JP4664715B2 - 光走査装置、走査レンズおよび画像形成装置 - Google Patents
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Description
(1) 略平行でかつ副走査方向に離れた複数の光束を光偏向器に入射し、複数の光束に対応する複数の走査光学素子を副走査方向に並べて走査する方式(特許文献1等参照)。
(2) 光偏向器の片側より光束を入射し、光偏向器で偏向された光束を3枚構成の走査光学系を用いて結像走査する方式であり、第1、第2の走査レンズは異なる被走査面に向かう複数の光束が通過し、第3の走査レンズは各被走査面毎に設けられている方式(特許文献2、特許文献3、特許文献4等参照)。
しかしながら、例えばシアン、マゼンタ、イエロー、ブラックの4つの異なる被走査面(感光体)を持つフルカラー対応の画像形成装置の光走査装置としては、光偏向器の数を減らすことは可能だが、副走査方向に複数の感光体に向かう光ビームを略平行に並べて光偏向器に入射させるため、ポリゴンミラー等の光偏向器が副走査方向に大型化するという課題がある。一般的に、光走査装置内の光学素子でポリゴンミラー部のコストは高く、装置全体の低コスト化及び小型化を狙う場合において弊害となる。
この斜め入射光学系を用いることで、前記ミラーで各光束が分離可能な副走査方向の隣接する光ビームの間隔を、光偏向器の大型化(副走査方向へのポリゴンミラーの多段化、厚肉化)無しに実現可能となる。
さらに斜め入射方式では、光源側からの光束をポリゴンミラーの回転軸に向けて入射させるために、主走査方向で走査レンズの光軸と重なる位置に光源を配置した場合、走査レンズとの干渉を避けるために斜め入射角は増大してしまう。
しかしながら、上記「子線頂点を結ぶ母線形状を副走査方向に湾曲させたレンズ面」を有するレンズは、母線を湾曲させることで諸問題を解決しており、入射光束に対応した個別の走査レンズが必要となるため、タンデム型画像形成装置の光走査光学系に適用する場合、走査レンズの枚数が増大してしまう。
また、副走査方向に曲率を持つため、組み付け誤差、加工誤差、環境変動等の影響により、同レンズに入射する光束が副走査方向にシフトした場合、副走査方向のレンズの屈折力の影響を受け、走査線曲がりの形状が変化し、カラー画像における初期の(または設計時の)色ずれ抑制の効果は得られず、色ずれが発生してしまうという課題がある。
先に例を挙げた斜め入射方式である特許文献5記載の技術においても、特許文献9と同様の面を用い走査線曲がりの補正を実施している。しかし、この場合にも前記の説明の如く、良好なビームスポット径を安定して得ることは難しい。
さらに本発明は、斜め入射方式の光走査装置における走査線曲がりと波面収差の劣化を有効に補正し、高速、高密度化や、温度変動時においても色ずれ発生が小さい新規な構成の画像形成装置を実現することを課題とする。
さらに本発明では、高速、高密度に対応し、フルカラー機における色ずれを低減する光走査装置の実現と、その光走査装置を用いて高速、高密度化や、温度変動時においても色ずれ発生が小さい画像形成装置の実現を目的とする。
さらにまた本発明では、光偏向器の小型化や、光源装置のマルチビーム化による光偏向器の回転数低下により消費電力の低下を図るなど、環境を考慮した光走査装置の実現と、その光走査装置を用いて低コスト、低消費電力、小型化を達成することができる画像形成装置の実現を目的とする。
本発明の第1の手段は、複数の光源装置を有し、各光源装置からの光ビームを共通の光偏向器により偏向した後、光走査光学系により各々異なる被走査面に集光して主走査方向に走査する光走査装置において、前記複数の光源装置からの全ての光ビームは、前記光偏向器の偏向反射面の法線に対し副走査方向に角度を有し、前記光走査光学系の少なくとも最も光偏向器に近い走査レンズは、前記複数の光源装置からの光ビームで共用され、その共用される走査レンズ(以下、共用レンズと言う)の1面は、偏向反射面に垂直で、且つ、面形状を表す式の原点を通過する単一の基準軸で主走査方向に応じて副走査方向の曲率が変化する面で構成され、複数の光ビームは前記光偏向器の偏向反射面の垂線に直交する方向において基準軸外を通過し、前記共用レンズの他面は、副走査方向に曲率を持たず、かつ、主走査方向に応じて副走査方向のチルト偏芯角度が異なる特殊面で、複数の光源装置からの光ビームごとに異なる基準軸を持つ異なる面で構成されることを特徴とするものである(請求項1)。
また、本発明の第3の手段は、第1または第2の手段の光走査装置において、前記共用レンズの特殊面は、光偏向器の偏向反射面に垂直で、前記共用レンズの他方の面の基準軸を含む面に対し鏡面対称であることを特徴とするものである(請求項3)。
また、本発明の第5の手段は、第4の手段の光走査装置において、最も被走査面側の走査レンズは、異なる被走査面に向かう光ビームごとに配置され、副走査方向に曲率を持たず、かつ、主走査方向に応じて副走査方向のチルト偏芯角度が異なる特殊面は、基準軸より主走査方向に応じて非対称に副走査方向のチルト偏芯角度が変化することを特徴とするものである(請求項5)。
また、本発明の第7の手段は、第1乃至第6のいずれか一つの手段の光走査装置において、前記光源装置として複数の光ビームを射出するマルチビーム光源装置を用いたことを特徴とするものである(請求項7)。
さらに本発明の第8の手段は、第1乃至第7のいずれか一つの手段の光走査装置において、複数の光源装置に対応する異なる被走査面は、少なくとも4つの感光体で構成されることを特徴とするものである(請求項8)。
また、本発明の第10の手段は、第9の手段の走査レンズにおいて、一方の面は単一の基準軸で主走査方向に応じて副走査方向の曲率が変化する面で構成され、他方の面は副走査方向に曲率を持たない面で構成され、かつ主走査方向に応じて副走査方向のチルト偏芯角度が異なる複数の特殊面で構成されることを特徴とするものである(請求項10)。
図1は、本発明に係る光走査装置の実施の1形態を説明するための図であり、同図(a)は光走査装置の光学系を主走査断面(光軸を含み、光偏向器による偏向走査方向(主走査方向)に平行な平断面)に展開して示す光学系配置であり、同図(b)は、光偏向器の偏向反射面から被走査面に至る光走査光学系の副走査断面(光軸を含み、主走査断面に直交する断面)上の光学系配置を示している。また、同図(c)は(b)の第1走査レンズL1の部分を拡大した図である。
先ず、図1を参照すると、光源装置としての半導体レーザ1から放射された発散性の光束はカップリングレンズ2により以後の光学系に適した光束形態に変換される。カップリングレンズ2により変換された光束形態は、平行光束であることも、弱い発散性あるいは弱い集束性の光束であることもできる。
図2は対向走査方式の光走査装置の構成例を示す図であり、図3はタンデム型のカラー画像形成装置に適用した対向走査方式の光走査装置の一例を示す図である。図中の符号1は光源装置、2はカップリングレンズ、3はシリンドリカルレンズ、4は折り返しミラー、5は光偏向器(ポリゴンミラー)、5bは防音ガラス、L1は第1走査レンズ、L2は第2走査レンズ、M1〜M3は折り返しミラー、7は被走査面である感光体である。
図2や図3に示すような対向走査方式の光走査装置においては、4つの光源1からの光束を1つの光偏向器5で2光束づつ2方向に振り分けて偏向走査するが、従来は光偏向器5の偏向反射面5aに直交する方向から光束を入射するため、図4(a)に示すが如く、各々対応する被走査面に向かう光束を分離するために必要な間隔Zを得るために、光偏向器5として副走査方向に2段化されたポリゴンミラーを使用している。また、光偏向器5を2段化することなく一段のポリゴンミラーで使用しても良いが、その場合にはポリゴンミラー部の副走査方向の厚さが厚くなり、高速化、低コスト化に不向きとなる。
さらに、被走査面7側には異なる被走査面に向かう光ビームごとに第2走査レンズL2が配置されている。この第2走査レンズL2の面形状は、前記第1走査レンズL1と同様に、主走査方向に応じて副走査方向の曲率が変化する面と、特殊面で構成されている。
また、像高間での副走査方向の走査位置、及び、劣化した波面収差量のバランスを取ることにより、各像高での走査位置や波面収差を補正し、被走査面上での走査線曲がりや波面収差の劣化によるビームスポット径の太りを補正している。
+A・Y4+B・Y6+C・Y8+D・Y10+E・Y12+・・・
+(Cs(Y)・Z2)/{1+√[1-(Cs(Y)・Z)2]}
+(F0+F1・Y+F2・Y2+F3・Y3+F4・Y4+・・)Z
但し、
Cm=1/RY
Cs(Y)=1/RZ
とする。
なお、(F0+F1・Y+F2・Y2+F3・Y3+F4・Y4+・・)Zは、チルト量を表す部分であり、チルト量を持たないときは、F0,F1,F2,・・・は全て0である。また、F1,F2,・・・が0で無いとき、チルト量は、主走査方向に変化することになる。
副走査方向に曲率を付けた場合、副走査方向の高さ毎に主走査方向の形状が大きく変化し、温度変動、光学素子の組み付け誤差により副走査方向に光ビームの入射位置がずれた場合に倍率誤差変動が大きく発生し、カラー機においては、各色間でのビームスポット位置がずれ、色ずれが発生してしまう。そこで、本発明の如く走査レンズの特殊面の副走査方向の面形状は、曲率を持たない平面形状とすることで、副走査方向の高さ毎に主走査方向の形状誤差を小さくでき、副走査方向に光ビームの入射位置がずれた場合の倍率誤差変動を小さくすることができ、色ずれの発生を抑えることができる。
また、この時、副走査方向に角度を持って入射させることによる波面収差の劣化は、光軸近傍では走査レンズに対し光束のスキューがほとんど発生しないため非常に小さい。このため、本発明における走査レンズの特殊面において、光軸上における偏芯量はゼロとすることができる。従来、走査レンズもしくはレンズ面をチルト偏芯、もしくはシフト偏芯させ、波面収差の補正や走査線曲がりを補正する場合、中央像高近傍においては、その性能を劣化させ、周辺像高とのバランスを取っていたが、本発明では走査レンズもしくはレンズ面を偏芯させる必要が無く、良好な光学性能の補正が可能となる。
もちろん、完全に機能分離させなければならないわけではなく、それぞれの走査レンズの特殊面で、波面収差補正の一部、走査線曲がり補正の一部を受け持っても良いことは言うまでもない。
そこで、本発明の走査レンズの特殊面においては、光軸から主走査方向に離れるに従い、偏芯量が増加する面形状とすることが望ましい。
図7に示す波面収差補正前のビームスポット径においても明らかなように、光軸近傍、つまり中央像高付近における光ビームの光束は、レンズ面にほぼ垂直に入射するため、光ビームが副走査方向に角度を持つことによる波面収差の劣化は小さい。
そこで、光軸から主走査方向に離れるに従い特殊チルト偏芯面の偏芯量を増加させ、光束のねじれによる波面収差劣化を補正させることで、図6に示すように、良好な光学性能のビームスポット径を得ることができる。
ここで、図8は、走査レンズに特殊面を用いずに、従来の走査レンズからなる走査光学系に光束を斜め入射させたときの副走査断面での光路を示す図である。図に示す光束は、カップリングレンズ通過後に配置されているアパーチャ(APT)の副走査方向中心の光ビーム(像高0へ向かう光束)cと、主走査方向両端の2本の光束a,bである。また副走査方向に強い屈折力を持つ走査レンズは、図中の第2走査レンズL2である。
さらに、図中の仮想面とは、実際には存在しない面であり、図中において第2走査レンズL2を第1走査レンズL1と水平に配置させるための仮想ミラー面である。
このため、光偏向器としてのポリゴンミラーにて偏向反射された光ビームは、周辺に行くほど、光偏向器の偏向反射面の法線に対し副走査方向に角度を持つ方向に高く、走査レンズに入射する。つまり、図9の光路図で示すが如く、偏向反射面にて光ビームが跳ね上げられた場合、第2走査レンズL2の入射面では、周辺像高に行くほど走査レンズの上部(第2走査レンズL2で像高0の光ビームcの通過位置を光軸としたとき、+150mmの像高では副走査方向の高さでプラス側)を光ビームa,bが通過する。
本発明によれば、走査レンズの特殊面の使用により、主走査方向、つまり各像高における像点位置を副走査方向に補正し、前記走査線曲がりの補正を可能としている。この走査レンズの特殊面は、最も被走査面側の走査レンズ(例えば第2走査レンズL2)に使用することが望ましい。光束は被走査面に近づく程その大きさ(光束径)は小さくなる。このため、走査線曲がりの補正のために光束の進行方向を変化させても光束内への影響は小さく、光偏向器5に近い走査レンズL1の特殊面で波面収差を補正した状態を劣化させることを防ぐことができる(補正後の光束を大きくスキューさせ波面を乱すことはない)。
つまり、波面収差補正のためには、光束径が大きく光束内の光ビームの進行方向を補正しやすい光偏向器5に近い走査レンズL1が有効となるが、被走査面7に近い走査レンズL2では、各像高に向かう光ビームがより分離されており、隣り合う光ビームの重なりが小さいため、前記特殊面の偏芯量を細かく設定可能であり、走査線曲がりの補正を良好に補正することが可能となる。
例えば、図11に示すような光偏向器5の片側のみで偏向走査する片側走査方式の光走査装置9においては、イエロー(Y)、マゼンタ(M)、シアン(C)、ブラック(K)の各被走査面としての感光体7Y,7M,7C,7Kに向かう光ビームの全てを単一の走査レンズL1で共有することで、走査レンズの数を大幅に減らすことが可能となる。また、図2や図3に示したような対向走査方式においては、2色分の光ビームで一つの走査レンズL1を共有することで、走査レンズの数を減らすことができる。
さらに、重ねるレンズの固定のための接着工程や、精度良い位置決めなど、組み付けにおける課題も生じてしまう。
+A・Y4+B・Y6+C・Y8+D・Y10+E・Y12+・・・
+(Cs(Y)・Z2)/{1+√[1-(Cs(Y)・Z)2]}
但し、
Cm=1/RY
Cs(Y)=1/RZ+aY+bY2+CY3+dY4+eY5+fY6+gY7+hY8
+iY9+jY10・・・
走査線曲がりや、波面収差の発生を小さくするために、光偏向器5の偏向反射面への斜め入射角を小さくする場合、前記の説明の如く、光偏向器5としての回転多面鏡(ポリゴンミラー)の偏向反射面に入射する光ビームは、走査レンズに干渉させないように主走査方向に角度を持って入射させる。この結果、前記回転多面鏡による「光学的サグ」の発生は、中心(走査レンズの光軸)に対して左右対称に発生しない。つまり、走査線曲がりが発生する原因となる光路長差が中心に対して左右対称とならないため、走査線曲がりの発生も左右非対称に発生することとなる。
説明を付け加えると、主走査方向に非対称に偏芯量が変化する特殊面を走査線曲がりの補正を例に挙げて説明し、その特殊面を最も被走査面側の走査レンズL2に配置することが望ましいと説明したが、波面収差補正においてもスキュー量は非対称となる。走査線曲がりに対しスキューの非対称性に対する感度は低いが、他の走査レンズ、すなわち最も被走査面側の走査レンズ以外の走査レンズL1にも主走査方向に非対称に偏芯量が変化する特殊面を用いることにより、諸収差を補正可能なことは言うまでもない。
共用レンズ(第1走査レンズ)L1の一方の面の特殊面形状は、光偏向器5の偏向反射面5aの法線に水平で、共用レンズL1の他方の面、つまり特殊トロイダル面の基準軸を含む面に対し、鏡面対称であることが望ましい。
すなわち、複数の光源装置1から異なる被走査面7に向かう光ビームを、光偏向器5の偏向反射面5aの法線に水平で、共用レンズL1の他方の面、つまり特殊トロイダル面の基準軸を含む面に対し副走査方向に対称な角度で偏向反射面に入射させることで、前記特殊面の形状は鏡面対称にすればよく、設計時の効率を上げることができる。また、主走査方向に対称な形状であれば、同一のレンズを反転して使用することも可能である。
本発明に係る光走査装置においては、光源装置1を、例えば複数の発光点を有する半導体レーザアレイや、単数の発光点もしくは複数の発光点を有する光源を複数用いたマルチビーム光源装置とし、複数の光ビームを感光体表面に同時に走査するような構成とするとよい。こうすることにより、高速化、高密度化を図った光走査装置および画像形成装置を構成することができる。また、このように光走査装置および画像形成装置を構成した場合にも、実施形態1〜3で説明してきた光走査光学系6(走査レンズL1,L2)を用いることにより、同様の効果を得ることができる。
図10(a)は光源ユニットの第1の実施形態を示す分解斜視図である。図10(a)において、光源である2つの半導体レーザ403,404は、各々ベース部材405に形成された嵌合孔405−1,405−2にベース部材の裏側から個別に嵌合されている。上記嵌合孔405−1,405−2は主走査方向に所定角度、本実施形態では約1.5°微小に傾斜していて、この嵌合孔に嵌合された半導体レーザ403,404も主走査方向に約1.5°傾斜している。半導体レーザ403,404は、その円筒状ヒートシンク部403−1,404−1に切り欠きが形成されていて、押え部材406、407の中心丸孔に形成された突起406−1,407−1を上記ヒートシンク部403−1,404−1の切り欠き部に合わせることによって発光源の配列方向が合わせられている。押え部材406,407はベース部材405にその背面側からネジ412で固定されることにより、半導体レーザ403,404がベース部材405に固定されている。また、コリメートレンズ408,409は各々その外周をベース部材405の半円状の取り付けガイド面405−4,405−5に沿わせて光軸方向の調整を行い、発光点から射出した発散ビームが平行光束となるよう位置決めされ接着されている。
また、ベース部材405の円筒状係合部405−3をホルダ部材410に係合し、ネジ413を貫通孔410−2に通してベース部材405のネジ孔405−6,405−7に螺合することによって、ベース部材405がホルダ部材410に固定され、光源ユニットを構成している。
次に、本発明に係る光走査装置を用いた画像形成装置の一実施形態を図11を参照しながら説明する。本実施形態は、本発明に係る光走査装置をタンデム型フルカラーレーザプリンタに適用した例である。図11において、装置内の下部側には水平方向に配設された給紙カセット13から給紙される記録材(例えば転写紙)Sを搬送する搬送ベルト17が設けられている。この搬送ベルト17上にはイエロー(Y)用の感光体7Y,マゼンタ(M)用の感光体7M,シアン(C)用の感光体7C及びブラック(K)用の感光体7Kが、転写紙Sの搬送方向上流側から下流側に向けて順に等間隔で配設されている。なお、以下、符号に対する添字Y,M,C,Kを適宜付けて区別するものとする。これらの感光体7Y,7M,7C,7Kは全て同一径に形成されたもので、その周囲には、電子写真プロセスにしたがって各プロセスを実行するプロセス部材が順に配設されている。感光体7Yを例に採れば、帯電チャージャ8Y、光走査装置9の光走査光学系6Y、現像装置10Y、転写チャージャ11Y、クリーニング装置12Y等が順に配設されている。なお、他の感光体7M,7C,7Kに対しても同様である。
なお、ここでは片側走査方式の光走査装置9を例に上げて説明したが、この他、図2や図3に示したような対向走査方式の光走査装置の構成としても良く、その場合には、光偏向器5を中央に配置し、その光偏向器5を挟んで一方の側にY用とM用の光走査光学系を配置し、他方の側にC用とK用の光走査光学系を配置すれば、同様に一つの光偏向器で4つの光ビームを同時に偏向走査することができる。また、この場合にも、各色の光走査光学系を前述の実施形態1〜4で説明した光走査装置の構成とすることで、走査線曲がりと波面収差の劣化を有効に補正し、色ずれが無く、高品位な画像再現性が確保できる画像形成装置を実現することができる。
本実施例は、図3に示すような構成の対向走査方式の光走査装置に図1の斜め入射光学系を適用したものを例に挙げ、光偏向器5である一段構成のポリゴンミラーの二方向の偏向反射面に、副走査方向に対称な角度で二光束づつ斜め入射させる斜め入射光学系とした場合の数値実施例である。
光源として用いられる半導体レーザ1は発光波長:780nmのもので、放射される発散性の光束はカップリングレンズ2(焦点距離:8mm)により「実質的な平行光束」に変換され、シリンドリカルレンズ3(焦点距離:72mm)の作用により、ポリゴンミラー5の偏向反射面の位置に「主走査方向に長い線像」として結像する。ポリゴンミラー5は、偏向反射面数:6で内接円半径:13mmのものである。また、ポリゴンミラー5の回転軸と偏向反射面5aは平行に形成されており、偏向反射面5aに対して光ビームは副走査方向に3.6°で斜めに入射され、主走査方向においては像高0に向かう光束に対し約60°で入射されている。カップリングレンズ2から射出された光束を規制するアパーチャは、主走査方向に3.9mm、副走査方向に0.84mmの矩形アパーチャを用いる。さらに、光走査光学系の半画角は31.1°である。
光走査光学系6の面番号3、4で示される第2走査レンズL2は、レンズの光軸と入射光束を一致させて配置している。すなわち、第2走査レンズL2に光束が斜め入射されないように3.6°傾けて配置されている。
光走査光学系の具体的なデータを下記の表1に示す。なお、下記のXは、各面をポリゴンミラーの回転軸に垂直な面(主走査断面)に投影したときの光軸方向(第1走査レンズL1の光軸方向になる)の距離を示す。
X(Y,Z)=Y2・Cm/{1+√[1-(1+K)・(Y・Cm)2]}
+A・Y4+B・Y6+C・Y8+D・Y10+E・Y12+F・Y14・・・
+(Cs(Y)・Z2)/{1+√[1-(Cs(Y)・Z)2]}
+(F0+F1・Y+F2・Y2+F3・Y3+F4・Y4+・・)Z
但し、
Cm=1/RY
Cs(Y)=1/RZ
とする。
Cs(Y)=1/RZ+aY+bY2+CY3+dY4+eY5+fY6+gY7+hY8
+iY9+jY10+kY11+lY12
また、本実施例の式における非球面係数は下記の表2の通りである。
この数値実施例は、対向走査方式の光走査装置において、光源からの光束を光偏向器(ポリゴンミラー)の偏向反射面に3.6°で斜め入射(偏向反射面に蹴上げる方向で入射)させる場合の、走査レンズL1,L2についてのレンズデータである。3.6°で蹴下げる側については、主走査形状は同一で特殊面の係数の符号を反転した形状、つまり本数値実施例に対し副走査方向に鏡面対称な形状となる。
2:カップリングレンズ
3:シリンドリカルレンズ(第1光学系)
4:折り返しミラー
5:光偏向器(ポリゴンミラー)
5a:偏向反射面
6:走査光学系
7:被走査面(感光体)
7Y,7M,7C,7K:感光体
8Y,8M,8C,8K:帯電チャージャ
9:光走査装置
9Y,9M,9C,9K:光走査光学系
10Y,10M,10C,10K:現像装置
11Y,11M,11C,11K:転写チャージャ
12Y,12M,12C,12K:クリーニング装置
13:給紙カセット
14:給紙ローラ
15:搬送ローラ
16:レジストローラ
17:搬送ベルト
18:駆動ローラ
19:従動ローラ
20:ベルト帯電チャージャ
21:ベルト分離チャージャ
22:除電チャージャ
23:ベルトクリーニング装置
24:定着装置
25:排紙ローラ
26:排紙トレイ
Claims (11)
- 複数の光源装置を有し、各光源装置からの光ビームを共通の光偏向器により偏向した後、光走査光学系により各々異なる被走査面に集光して主走査方向に走査する光走査装置において、
前記複数の光源装置からの全ての光ビームは、前記光偏向器の偏向反射面の法線に対し副走査方向に角度を有し、前記光走査光学系の少なくとも最も光偏向器に近い走査レンズは、前記複数の光源装置からの光ビームで共用され、その共用される走査レンズ(以下、共用レンズと言う)の1面は、偏向反射面に垂直で、且つ、面形状を表す式の原点を通過する単一の基準軸で主走査方向に応じて副走査方向の曲率が変化する面で構成され、複数の光ビームは前記光偏向器の偏向反射面の垂線に直交する方向において基準軸外を通過し、前記共用レンズの他面は、副走査方向に曲率を持たず、かつ、主走査方向に応じて副走査方向のチルト偏芯角度が異なる特殊面で、複数の光源装置からの光ビームごとに異なる基準軸を持つ異なる面で構成されることを特徴とする光走査装置。 - 請求項1記載の光走査装置において、
主走査方向に応じて副走査方向の曲率が変化する面は、基準軸に対し主走査方向に非対称に変化することを特徴とする光走査装置。 - 請求項1または2記載の光走査装置において、
前記共用レンズの特殊面は、光偏向器の偏向反射面に垂直で、前記共用レンズの他方の面の基準軸を含む面に対し鏡面対称であることを特徴とする光走査装置。 - 請求項1乃至3のいずれか一つに記載の光走査装置において、
前記光走査光学系は2枚の走査レンズで構成され、全ての走査レンズが、主走査方向に応じて副走査方向の曲率が変化する面と、副走査方向に曲率を持たず、かつ、主走査方向に応じて副走査方向のチルト偏芯角度が異なる特殊面で構成されることを特徴とする光走査装置。 - 請求項4記載の光走査装置において、
最も被走査面側の走査レンズは、異なる被走査面に向かう光ビームごとに配置され、副走査方向に曲率を持たず、かつ、主走査方向に応じて副走査方向のチルト偏芯角度が異なる特殊面は、基準軸より主走査方向に応じて非対称に副走査方向のチルト偏芯角度が変化することを特徴とする光走査装置。 - 請求項1乃至5のいずれか一つに記載の光走査装置において、
前記光走査光学系の副走査方向の横倍率偏差は、ほぼ均一であることを特徴とする光走査装置。 - 請求項1乃至6のいずれか一つに記載の光走査装置において、
前記光源装置として複数の光ビームを射出するマルチビーム光源装置を用いたことを特徴とする光走査装置。 - 請求項1乃至7のいずれか一つに記載の光走査装置において、
複数の光源装置に対応する異なる被走査面は、少なくとも4つの感光体で構成されることを特徴とする光走査装置。 - 請求項1乃至8のいずれか一つに記載の光走査装置に用いられる走査レンズにおいて、
最も光偏向器に近い走査レンズで、複数の光源装置からの光ビームで共用される共用レンズは、1面の基準軸と、他面の基準軸の数が異なり、一体的に成型されたことを特徴とする走査レンズ。 - 請求項9記載の走査レンズにおいて、
一方の面は単一の基準軸で主走査方向に応じて副走査方向の曲率が変化する面で構成され、他方の面は副走査方向に曲率を持たない面で構成され、かつ主走査方向に応じて副走査方向のチルト偏芯角度が異なる複数の特殊面で構成されることを特徴とする走査レンズ。 - 感光体に対して帯電、露光、現像の電子写真プロセスを実行することによって画像を形成する画像形成装置において、
前記電子写真プロセスのうちの露光プロセスを実行する手段として、請求項1乃至8のいずれか一つに記載の光走査装置を具備したことを特徴とする画像形成装置。
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