射面の法線N
は、画角周辺部ほど内側を向く。これにより、主走査方
向像面湾曲が画角周辺部ほど図4に示した場合と比べて
プラス方向に補正される。また、球面ミラー20’の曲
率に基づいて、画角周辺部ほど光路長が短縮される。こ
れにより、歪曲収差が画角周辺部ほどマイナス方向に補
正される。
【0014】図6は、球面ミラー20’による走査光路
を示し、ポリゴンミラー10の反射点から球面ミラー2
0’までの距離T1と、球面ミラー20’から像面30
aまでの距離T2とをT1/T2≒1とし、かつ、主曲線
20a’の曲率半径を距離T1の3〜4倍程度に設定す
ることにより、主走査方向像面湾曲と歪曲収差を良好に
補正することができる。
【0015】(T1/T2<1のとき)ここで、球面ミ
ラー20’の位置をポリゴンミラー10側に寄せ、T1
/T2<1の関係に設定する(図7参照)。すると、同
じ画角の光ビームは、T1/T2=1の場合よりも、球面
ミラー20’の内側に当たることとなる。その結果、T
1/T2=1の場合と同等の補正効果を得るには、図8に
示すように、主曲線20a’の曲率をよりきつくする必
要が生じる。また、T1/T2の値を1よりも小さくして
いくと、主走査方向像面湾曲を補正する利き率が歪曲収
差を補正する利き率よりも減少していく。即ち、主走査
方向像面湾曲は補正が足りず、歪曲収差は過補正の状態
となる。図8に示すように、主曲線20a’の曲率をき
つくすれば、換言すれば、Δx0=Δx1となるように設
定すれば、主走査方向像面湾曲は適正に補正されるが、
歪曲収差はやはり過補正となる。
【0016】(デビエーションによる効果)そこで、球
面ミラー20’のマイナスの曲率半径を持った主曲線に
プラスのデビエーションを設けて自由トーリック面とす
る。つまり、主曲線の曲率を画角が大きくなるに従って
ゆるく設定する。これにて、fθ性に対する自由トーリ
ック面のパワーが画角が大きくなるに従って弱くなる。
また、画角周辺部でのパワーが弱くなり、即ち、画角が
大きくなるにつれてビームに対する収束作用が弱くな
り、ビームウェストがプラス方向(ビーム進行方向)に
シフトするため、主走査方向像面湾曲はプラス方向に補
正される。このとき、デビエーションを持つときの曲率
の変化により、歪曲収差補正に対する影響は小さく、主
走査方向像面湾曲補正への影響が大きくなり、効果的に
両補正に影響する。また、球面ミラー20’の面全体に
おいて主走査方向の曲率は画角が大きくなるに従ってゆ
るく設定されている。
【0017】(T1/T2>1のとき)一方、球面ミラー
20’の位置を像面30a側に寄せ、T1/T2>1の関
係に設定する(図9参照)。すると、同じ画角のビーム
は、T1/T2=1の場合よりも、球面ミラー20’の外
側に当たることとなる。その結果、T1/T2=0の場合
と同等の補正効果を得るには、主曲線20a’の曲率を
ゆるくする必要が生じる。また、T1/T2の値を1より
も大きくしていくと、距離T2が短くなり、歪曲収差を
補正する利き率が主走査方向像面湾曲を補正する利き率
よりも減少していく。即ち、歪曲収差は補正が足りず、
主走査方向像面湾曲は過補正の状態となる。
【0018】(デビエーションによる効果)以上の不具
合を解消するには、球面ミラー20’の主曲線20a’
にマイナスのデビエーションを設けて自由トーリック面
とする。つまり、主曲線の曲率を画角が大きくなるに従
ってきつく設定する。これにて、fθ性に対する自由ト
ーリック面のパワーが画角が大きくなるに従って強くな
る。また、画角周辺部でのパワーが強くなり、即ち、画
角が大きくなるにつれてビームに対する収束作用が強く
なり、ビームウエストがマイナス方向(ビーム進行と逆
方向)にシフトするため、主走査方向像面湾曲はマイナ
ス方向に補正される。このとき、デビエーションを持つ
ときの曲率の変化により、歪曲収差補正に対する影響は
大きく、主走査方向像面湾曲補正への影響が小さくな
り、効果的に両補正に影響する。また、球面ミラー2
0’の面全体において主走査方向の曲率は画角が大きく
なるに従ってきつく設定されている。
【0019】以上の説明から明らかなように、主曲線に
デビエーションを持たせた自由トーリック面をfθミラ
ーとして使用することにより、T1/T2≒1という条件
以外であっても、歪曲収差と主走査方向像面湾曲の両者
をバランスよく補正できる。
【0020】以下、具体的な数値を伴って自由トーリッ
ク面及び実験例1〜4を説明する。実験例1〜4の自由
トーリック面は、式(1)で表わされる。この式では、
基準点(0,0,0)に対するx,y,z方向(画角0
度のビームが進方向、主走査方向、副走査方向)の座標
x,y,zでトーリック面上の各点を表わし、自由トー
リック面の形状を表わしたもので、基準トーリック面
(基準点を含むトーリック面)に非球面項を加えて非球
面の形状として表わしている。非球面付加項はa i0,a
j0,aij,a0i,a0j,ε,εs,sj,μ,csで表わ
している。さらに、後述する具体的な設計例では、この
非球面全体をz方向にシフト、偏心させた例も示してい
る。設計例では、このシフト量をΔzで表わす。
【0021】
【数1】
【0022】μ:主曲線(主走査方向)の2次曲線パラ
メータ μ=1のとき円、μ=0のとき放物線、μ<0のとき双
曲線、μ>0のとき楕円、 K:基準点での主曲線の曲率(後述する実験例で面全体
が偏心している例では、基準点から偏心量を加算した位
置での曲率を表わす。) ε:プロファイル曲線(副走査方向)の2次曲線パラメ
ータ ε=1のとき円、ε=0のとき放物線、ε<0のとき双
曲線、ε>0のとき楕円、 c:基準点でのプロファイル曲線の曲率(後述する実験
例で面全体が偏心している例では、基準点から偏心量を
加算した位置での曲率を表わす。) aio:非球面係数 aoj:非球面係数 aij:非球面係数 εs:母線ねじれ関数の2次曲線パラメータ εs=1のとき円、εs=0のとき放物線、εs<0のと
き双曲線、εs>0のとき楕円、 cs:母線ねじれ関数の曲率 sj:母線ねじれ関数の高次項 本発明において、自由トーリック面は、μ=1、ε=
1、εs=1及びaio=0である。従って、前記(1)
式は次の(2)式に直すことができる。
【0023】
【数2】
【0024】さらに、実験例1〜3では、
【0025】
【数3】
【0026】実験例4では、
【0027】
【数4】
【0028】となる。次に、光学系の構成データの具体
例を実験例1〜4として以下の第1表に示し、fθミラ
ーの反射面形状を第2表〜第5表に示す。なお、実験例
1,2,4は図1に示す光学系を用いた例、実験例3は
図2に示す光学系を用いた例である。
【0029】また、第1表から第5表において、主曲線
頂点半径(1/K)及びプロファイル曲線頂点半径と
は、fθミラーがz方向に偏心しているときは、基準点
から偏心量離れた位置での主走査方向の曲率半径、及び
プロファイル曲線の曲率半径を意味する。fθミラーが
偏心していないときは、基準点での主走査方向の曲率半
径、及びプロファイル曲線の曲率半径を意味する。さら
に、物点はビームの自然収束点であり、距離T1,T2
基準点からの距離を示す。さらに、面頂点変位量とは、
基準点から面頂点のx方向の距離及びz方向の距離をい
う。入射開角とは光軸(x軸)と入射ビームのなす角度
である。
【0030】
【表1】
【0031】
【表2】
【0032】
【表3】
【0033】
【表4】
【0034】
【表5】
【0035】以上の各実験例1〜4における像面(感光
体面)上での(A)像面湾曲、(B)歪曲収差、(C)
照射高さ(像面でのビームウエスト位置の副走査方向の
位置)を図10〜図13に示す。これらの図中、(A)
において実線は主走査方向の像面湾曲を示し、点線は副
走査方向の像面湾曲を示す。
【0036】図1、図2におけるfθミラー20の反射
面をデビエーションを持つ自由トーリック面とすること
による歪曲収差及び主走査方向像面湾曲の補正は前述の
とおりである。以下に、その他の光学的性能の補正につ
き説明する。
【0037】(面倒れ誤差の補正)ポリゴンミラー10
の各反射面相互に垂直度の誤差が生じていると、感光体
30上での走査線が副走査方向にずれを生じ、画像にピ
ッチむらが発生する。この面倒れ誤差はポリゴンミラー
10による偏向面に垂直な断面においてポリゴンミラー
10の各反射面と感光体30の集光面とを共役関係に設
定すれば補正することができる。図1、図2に示した光
学系では、シリンドリカルレンズ7によって光ビームを
ポリゴンミラー10に集光する一方、fθミラー20に
よってポリゴンミラー10の各反射面と集光面とが共役
関係を保持するようにしている。
【0038】(副走査方向像面湾曲の補正)fθミラー
20を用い、自由トーリック面の主曲線の曲率半径を、
歪曲収差及び主走査方向像面湾曲の補正が適切になるよ
うに設定すると、走査画角の増大に伴って副走査方向に
プラスの像面湾曲が増大する。これを補正するには、画
角の増大に従ってトーリック面の副走査方向(プロファ
イル曲線20b、図3参照)の曲率半径を小さくすれば
よい。
【0039】(母線のz軸方向(副走査方向)シフトと
ラインボーの補正)fθミラー20に入射する光ビーム
と反射する光ビームを分離するためには、図15に示す
ように、fθミラー20をz軸方向(副走査方向)にシ
フトさせればよい。しかし、画角の増大に伴ってfθミ
ラー20面上での反射点がx軸上においてマイナス方向
に変位するため、像面(感光体30上の集光面)上で
は、曲線30bで示すラインボー(走査線の曲り)を生
じる。
【0040】これを補正するには、fθミラー20のプ
ロファイル曲線の頂点の位置のz方向(副走査方向)へ
のシフト量を画角の増大に伴って増大させればよい。シ
フトする方向は図16に示すように、ビームの入射側で
ある。従って、母線は画角の増大に伴ってビーム入射側
に向かって副走査方向に曲がっていく曲線となる。
【0041】図14は、実験例1で画角30゜及び画角
0゜でのシュミレーションによるビーム形状を示す。ビ
ームを45×45μm(中心強度の1/2での値)程度
まで絞っても、その形状に崩れが発生していないことが
確認できる。
【0042】なお、図2に示した第2実施例では、ハー
フミラー15によって走査光路を分離している。従っ
て、この第2実施例ではfθミラー20の母線をz軸方
向に偏芯させる必要はない。図17は、ポリゴンミラー
反射面10aから像面30aまでの距離S1を示す。
【0043】なお、本発明に係る光ビーム走査光学系
は、前記実施例に限定するものではなく、その要旨の範
囲内で種々に変更可能である。特に、走査光路は任意に
折り曲げることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1実施例としての光ビーム走査光学系の概略
構成を示す斜視図。
【図2】第2実施例としての光ビーム走査光学系の概略
構成を示す斜視図。
【図3】自由トーリック面を説明するための斜視図。
【図4】fθミラーがないときのfθ性と主走査方向像
面湾曲を示す光路図。
【図5】fθ(球面)ミラーによる歪曲収差と主走査方
向像面湾曲の補正を示す光路図。
【図6】fθ(球面)ミラーによる歪曲収差と主走査方
向像面湾曲の補正(T1/T2=1の条件)を示す光路
図。
【図7】fθ(球面)ミラーによる歪曲収差と主走査方
向像面湾曲の補正(T1/T2<1の条件)を示す光路
図。
【図8】fθ(球面)ミラーによる歪曲収差と主走査方
向像面湾曲の補正(T1/T2<1及びΔx0=Δx1の条
件)を示す光路図。
【図9】fθ(球面)ミラーによる歪曲収差と主走査方
向像面湾曲の補正(T1/T2>1の条件)を示す光路
図。
【図10】実験例1における感光体面上での像面湾曲、
歪曲収差及び照射高さを示すチャート図。
【図11】実験例2における感光体面上での像面湾曲、
歪曲収差及び照射高さを示すチャート図。
【図12】実験例3における感光体面上での像面湾曲及
び歪曲収差を示すチャート図。
【図13】実験例4における感光体面上での像面湾曲、
歪曲収差及び照射高さを示すチャート図。
【図14】実験例1における感光体面上でのビーム形状
を示す図。
【図15】fθミラーのプロファイル曲線とラインボー
の発生を示す光路図。
【図16】ラインボー発生を防止するためのfθミラー
のプロファイル曲線(母線のねじれ)を示す光路図。
【図17】光ビーム走査光学系の物体距離を示す光路
図。
【符号の説明】
1…半導体レーザ 7…シリンドリカルレンズ 10…ポリゴンミラー 20…fθ(自由トーリック面)ミラー 20a…母線 20a’…主曲線 30…感光体

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 画像情報に基づいて変調された光ビーム
    を発生する光源と、 前記光源から放射された光ビームを主走査方向に直線状
    に収束させる収束手段と、 前記収束手段の集光点付近に置かれ、収束ビームを等角
    速度で走査する偏向器と、 主走査方向の曲率が画角の変化に応じて変化する自由ト
    ーリック面からなり、前記偏向器で走査された光ビーム
    を折り返して記録媒体上に集光させるfθミラーと、 を備えたことを特徴とする光ビーム走査光学系。
  2. 【請求項2】 前記fθミラーの反射面の母線が、画角
    の増大に伴って副走査方向に曲がっていることを特徴と
    する請求項1記載の光ビーム走査光学系。
JP6003424A 1993-01-26 1994-01-18 光ビーム走査光学系 Pending JPH06281872A (ja)

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