JP2003213008A - ペースト加工用塩化ビニル系樹脂の製法 - Google Patents
ペースト加工用塩化ビニル系樹脂の製法Info
- Publication number
- JP2003213008A JP2003213008A JP2002014096A JP2002014096A JP2003213008A JP 2003213008 A JP2003213008 A JP 2003213008A JP 2002014096 A JP2002014096 A JP 2002014096A JP 2002014096 A JP2002014096 A JP 2002014096A JP 2003213008 A JP2003213008 A JP 2003213008A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vinyl chloride
- sieve
- paste
- screen
- chloride resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
Abstract
て粗大粒子を除去する際に、三次元運動篩を用いること
により篩スクリーン面への樹脂粒子の付着を防止すると
ともに、粉体の破砕が抑制されたペースト加工用塩化ビ
ニル系樹脂を製造する方法を提供する。 【解決手段】 ペースト塩化ビニル系樹脂の水性分散液
を乾燥したペースト塩化ビニル系樹脂粉体から粗大粒子
を除去する際に、篩として三次元運動篩、好ましくは篩
スクリーンが回転数140〜280rpmで運転されて
いる三次元運動篩を用いるペースト加工用塩化ビニル系
樹脂の製法。
Description
化ビニル系樹脂の製法に関するものであり、更に詳しく
はペースト加工用塩化ビニル系樹脂粉体から粗大粒子を
除去する方法において、篩として三次元運動篩を用いる
ことを特徴とする篩スクリーンへの樹脂粉体の付着が少
なく、得られる樹脂粉体の破砕が抑制され、さらに樹脂
粉体処理量が大きいペースト加工用塩化ビニル系樹脂の
製法に関するものである。
脂は、可塑剤、その他の配合剤とを混練してペーストゾ
ルとし、該ゾルをコーティング加工、ディッピング加工
等により壁紙、手袋等に加工される。この際ペーストゾ
ル中にゾル化しない粗大粒子が存在すると、例えばコー
ティング時のスジ引きや表面の傷等、加工品の品質を悪
化させる欠陥を生じる。
ル系樹脂は、乳化重合、微細懸濁重合、播種重合して得
られる水性分散液を噴霧乾燥装置で乾燥した後、粗大粒
子を含むペースト塩化ビニル系樹脂粉体を粉砕処理した
後使用されてきた。しかしながら、上記のように粉砕し
た場合には、微粉末となるため、粉塵による作業環境の
悪化や、流動性の低下、嵩比重の低下等により作業性が
悪化するという問題があった。
粗大粒子を粉砕処理することなく使用する場合には、ゾ
ル化しない粗大粒子を除去する必要があり、ペースト塩
化ビニル系樹脂粉体中の粗大粒子を篩により除去する方
法について種々の提案がなされている。
は、網面固定式風力篩を用い、ペースト塩化ビニル樹脂
からの粗大粒子を除去する方法が提案され、特開平11
−116689号公報には、網面固定式風力篩を用い、
相対湿度55〜100%の輸送空気を使用し、篩の金網
面を0.5〜10m/秒の速度で通過させる方法が提案
されている。
案の方法は、固定したスクリーンで篩分けを行う技術範
囲に留まっており、いずれもが篩スクリーンへの樹脂粉
体の付着防止については十分検討されておらず、また、
風力を利用するため篩い分け操作中の樹脂粉体の破砕が
大きく、処理効率の面でも樹脂粉体の処理量が小さい等
の課題を有するものである。
うとした場合には、処理能力が低い等の課題があった。
ル系樹脂粉体中の粗大粒子を粉砕処理することなしに、
三次元運動篩を使用してペースト塩化ビニル系樹脂粉体
中の粗大粒子を除去する際に、篩スクリーンへの樹脂粉
体の付着、篩後の樹脂粉体の破砕が少なく、さらに樹脂
粉体処理量が大きいペースト加工用塩化ビニル系樹脂の
製法を提供することにある。
について鋭意検討した結果、ペースト塩化ビニル系樹脂
粉体を篩処理する際に、螺旋状の三次元運動する篩スク
リーンを有する装置を用いることにより、該樹脂粉体の
破砕が抑制でき、篩スクリーン面への樹脂粉体の付着が
少なく、篩スクリーン面当たりの処理量が増大すること
を見出し本発明を完成させるに至った。
脂の水性分散液を噴霧乾燥装置で乾燥したペースト塩化
ビニル系樹脂粉体から篩を用いて該樹脂粉体中の粗大粒
子を除去するペースト加工用塩化ビニル系樹脂の製法に
おいて、篩として三次元運動篩を用いることを特徴とす
るペースト加工用塩化ビニル系樹脂の製法に関するもの
である。
系樹脂は、界面活性剤及び重合開始剤の存在下、塩化ビ
ニル単量体または塩化ビニル単量体を主体とする単量体
混合物(以下、塩化ビニル系単量体と記す。)を水性媒
体中で重合して得られるポリ塩化ビニル系樹脂であり、
その重合方法としては、塩化ビニル系単量体を乳化重合
法、微細懸濁重合法、播種乳化重合,播種微細懸濁重合
等の播種重合法等で重合することが好ましく、特に播種
重合法、さらに播種微細懸濁重合で重合する事が好まし
い。この際、いずれの重合方法においても30〜80℃
の温度範囲で重合することが好ましい。
ニル単量体又は塩化ビニル単量体と塩化ビニル単量体と
の共重合可能なビニル単量体との混合物であり、塩化ビ
ニル単量体と共重合し得るビニル単量体としては、例え
ば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ミリスチン酸ビニ
ル、安息香酸ビニル等のビニルエステル類;アクリル
酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸等の不飽和カ
ルボン酸又はその無水物;アクリル酸メチル、アクリル
酸エチル、アクリル酸ブチル等のアクリル酸エステル
類;メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタク
リル酸ブチル等のメタクリル酸エステル類;マレイン酸
エステル、フマル酸エステル、桂皮酸エステル等の不飽
和カルボン酸エステル類;ビニルメチルエーテル、ビニ
ルアミルエーテル、ビニルフェニルエーテル等のビニル
エーテル類;エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン
等のモノオレフィン類;塩化ビニリデン、スチレン及び
その誘導体、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等
を挙げることができ、これらビニル単量体は1種以上で
用いることが可能である。
ルホコハク酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アル
キル硫酸塩等が挙げられ、これらは単独又は2種類以上
の組合わせで用いることが可能である。
ム、過硫酸アンモニウム、過酸化水素等の水溶性開始
剤;ベンゾイルパーオキサイド、p−クロロベンゾイル
パーオキサイド等の芳香族ジアシルパーオキサイド:カ
プロイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド等
の脂肪族ジアシルパーオキサイド:アゾビスイソブチロ
ニトロリル、アゾビスイソバレロニトリル等のアゾ化合
物:t−ブチルパーオキシピバレート等の有機酸のパー
オキシジエステル:ジイソプロピルパーオキシジカーボ
ネート、ジオクチルパーオキシジカーボネート等のパー
オキシジカーボネート:アセチルシクロヘキシルスルホ
ニルパーオキサイド等の油溶性開始剤が挙げられる。そ
して、これらは単独又は2種類以上の組合わせで用いる
ことが可能である。
の水性分散液の乾燥方法としては特に制限はなく、その
中でも乾燥時の熱劣化が緩和できることから、噴霧乾燥
装置による噴霧乾燥方法が好ましい。この際の噴霧乾燥
装置の種類には制限はなく、一般に使用されているもの
でよく、例えば「SPRAY DAYING HAND
BOOK」(K.Master著、3版、1979年、
George godwin Limitedより出
版)の121頁第4.10図に記載されている各種のス
プレー乾燥機が挙げられ、その運転条件としては一般に
使用されている条件で問題はなく、本発明に於いては例
えば乾燥出口温度40〜90℃の範囲で運転され、好ま
しくは40〜70℃、特に好ましくは40〜65℃で乾
燥される。
ビニル系樹脂粉体の平均粒径は、通常10〜200μm
であるが、乾燥中などに凝集体が生成し、粗大粒子を少
量混入する場合が多い。本発明の製法においては、該粗
大粒子を効率よく除去するために、平均粒径は20〜8
0μmであることが好ましく、特に20〜70μmが好
ましい。ここで、乾燥後のペースト塩化ビニル系樹脂粉
体の平均粒径を上記のように調整する方法としては特に
制限はなく、例えば回転円盤型噴霧乾燥装置を用いる場
合には、Fridman、Herring等によって提
案されているように、回転円盤の直径、噴霧液量、回転
円盤の回転数を調整する方法が挙げられる。
化ビニル系樹脂粉体は、多くの場合少量の粗大粒子が混
入しているため、通常、粉砕処理が行われている。
中の粗大粒子を特に粉砕除去することなしに、三次元運
動篩を使用し、該樹脂粉体の破砕を抑制すると伴に粗大
粒子を効率良く除去することを特徴としている。
篩のようにペースト塩化ビニル系樹脂粉体の破砕を助長
する風力等を用いることなく重力のみで篩い分けを行う
ことからペースト塩化ビニル系樹脂粉体の破砕を抑制で
きると伴に、篩スクリーンが螺旋状の三次元運動を行う
ことから、篩スクリーン面への樹脂粉体の付着が少な
く、篩スクリーン面当たりの処理量が増大するものであ
る。
次元運動篩の一例を示す断面図であり、図2は三次元運
動篩の篩スクリーン中心点の動きを示す概略図である。
ここで、図1中の1は三次元運動篩を示し、2は乾燥粉
体入口を示し、3は篩後粉体出口を示し、4は粗大粒子
出口を示し、5は篩スクリーンを示し、6は篩スクリー
ンの中心を示す。そして、ペースト塩化ビニル系樹脂粉
体は2の乾燥粉体入口から1の三次元運動篩に導入さ
れ、導入された該樹脂粉体は上下運動と回転運動する5
の篩スクリーンにより篩分けられ、篩わけ後のペースト
加工用塩化ビニル系樹脂は3の篩後粉体出口から排出さ
れ、粗大粒子は4の粗大粒子出口から排出される。
クリーンの中心点の動きの軌跡を示し、それは楕円形を
示す。Aは7の軌跡の最長距離(長直径)を示し、Bはラ
ジアル傾斜を示し、Cはタンジェンシャル傾斜を示し、
θは7の軌跡の傾きを示す。
斜、タンジェンシャル傾斜を図1及び図2により説明す
る。
ン中心の軌跡を示す楕円形の最長距離であるAのことを
言う。即ち、図1における6に示される篩スクリーン中
心の動きの軌跡は、図2に示すよう一定の傾きであるθ
を持った楕円形軌跡である7を描き、この最長距離を軸
偏心という。また、ラジアル傾斜とは回転している6で
示される篩スクリーン中心の上下振幅であるBの事を言
う。即ち、図1における6に示される篩スクリーン中心
の動きの軌跡は、図2に示すよう一定の傾きであるθを
持った楕円形軌跡である7を描くが、この楕円形軌跡の
中心から垂線を引いて下端の水平線に当たるまでの距離
Bは篩スクリーン中心点の上下振幅でありラジアル傾斜
と言う。更に、タンジェンシャル傾斜とは、5で示され
る篩スクリーンの水平に対する傾きであり、回転時の7
で示される篩スクリーン中心点の楕円形軌跡の傾きの垂
直高さであるCのことを言う。即ち、図1における6で
示される篩スクリーン中心点の動きは、図2に示すよう
7で示される一定の傾きθを有する楕円形軌跡を描き、
この長直径の上端と下端の垂直高さであるCをタンジェ
ンシャル傾斜と言う。
リーンの回転数は特に制限はなく、その中でも、ペース
ト塩化ビニル系樹脂粉体の処理能力が低下することがな
く、機械損傷が発生する可能性も低く生産効率に優れた
製造が可能となることから140〜280rpmの範囲
が好ましく、特に190〜280rpmの範囲が好まし
い。
透過率を高くし、ペースト塩化ビニル系樹脂粉体の処理
能力をあげることが可能となることから、軸偏心を60
〜70mmとすることが好ましく、66〜70mmとす
ることが特に好ましい。また、同様の理由からラジアル
傾斜を7〜14mmとすることが好ましく、7〜10m
mとすることが特に好ましい。さらにタンジェンシャル
傾斜としては、14〜28mmとすることが好ましく、
14〜20mmとすることが特に好ましい。
り、従来の網面固定式風力篩等を用いた粗大粒子の除去
方法と比較して、スクリーン面の粉体付着による能力低
下、運転中の粉体の破砕などの問題がなく、篩スクリー
ンの付着防止に優れ、粉体の破砕抑制に優れ、樹脂粉体
処理量についても優れた効果が得られるものである。
が、本発明はこれらによってなんら限定されるものでは
ない。
説明する。
付着状況を目視評価した。 ◎;篩スクリーン面への樹脂粉体付着なし。 ○;篩スクリーン面への樹脂粉体付着殆どなし。 ×;篩スクリーン面への樹脂粉体の付着が極めて多い。
うに濃度調整を行なった試料により、レーザー回析/散
乱式粒径測定装置(堀場製作所(株)製、商品名LA−
700)を用いて平均粒径の測定を行った。
径))×100 ここで、破砕率は、低いほど得られたペースト加工用塩
化ビニル系樹脂の破砕が少ないことを表すものである。
に対し、フタル酸ジ−2−エチルヘキシル60重量部を
配合しデイゾルバー式ミキサー(TOKUSYU KI
KA KOGYO製、商品名T.K.HOMO DIS
PER MODEL7C)を用い25℃、800rpm
で3分間混錬しペーストゾルを調整した。
ぎ込み、スクレーパーでしごき、みぞの中に厚さが25
0μmから0μmまで連続して変化するようにしてゾル
の層を作成し、つぶが現れた部分の層の厚さを読みと
り、ペーストゾル中の未分散物の大きさを測定した。
整) 1m3オートクレーブ中に脱イオン水360kg、塩化
ビニル単量体300kg、重合開始剤として3,5,5
−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド3kg、15
重量%ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム水溶液
5.0kgを仕込んだ後、3時間ホモジナイザーを用い
て均質化処理後、系内の温度を40℃にあげて重合反応
を開始した。そして、重合圧力が低下した後に未反応塩
化ビニル単量体を回収することによりシード粒子の水性
分散液を調整した。
の調整) 1m3オートクレーブ中に脱イオン水350kg、塩化
ビニル単量体400kg、20重量%ドデシルベンゼン
スルホン酸ナトリウム水溶液2kg、調整例1により得
られたシード粒子の水性分散液44kgを仕込んだ後、
重合系の温度を60℃に昇温し重合を開始した。そし
て、重合開始から重合終了までの間、20重量%ドデシ
ルベンゼンスルホン酸ナトリウム水溶液20kgを連続
的に添加した。
体の飽和蒸気圧から4.5MPa降下した時点で重合反
応を停止し、未反応塩化ビニル単量体を回収し、ペース
ト塩化ビニル樹脂の水性分散液を得た。
の水性分散液を回転円盤式噴霧乾燥機(アシザワ・ニロ
アトマイザー(株)製、商品名S−25R)により乾燥
機入口温度140℃、乾燥機出口温度50℃、円盤回転
数20000rpmで乾燥することにより、ペースト塩
化ビニル樹脂粉体を得た。
製、商品名ミノックスシフターMTS600型)を用
い、これに径600mm、スクリーン目開き104μ
m、材質SUS304製の円形スクリーンを設置し、合
成例1により得られたペースト塩化ビニル樹脂粉体を篩
スクリーン単位面積当たり660kg/m 2・Hrの速
度で供給し、粗大粒子を除去したペースト加工用塩化ビ
ニル樹脂を得た。
数は230rpm、篩スクリーン中心点軌跡の軸偏心は
68mm、ラジアル傾斜は7mm、タンジェンシャル傾
斜は14mmとした。得られたペースト加工用塩化ビニ
ル樹脂の平均粒径、破砕率、ペーストゾル中の未分散物
の評価結果を表1に示す。
g/m2・Hrとした以外は、実施例1と同様の方法で
ペースト加工用塩化ビニル樹脂の調整を行った。
平均粒径、破砕率、ペーストゾル中の未分散物の評価結
果を表1に示す。
を5mm、タンジェンシャル傾斜を10mmとした以外
は、実施例1と同様の方法でペースト加工用塩化ビニル
樹脂の調整を行った。
平均粒径、破砕率、ペーストゾル中の未分散物の評価結
果を表1に示す。
製、商品名ミノックスシフターMTS1000型)を用
い、これに径1,000mm、スクリーン目開き104
μm、材質SUS304製の円形スクリーンを設置し、
合成例1により得られたペースト塩化ビニル樹脂粉体を
篩スクリーン単位面積当たり480kg/m2・Hrの
速度で供給し、粗大粒子を除去したペースト加工用塩化
ビニル樹脂を得た。
数は280rpm、篩スクリーン中心点軌跡の軸偏心は
70mm、ラジアル傾斜は9mm、タンジェンシャル傾
斜は15mmとした。得られたペースト加工用塩化ビニ
ル樹脂の平均粒径、破砕率、ペーストゾル中の未分散物
の評価結果を表1に示す。
ースト塩化ビニル樹脂粉体の供給速度を180kg/m
2・Hrとした以外は、実施例4と同様の方法でペース
ト加工用塩化ビニル樹脂の調整を行った。
平均粒径、破砕率、ペーストゾル中の未分散物の評価結
果を表1に示す。
れに径300mm、スクリーン目開き104μmの円形
スクリーンを設置し、合成例1で得られたペースト塩化
ビニル樹脂粉体を篩スクリーン単位面積当たり1,70
0kg/m2・Hrの速度で供給し、粗大粒子を除去し
たペースト塩化ビニル樹脂を得た。
径、破砕率、ペーストゾル中の未分散物の評価結果を表
1に示す。
粒径が小さく、破砕率が高いものであった。
イクロカット YACA−400H)用い、合成例1で
得られたペースト塩化ビニル樹脂粉体を篩スクリーン単
位面積当たり1,000kg/m2・Hrの速度で供給
し、粗大粒子を除去したペースト塩化ビニル樹脂を得
た。
m、ゲート弁の目盛は35とした。得られたペースト塩
化ビニル樹脂の平均粒径、破砕率、ペーストゾル中の未
分散物の評価結果を表1に示す。
径が小さく、破砕率は高いものであった。また、スクリ
ーン透過率は低いものであった。
S−GS型)を用い、これに径1,200mm、スクリ
ーン目開き104μm、材質SUS304製の円形スク
リーンを設置し、合成例1で得られたペースト塩化ビニ
ル樹脂粉体を篩スクリーン単位面積当たり770kg/
m2・Hrの速度で供給し、粗大粒子を除去したペース
ト塩化ビニル樹脂を得た。
135°とした。得られたペースト塩化ビニル樹脂の平
均粒径、破砕率、ペーストゾル中の未分散物の評価結果
を表1に示す。
ものであった。
せずに評価をおこなった。評価結果を表1に示す。
ものであった。
の粗大粒子を除去する際に、篩スクリーンの付着防止に
優れ、粉体の破砕抑制に優れ、また樹脂粉体処理能力つ
いても優れたものである。
例を示す断面図である。
す図である。
Claims (3)
- 【請求項1】ペースト塩化ビニル系樹脂の水性分散液を
噴霧乾燥装置で乾燥したペースト塩化ビニル系樹脂粉体
から篩を用いて該樹脂粉体中の粗大粒子を除去するペー
スト加工用塩化ビニル系樹脂の製法において、篩として
三次元運動篩を用いることを特徴とするペースト加工用
塩化ビニル系樹脂の製法。 - 【請求項2】三次元運動篩の篩スクリーンを回転数14
0〜280rpmで運転することを特徴とする請求項1
に記載のペースト加工用塩化ビニル系樹脂の製法。 - 【請求項3】三次元運動篩の篩スクリーン中心点軌跡の
軸偏心が60〜70mm、ラジアル傾斜が7〜14m
m、タンジェンシャル傾斜が14〜28mmであること
を特徴とする請求項1又は2のいずれかに記載のペース
ト加工用塩化ビニル系樹脂の製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002014096A JP2003213008A (ja) | 2002-01-23 | 2002-01-23 | ペースト加工用塩化ビニル系樹脂の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002014096A JP2003213008A (ja) | 2002-01-23 | 2002-01-23 | ペースト加工用塩化ビニル系樹脂の製法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003213008A true JP2003213008A (ja) | 2003-07-30 |
Family
ID=27650870
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002014096A Pending JP2003213008A (ja) | 2002-01-23 | 2002-01-23 | ペースト加工用塩化ビニル系樹脂の製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003213008A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014021432A1 (ja) * | 2012-08-01 | 2014-02-06 | 株式会社日本触媒 | ポリアクリル酸(塩)系吸水性樹脂の製造方法 |
KR20210012903A (ko) * | 2019-07-26 | 2021-02-03 | 주식회사 엘지화학 | 염화비닐계 중합체의 후처리 방법 및 이를 위한 폐쇄형 후처리 시스템 |
-
2002
- 2002-01-23 JP JP2002014096A patent/JP2003213008A/ja active Pending
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014021432A1 (ja) * | 2012-08-01 | 2014-02-06 | 株式会社日本触媒 | ポリアクリル酸(塩)系吸水性樹脂の製造方法 |
KR20150040884A (ko) * | 2012-08-01 | 2015-04-15 | 가부시키가이샤 닛폰 쇼쿠바이 | 폴리아크릴산(염)계 흡수성 수지의 제조 방법 |
JPWO2014021432A1 (ja) * | 2012-08-01 | 2016-07-21 | 株式会社日本触媒 | ポリアクリル酸(塩)系吸水性樹脂の製造方法 |
US9644058B2 (en) | 2012-08-01 | 2017-05-09 | Nippon Shokubai Co. Ltd. | Process for producing polyacrylic acid (salt)-based water absorbent resin |
KR102125105B1 (ko) * | 2012-08-01 | 2020-06-19 | 가부시키가이샤 닛폰 쇼쿠바이 | 폴리아크릴산(염)계 흡수성 수지의 제조 방법 |
KR20210012903A (ko) * | 2019-07-26 | 2021-02-03 | 주식회사 엘지화학 | 염화비닐계 중합체의 후처리 방법 및 이를 위한 폐쇄형 후처리 시스템 |
WO2021020733A1 (ko) * | 2019-07-26 | 2021-02-04 | 주식회사 엘지화학 | 염화비닐계 중합체의 후처리 방법 및 이를 위한 폐쇄형 후처리 시스템 |
CN112601764A (zh) * | 2019-07-26 | 2021-04-02 | 株式会社Lg化学 | 氯乙烯基聚合物的后处理方法及用于其的封闭式后处理系统 |
KR102542328B1 (ko) * | 2019-07-26 | 2023-06-13 | 주식회사 엘지화학 | 염화비닐계 중합체의 후처리 방법 및 이를 위한 폐쇄형 후처리 시스템 |
CN112601764B (zh) * | 2019-07-26 | 2023-08-11 | 株式会社Lg化学 | 氯乙烯基聚合物的后处理方法及用于其的封闭式后处理系统 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2022265100A1 (ja) | 繊維集合体の製造方法及びプリプレグシートの製造方法 | |
JP2003213008A (ja) | ペースト加工用塩化ビニル系樹脂の製法 | |
EP1059312B1 (en) | Process for producing granules of a polyvinylchloride resin for the preparation of paste | |
KR0156564B1 (ko) | 구상 비닐 클로라이드 수지 과립 및 이의 제조방법 | |
JP4232459B2 (ja) | ペースト加工用塩化ビニル系樹脂の製造方法 | |
JP4059929B2 (ja) | ペースト加工用塩化ビニル樹脂顆粒およびその製造方法 | |
JP2731135B2 (ja) | 塩化ビニルの懸濁重合用攪拌機及びこれを用いた塩化ビニルの懸濁重合方法 | |
JP2003213007A (ja) | ペースト加工用塩化ビニル系樹脂の製造方法 | |
JP6115133B2 (ja) | ペースト加工用塩化ビニル系樹脂及びその製造方法 | |
JPS63264636A (ja) | 高分子ラテツクスより凝固粒子を製造する方法及びその装置 | |
JP5768318B2 (ja) | 塩化ビニル系樹脂ラテックス及びその製造方法 | |
JP4051921B2 (ja) | ペースト加工用塩化ビニル系樹脂の製法 | |
JP2004043102A (ja) | 塩化ビニル系樹脂の輸送方法 | |
JP3707933B2 (ja) | ペースト加工用塩化ビニル系樹脂顆粒及びその製造方法 | |
JP5386876B2 (ja) | ペースト加工用塩化ビニル系樹脂及びその製造方法 | |
EP1358228B1 (fr) | Procede de preparation de latex | |
JP2018024739A (ja) | 塩化ビニル系樹脂シードの製造方法 | |
JP2007119791A (ja) | ペースト加工用塩化ビニル樹脂顆粒 | |
JPH05202197A (ja) | ペースト用塩化ビニル樹脂の製造方法 | |
JP3518283B2 (ja) | ペースト用塩化ビニル系樹脂の製造方法 | |
JPH11246724A (ja) | ペースト加工用塩化ビニル樹脂顆粒およびその製造方法 | |
JP2013075344A (ja) | ブラスト加工用研磨剤及びその製造方法 | |
JP3572371B2 (ja) | ペースト加工用ポリ塩化ビニル系樹脂顆粒、その製造方法及びそれよりなるペースト加工用ポリ塩化ビニル系樹脂組成物 | |
JP3947234B2 (ja) | ペースト加工用塩化ビニル樹脂の製造方法 | |
JP5077396B2 (ja) | ペースト加工用ポリ塩化ビニル系樹脂顆粒の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20041202 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20061114 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061128 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20070125 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070619 |