JP2003206475A - 非磁性板状粒子とその製造方法、およびこの粒子を用いた研磨材、研磨体、研磨液 - Google Patents

非磁性板状粒子とその製造方法、およびこの粒子を用いた研磨材、研磨体、研磨液

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 研磨テープ等の研磨体や磁気テープ、さらに
は各種の機能性光学フィルムなどに特に適した特定の粒
子形状を有する非磁性板状粒子、特に酸化セリウム粒
子、酸化ジルコニウム粒子、酸化アルミニウム粒子、酸
化珪素粒子および酸化鉄粒子と、その製造方法を提供す
る。 【解決手段】 オキシアルカリアミンを含むアルカリ水
溶液に各種の金属塩の水溶液を添加し、得られた各種金
属の水酸化物あるいは水和物を、水の存在下で110〜
300℃の温度範囲で加熱処理する。次いで、ろ過、乾
燥後、さらに空気中300〜1200℃の温度範囲で加
熱処理して酸化セリウム粒子、酸化ジルコニウム粒子、
酸化アルミニウム粒子、酸化珪素粒子、酸化鉄粒子等の
酸化物粒子とする。これにより、粒子の形状が板状で、
かつ粒子の板面方向の平均粒子径が10nmから100
nmの範囲にある酸化セリウム粒子、酸化ジルコニウム
粒子、酸化アルミニウム粒子、酸化珪素粒子、酸化鉄粒
子を得る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば研磨シー
ト、研磨テープ、研磨フィルム、研磨具等の研磨体や研
磨液などの研磨材として、また各種の塗布型磁気記録媒
体の添加剤として、さらに光学フィルムなどの各種の機
能性フィルム用の添加剤に適した、粒子の形状が新規な
板状の非磁性粒子とその製造方法、およびその応用に関
する。さらに詳しくは、新規な粒子形状と粒子径を有す
る酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウ
ム、酸化珪素、酸化鉄などの非磁性酸化物粒子に関す
る。
【0002】
【従来の技術、および発明が解決しようとする課題】酸
化セリウム粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化アルミニ
ウム粒子、酸化珪素粒子、酸化鉄粒子などの非磁性酸化
物粒子は、研磨シート等の研磨体や研磨液などの研磨材
として、また各種の塗布型磁気記録媒体の添加剤として
広範囲の用途で使用されている。酸化セリウム、酸化ジ
ルコニウム、酸化アルミニウム、酸化珪素はモース硬度
が高いので、高い研磨速度を要する用途に、また酸化鉄
は比較的モース硬度が低いため、ソフト研磨を要する用
途に向いている。これらの非磁性酸化物粒子の製造法と
しては、各種の方法が知られている。
【0003】(1)酸化セリウム:酸化セリウムにおい
ては、一般的には、焼成法で作製した酸化セリウムをボ
ールミル等で粉砕することにより微粒子化する方法(粉
砕法)が採られている。しかし、この方法で作製した酸
化セリウム粒子は粒子サイズ分布が広く、さらに機械的
に粉砕するため、粒子サイズとしては、サブミクロンサ
イズが限界で、さらに微粒子化することは困難である。
【0004】一方、炭酸セリウムのようなセリウム塩を
空気中加熱酸化して、酸化セリウム粒子とする方法も知
られている。この方法は、粉砕法に比べて微粒子化しや
すいという特長があるが、粒子間焼結が生じやすく、特
に研磨液に使用する場合、粒子を均一分散することが困
難であるという問題がある。
【0005】例えば特開平10−106990号公報や
特開平11−181405号公報では、炭酸セリウムを
空気中加熱して酸化セリウムとした後、機械的に粉砕し
て微粒子化している。前者の特開平10−106990
号公報においては、ボールミル粉砕しており、得られた
粒子は、1次粒子径が200nmであると記載されてい
る。またボールミル粉砕する前の形状は、球状であるこ
とが記載されている。一方、後者の特開平11−181
405号公報においては、微粒子化するために、焼成後
ジェットミル粉砕しており、1次粒子径と同等サイズの
小さな粒子の他に、1μmから3μmと0.5μmから1
μmの大きさの粉砕残り粒子が混在していることが記載
されている。
【0006】特開平9−27042号公報には、炭酸セ
リウムを原料に用い、この炭酸セリウムをあらかじめボ
ールミル粉砕したのち、空気中熱処理して酸化セリウム
粒子にする方法が記載されている。この方法では、本文
中にも記載されているように、1次粒子径は20nmで
あるが、0.2μm〜0.3μmの2次粒子から構成されて
いる。また、粒子の形状については、詳細は記載されて
いないが、例えば特開平10−102039号公報に
は、アスペクト比が1以上2以下と記載されている。し
かし、これは、板状というより、塊状あるいは粒状に近
い形状であると考えられる。
【0007】以上のように、従来の製法は、基本的には
微粒子化するために機械的な粉砕を採用していることか
ら、特定の粒子形状のものを得ることはできず、また粒
子径分布のシャープなものを得ることも困難であった。
さらに、機械的に衝撃が加わることにより、酸化セリウ
ム粒子に歪みが入りやすく、結晶性が低下する問題があ
る。この結晶性は、研磨材として使用する上で極めて重
要で、X線回折などにより、酸化セリウムにもとづくス
ペクトルを示すものであっても、研磨材としての結晶性
という面では、これまで満足のいくものがなかった。
【0008】また酸化セリウム粒子は、その製造法にも
よるが、一般に元々原材料に含まれるセリウム以外の元
素がセリウムと同時に存在しやすい。つまり、高純度の
酸化セリウムを得にくい問題があった。この純度は、酸
化セリウム粒子を化学研磨液などに使用する場合には、
特に問題となる。
【0009】(2)酸化ジルコニウム:酸化ジルコニウ
ムにおいては、研磨シートや研磨液などの研磨材として
使用されているが、研磨材用の酸化ジルコニウムは酸化
ジルコニウムのインゴットを粉砕して微粒子としたもの
が多い。機械的な手段で微粒子にする場合、その微粒子
化にも限界があり、例えば、特開平8−113773号
公報には、酸化ジルコニウム粒子を使って、シリコンの
表面を研磨した例が記載されているが、使用されている
酸化ジルコニウム粒子の粒子径は、7.0μmである。
【0010】特開2000−204353号公報には、
シリカ、アルミナ、ジルコニアなどの無機粒子と、重合
体粒子の混合粒子を用いた水分散体の例が示されてお
り、本文中には、無機粒子の平均粒子径の好ましい範囲
として、0.12〜0.8μmが示されている。
【0011】従来酸化ジルコニウム粒子は、研磨材単体
として用いられることは少なく、酸化アルミニウムや酸
化珪素粒子などの他の研磨材粒子と併用されることが多
い。これは、粒子径や粒子形状において、これまでに満
足のいく酸化ジルコニウム粒子が存在しなかったことが
理由と考えられる。
【0012】(3)酸化アルミニウム:酸化アルミニウ
ムは、研磨シートや研磨液などの研磨材として汎用され
ている。酸化アルミニウム粒子の製造法としては、各種
の方法が知られている。一般的には、焼成法で作製した
酸化アルミニウムをボールミル等で粉砕することにより
微粒子化されている。しかしこの方法で作製した酸化ア
ルミニウム粒子は粒子サイズ分布が広く、さらに機械的
に粉砕するため、粒子サイズとしては、サブミクロンサ
イズが限界で、さらに微粒子化することは困難である。
【0013】中和反応により水酸化アルミニウムの沈殿
物を作り、この水酸化アルミニウムを空気中加熱処理す
ると、酸化アルミニウム粒子を得ることができる。しか
し、この方法では、粒子径の小さい酸化アルミニウム粒
子を得ることはできるが、粒子形状が粒状の不定形であ
り、研磨材として使用する上で、十分な研磨能が得られ
ない。さらに粒子間凝集による2次粒子が生じやすく、
特に研磨液などに使用する場合、均一な分散液とするた
めに、大きなエネルギーと極めて長時間の分散が必要で
あるという問題がある。例えば特開平7−315833
号公報には、焼成法で作製された平板状アルミナを、非
金属媒体を用いて長時間微粉砕し、凝集を破壊すること
が示されている。この方法では、粉砕により微粒子化す
るため、微粒子化に限界があり、かつ本質的に粒子径分
布が広くなる。
【0014】一方、水熱合成法を利用した板状アルミナ
の製造法が古くから知られている。例えば特公昭37−
7750号公報や特公昭39−13465号公報には、
板状アルミナが得られることが記載されている。しか
し、得られる板状アルミナの粒子径は、数ミクロンから
数百ミクロンであり、粒子の微細化の点で問題がある。
【0015】一方、あらかじめ大きさをサブミクロンオ
ーダーに調整した水酸化アルミニウムを水やアルカリ水
溶液中、350℃以上の高温下で水熱処理を行い、サブ
ミクロンオーダーの板状酸化アルミニウムとする製造方
法が知られている(例えば、特開平5−17132号公
報、特開平6−316413号公報)。この方法では、
結晶性に優れた板状酸化アルミニウムが得られやすい水
熱反応を利用して、水酸化アルミニウムを酸化アルミニ
ウムに結晶変態させる。そのため、高温での反応にな
り、高圧に耐える特殊な反応容器が必要となる。さらに
この方法は、高温下での水熱反応を利用するものである
ため、サブミクロンサイズの粒子径の大きい酸化アルミ
ニウム粒子を製造するには適しているが、100nm以
下の微細な酸化アルミニウム粒子を製造するには適して
いないと考えられる。
【0016】以上のように、これまで仕上げ研磨用シー
トや研磨液用の研磨材として使用するために、結晶性が
良好でかつ粒子径分布がシャープな粒子径100nm以
下の微粒子状の酸化アルミニウムが要求されてきたにも
かかわらず、このような要求を満たす酸化アルミニウム
粒子は、これまで開発されていなかった。
【0017】(4)酸化珪素:酸化珪素も研磨シートや
研磨液などの研磨材としてよく知られた材料である。例
えばヒュームドシリカやコロイダルシリカは既に各社か
ら商品化されている汎用製品である。これらの酸化珪素
粒子を用いた研磨シートや研磨液に関しては、膨大な数
の特許出願がなされている。
【0018】例えば特開平8−336758号公報や特
開平9−248771号公報は、数十nmサイズのコロ
イダルシリカ粒子を研磨材に用いた研磨シートに関する
もので、そこには光コネクタフェルールの端面研磨の用
途に特に有効であることが記載されている。特開平8−
267356号公報には、10〜100nmのコロイダ
ルシリカを研磨材に使用して、シリコンウエハーを研磨
することが記載されている。特開平7−221059号
公報にも、特定の形状を有するコロイダルシリカを用い
て半導体ウエハーを研磨することが記載されている。さ
らに、特開平6−313164号公報には、数十nmサ
イズのコロイダルシリカを研磨材として用いたコロイダ
ルシリカスラリーが金属表面の研磨にも有効であること
が記載されている。
【0019】このように酸化珪素粒子が研磨材として有
効であることは、すでに公知であり、その粒子形状とし
ては、球状又はできるだけ球状に近い形状のものが有効
であることが、上記公知例の中にも記載されている。
【0020】一方、被研磨体の種類は年々多くなってお
り、さらにそれらの被研磨体に要求される研磨仕様も年
々多様化している。これらの各種の研磨仕様の要求に応
えるために、例えば酸化珪素粒子においては、粒子その
ものより、研磨シートでは、その組成や表面構造を、研
磨用スラリーでは、その液組成に工夫を凝らすことによ
り対応しているのが現状である。しかしながら、形状が
球状で、粒子径が数十nmの酸化珪素粒子を使用する限
り、その対応にも限界があり、既に特殊な用途の研磨に
は対応が困難になりつつある。
【0021】(5)酸化鉄:酸化鉄においては、本発明
者らは、粒子の形状が板状であると同時に、粒子の厚さ
方向に孔を有する新規な形状の粒子を開発した。粒子の
中央付近に孔のあいた板状の酸化鉄粒子は、特開昭61
−266311号公報、特開昭61−266313号公
報において公知であり、そこでは盤状ゲータイト(ゲー
サイトともいう)粒子を加熱、脱水、還元して、孔のあ
いた板状マグネタイト粒子とした後、コバルトで変性し
て、磁気記録用の磁性粉末としての用途が提案されてい
る。
【0022】また、特公平3−21489号公報には、
盤状のゲータイト粒子を出発原料とした環状の酸化物粉
末が記載されており、用途として磁性粉末等の電子材料
や、塗料補強用剤等の顔料、複合材料用等の補強剤、医
療材料等としての利用が提案されている。この例では、
塩化鉄水溶液を、水酸化ナトリウムおよびアルキルアミ
ンを加えた水溶液に対して滴下して水酸化鉄を沈殿さ
せ、熟成、洗浄、pHを調整後、水熱処理を施し、盤状
のゲーサイトを得ている。この盤状のゲーサイトを加熱
脱水することにより、中央に孔のあいた環状のヘマタイ
ト粒子や、マグネタイト粒子、ガンマ酸化鉄粒子などの
磁性粉末を得ている。
【0023】(6)本発明の主な目的 本発明は、上記の事情に照らし、研磨シート等の研磨体
や研磨液(スラリー状研磨材)などの研磨材粒子とし
て、また各種の塗布型磁気記録媒体用の添加材粒子とし
て、さらには各種の機能性光学フィルム用の添加材粒子
として、特に適した特定の粒子径と粒子形状を有する非
磁性酸化物である酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸
化アルミニウム、酸化珪素、および酸化鉄粒子と、その
製造方法を提供することを主な目的とする。
【0024】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的を達成するため、鋭意検討した結果、従来の非磁性酸
化物粒子の製造方法とは全く異なる、新規な製造方法を
完成した。その結果、これまでの製造方法では不可能で
あった、粒子の形状が板状で、かつ粒子径が10nmか
ら100nmの範囲にある非磁性板状粒子、具体的には
酸化セリウム粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化アルミ
ニウム粒子、酸化珪素粒子および酸化鉄粒子などの非磁
性酸化物粒子の開発に成功したものである。
【0025】すなわち、本発明の非磁性板状粒子は、粒
子の形状が板状で、かつ粒子径が10nmから100n
mの範囲にあることを特徴とするもので、具体的には粒
子の形状が板状で、かつ粒子径が10nmから100n
mの範囲にある酸化セリウム粒子、酸化ジルコニウム粒
子、酸化アルミニウム粒子、酸化珪素粒子および酸化鉄
粒子等の酸化物粒子を挙げることができる。また、本発
明方法は、アルカリ水溶液にこれらの金属塩または非金
属塩の水溶液を添加し、得られたこれらの金属または非
金属の水酸化物あるいは水和物を、水の存在下で110
〜300℃の温度範囲で加熱処理し、ろ過、乾燥後、さ
らに空気中300〜1200℃の温度範囲で加熱処理す
ることにより、上記の特異な形状と粒子径を有する酸化
セリウム粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化アルミニウ
ム粒子、酸化珪素粒子および酸化鉄粒子等の酸化物粒子
を製造するものである。
【0026】なお、上記において「金属塩または非金属
塩」あるいは「金属または非金属」と表現したのは、セ
リウム、ジルコニウム、アルミニウムおよび鉄は金属元
素であるが、珪素は金属元素とはいえないと考えられる
ためである。つまり、上記の「非金属」とは主として珪
素を意味し、「非金属塩」とは主として「珪素を含む塩
あるいは珪酸塩」を意味する。ただし、以下の説明で
は、記述を簡潔なものとするため、先のような意味を有
する「金属または非金属」を単に「金属」といい、「金
属塩または非金属塩」を単に「金属塩」という。
【0027】本発明方法では、出発原料として金属の塩
化物や硝酸塩などの高純度の金属塩を用いるため、生成
物中に、研磨性に悪影響をおよぼすような元素をほとん
ど含有しない。また出発物質中に含まれる塩素や硝酸は
加熱処理後に飛散して排除されるため、最終的な酸化セ
リウム、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化珪
素および酸化鉄粒子中にはほとんど残らず、極めて高純
度の非磁性酸化物粒子が得られる。
【0028】
【発明の実施の形態】本発明方法は、まず第一工程とし
て、アルカリ水溶液に、セリウム、ジルコニウム、アル
ミニウム、珪素、鉄塩の水溶液を添加し、得られたこれ
らの金属の水酸化物あるいは水和物を、水の存在下で1
10〜300℃の温度範囲で加熱処理することにより、
目的とする形状、粒子径に整え、その後第二工程とし
て、これらの金属の水酸化物あるいは水和物を空気中加
熱処理することにより、粒子径分布が均一で、焼結、凝
集が極めて少ない、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、
酸化アルミニウム、酸化珪素および酸化鉄粒子を得るも
のである。
【0029】また、上記方法において、第一工程と第二
工程の間で、金属の水酸化物あるいは水和物の熟成工程
を加えれば、より粒径が均一でかつ板状性に優れた粒子
を得ることができる。
【0030】このように非磁性酸化物粒子の製造におい
て、形状、粒子径を整えることを目的とする工程と、そ
の材料が本来有する物性を最大限に引き出すことを目的
とする工程とを分離するという、全く新規な発想によ
り、これまでの製造方法では不可能であった、粒子の形
状が板状で、かつ平均粒子径が、10nmから100n
mの範囲にある酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化
アルミニウム、酸化珪素および酸化鉄粒子の開発に成功
したものである。ここで、板状とは、板状比(最大径/
厚さ)が1を超えるものをいい、板状比が2を超え、1
00以下が好ましい。さらに、3以上50以下がより好
ましく、5以上30以下がさらに好ましい。前記の範囲
が好ましいのは、板状比が2以下では例えば研磨シート
とした時に、粒子が塗布面から立ち上がるものが存在
し、被研磨体を傷つける場合があり、100を超える
と、研磨時に粒子が破壊されて被研磨体を傷つける場合
があるためである。
【0031】このような工程により製造した本発明の酸
化セリウム粒子、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウ
ム、酸化珪素および酸化鉄粒子は、粒子の焼結、凝集が
極めて少なく、粒子径分布がシャープなうえ、粒子形状
が板状であるという特徴を有する。このような特徴ゆえ
に、本発明の非磁性酸化物粒子は、研磨シートや研磨液
用の研磨材粒子や各種の塗布型磁気記録媒体用の添加材
粒子として、さらには各種の光学フィルム用の添加材粒
子として、従来のこれらの粒子では得られなかった優れ
た性能を発揮する。
【0032】酸化セリウムや酸化ジルコニウム、酸化ア
ルミニウム、酸化鉄粒子を研磨材や添加材として用いる
場合には、結晶性であることが特に望ましい。X線回折
などにより、これらの物質特有のスペクトルを示す粒子
であっても、これまで十分な結晶性をもったものはな
く、したがって研磨材や添加材として使用した場合、必
ずしも満足いくものではなかった。
【0033】さらに酸化セリウム粒子の場合、化学研磨
用の研磨材として用いることができるが、このような用
途においては酸化セリウムの純度が重要になり、高純度
のものが要求される。しかし、これまでの方法で製造さ
れた酸化セリウム粒子には、純度の面で満足できるもの
ではなかった。これに対して本発明の酸化セリウム粒子
は、純度の面においても十分に満足できるものであり、
この点でも化学研磨用の研磨材としても最適である。
【0034】本発明者らは、研磨材として優れた性能を
示す形状について、これまで検討してきた結果、電子顕
微鏡などで観察して、板状形状を有するものは、その端
面のエッジの存在が、研磨材粒子として特に有効に作用
していることを見出した。
【0035】以上のように、本発明では、特定の形状を
有する酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化アルミニ
ウム、酸化珪素および酸化鉄粒子の製造に初めて成功し
たものである。本発明により得られる酸化物粒子は、半
導体、光ファイバー、レンズなどを研磨するための最適
な研磨材粒子であるのみならず、各種の塗布型磁気記録
媒体の添加剤粒子、さらには特異な形状を活かした各種
の機能性光学フィルム用の添加材粒子など、広範囲の用
途に適用することができるものである。なお、本発明の
非磁性板状酸化物粒子は、酸化セリウム、酸化ジルコニ
ウム、酸化アルミニウム、酸化珪素のように殆ど孔のな
いタイプの板状酸化物粒子と、酸化鉄のように孔のある
タイプの板状酸化物粒子に大別されるが、前者の孔の殆
どないタイプの非磁性酸化物粒子は塗布型磁気記録媒体
の添加剤粒子や機能性光学フィルムの用途にはより好ま
しく用いられる。また、前者は着色がないので、機能性
光学フィルム等の着色を嫌う用途にはより好ましく用い
られる。殆ど孔のないタイプの板状酸化物粒子とは、3
00個の粒子を観察した時に板厚方向に孔を有する酸化
物粒子が10%以下のものである。
【0036】本発明方法では、まず、原料となるセリウ
ムやジルコニウム、アルミニウム、珪素、鉄を含む化合
物を水に溶解し、アルカリ水溶液に滴下することによ
り、これらの金属の水酸化物あるいは水和物の沈殿物を
生成する。この沈殿物を生成させるための、アルカリ水
溶液としては、特に限定されるものではないが、オキシ
アルキルアミンを添加すると、最終生成物として粒子径
分布のシャープな板状粒子が得られやすいため、オキシ
アルキルアミンを添加することが好ましい。この水酸化
物あるいは水和物の沈殿物を含む懸濁液をオートクレー
ブなどを使用して、水熱処理する。この水熱処理を行う
前に、水酸化物あるいは水和物の沈殿物を含む懸濁液を
熟成することにより、最終生成物として、より結晶性が
良好でかつ粒子径分布のシャープなものが得られやすい
ため、熟成工程を付加することが好ましい。水熱処理
後、水洗、ろ過、乾燥する。そして、得られた乾燥物に
加熱処理を施すことにより、酸化セリウム、酸化ジルコ
ニウム、酸化アルミニウム、酸化珪素および酸化鉄粒子
とする。
【0037】次に、上記非磁性板状粒子(酸化物粒子)
の製造方法と、これにより得られる非磁性板状粒子の用
途について、さらに詳細に説明する。
【0038】(沈殿物の作製)セリウム、ジルコニウ
ム、アルミニウム、鉄に対しては、これらの金属の塩化
物、硝酸塩、硫酸塩を、また珪素に対しては、珪酸ナト
リウムを水に溶解させ、これらの金属イオンを含有する
水溶液(金属塩水溶液)を作製する。これとは別に、ア
ルカリ溶液を作製する。アルカリとしては、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、アンモニア
水溶液などが好適なものとして使用できる。また、これ
らのアルカリ水溶液に、さらに結晶成長制御剤であるア
ルキルアミンを添加すると、板状形状の良好な粒子が得
られやすい。このアルキルアミンとしては、モノエタノ
ールアミン、トリエタノールアミン、イソブタノールア
ミン、プロパノールアミン等が挙げられるが、中でもモ
ノエタノールアミンが板状形状の良好な粒子を得る上
で、特に適している。
【0039】次に前記金属塩水溶液を、前記アルカリ水
溶液中に滴下して、金属の水酸化物あるいは水和物の沈
殿物を生成する。この沈殿物を含む懸濁液のpHは、8
〜11の範囲に調整し、またこの懸濁液を室温において
1日程度熟成することが好ましい。このpH調整および
熟成は、この後の工程の加熱処理において、比較的低い
温度で、板状形状が良好で、かつ粒径分布のシャープな
粒子を得る上で効果的である。
【0040】(水熱処理)前記金属の水酸化物あるいは
水和物の沈殿物を含む懸濁液に対し、オートクレーブ等
を用いて水熱処理を行う。この水熱処理において、上記
の沈殿物を含む懸濁液をそのまま水熱処理しても構わな
いが、水洗により、上記沈殿物以外の生成物や残存物を
除去し、その後NaOHなどにより再度pH調整するこ
とが好ましい。この時のpHの値は、7〜11とするこ
とが好ましい。このpHより低いと、水熱処理時に結晶
成長が不十分になり、また高すぎると、粒子径分布が広
くなったり、目的とする粒子径の小さい粒子を得ること
が困難になる。より好ましいpHの範囲は7〜10であ
る。
【0041】水熱処理温度は、110℃から300℃の
範囲とすることが好ましい。この温度より低いと、特定
の形状を有する前記金属の水酸化物あるいは水和物が得
られにくく、またこの温度より高いと発生圧力が高くな
るため、装置が高価なものとなり、メリットはない。
【0042】水熱処理時間は、1時間から4時間の範囲
が好ましい。水熱処理時間が短すぎると、特定の形状へ
の成長が不十分になる。水熱時間が長すぎても特に問題
となることはないが、製造コストが高くなるだけで、メ
リットはない。
【0043】(加熱処理)水熱処理後の前記金属の水酸
化物あるいは水和物粒子は、ろ過、乾燥した後、加熱処
理を行うが、ろ過する前に、水洗によりpHを6〜9の
付近の中性領域に調整しておくことが好ましい。これは
pHが高い状態では、ナトリウムなどが残存しており、
その後の加熱処理工程において、これらの残存物が粒子
間焼結の原因となったり、粒子の結晶成長を阻害する原
因になることもあるからである。
【0044】セリウム、ジルコニウム、アルミニウムお
よび鉄に対しては、これらの金属の水酸化物あるいは水
和物粒子に、さらに珪酸ナトリウムなどの珪素化合物を
添加して、シリカ処理を施こしても良い。このシリカ処
理は、最終目的物である酸化セリウム、酸化ジルコニウ
ム、酸化アルミニウムおよび酸化鉄粒子を特定の形状に
保持する上で、効果的である。
【0045】ろ過、乾燥した前記金属の水酸化物あるい
は水和物は、加熱処理により酸化物粒子とすることがで
きる。雰囲気は特に限定されないが、空気中加熱が、最
も製造コストがかからないため好ましい。この加熱処理
温度としては、300℃から1500℃の範囲が好まし
い。この温度より低いと、板状形状、結晶性共に良好な
酸化物粒子が得られにくく、高すぎると、焼結により粒
子サイズが大きくなったり、さらに粒子径分布が広くな
る。この加熱処理により、酸化セリウム、酸化ジルコニ
ウム、酸化アルミニウム、酸化鉄および酸化珪素粒子の
酸化物粒子が得られるが、さらに水洗などにより、未反
応物を除去すると、より高純度の酸化物粒子が得られる
ため、化学研磨用などの研磨材として使用するために
は、最終工程で水洗することが好ましい。
【0046】また板状形状、結晶性共に良好な酸化物粒
子を得るために、上記の加熱処理は有効な手段である
が、酸化セリウム、酸化ジルコニウムにおいては、加熱
処理を行わなくても、この酸化物本来の結晶構造である
蛍石構造を有する粒子が得られる。この場合には、熟成
および水熱処理条件にもよるが加熱処理を行うことなし
に板状形状の粒子が得られる。また酸化珪素においても
加熱処理を行うことなしにSiO2 の組成を有する板状
の酸化珪素粒子を得ることもできる。これら加熱処理工
程を経ないで得られた板状粒子は通常、粒子サイズが1
0nmと微細であるため乾燥工程を経ないスラリー状態
のまま使用することが好ましい。
【0047】このようにして得られた酸化物粒子は、粒
子径が10nmから100nmの範囲であり、また仕上
げ研磨用のシートや研磨液用の研磨材として使用する上
で特に好ましい範囲である粒子径が20nmから90n
mの板状の形状を有する。X線回折スペクトルを測定す
ると、酸化セリウムと酸化ジルコニウムは蛍石構造をも
つCeO2 、Zr02 の結晶構造に対応するピークが明
瞭に観察され、また電子顕微鏡観察においても晶壁が明
瞭に観察され、これまでの製造法では得られなかった極
めて良好な結晶性を有することが示された。
【0048】また、酸化アルミニウムにおいては、加熱
処理温度によってγ−Al23 、δ−Al23 、θ
−Al23 、α−Al23 など任意の結晶構造を有
する板状でかつ結晶性の良好な粒子が得られる。具体的
には例えば、アルカリ水溶液にアルミニウム塩の水溶液
を添加し、得られたアルミニウムの水酸化物あるいは水
和物を、水の存在化で110〜300℃の温度範囲で加
熱処理し、ろ過、乾燥後、得られたベーマイト粒子を空
気中300〜1200℃または400〜1500℃の温
度範囲で加熱処理し、さらに好ましくは水洗により酸化
アルミニウム以外の生成物あるいは残存物を除去するこ
とにより、γ−アルミナ、δ−アルミナ、θ−アルミナ
もしくはα−アルミナ単独の結晶構造、またはこれらの
アルミナ結晶構造のうちの2種類以上の結晶構造を持つ
アルミナの混合物を得ることができる。
【0049】さらに、酸化珪素については、X線回折ス
ペクトルでは明瞭な結晶性の回折ピークは認められにく
いが、蛍光X線分析などにおいて、ほぼSiO2 の組成
を有するものであることが確認された。
【0050】(非磁性板状粒子の用途)上記のようにし
て得られる非磁性板状粒子、具体的には酸化物粒子(酸
化セリウム粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化アルミニ
ウム粒子、酸化珪素粒子および酸化鉄粒子)は、例えば
研磨体や研磨液などの研磨材として使用した場合には、
その特異な形状と粒子径により、従来の粒状の研磨材粒
子では得られなかった、被研磨体の傷付きの極めて少な
い優れた研磨性を発揮する。即ち従来の粒状の研磨材粒
子を用いる場合には、研磨能を維持しながら、被研磨体
の傷付きのない平滑な研磨面を得ることは非常に困難で
あったのに対して、本発明の酸化物粒子を使用すれば、
板状粒子の端面を利用して研磨しながら、かつ粒子の平
滑な板面を利用することにより、傷つきの極めて少ない
研磨を実現することができる。なお、上記の研磨体に
は、シート状(研磨シート)、テープ状(研磨テー
プ)、ディスク状(研磨ディスク)、カード状もしくは
板状、棒状、立体状などの種々の形態のものが含まれ
る。
【0051】加えて、本発明の方法によれば、上記のよ
うな非磁性板状粒子の内で酸化鉄粒子のように板厚方向
に孔を生じやすい酸化物粒子も得られる。これは板状の
水酸化物粒子が加熱処理時に脱水され、孔が生成するた
めであるが、このような孔が存在する酸化物粒子におい
ても、研磨性など本発明の酸化物粒子が有する特徴が損
なわれることはない。また、この酸化鉄粒子中の鉄の一
部をアルミニウムやジルコニウムなど、他の金属元素で
置換すると、酸化鉄粒子の硬度を制御でき、これにより
用途に応して微妙な研摩能を発現できる。
【0052】本発明方法によって得られる非磁性板状粒
子を液状の媒体に、好ましくは分散剤とともに添加して
分散させることによって、スラリー状の研磨材である研
磨液が得られる。この場合の研磨材粒子、具体的には酸
化セリウム粒子、酸化珪素粒子、酸化ジルコニウム粒
子、酸化アルミニウム粒子、酸化鉄粒子は、硬度がそれ
ぞれ異なる。したがって、これらを数種類組み合わせて
使用すると、きめ細かい硬度が調整できるため、広範囲
の用途に対応できるようになる。特に、汎用のコロイダ
ルシリカと上記研磨材粒子とを混合使用すれば、コロイ
ダルシリカのみでは不十分であった研磨性に、さらに新
たな研磨性を付与できるようになり、広範囲の用途展開
が可能になる。また、このように混合使用する場合で
も、上記の研磨材粒子は焼結、凝集がなく、粒子径分布
も極めて均一であることから、異なる粒子が分離するこ
とが少なく、極めて安定な研磨液が得られる。
【0053】本発明の非磁性板状粒子は、各種の塗布型
磁気記録媒体の添加剤粒子としても極めて有望である。
この場合には孔のないタイプの板状粒子が好ましい。こ
のタイプの板状粒子が好ましいのは、孔があると、この
孔に針状の磁性粒子等が引っかかり、磁性粉の配向が乱
れる等の問題が生じる恐れがあるためである。また、厚
さムラの原因となる恐れもある。塗布型磁気記録媒体
は、高記録密度化の要求に伴い、磁性層は益々薄層化さ
れている。従来、塗布型磁気記録媒体用の添加剤として
は、粒状の酸化アルミニウム、酸化珪素さらには酸化鉄
が使用されてきたが、磁性層が薄層化すると、このよう
な粒状の添加剤では磁性層表面からの添加剤粒子の突出
が顕著になり、磁性層の表面平滑性が低下して、ノイズ
増加の原因となる。一方、本発明の板状粒子を使用する
と、板面を磁性層に並行になるように並べることによ
り、添加剤粒子のクリーニング機能を維持しながら、磁
性層表面の極めて平滑な磁気記録媒体が得られる。
【0054】さらに本発明の酸化物粒子は、光学フィル
ムなどの各種の機能性フィルム用の添加剤に使用する
と、その物質が本来有する光学特性にさらに板状形状に
基づく優れた光透過性を発揮する。即ち粒子の板面をフ
ィルム面に並行になるように並べると、その物質が本来
有する光との相互作用を発現しながら、光の透過性が良
好な優れた透明性を示す機能性フィルムが得られる。例
えば、屈折率の異なる本発明の酸化物粒子を複数種類多
層塗布した反射防止膜や、光の透過性が極めて良好な高
屈折率塗膜など、多くの用途展開が可能である。板状形
状に基づく面内での等方性を利用することにより、特定
方向での機械的あるいは熱的変形率の極めて小さい塗膜
を実現することも可能となる。なお、この場合には、酸
化アルミニウム粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化セリ
ウム粒子、酸化珪素粒子のように着色のない板状粒子
が、膜が着色しないので好ましい。また、板状粒子に孔
があると、屈折率のムラや透明性の低下の原因になる場
合があるので、孔のないタイプが好ましい。
【0055】このように、本発明の酸化物粒子は、粒子
の形状が板状で、かつ平均粒子サイズが10nmから1
00nmの範囲にある極めて粒子サイズ分布の良好な粒
子であり、このような粒子を使用することにより、酸化
物粒子を使用した現行の製品の特性を大幅に凌駕するの
みならず、従来実現が不可能であった全く新規な用途を
も開拓するものである。
【0056】
【実施例】以下、本発明の実施例を比較例とともに説明
する。
【0057】(1)酸化セリウム粒子に関する例 〈実施例1〉0.75モルの水酸化ナトリウムと100m
lの2−アミノエタノールを800mlの水に溶解し
て、アルカリ水溶液を調整した。これとは別に、0.07
4モルの塩化セリウム(III)七水和物を400mlの水
に溶解して、塩化セリウム水溶液を調整した。前者のア
ルカリ水溶液に、後者の塩化セリウム水溶液を滴下し
て、約25℃で水酸化セリウムを含む沈殿物を作製し
た。このときのpHは10.8であった。この沈殿物を懸
濁液の状態で20時間熟成させたのち、pHが7.9にな
るまで水洗した。
【0058】次に、上澄み液を除去した後、この沈殿物
の懸濁液を、オートクレーブに仕込み、200℃で2時
間、水熱処理を施した。
【0059】得られた水熱処理生成物を、ろ過し、90
℃で空気中乾燥した後、乳鉢で軽く解砕し、空気中60
0℃で1時間の加熱処理を行って酸化セリウム粒子とし
た。加熱処理後、未反応物や残存物を除去するために、
さらに超音波分散機を使って水洗し、ろ過乾燥した。
【0060】得られた酸化セリウム粒子について、X線
回折スペクトルを測定したところ、蛍石構造の酸化セリ
ウムに対応するスペクトルが明瞭に観測された(図1参
照)。また、酸化セリウムの(111)面に対応するピ
ーク幅から、シェラー法を用いて結晶子サイズを算出し
たところ、結晶子サイズは12.7nmであった。さら
に、透過電子顕微鏡で形状観察を行ったところ、粒子径
が10〜20nmの六角板状の粒子であることがわかっ
た。
【0061】この酸化セリウム粒子のX線回折スペクト
ルを図1に、また、20万倍で撮影した透過電子顕微鏡
写真を図2に示す。酸化セリウム粒子の合成条件、X線
回折で調べた結晶構造、透過電子顕微鏡写真から求めた
平均粒子径と形状、及びX線回折ピーク幅から求めた結
晶子サイズを表1にまとめて示す。
【0062】〈実施例2〉実施例1の酸化セリウム粒子
の合成方法において、水熱処理生成物の加熱処理温度
を、600℃から800℃に変更した以外は、実施例1
と同様にして、水酸化セリウムを含有する沈殿物を生成
させ、水洗、ろ過、乾燥後、加熱処理して、酸化セリウ
ム粒子を作製した。
【0063】この酸化セリウム粒子について、X線回折
スペクトルを測定したところ、実施例1と同じく蛍石構
造をもつ酸化セリウムに対応するスペクトルが観測され
た。また、(111)面に対応するピーク幅から、シェ
ラー法を用いて求めた結晶子サイズは、17.2nmであ
った。さらに、透過電子顕微鏡観察を行ったところ、粒
子径が10〜25nmの六角板状の粒子であった。
【0064】この酸化セリウム粒子について、20万倍
で撮影した透過電子顕微鏡写真を図3に示す。合成条
件、X線回折で調べた結晶構造、透過電子顕微鏡写真か
ら求めた平均粒子径と形状、及びX線回折ピーク幅から
求めた結晶子サイズを、表1にまとめて示す。
【0065】〈実施例3〉実施例1の酸化セリウム粒子
の合成方法において、水熱処理生成物の加熱処理温度
を、600℃から1000℃に変更した以外は、実施例
1と同様にして、水酸化セリウムを含有する沈殿物を生
成させ、水洗、ろ過、乾燥後、加熱処理して、酸化セリ
ウム粒子を作製した。
【0066】この酸化セリウム粒子について、X線回折
スペクトルを測定したところ、実施例1と同じ蛍石構造
をもつ酸化セリウムに対応するスペクトルが観測され、
また(111)面に対応するピーク幅から、シェラー法
を用いて求めた結晶子サイズは32.4nmであった。さ
らに透過電子顕微鏡観察を行ったところ、粒子径が50
〜100nmの六角形状ないしは四角形状の板状粒子で
あることがわかった。
【0067】この酸化セリウム粒子について、20万倍
で撮影した透過電子顕写真を図4に示す。合成条件、X
線回折で調べた結晶構造、透過電子顕微鏡写真から求め
た平均粒子径と形状、及びX線回折ピーク幅から求めた
結晶子サイズを、表1まとめて示す。
【0068】〈実施例4〉実施例1の酸化セリウム粒子
の合成方法において、水熱処理を行った後、懸濁液の体
積の500倍の水で洗浄した後、ろ過乾燥した。洗浄後
のpHは、7.5であった。その後の加熱処理以降の工程
は、実施例1と同様にして、酸化セリウム粒子を作製し
た。
【0069】この酸化セリウム粒子について、X線回折
スペクトルを測定したところ、蛍石構造をもつ酸化セリ
ウムに対応するスペクトルが観測され、また(111)
面に対応するピーク幅から、シェラー法を用いて求めた
結晶子サイズは11.5nmであった。さらに、透過電子
顕微鏡観察を行ったところ、粒径10〜15nmの六角
板状粒子であることがわかった。
【0070】この酸化セリウム粒子について、合成条
件、X線回折で調べた結晶構造、透過電子顕微鏡写真か
ら求めた平均粒子径と形状、及びX線回折ピーク幅から
求めた結晶子サイズを、表1まとめて示す。
【0071】〈実施例5〉実施例1の酸化セリウム粒子
の合成方法において、水熱処理を行った後、さらに4N
珪酸ナトリウム水溶液を0.04g添加し、次いで0.8N
の塩酸水溶液を加えてpHを7.4とした以外は、実施例
1と同様にして、水酸化セリウムを含有する沈殿物を生
成させ、水洗、ろ過、乾燥後、加熱処理して、酸化セリ
ウム粒子を作製した。
【0072】この酸化セリウム粒子について、X線回折
スペクトルを測定したところ、蛍石構造をもつ酸化セリ
ウムに対応するスペクトルが観測され、また(111)
面に対応するピーク幅から、シェラー法を用いて求めた
結晶子サイズは10.6nmであった。さらに、透過電子
顕微鏡観察を行ったところ、粒径10〜15nmの六角
板状粒子であることがわかった。
【0073】この酸化セリウム粒子について、合成条
件、X線回折で調べた結晶構造、透過電子顕微鏡写真か
ら求めた平均粒子径と形状、及びX線回折ピーク幅から
求めた結晶子サイズを、表1にまとめて示す。
【0074】〈実施例6〉実施例1の酸化セリウム粒子
の合成方法において、空気中600℃で1時間加熱処理
した後、さらに超音波分散機を使って水洗した以外は、
実施例1と同様にして酸化セリウム粒子を作製した。
【0075】この酸化セリウム粒子について、X線回折
スペクトルを測定したところ、蛍石構造をもつ酸化セリ
ウムに対応するスペクトルが観測され、また(111)
面に対応するピーク幅から、シェラー法を用いて求めた
結晶子サイズは12.3nmであった。さらに、透過電子
顕微鏡観察を行ったところ、粒径10〜20nmの六角
板状粒子であることがわかった。
【0076】この酸化セリウム粒子について、合成条
件、X線回折で調べた結晶構造、透過電子顕微鏡写真か
ら求めた平均粒子径と形状、及びX線回折ピーク幅から
求めた結晶子サイズを、表1に示す。
【0077】〈実施例7〉実施例1の酸化セリウム粒子
の合成方法において、水酸化ナトリウムの添加量を0.7
5モルから0.90モルに変更し、かつ2−アミノエタノ
ールを添加することなく、実施例1と同様に沈殿物を作
製した。このときのpHは10.5であった。次に、この
沈殿物の懸濁液を熟成した後、水熱処理を施し、水洗、
ろ過、乾燥後さらに加熱処理を行い、酸化セリウム粒子
を作製した。
【0078】この酸化セリウム粒子について、X線回折
スペクトルを測定したところ、蛍石構造をもつ酸化セリ
ウムに対応するスペクトルが観測され、また(111)
面に対応するピーク幅から、シェラー法を用いて求めた
結晶子サイズは20.1nmであった。さらに、透過電子
顕微鏡観察を行ったところ、若干粒子径分布が広いが、
粒径20〜30nmの六角板状粒子であることがわかっ
た。
【0079】この酸化セリウム粒子について、合成条
件、X線回折で調べた結晶構造、透過電子顕微鏡写真か
ら求めた平均粒子径と形状、及びX線回折ピーク幅から
求めた結晶子サイズを、表1に示す。
【0080】〈比較例1〉実施例1の酸化セリウム粒子
の合成方法において、水酸化セリウムを含有する沈殿物
を生成した後、水熱処理を行うことなく、実施例1と同
様にして、水酸化セリウムを含有する沈殿物をそのまま
水洗し、ろ過、乾燥した後、加熱処理して、酸化セリウ
ム粒子を作製した。
【0081】この酸化セリウム粒子について、X線回折
スペクトルを測定したところ、蛍石構造をもつ酸化セリ
ウムに対応するスペクトルが観測されたが、(111)
面に対応するピーク幅からは、結晶子サイズを求められ
ないほど大きな結晶子サイズになっており、また透過電
子顕微鏡で観察したところ、粒子径は1〜10μmと粒
子径分布の極めて広い焼結体または粗大粒子であること
がわかった。
【0082】この酸化セリウム粒子についても、合成条
件、X線回折で調べた結晶構造、透過電子顕微鏡写真か
ら求めた平均粒子径と形状、及びX線回折ピーク幅から
求めた結晶子サイズを、表1にまとめて示す。
【0083】(酸化セリウム粒子のX線回折スペクト
ル)図1は、上記の実施例1で作製した酸化セリウム粒
子のX線回折スペクトルである。図中に、蛍石構造をも
つ酸化セリウムの結晶構造に対応するピークを示す。実
施例、比較例のいずれの粉末においても同様の結果が得
られたことから、上記実施例および比較例で作製した粉
末は、いずれも酸化セリウム粒子であることを確認し
た。
【0084】(酸化セリウム粒子の透過電子顕微鏡観察
結果)図2〜図4は、上記の実施例1〜3で作製した酸
化セリウム粒子の透過電子顕微鏡写真を示す。実施例1
〜3は、水熱処理後の加熱処理温度がそれぞれ、600
℃、800℃、1000℃である。加熱処理温度が上昇
するにしたがって、平均粒子径が10nm程度から10
0nm程度に増大していることがわかる。これは、酸化
セリウム粒子が加熱処理工程において結晶成長すること
を示している。
【0085】上記実施例および比較例の酸化セリウム粒
子の合成条件、X線回折で調べた結晶構造、透過電子顕
微鏡写真から見積もった平均粒子径と形状を、表1にま
とめて示す。なお、透過電子顕微鏡写真から見積もった
粒子径は、300個の粒子の平均粒子径から求めた。
【0086】
【表1】
【0087】表1から明らかなように、上記各実施例で
得られた酸化セリウム粒子は、いずれも形状は板状で、
酸化セリウムが本来有する蛍石構造を有し、かつ粒子径
も研磨シートや研磨液などの研磨材のみならず、板状形
状を活かして磁気テープや各種の光学フィルムなどに使
用する上で、最適な範囲にあることがわかる。一方、比
較例1に示した酸化セリウム粒子では、蛍石構造を有す
るものの、粒子径が非常に大きく、かつ粒子径分布も極
めて広く、研磨材などの用途には適さないことがわか
る。
【0088】このように、本発明の酸化セリウム粒子
は、板状形状で、かつ100nm以下の微細な粒子径を
同時に実現したものであり、従来実現が不可能と考えら
れてきた全く新しい用途をも切り開くものである。
【0089】(2)酸化ジルコニウム粒子に関する例 〈実施例8〉0.75モルの水酸化ナトリウムと100m
lの2−アミノエタノールを800mlの水に溶解し
て、アルカリ水溶液を作製した。このアルカリ水溶液と
は別に、0.074モルの塩化ジルコニウム(IV)を40
0mlの水に溶解して塩化ジルコニウム水溶液を作製し
た。前記アルカリ水溶液に前記塩化ジルコニウム水溶液
を滴下して、約25℃で水酸化ジルコニウムを含む沈殿
物を作製した。このときのpHは10.8であった。この
沈殿物を懸濁液の状態で20時間熟成させたのち、pH
が7.8になるまで水洗した。
【0090】次に、上澄み液を除去した後、この沈殿物
の懸濁液を、オートクレーブに仕込み、20℃で2時
間、水熱処理を施した。
【0091】得られた水熱処理生成物を、ろ過し、90
℃で空気中乾燥した後、乳鉢で軽く解砕し、空気中60
0℃で1時間の加熱処理を行って酸化ジルコニウム粒子
とした。加熱処理後、未反応物や残存物を除去するため
に、さらに超音波分散機を使って水洗し、ろ過乾燥し
た。
【0092】得られた酸化ジルコニウム粒子について、
X線回折スペクトルを測定したところ、蛍石構造を有す
る酸化ジルコニウムに対応するスペクトルが明瞭に観測
された。さらに、透過電子顕微鏡で形状観察を行ったと
ころ、粒子径が10〜20nmの板状の六角粒子である
ことがわかった。この酸化ジルコニウム粒子のX線回折
スペクトルを図5に、また、20万倍で撮影した透過電
子顕微鏡写真を図6に示す。この酸化ジルコニウム粒子
の合成条件、X線回折で調べた結晶構造、透過電子顕微
鏡写真から求めた平均粒子径と形状を、表2にまとめて
示す。
【0093】〈実施例9〉実施例8の酸化ジルコニウム
粒子の合成方法において、水熱処理生成物の加熱処理温
度を、600℃から800℃に変更した以外は、実施例
8と同様にして、水酸化ジルコニウムを含有する沈殿物
を生成させ、水洗、ろ過、乾燥後、加熱処理して、酸化
ジルコニウム粒子を作製した。
【0094】この酸化ジルコニウム粒子について、X線
回折スペクトルを測定したところ、実施例8と同じく蛍
石構造を有する酸化ジルコニウムに対応するスペクトル
が観測された。さらに、透過電子顕微鏡観察を行ったと
ころ、粒子径が20〜30nmの六角板状の粒子であっ
た。この酸化ジルコニウム粒子について、20万倍で撮
影した透過電子顕微鏡写真を図7に示す。この酸化ジル
コニウム粒子について、その合成条件、X線回折で調べ
た結晶構造、透過電子顕微鏡写真から求めた平均粒子径
と形状を、表2にまとめて示す。
【0095】〈実施例10〉実施例8の酸化ジルコニウ
ム粒子の合成方法において、水熱処理生成物の加熱処理
温度を、600℃から1000℃に変更した以外は、実
施例8と同様にして、水酸化ジルコニウムを含有する沈
殿物を生成させ、水洗、ろ過、乾燥後、加熱処理して、
酸化ジルコニウム粒子を作製した。
【0096】この酸化ジルコニウム粒子について、X線
回折スペクトルを測定したところ、実施例8と同じ蛍石
構造を有する酸化ジルコニウムに対応するスペクトルが
観測され、また透過電子顕微鏡観察を行ったところ、粒
子径が50〜100nmの六角板状粒子であることがわ
かった。合成条件、X線回折で調べた結晶構造、透過電
子顕微鏡写真から求めた平均粒子径と形状を、表2にま
とめて示す。
【0097】〈実施例11〉実施例8の酸化ジルコニウ
ム粒子の合成方法において、水熱処理を行った後、懸濁
液の体積の500倍の水で洗浄した後、ろ過乾燥した。
洗浄後のpHは、7.5であった。その後の加熱処理以降
の工程は、実施例8と同様にして、酸化ジルコニウム粒
子を作製した。
【0098】この酸化ジルコニウム粒子について、X線
回折スペクトルを測定したところ、蛍石構造を有する酸
化ジルコニウムに対応するスペクトルが観測され、また
透過電子顕微鏡観察を行ったところ、粒径10〜15n
mの六角板状粒子であることがわかった。この酸化ジル
コニウム粒子について、合成条件、X線回折で調べた結
晶構造、透過電子顕微鏡写真から求めた平均粒子径と形
状を、表2にまとめて示す。
【0099】〈実施例12〉実施例8の酸化ジルコニウ
ム粒子の合成方法において、水熱処理を行った後、さら
に4N珪酸ナトリウム水溶液を0.04g添加し、さらに
0.8Nの塩酸水溶液を加えてpHを7.4とした以外は、
実施例8と同様にして、水酸化ジルコニウムを含有する
沈殿物を生成させ、水洗、ろ過、乾燥後、加熱処理し
て、酸化ジルコニウム粒子を作製した。
【0100】この酸化ジルコニウム粒子について、X線
回折スペクトルを測定したところ、蛍石構造を有する酸
化ジルコニウムに対応するスペクトルが観測され、さら
に、透過電子顕微鏡観察を行ったところ、粒径10〜1
5nmの六角板状粒子であることがわかった。この酸化
ジルコニウム粒子について、その合成条件、X線回折で
調べた結晶構造、透過電子顕微鏡写真から求めた平均粒
子径と形状を、表2にまとめて示す。
【0101】〈実施例13〉実施例8の酸化ジルコニウ
ム粒子の合成方法において、空気中600℃で1時間加
熱処理した後、さらに超音波分散機を使って水洗した以
外は、実施例8と同様にして酸化ジルコニウム粒子を作
製した。
【0102】この酸化ジルコニウム粒子について、X線
回折スペクトルを測定したところ、蛍石構造を有する酸
化ジルコニウムに対応するスペクトルが観測され、さら
に、透過電子顕微鏡観察を行ったところ、粒径10〜2
0nmの六角板状粒子であることがわかった。この酸化
ジルコニウム粒子について、その合成条件、X線回折で
調べた結晶構造、透過電子顕微鏡写真から求めた平均粒
子径と形状を、表2にまとめて示す。
【0103】〈実施例14〉実施例8の酸化ジルコニウ
ム粒子の合成方法において、水酸化ナトリウムの添加量
を0.75モルから0.90モルに変更し、かつ2−アミノ
エタノールを添加することなく、実施例8と同様に沈殿
物を作製し、この沈殿物の懸濁液を熟成した後、水熱処
理を施し、水洗、ろ過、乾燥後さらに加熱処理を行い、
酸化ジルコニウム粒子を作製した。
【0104】この酸化ジルコニウム粒子についてX線回
折スペクトルを測定したところ、蛍石構造を有する酸化
ジルコニウムに対応するスペクトルが明瞭に観測され
た。さらに、透過電子顕微鏡で形状観察を行ったとこ
ろ、若干粒子径分布が広いが、粒子径が15〜25nm
の六角板状の粒子であることがわかった。この酸化ジル
コニウム粒子について、その合成条件、X線回折で調べ
た結晶構造、透過電子顕微鏡写真から求めた平均粒子径
と形状を、表2にまとめて示す。
【0105】〈比較例2〉実施例8の酸化ジルコニウム
粒子の合成方法において、水酸化ジルコニウムを含有す
る沈殿物を生成した後、水熱処理を行うことなく、実施
例8と同様にして、水酸化ジルコニウムを含有する沈殿
物をそのまま水洗し、ろ過、乾燥し、さらに、実施例8
と同様に加熱処理して、酸化ジルコニウム粒子を作製し
た。
【0106】この酸化ジルコニウム粒子について、X線
回折スペクトルを測定したところ、蛍石構造を有する酸
化ジルコニウムに対応するピークが観察されたが、透過
電子顕微鏡で形状を観察したところ、微細な粒子から、
焼結あるいは凝集による粗大粒子まで、その粒子径分布
は粒子径が1〜10μmに亘る極めて粒子径分布の広い
焼結体または粗大粒子であることがわかった。この酸化
ジルコニウム粒子について、その合成条件、X線回折で
調べた結晶構造、透過電子顕微鏡写真から求めた平均粒
子径と形状を、表2にまとめて示す。
【0107】(酸化ジルコニウム粒子のX線回折スペク
トル)図5は、実施例8で作製した酸化ジルコニウム粒
子のX線回折スペクトルである。図中に、酸化ジルコニ
ウムの結晶構造に対応するピークを示す。実施例のいず
れの粉末においても同様の結果が得られたことから、実
施例で作製した粉末は、いずれも酸化ジルコニウム粒子
であることがわかった。
【0108】(酸化ジルコニウム粒子の透過電子顕微鏡
観察結果)図6、図7は、それぞれ実施例8および実施
例9で作製した酸化ジルコニウム粒子の透過電子顕微鏡
写真を示す。板状の酸化ジルコニウム粒子が得られてい
ることが明瞭に観察される。なお、透過電子顕微鏡写真
から見積もった平均粒子径は、300個の粒子の平均粒
子径から求めた。
【0109】
【表2】
【0110】表2から明らかなように、各実施例で得ら
れた酸化ジルコニウム粒子は、いずれも形状は板状で結
晶性に優れ、かつ粒子径も研磨シートや研磨液などの研
磨材のみならず、板状形状を活かして磁気テープや各種
の光学フィルムの用途などにおいてに使用する上で、粒
子径が最適な範囲にあることがわかる。一方、比較例2
に示した酸化ジルコニウム粒子では、粒子径が非常に大
きく、かつ粒子径分布も極めて広く、研磨材などの用途
には適さないことがわかる。
【0111】このように、本発明の酸化ジルコニウム粒
子は、板状形状で、かつ100nm以下の微細な粒子径
を同時に実現したものであり、従来実現が不可能と考え
られてきた全く新しい用途をも切り開くものである。
【0112】(3)酸化アルミニウム粒子に関する例 〈実施例15〉0.75モルの水酸化ナトリウムと100
mlの2−アミノエタノールを800mlの水に溶解
し、アルカリ水溶液を作製した。このアルカリ水溶液と
は別に、0.074モルの塩化アルミニウム(III)七水和
物を400mlの水に溶解して塩化アルミニウム水溶液
を作製した。前記アルカリ水溶液に前記塩化アルミニウ
ム水溶液を滴下して、約25℃で水酸化アルミニウムを
含む沈殿物を作製し、その後、塩酸を滴下することによ
り、pHを10.2にした。この沈殿物を懸濁液の状態で
20時間熟成させたのち、約1000倍の水で水洗し
た。
【0113】次に、上澄み液を除去した後、この沈殿物
の懸濁液を、水酸化ナトリウム水溶液を用いてpH10.
0に再調整し、オートクレーブに仕込み、200℃で2
時間、水熱処理を施した。
【0114】得られた水熱処理生成物を、ろ過し、90
℃で空気中乾燥した後、乳鉢で軽く解砕し、空気中60
0℃で1時間の加熱処理を行って酸化アルミニウム粒子
とした。加熱処理後、未反応物や残存物を除去するため
に、さらに超音波分散機を使って水洗し、ろ過乾燥し
た。
【0115】得られた酸化アルミニウム粒子について、
X線回折スペクトルを測定したところ、γ−アルミナに
対応するスペクトルが観測された。さらに、透過電子顕
微鏡で形状観察を行ったところ、粒子径が30〜50n
mの四角板状の粒子であることがわかった。
【0116】この酸化アルミニウム粒子のX線回折スペ
クトルを図8に、また20万倍で撮影した透過電子顕微
鏡写真を図9に示す。この酸化アルミニウム粒子につい
て、その合成条件、X線回折で調べた結晶構造、透過電
子顕微鏡写真から求めた平均粒子径と形状を、表3にま
とめて示す。
【0117】〈実施例16〉実施例15の酸化アルミニ
ウム粒子の合成方法において、水熱処理生成物の加熱処
理温度を、600℃から1000℃に変更した以外は、
実施例15と同様にして、水酸化アルミニウムを含有す
る沈殿物を生成させ、水洗、ろ過、乾燥後、加熱処理し
て、酸化アルミニウム粒子を作製した。
【0118】この酸化アルミニウム粒子について、X線
回折スペクトルを測定したところ、実施例15における
スペクトルよりもピーク強度の高い、δ−アルミナに対
応するスペクトルが観測された。また、透過電子顕微鏡
観察を行ったところ、実施例15と同様、粒子径が30
〜50nmの四角板状の粒子であった。
【0119】この酸化アルミニウム粒子のX線回折スペ
クトルを図10に示す。この酸化アルミニウム粒子につ
いて、その合成条件、X線回折で調べた結晶構造、透過
電子顕微鏡写真から求めた平均粒子径と形状を、表3に
まとめて示す。
【0120】〈実施例17〉実施例15の酸化アルミニ
ウム粒子の合成方法において、水熱処理時間を、2時間
から4時間に変更した以外は、実施例15と同様にし
て、水酸化アルミニウムを含有する沈殿物を生成させ、
水洗、ろ過、乾燥後、加熱処理して、酸化アルミニウム
粒子を作製した。
【0121】この酸化アルミニウム粒子について、X線
回折スペクトルを測定したところ、実施例15と同じγ
−アルミナに対応するスペクトルが観測された。さらに
透過電子顕微鏡観察を行ったところ、粒子径が10〜2
0nmの四角形状の板状粒子であることがわかった。
【0122】この酸化アルミニウム粒子について、20
万倍で撮影した透過電子顕写真を図11に示す。この酸
化アルミニウム粒子について、その合成条件、X線回折
で調べた結晶構造、透過電子顕微鏡写真から求めた平均
粒子径と形状を、表3にまとめて示す。
【0123】〈実施例18〉実施例15の酸化アルミニ
ウム粒子の合成方法において、アルカリ水溶液に、塩化
アルミニウム水溶液を滴下して、水酸化アルミニウムを
含む沈殿物を作製し、その後塩酸を滴下することによ
り、pHを8.3にした。熟成後、約1000倍の水で水
洗し、水酸化ナトリウム水溶液を用いてpH8.1に再調
整した。その後の水熱処理以降の工程は、実施例15と
同様にして、酸化アルミニウム粒子を作製した。
【0124】この酸化アルミニウム粒子について、X線
回折スペクトルを測定したところ、実施例15と同様、
γ−アルミナに対応するスペクトルが観測された。さら
に、透過電子顕微鏡観察を行ったところ、粒径65〜8
5nmの六角板状粒子であることがわかった。
【0125】この酸化アルミニウム粒子について、20
万倍で撮影した透過電子顕写真を図12に示す。この酸
化アルミニウム粒子について、その合成条件、X線回折
で調べた結晶構造、透過電子顕微鏡写真から求めた平均
粒子径と形状を、表3にまとめて示す。
【0126】〈実施例19〉実施例15の酸化アルミニ
ウム粒子の合成方法において、水熱処理を行った後、さ
らに4N珪酸ナトリウム水溶液を0.04g添加し、よく
攪拌した後、0.8Nの塩酸水溶液を、攪拌しながら徐々
に加えてpHを7.5とした以外は、実施例15と同様に
して、水酸化アルミニウムを含有する沈殿物を生成さ
せ、水洗、ろ過、乾燥後、加熱処理して、酸化アルミニ
ウム粒子を作製した。
【0127】この酸化アルミニウム粒子について、X線
回折スペクトルを測定したところ、γ−アルミナに対応
するスペクトルが観測された。さらに、透過電子顕微鏡
観察を行ったところ、粒径30〜50nmの四角板状粒
子であることがわかった。
【0128】この酸化アルミニウム粒子について、その
合成条件、X線回折で調べた結晶構造、透過電子顕微鏡
写真から求めた平均粒子径と形状を、表3にまとめて示
す。
【0129】〈実施例20〉実施例15で得られた酸化
アルミニウム粒子を、さらに空気中1250℃で1時
間、加熱処理した。得られた酸化アルミニウム粒子を、
X線回折スペクトルを測定したところ、α−アルミナに
対応するスペクトルが観測された。さらに、透過電子顕
微鏡で形状観察を行ったところ、粒子径が40〜60n
mの四角板状の粒子であった。
【0130】この酸化アルミニウム粒子のX線回折スペ
クトルを図13に、20万倍で撮影した透過電子顕微鏡
を図14に示す。この酸化アルミニウム粒子について、
その合成条件、X線回折で調べた結晶構造、透過電子顕
微鏡写真から求めた平均粒子径と形状を、表3にまとめ
て示す。
【0131】〈実施例21〉実施例15の酸化アルミニ
ウム粒子の合成方法において、水酸化ナトリウムの添加
量を0.75モルから0.90モルに変更し、かつ2−アミ
ノエタノールを添加することなく、実施例15と同様に
沈殿物を作製し、この沈殿物の懸濁液を熟成した後、水
熱処理を施し、水洗、ろ過、乾燥後さらに加熱処理を行
い、酸化アルミニウム粒子を作製した。
【0132】この酸化アルミニウム粒子についてX線回
折スペクトルを測定したところ、γ−アルミナに対応す
るスペクトルが観測された。さらに、透過電子顕微鏡で
形状観察を行ったところ、若干粒子径分布が広いが、粒
子径が40〜60nmの四角板状の粒子であることがわ
かった。
【0133】この酸化アルミニウム粒子について、その
合成条件、X線回折で調べた結晶構造、透過電子顕微鏡
写真から求めた平均粒子径と形状を、表3にまとめて示
す。
【0134】〈比較例3〉実施例15の酸化アルミニウ
ム粒子の合成方法において、加熱処理温度を600℃か
ら300℃にした以外は、実施例15と同様にして作製
した。
【0135】このようにして作製した粒子について、X
線回折スペクトルを測定したところ、酸化アルミニウム
への結晶構造変体が不十分であり、水酸化酸化アルミニ
ウム(ベーマイト;AlO(OH))に対応するスペク
トルが観測された。
【0136】この酸化アルミニウム粒子について、その
合成条件、X線回折で調べた結晶構造、透過電子顕微鏡
写真から求めた平均粒子径と形状を、表3にまとめて示
す。
【0137】〈比較例4〉実施例15の酸化アルミニウ
ム粒子の合成方法において、水酸化アルミニウムを含有
する沈殿物を実施例15と同じ条件で生成し、約100
0倍の水で水洗した後、実施例15と同様に水酸化ナト
リウム水溶液を用いてpH10.0に再調整した。次に、
オートクレーブを用いて水熱処理を施す代わりに、この
懸濁液を90℃で2時間加熱処理した。加熱生成物を、
ろ過し、90℃で空気中乾燥した後、乳鉢で軽く解砕
し、実施例1と同様に、空気中600℃で1時間の加熱
処理を行って酸化アルミニウム粒子とした。加熱処理
後、未反応物や残存物を除去するために、さらに超音波
分散機を使って水洗し、ろ過乾燥した。
【0138】この酸化アルミニウム粒子について、X線
回折スペクトルを測定したところ、γ−アルミナに対応
するスペクトルが観測されたが、透過電子顕微鏡で観察
したところ、粒子径は20nm程度の微粒子から数μm
の焼結ないしは凝集粒子まで、粒子径分布は広く、また
粒子形状も粒状ないしは塊状の不定形であった。
【0139】この酸化アルミニウム粒子について、その
合成条件、X線回折で調べた結晶構造、透過電子顕微鏡
写真から求めた平均粒子径と形状を、表3にまとめて示
す。
【0140】(酸化アルミニウム粒子の透過電子顕微鏡
観察結果)図9、11、12、14は、それぞれ実施例
15、17、18、20で作製した酸化アルミニウム粒
子の透過電子顕微鏡写真を示す。
【0141】実施例15と実施例17では、水熱処理時
間がそれぞれ、2時間、4時間である。水熱処理時間が
増大するにしたがい、加熱処理後に生成する酸化アルミ
ニウム粒子の平均粒子径が45nm程度から16nm程
度に減少する傾向にある。これは、水熱処理時に十分結
晶成長させれば、その後の加熱処理において、結晶成長
が抑制される傾向にあり、逆に水熱処理時の結晶成長を
控えめにすれば、その後の加熱処理において、結晶成長
しやすい傾向にあることを示している。
【0142】このように本発明の製造方法では、既述し
たように形状、粒子径を整えることを目的とする工程
と、その材料が本来有する物性を最大限に引き出すこと
を目的とする工程とに分離することが特徴の一つである
が、水熱処理による最初の工程と、空気中加熱処理によ
る後の工程とは密接に関係しており、この関係が存在す
ることも本発明により初めて見出されたものである。
【0143】さらに実施例15と実施例18では、熟成
時・水熱処理時のpHがそれぞれ、10.2と8.3であ
る。酸化アルミニウム粒子の粒子形状は、pH10.2で
は四角板状、pH8.3では六角板状となる。平均粒子径
はpHが大きくなるに小さくなる傾向になり、形状は六
角板状から四角板状になる傾向にある。このように熟成
時・水熱処理時のpHにより、粒子径や粒子形状が変化
する原因は、現状明らかではないが、熟成時、あるいは
水熱処理時のpHの値により、板状形状を維持しながら
粒子形状および、平均粒子径を変化させることができる
ことも、他の製造法にはない大きな特徴のひとつであ
る。
【0144】上記実施例および比較例の酸化アルミニウ
ム粒子の合成条件、X線回折スペクトルから求めた酸化
アルミニウム粒子の結晶構造、透過電子顕微鏡写真から
見積もった平均粒子径を表3にまとめて示す。なお、透
過電子顕微鏡写真から見積もった平均粒子径は、300
個の粒子の平均粒子径から求めた。
【0145】(酸化アルミニウム粒子のX線回折スペク
トル)図8、10、13は、それぞれ実施例15、1
6、20で作製した酸化アルミニウム粒子のX線回折ス
ペクトルを示す。図8、10、13は、それぞれγ−ア
ルミナ、δ−アルミナ、α−アルミナのX線回折スペク
トルに対応する。この結果は、酸化アルミニウム粒子の
粒子径、粒子形状を変えることなく、熱処理条件をコン
トロールすることにより、任意の結晶構造の酸化アルミ
ニウム粒子が得られることを示している。この点も本発
明の大きな特徴の一つである。
【0146】
【表3】
【0147】表3から明らかなように、上記実施例で得
られた酸化アルミニウム粒子は、いずれも形状は板状
で、X線回折からγ、δ、αなど熱処理条件により各種
の結晶構造に制御することが可能であることがわかる。
【0148】一方、比較例3では、酸化アルミニウム粒
子が得られず、水酸化酸化アルミニウム粒子(ベーマイ
ト粒子)のままである。さらに比較例4に示した酸化ア
ルミニウム粒子では、焼結あるいは凝集のために粒子径
が非常に大きく、かつ粒子径分布も極めて広く、研磨材
など添加剤としの用途には適さないことがわかる。
【0149】本発明の酸化アルミニウム粒子の粒子径
は、研磨シートや研磨液用の研磨材としてのみならず、
磁気テープ用の添加材粒子や、さらには各種の機能性シ
ート用の添加材粒子として最適な範囲にある。このよう
に板状形状で、かつ100nm以下の微細な粒子径を同
時に実現した酸化アルミニウム粒子はこれまでにはな
く、従来実現が不可能と考えられてきた全く新しい用途
をも切り開くものである。
【0150】(4)酸化珪素粒子に関する例 〈実施例22〉0.074モルのメタ珪酸ナトリウムと1
00mlの2−アミノエタノールを800mlの水に溶
解し、アルカリ水溶液を作成した。このアルカリ水溶液
とは別に、1N塩酸水溶液を400ml作製した。この
珪酸酸ナトリウムとアミノエタノールを含むアルカリ水
溶液に、塩酸水溶液を、縣濁液のpHが8.3になるまで
滴下して、約25℃で水酸化珪素を含む沈殿物を作製し
た。この沈殿物を懸濁液の状態で20時間熟成させたの
ち、pHが7.6になるまで水洗した。
【0151】次に、上澄み液を除去した後、この沈殿物
の懸濁液を、オートクレーブに仕込み、200℃で2時
間、水熱処理を施した。
【0152】得られた水熱処理生成物を、ろ過し、90
℃で空気中乾燥した後、乳鉢で軽く解砕し、空気中80
0℃で1時間の加熱処理を行って酸化珪素粒子とした。
【0153】得られた酸化珪素粒子について、透過電子
顕微鏡で形状観察を行ったところ、粒子径が30〜40
nmの円形に近い板状の粒子であることがわかった。
【0154】この酸化珪素粒子を、20万倍で撮影した
透過電子顕微鏡写真を図15に示す。また、この酸化珪
素粒子について、その合成条件、X線回折で調べた結晶
構造、透過電子顕微鏡写真から求めた平均粒子径と形状
を、表4にまとめて示す。
【0155】〈実施例23〉実施例22の酸化珪素粒子
の合成方法において、水熱処理生成物の加熱処理温度
を、800℃から600℃に変更した以外は、実施例2
2と同様にして、水酸化珪素を含有する沈殿物を生成さ
せ、水洗、ろ過、乾燥後、加熱処理して、酸化珪素粒子
を作製した。
【0156】この酸化珪素粒子について、透過電子顕微
鏡観察を行ったところ、粒子径が15〜25nmの円形
に近い板状の粒子であった。この酸化珪素粒子につい
て、その合成条件、X線回折で調べた結晶構造、透過電
子顕微鏡写真から求めた平均粒子径と形状を、表4にま
とめて示す。
【0157】〈実施例24〉実施例22の酸化珪素粒子
の合成方法において、水熱処理生成物の加熱処理温度
を、800℃から1000℃に変更した以外は、実施例
22と同様にして、水酸化珪素を含有する沈殿物を生成
させ、水洗、ろ過、乾燥後、加熱処理して、酸化珪素粒
子を作製した。
【0158】この酸化珪素粒子について、透過電子顕微
鏡観察を行ったところ、粒子径が70〜100nmの円
形に近い板状の粒子であった。この酸化珪素粒子につい
て、その合成条件、X線回折で調べた結晶構造、透過電
子顕微鏡写真から求めた平均粒子径と形状を、表4にま
とめて示す。
【0159】〈実施例25〉実施例22の酸化珪素粒子
の合成方法において、水熱処理を行った後、懸濁液の体
積の500倍の水で洗浄した後、ろ過乾燥した。洗浄後
のpHは、7.5であった。その後の加熱処理以降の工程
は、実施例22と同様にして、酸化珪素粒子とした。
【0160】得られた酸化珪素粒子について透過電子顕
微鏡観察を行ったところ、粒径30〜40nmの円形に
近い板状粒子であることがわかった。この酸化珪素粒子
について、その合成条件、X線回折で調べた結晶構造、
透過電子顕微鏡写真から求めた平均粒子径と形状を、表
4にまとめて示す。
【0161】〈実施例26〉実施例22の酸化珪素粒子
の合成方法において、空気中80℃で1時間加熱処理し
た後、さらに超音波分散機を使って水洗した以外は、実
施例22と同様にして酸化珪素粒子を作製した。
【0162】得られた酸化珪素粒子について、透過電子
顕微鏡観察を行ったところ、粒径30〜40nmの円形
に近い板状粒子であることがわかった。この酸化珪素粒
子について、その合成条件、X線回折で調べた結晶構
造、透過電子顕微鏡写真から求めた平均粒子径と形状
を、表4にまとめて示す。
【0163】〈実施例27〉実施例22の酸化珪素粒子
の合成方法において、0.074モルのメタ珪酸ナトリウ
ムと100mlの2−アミノエタノールを800mlの
水に溶解したアルカリ水溶液に替えて、2−アミノエタ
ノールを添加せずに、0.074モルのメタ珪酸ナトリウ
ムのみを800mlの水に溶解したアルカリ水溶液を用
いた以外は、実施例22と同様にして、1N塩酸水溶液
を、メタ珪酸ナトリウム水溶液にpHが7.5になるまで
滴下して、水酸化珪素を含む沈殿物を作製した。この沈
殿物を懸濁液の状態で20時間熟成させたのち、水洗し
て、pHを7.6に調製した。
【0164】次に、上澄み液を除去した後、この沈殿物
の懸濁液を、オートクレーブに仕込み、200℃で2時
間、水熱処理を施した。
【0165】得られた酸化珪素粒子について、透過電子
顕微鏡観察を行ったところ、若干粒子径分布が広いが、
粒子径が20〜30nmの円形に近い板状粒子であるこ
とがわかった。この酸化珪素粒子について、その合成条
件、X線回折で調べた結晶構造、透過電子顕微鏡写真か
ら求めた平均粒子径と形状を、表4にまとめて示す。
【0166】〈比較例5〉実施例22の酸化珪素粒子の
合成方法において、水酸化珪素を含有する沈殿物を生成
した後、水熱処理を行わなかった以外は、実施例22と
同様にして、水酸化珪素を含有する沈殿物をそのまま水
洗し、ろ過、乾燥した後、加熱処理して、酸化珪素粒子
を作製した。
【0167】得られた酸化珪素粒子について、透過電子
顕微鏡で観察したところ、粒子径は1〜10μmと粒子
径分布の極めて広い焼結体または凝集粒子であることが
わかった。この酸化珪素粒子について、その合成条件、
X線回折で調べた結晶構造、透過電子顕微鏡写真から求
めた平均粒子径と形状を、表4にまとめて示す。なお透
過電子顕微鏡写真から見積もった平均粒子径は、300
個の粒子の平均粒子径から求めた。
【0168】(透過電子顕微鏡観察結果)図15は、実
施例22で作製した酸化珪素粒子の透過電子顕微鏡写真
を示す。粒子径が30〜40nmの円形に近い板状の粒
子であることがわかる。このように粒子径が極めて小さ
くて板状形状を有する酸化珪素粒子は、従来の方法では
得ることが極めて困難であり、本発明の方法により初め
て成功したものである。
【0169】
【表4】
【0170】表4から明らかなように、上記実施例で得
られた酸化珪素粒子は、X線回折スペクトルからは、結
晶構造は非晶質であるが、いずれも形状は板状であり、
このような形状の酸化珪素粒子は、本発明により初めて
実現したものである。
【0171】一方、比較例5の酸化珪素粒子は、焼結あ
るいは凝集のために粒子径が大きく、かつ粒子径分布も
極めて広く、研磨材などの用途に適したものとは言えな
いものである。
【0172】本発明の酸化珪素粒子の粒子径は、研磨シ
ートや研磨液用の研磨材としてのみならず、磁気テープ
用の添加剤やさらには各種の機能性シート用の添加剤粒
子として最適な範囲にある。このように板状形状と言う
特異な粒子形状を有し、かつ100nm以下の微細な粒
子径を同時に実現した酸化珪素粒子はこれまでにはな
く、従来実現が不可能と考えられてきた全く新しい用途
をも切り開くものである。
【0173】 (5)酸化鉄粒子に関する例 〈実施例28〉 下記の2種類の水溶液を作製した。 ・A液; 塩化第二鉄(FeCl3 ・6H2 O) 20g 水 500cc ・B液; 水酸化ナトリウム 30g モノエタノールアミン 50cc 水 1000cc
【0174】上記のA液およびB液を12℃に保持し、
攪拌しながら、A液をB液中、約1時間かけて滴下し
た。滴下終了後、さらに1時間、攪拌した。このように
して得られた沈殿物を、室温で約20時間放置した後、
純水で洗浄し、水酸化ナトリウム水溶液を加えてpHを
11.3に調整し、オートクレーブを用いて、150℃で
1時間の水熱処理を施した。この処理により、板状のゲ
ーサイト(αFeOOH)を得た。さらに、このゲーサ
イトに対してSiO2 換算で、1wt%になるように珪
酸ナトリウム溶液を攪拌しながら添加し、塩酸によりp
Hを7.3に調整して、SiO2 による被覆処理を行っ
た。ろ過・乾燥させた後、空気中、600℃で1時間加
熱脱水した。この加熱処理により、板状のα酸化鉄(α
−Fe23)粒子を得た。
【0175】得られたα酸化鉄粒子は、平均粒子径が6
5nmの円板〜六角板状で、中央付近に直径約30nm
の孔を有する板状粒子であった。また、X線回折スペク
トルから、コランダム構造を有するアルファヘマタイト
であることがわかった。
【0176】この酸化鉄粒子の電子顕微鏡写真を図16
に示す。また、この酸化鉄粒子について、その合成条
件、X線回折で調べた結晶構造、透過電子顕微鏡写真か
ら求めた平均粒子径と形状を、表5にまとめて示す。
【0177】〈実施例29〉実施例28において、酸化
鉄粒子合成工程における、B液中にA液を滴下するとき
の、両液の保持温度を12℃から18℃に変更した以外
は、実施例28と同様にして沈殿物を作製し、さらに水
熱処理を行った。次に実施例と同様に加熱脱水処理を行
い、平均粒子サイズが90nmの円板〜六角板状の、空
孔を有する酸化鉄粒子を得た。この酸化鉄粒子は、X線
回折スペクトルから、コランダム構造を有するアルファ
ヘマタイトであることがわかった。
【0178】この酸化鉄粒子の電子顕微鏡写真を図17
に示す。また、この酸化鉄粒子について、その合成条
件、X線回折で調べた結晶構造、透過電子顕微鏡写真か
ら求めた平均粒子径と形状を、表5にまとめて示す。
【0179】〈比較例6〉実施例28において、酸化鉄
粒子合成工程における、B液中にA液を滴下して沈殿物
を作製した後、水熱処理を行うことなくSiO2 による
被覆処理を行い、ろ過・乾燥させ、さらに空気中、60
0℃で1時間加熱脱水した。
【0180】この加熱処理により得られた酸化鉄は、平
均粒子径が60nmの粒状であり、実施例28、実施例
29のような板状形状は得られなかった。この酸化鉄粒
子について、その合成条件、X線回折で調べた結晶構
造、透過電子顕微鏡写真から求めた平均粒子径と形状
を、表5にまとめて示す。
【0181】(透過電子顕微鏡観察結果)図16、17
は、それぞれ実施例28、29で作製した酸化鉄粒子の
透過電子顕微鏡写真を示す。図16に示されている実施
例28の酸化鉄粒子は、平均粒子径が65nmの板状粒
子であり、また図17に示されている実施例29の酸化
鉄粒子は、平均粒子径が90nmの板状粒子であること
がわかる。また、いずれの粒子も粒子内部に空孔を有し
ている。これは水熱処理後に得られた板状のゲータイト
粒子を加熱処理すると脱水により孔が生じるためであ
る。板状の水酸化物粒子の加熱脱水により生じる孔の形
状は微細なマイクロポアから本発明の板状酸化鉄粒子の
ように比較的サイズの大きい孔が生じるものなど、孔の
サイズは物質によって異なる。しかし、このような孔が
生じても本発明の板状粒子が有する研摩性などの特性を
損なうものではないことは言うまでもない。
【0182】
【表5】
【0183】表5から明らかなように、上記実施例で得
られた酸化鉄粒子は、X線回折スペクトルからは、コラ
ンダム構造を有し、いずれも形状は板状である。このよ
うな形状の酸化鉄粒子は、本発明により初めて実現され
たものである。
【0184】一方、比較例6の酸化鉄粒子は、形状が粒
状であり、本発明のような板状形状を示さない。本発明
の酸化鉄粒子の粒子径は、研磨シートや研磨液用の研磨
材としてのみならず、磁気テープ用の添加剤粒子や、さ
らには各種の機能性シート用の添加剤粒子として最適な
範囲にある。このように板状形状で、かつ100nm以
下の微細な粒子径を同時に実現した酸化鉄粒子はこれま
でにはなく、従来実現が不可能と考えられてきた全く新
しい用途をも切り開くものである。
【0185】(6)研磨テープへの適用例 次に、研磨体の一つの例としての研磨テープに本発明の
板状酸化物粒子を適用した例について説明する。なお、
研磨テープは、フィルム状またはシート状の支持体の表
面に研磨材を含んだ研磨層を形成した後、得られた積層
体を所定幅のテープ状に裁断することにより作製される
もので、研磨シートや研磨フィルムとの相違点はテープ
状である点のみである。したがって、本発明の板状酸化
物粒子を研磨シートや研磨フィルムに適用した場合にお
いても、以下の例と同様の結果が得られる。
【0186】〈実施例30〜44、比較例7〜16〉本
発明の板状酸化物粒子及び比較例で示した酸化物粒子を
用いて、以下の組成の研磨層用の塗布液を作製した。な
お、この実験で使用した酸化物粒子は実施例1等に示し
た実験をスケールアップして作製したものである(以下
同様)。以下の実施例および比較例において「部」は重
量部を意味する。
【0187】 《研磨層形成用の塗布液成分》 ・非磁性酸化物粒子 200部 ・塩ビ−酢ビ共重合体 (UCC社製の「VAGH」) 30部 ・ポリウレタン樹脂(東洋紡社製の「バイロンUR8300」) 25部 ・メチルエチルケトン 150部 ・トルエン 150部 ・シクロヘキサノン 130部
【0188】上記の塗布液成分を撹拌、混合したのち、
サンドミルで分散させ、研磨層形成用の塗布液を調製し
た。この塗布液を、厚さが75μmのポリエチレンテレ
フタレ―トフィルムからなる支持体の片面に、カレンダ
処理後の厚さが10μmとなるように、塗布し、乾燥し
た。カレンダで鏡面化処理したのち、所定幅に裁断し
て、研磨テープを作製した。
【0189】表6に、作製した研磨テープの種類と、そ
れらの研磨テープに使用した酸化物粒子の主要な特性を
示す。
【0190】
【表6】
【0191】表6中の「実施例/比較例」の欄におい
て、右欄に実施例や比較例の記載があるものは、これら
の実施例や比較例で得た酸化物粒子を使用したことを示
す。また、表6において、比較例8、比較例10、比較
例12、比較例14および比較例16の研磨テープは、
それぞれ市販の酸化セリウム粒子、酸化ジルコニウム粒
子、酸化アルミニウム粒子、酸化珪素粒子および酸化鉄
粒子を用いて、前述した研磨層形成用の塗布液と同一成
分かつ同一方法により作製したものである。これらの酸
化物粒子は、何れも微粒子と言われている市販の酸化物
粒子であり、形状は球状、粒状ないしは立方状である。
本発明の特徴である、粒子形状が板状である酸化物粒子
を用いた研磨テープとの研磨性を比較するため、これら
の酸化物粒子を用いて研磨テープを作製した。
【0192】上記実施例および比較例に示した各研磨テ
ープを用いて、下記の方法により、ガラスの傷つき試験
を行い、その性能を評価した。結果は、表7に示す通り
であった。
【0193】(傷つき試験)研磨テープの両端をガラス
板上に固定し、表面に水を含ませた状態で、表面性測定
機(新東科学社製の「HEIDON−14DR」)を用
いて、摺動スピード3000mm/min 、摺動スケール2
0mm、荷重20gの条件で、直径5mmのガラス球(ニツ
カトー社製)を100回、往復摺動させる。その後、ガ
ラス球の磨耗度合いを顕微鏡で観察し、5段階評価し
た。磨耗度合いにおいては、数字が大きいほど磨耗度合
いが大きいことを示す。また、磨耗痕は、ガラス球表面
を顕微鏡で観察し、4段階評価した。磨耗痕としては、
表面に傷が5本以上ある場合を「×」、傷が3〜4本あ
る場合を「△」、傷が2本以下の場合を「○」、傷が発
生しない場合を「◎」と評価した。
【0194】
【表7】
【0195】表6および表7の結果から、同一種類の酸
化物粒子で比較した場合、本発明の板状の酸化物粒子を
用いた研磨テープと、比較例の水熱処理を行わずに熱処
理を施した粒子を用いた研磨テープとでは、差異は歴然
としている。即ち、本発明の板状粒子を用いた研磨テー
プは、適度な研磨性を維持しながら、傷つきが少ないバ
ランスの良好なテープであるのに対して、比較例の粒子
を用いた研磨テープでは、粒子径が大きい分、研磨性は
高くなる反面、傷つき度合いが非常に大きく、研磨テー
プには向いていないことがわかる。
【0196】また、同じ種類の酸化物で、微粒子と言わ
れている市販の酸化物粒子を用いて研磨テープを作製し
た場合は、研磨性と傷つきのバランスの良好な研磨テー
プが得られる。しかし、本発明の、粒子径が10〜10
0nmの範囲にある、板状粒子を用いた研磨テープに比
較すれば、市販の酸化物粒子を用いて作製した研磨シー
トは、総合的な特性において劣る。
【0197】この原因は、市販の酸化物粒子が、粒状、
球状あるいは立方状であるのに対して、本発明の粒子が
板状であるためであると思われる。すなわち、本発明の
板状粒子を用いた場合、板状粒子のエッジ部分を利用し
た研磨性に加えて、板面を利用した被研磨面との良好な
接触性が得られる結果、上記のような優れた研磨能が得
られたものと考えられる。
【0198】本発明の酸化物粒子間の優劣を比較するこ
とは無意味であるが、研磨性のみから判断すれば、酸化
アルミニウムと酸化ジルコニウムは比較的研摩性が高
く、酸化セリウム、酸化鉄および酸化珪素の研摩性は比
較的ゆるやかである。一方、傷つきの程度は、研磨性の
逆になる傾向にある。したがって、用途に応じて酸化物
粒子を選択することが重要であるが、どの酸化物粒子を
使用する場合においても、上述したように従来の粒状、
球状あるいは立方状の酸化物粒子を使用した場合に比較
して、本発明の、粒子径が10〜100nmの範囲にあ
る、板状の酸化物粒子を使用した研磨テープの方が総合
的な特性において勝っている。
【0199】上記実施例では、本発明の粒子の優れた研
磨性を利用する例として、研磨シートに適用した例につ
いて説明したが、必ずしもシート状にする必要はなく、
研磨液や研磨スラリーとしても使用できることは言うま
でもない。即ち、本発明の非磁性酸化物粒子の、その特
異な形状を利用することにより、最終形態に関係なく、
研磨材粒子として優れた特性を発揮する。
【0200】以上述べたように、本発明の、粒子径が1
0〜100nmの範囲にある、板状の酸化セリウム、酸
化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化珪素および酸
化鉄粒子を用いることにより、高い研磨能力を維持しな
がら、研磨傷の発生が少ないバランスの取れた研磨シー
トが得られることがわかる。
【0201】(7)塗布型磁気記録媒体(磁気テープ)
への適用例 次に、塗布型磁気記録媒体の一例としての塗布型磁気テ
ープの添加剤に本発明の板状の酸化物粒子を適用した例
について説明する。以下の実施例および参考例において
「部」は重量部を意味する。
【0202】 〈実施例45〜49、参考例1〉 《下塗層用塗料成分》 (1) ・酸化物粒子(後述する表8参照) 76部 ・カーボンブラック(平均粒径:25nm、吸油量:55g/cc) 24部 ・ステアリン酸(潤滑剤) 2.0部 ・塩化ビニル−ヒドロキシプロピルアクリレート共重合体 8.8部 (含有−SO3 Na基:0.7×10-4当量/g) ・ポリエステルポリウレタン 4.4部 (含有−SO3 Na基:1.0×10-4当量/g) ・シクロヘキサノン 25部 ・メチルエチルケトン 40部 ・トルエン 10部 (2) ・ステアリン酸ブチル(潤滑剤) 1部 ・シクロヘキサノン 70部 ・メチルエチルケトン 50部 ・トルエン 20部 (3) ・ポリイソシアネート(架橋剤) 2.0部 ・シクロヘキサノン 10部 ・メチルエチルケトン 15部 ・トルエン
【0203】 《磁性層用塗料成分》 (1) ・強磁性鉄系金属粉 100部 〔Co/Fe:25wt%、 Y/Fe :9.3wt%、 Al/Fe:3.5wt%、 Ca/Fe:0wt%、 σs :155A・m2 /kg、 Hc:188.2kA/m、 pH:9.4、 平均長軸長:0.10μm〕 ・塩化ビニル−ヒドロキシプロピルアクリレート共重合体 12.3部 (含有−SO3 Na基:0.7×10-4当量/g) ・ポリエステルポリウレタン樹脂 5.5部 (含有−SO3 Na基:1.0×10-4当量/g) ・α−アルミナ(平均粒径:0.12m) 10.0部 ・カーボンブラック 1.0部 (平均粒径:75nm、DBP吸油量:72cc/100g) ・メタルアシッドホスフェート 2部 ・パルミチン酸アミド 1.5部 ・ステアリン酸n−ブチル 1.0部 ・テトラヒドロフラン 65部 ・メチルエチルケトン 245部 ・トルエン 85部 (2) ・ポリイソシアネート(架橋剤) 2.0部 ・シクロヘキサノン 167部
【0204】上記下塗層用塗料成分において(1)をニ
ーダで混練したのち、(2)を加えて攪拌の後サンドミ
ルで滞留時間を60分として分散処理を行い、これに
(3)を加え攪拌・濾過した後、下塗層用塗料とした。
これとは別に、上記の磁性層用塗料成分(1)をニーダ
で混練したのち、サンドミルで滞留時間を45分として
分散し、これに磁性層用塗料成分(2)を加え攪拌・濾
過後、磁性塗料とした。そして、ポリエチレンナフタレ
ートフィルム(PEN、厚さ6.2μm、湿度膨張係数=
5.6×10-6/%RH、熱膨張係数=(−7.4)×10
-6/℃、MD=6.50GPa、MD/TD=0.54、帝
人社製。ここで、MDはフィルム引き出し方向(長手方
向)のヤング率、TDはフィルム引き出し方向と直交す
る方向(幅方向)のヤング率を示す。)からなる非磁性
支持体上に上記の下塗層用塗料を、乾燥・カレンダ後の
厚さが1.8μmとなるように塗布し、この下塗層上に、
さらに上記の磁性塗料を磁場配向処理、乾燥、カレンダ
ー処理後の磁性層の厚さが0.15μmとなるようにウエ
ット・オン・ウエット方式で塗布し、磁場配向処理後、
ドライヤを用いて乾燥し、磁気シートを得た。なお、磁
場配向処理は、ドライヤ前にN−N対抗磁石(5kG)
を設置し、ドライヤ内で塗膜の指蝕乾燥位置の手前側7
5cmからN−N対抗磁石(5kG)を2基50cm間隔で
設置して行った。塗布速度は100m/分とした。
【0205】 《バックコート層用塗料成分》 ・カーボンブラック(平均粒径:25nm) 80部 ・カーボンブラック(平均粒径:370nm) 20部 ・ニトロセルロース 44部 ・ポリウレタン樹脂(SO3 Na基含有) 30部 ・シクロヘキサノン 260部 ・トルエン 260部 ・メチルエチルケトン 525部
【0206】上記バックコート層用塗料成分をサンドミ
ルで滞留時間45分として分散した後、架橋剤であるポ
リイソシアネート13部を加えてバックコート層用塗料
を調整し濾過した後、上記で作製した磁気シートの磁性
層の反対面に、乾燥・カレンダ後の厚みが0.5μmとな
るように塗布し、乾燥した。このようにして得られた磁
気シートを金属ロールからなる7段カレンダで、温度1
00℃、線圧150×9.8N/cm(150kg/cm)の条
件で鏡面化処理し、磁気シート(磁気テープ原反)をコ
アに巻いた状態で70℃で72時間エージングした。
【0207】つぎに、スリッティングシステム用いて、
上記磁気シート原反を裁断して1/2インチ幅の磁気テ
ープとした。この磁気テープをリールに巻装してケース
本体内に組み込むことにより、コンピュータ用の磁気テ
ープカートリッジ(コンピュータテープ)を作製した。
【0208】このようにして作製したコンピュータテー
プについて、再生出力特性やエラーレート、サーボ特性
等などコンピュータテープとしての基本特性を評価した
が、ここでは特にこれらの特性の中でサーボ特性に大き
な影響を与えるオフトラック特性について評価した例に
ついて説明する。このオフトラック量は、下塗層に使用
する非磁性粒子の特性に大いに左右されるため、下塗層
用の非磁性粒子として、本発明の各種の板状酸化物粒子
を用いた場合と、従来の針状のα−酸化鉄粒子を用いた
場合とでオフトラック量を比較した。なお、この場合の
オフトラック量は、以下の方法により測定した。
【0209】(オフトラック量の測定)オフトラック量
は、改造したLTOドライブ(記録トラック幅:20.6
μm、再生トラック幅:12μm)を用いて温度10
℃、湿度10%RHで記録(記録波長0.55μm)を行
い、温度10℃、湿度10%RHと温度29℃、湿度8
0%RHで再生した時の再生出力の比から求めた。な
お、記録トラック幅を80μm、再生トラック幅を50
μmとした場合にはオフトラックによる出力低下はほと
んどなかった(1%以下)。
【0210】下塗用塗料に使用する酸化物粒子として、
本発明の板状の酸化物粒子を用いた場合と従来の針状の
α−酸化鉄粒子を用いた場合とについて、磁気テープの
状態でのオフトラック量を測定した結果を表8に示す。
【0211】
【表8】
【0212】表8から明らかなように、下塗層用の非磁
性酸化物粒子として、本発明の、粒子径が10〜100
nmの範囲にあり、板状の形状を有する粒子を用いた場
合には、従来の針状の酸化物粒子を用いた場合に比べて
オフトラック量が少ない。
【0213】一般に、オフトラックは、記録トラック幅
が広い場合には、それほど問題にはならないが、記録ト
ラックが狭くなると顕著になる。オフトラックが大きく
なると、オフトラックエラーが発生し、正常なサーボを
行うことができなくなる。このような問題は、磁気サー
ボ方式および光学サーボ方式の両者に共通して生じるも
のであるが、光学サーボ方式の方が、用いられる磁気ヘ
ッドアレイ全体の質量が磁気サーボ方式のものに比べて
大きいために一層顕著である。
【0214】本発明の板状酸化物粒子を用いることによ
り、PES(位置ずれの標準偏差)が小さくなり、記録
トラック幅が21μm以下と狭く、かつ温度変化があっ
たときでもオフトラックが生じにくくなるので、エラー
レートの低いサーボ特性に優れた磁気テープおよび磁気
テープカートリッジが得られる。
【0215】これは、粒子の形状が板状であるため、塗
膜中で板面が塗布面に並行になるように並び易く、その
結果テープの面内での弾性率の異方性が小さいためと考
えられる。また同時に、粒子径が10〜100nmと小
さく、かつ板状形状であるため、粒子の表面積が大き
く、その結果、バインダーとより強固に結合するため、
熱的および機械的変形の少ない優れた磁気テープが得ら
れたためと考えられる。
【0216】上記の実施例では、本発明の板状粒子を下
塗層に使用した例について説明したが、下塗層に限定さ
れるものではなく、磁性層やバックコートに添加しても
効果を発揮できることは言うまでもない。即ち、従来の
これらの非磁性酸化物粒子は、粒状、板状針状あるいは
立方状であったの対して、本発明の非磁性酸化物粒子
は、その最大の特徴である板状形状を利用して、磁気テ
ープに使用した場合には、温湿度に対する変形や、機械
的変形の極めて少ない高密度記録に最適な磁気テープが
得られる。
【0217】さらに、磁気テープの磁性層に添加する場
合には、上述した熱的、機械的変形の少ないテープが得
られるのみならず、研磨テープの実施例で述べたよう
に、研磨材としての作用がある。この研磨材としての作
用は、磁性層が薄くなるほど効果を発揮する。即ち、磁
性層厚さが0.1μm以下と薄くなると、これまで添加剤
として使用されてきた粒状あるいは球状の粒子では、磁
性層表面が突出し、磁性層の表面平滑性を劣化させる。
一方、本発明の非磁性酸化物粒子は、粒子径が10〜1
00μmの板状形状を有していることから、磁性層表面
から粒子が突出することがないか、又はあったとしても
突出の程度および量は従来のものと比べるとはるかに少
なくなる。したがって、研磨性を維持した状態で、優れ
た表面平滑性が得られる。
【0218】(8)研磨液への適用例 次に、研磨液に本発明の板状の酸化物粒子を適用した例
について説明する。
【0219】〈実施例50〉研磨粒子として、先の実施
例1で作製した酸化セリウム粒子を使用し、以下のよう
にしてスラリー状の研磨液を作製した。
【0220】純水300ccに、ポリアクリル酸アンモニ
ウム塩3gを添加して溶解した。この水溶液に、上記の
方法で作製した板状の酸化セリウム粒子を24g添加
し、ホモミキサーを用いて、回転数3000rpmで1
時間分散させた。得られたスラリーの研磨液は極めて安
定で、1日放置した後も、ほとんど沈殿物は生成しなか
った。
【0221】〈実施例51〉研磨粒子として、先の実施
例22で作製した酸化珪素粒子を使用し、以下のように
してスラリー状の研磨液を作製した。
【0222】実施例50と同様に、300ccの純水に、
ポリアクリル酸アンモニウム塩3gを溶解した水溶液
に、上記酸化珪素粒子を24g添加し、実施例50と同
様にしてスラリー状の研磨液を作製した。このスラリー
状の研磨液は極めて安定で、1日放置した後も、ほとん
ど沈殿物は生成しなかった。
【0223】〈実施例52〉研磨粒子として、先の実施
例8で作製した酸化ジルコニウム粒子を使用し、以下の
ようにしてスラリー状の研磨液を作製した。
【0224】実施例50と同様に、300ccの純水に、
ポリアクリル酸アンモニウム塩3gを溶解した水溶液
に、上記酸化ジルコニウム粒子を24g添加し、実施例
50と同様にしてスラリー状の研磨液を作製した。この
スラリーの研磨液は極めて安定で、1日放置した後も、
ほとんど沈殿物は生成しなかった。
【0225】〈実施例53〉研磨粒子として、先の実施
例15で作製した酸化アルミニウム粒子を使用し、以下
のようにしてスラリー状の研磨液を作製した。
【0226】実施例50と同様に、300ccの純水に、
ポリアクリル酸アンモニウム塩3gを溶解した水溶液
に、上記酸化アルミニウム粒子を24g添加し、実施例
50と同様にしてスラリー状の研磨液を作製した。この
スラリー状の研磨液は極めて安定で、1日放置した後
も、ほとんど沈殿物は生成しなかった。
【0227】〈実施例54〉実施例50における酸化セ
リウム粒子の代りに、以下の方法で作製した板状のアル
ファー酸化鉄粒子を使用した。
【0228】《板状アルファー酸化鉄粒子の作製》0.7
5モルの水酸化ナトリウムと100mlの2−アミノエ
タノールを800mlの水に溶解し、アルカリ水溶液を
作製した。このアルカリ水溶液とは別に、0.074モル
の塩化第二鉄(III)六水和物を400mlの水に溶解し
て塩化第二鉄水溶液を作製した。このアルカリ水溶液と
塩化第二鉄水溶液を5℃に冷却した。前者のアルカリ水
溶液に後者の塩化第二鉄水溶液を滴下した。この滴下に
よる反応熱により液の温度は上昇するが、8℃以上に上
昇しないように冷却しながら滴下し、水酸化第二鉄を含
む沈殿物を作製した。このときのpHは11.3であっ
た。この沈殿物を懸濁液の状態で20時間熟成させたの
ち、pHが7.5になるまで水洗した。
【0229】次に、上澄み液を除去した後、この沈殿物
の懸濁液を、オートクレーブに仕込み、150℃で2時
間、水熱処理を施した。
【0230】水熱処理生成物を、ろ過し、90℃で空気
中乾燥した後、乳鉢で軽く解砕し、空気中600℃で1
時間の加熱処理を行ってアルファー酸化鉄粒子とした。
加熱処理後、未反応物や残存物を除去するために、さら
に超音波分散機を使って水洗し、ろ過乾燥した。
【0231】得られたアルファー酸化鉄粒子について、
X線回折スペクトルを測定したところ、アルファーヘマ
タイト構造のスペクトルが明瞭に観測された。さらに、
透過電子顕微鏡で形状観察を行ったところ、粒子径が3
0〜40nmの六角板状の粒子であることがわかった。
【0232】《スラリー状の研磨液の作製》実施例50
と同様に、300ccの純水に、ポリアクリル酸アンモニ
ウム塩3gを溶解した水溶液に、上記の方法で作製した
板状のアルファー酸化鉄粒子を24g添加し、実施例5
0と同様にしてスラリー状の研磨液を作製した。このス
ラリー状の研磨液は極めて安定で、1日放置した後も、
ほとんど沈殿物は生成しなかった。
【0233】〈比較例17〉 《研磨粒子として使用した酸化セリウム粒子》実施例5
0で使用した酸化セリウム粒子(実施例1で作製された
もの)の代りに、セリウム塩として炭酸セリウムを使用
し、このセリウム塩を空気中600℃で加熱酸化するこ
とにより、酸化セリウム粒子を作製した。この酸化セリ
ウム粒子は、粒子径がサブミクロンの粗大粒子からなる
ものであったため、さらに水媒体中でボールミル粉砕し
て微粒子化した。粉砕後の酸化セリウム粒子は、粒子径
が0.1μmの微細粉から1次粒子の凝集体と思える粒子
径が1μmの粒子から構成されていた。この酸化セリウ
ム粒子の形状は、塊状の不定形であった。
【0234】《スラリー状の研磨液の作製》実施例50
と同様に、300ccの純水に、ポリアクリル酸アンモニ
ウム塩3gを溶解した水溶液に、上記の酸化セリウム粒
子を24g添加し、実施例50と同様にしてスラリー状
の研磨液を作製した。このスラリー状の研磨液は不安定
で、分散後放置すると、短時間で沈降し始め、容器の底
に酸化セリウム粒子が堆積した。
【0235】〈比較例18〉 《研磨粒子として使用した酸化珪素粒子》市販のコロイ
ダルシリカ粒子を使用した。透過電子顕微鏡で観察する
と、このコロイダルシリカ粒子の形状は、ほぼ球状で、
その粒子径は、10nmから100nmの範囲にわたっ
て分布していた。
【0236】《スラリー状の研磨液の作製》実施例50
と同様に、300ccの純水に、ポリアクリル酸アンモニ
ウム塩3gを溶解した水溶液に、上記のコロイダルシリ
カ粒子を24g添加し、実施例50と同様にしてスラリ
ー状の研磨液を作製した。このスラリー状の研磨液はか
なり安定で、1日放置すると、僅かに沈殿物が生成する
程度であった。
【0237】〈比較例19〉 《研磨粒子として使用した酸化ジルコニウム粒子》比較
例2の酸化ジルコニウム粒子を使用した。すなわち、実
施例8の酸化ジルコニウム粒子の合成方法において、水
酸化ジルコニウムを含有する沈殿物を生成した後、水熱
処理を行うことなく、実施例8と同様にして、水酸化ジ
ルコニウムを含有する沈殿物をそのまま水洗し、ろ過、
乾燥し、さらに、実施例8と同様に加熱処理して、酸化
ジルコニウム粒子を作製した。
【0238】この酸化ジルコニウム粒子について、X線
回折スペクトルを測定したところ、酸化ジルコニウムに
対応するピークが観察されたが、透過電子顕微鏡で形状
を観察したところ、微細な粒子から、焼結あるいは凝集
による粗大粒子まで、その粒子径分布は非常に広いこと
がわかった。
【0239】そこで、この酸化ジルコニウム粒子を微粒
子化するために、さらに水媒体中でボールミル粉砕し
た。粉砕後の酸化ジルコニウム粒子は、粒子径が0.1μ
mから1μmと広い範囲に分布していた。またこの酸化
ジルコニウム粒子の形状は、塊状の不定形であった。
【0240】《スラリー状の研磨液の作製》実施例50
と同様に、300ccの純水に、ポリアクリル酸アンモニ
ウム塩3gを溶解した水溶液に、上記の酸化ジルコニウ
ム粒子を24g添加し、実施例50と同様にしてスラリ
ー状の研磨液を作製した。このスラリー状の研磨液は不
安定で、分散後放置すると、短時間で沈降し始め、容器
の底に酸化ジルコニウム粒子が堆積した。
【0241】〈比較例20〉 《研磨粒子として使用した酸化アルミニウム粒子》比較
例4の酸化アルミニウム粒子を使用した。すなわち、実
施例15の酸化アルミニウム粒子の合成方法において、
水酸化アルミニウムを含有する沈殿物を実施例15と同
じ条件で生成し、約1000倍の水で水洗した後、水熱
処理を施すこと無しに、ろ過し、90℃で空気中乾燥し
た。その後、乳鉢で軽く解砕し、実施例15と同様に、
空気中600℃で1時間の加熱処理を行って酸化アルミ
ニウム粒子とした。加熱処理後、未反応物や残存物を除
去するために、さらに超音波分散機を使って水洗し、ろ
過乾燥した。
【0242】この酸化アルミニウム粒子を、さらに水媒
体中でボールミル粉砕した。粉砕後の酸化アルミニウム
粒子についてX線回折スペクトルを測定したところ、γ
−アルミナに対応するスペクトルが観測された。透過電
子顕微鏡で観察したところ、粒子径は20nm程度の微
粒子から1μmの焼結ないしは1次粒子の凝集体と思え
る粒子まで、粒子径分布は広く、また粒子形状も粒状な
いしは塊状の不定形であった。
【0243】《スラリー状の研磨液の作製》実施例53
と同様に、300ccの純水に、ポリアクリル酸アンモニ
ウム塩3gを溶解した水溶液に、上記の酸化アルミニウ
ム粒子を24g添加し、実施例53と同様にしてスラリ
ー状の研磨液を作製した。このスラリー状の研磨液は不
安定で、分散後放置すると、短時間で沈降し始め、容器
の底に酸化アルミニウム粒子が堆積した。
【0244】〈比較例21〉 《研磨粒子として使用したアルファー酸化鉄粒子》市販
のアルファー酸化鉄粒子を使用した。このアルファー酸
化鉄粒子は、磁気テープなどの添加する研磨粒子用に市
販されているもので、透過電子顕微鏡で観察した形状
は、球状ないしは粒状で、その粒子径は、0.2μm〜0.
3μmと、粒子径分布はシャープであった。
【0245】《スラリー状研磨材の作製》実施例50と
同様に、300ccの純水に、ポリアクリル酸アンモニウ
ム塩3gを溶解した水溶液に、上記のアルファー酸化鉄
粒子を24g添加し、実施例50と同様にしてスラリー
状の研磨液を作製した。このスラリー状の研磨液は比較
的安定で、数時間放置した状態では、沈殿物の生成は少
なかった。
【0246】〈実施例55〉 《使用した研磨粒子》実施例50で使用した酸化セリウ
ム粒子と比較例18で使用したコロイダルシリカを混合
使用した。混合割合は、重量比で酸化セリウム粒子を7
0%、コロイダルシリカを30%とした。
【0247】《スラリー状の研磨液の作製》実施例50
と同様に、300ccの純水に、ポリアクリル酸アンモニ
ウム塩3gを溶解した水溶液に、上記の酸化セリウム粒
子を16.8g、コロイダルシリカを7.2g添加し、実施
例50と同様にしてスラリー状の研磨液を作製した。こ
のスラリー状の研磨液は極めて安定で、1日放置して
も、沈殿物はほとんど生成しなかった。
【0248】(評価)厚み10mmのガラス板上にウレタ
ン樹脂製の多孔質研磨パッドを貼り付けた。このパッド
上に上記の実施例および比較例で作製したスラリー状の
研磨液を、10cc/分の速度で滴下しながら、表面性測
定機(新東科学社製の「HEIDON−14DR」)を
用いて、回転速度30回/分、荷重20gの条件で、直
径6.25mmのガラス球を2分間回転させた。その後、ガ
ラス球の磨耗度合いと、ガラス球表面の磨耗痕を顕微鏡
で観察し、「×」、「△」、「○」、「◎」の4段階評
価した。磨耗度合いは、「×」はほとんど磨耗していな
い状態、「◎」は顕著に磨耗している状態、「△」と
「○」はその中間状態で、「○」の方が磨耗度合いが大
きいことを示す。また磨耗痕としては、表面にキズが5
本以上ある場合を「×」、キズが3〜4本ある場合を
「△」、キズが2本以下の場合を「○」、キズが発生し
ない場合を「◎」と評価した。研磨性の評価結果を表9
にまとめて示す。
【0249】
【表9】
【0250】表9の結果から、上記実施例のスラリー状
の研磨液は、スラリーの安定性が極めて良好であること
がわかる。これは粒子径が数十nmと小さいだけでな
く、焼結、凝集がほとんどない極めて分散性に優れた研
磨粒子であるためである。また研磨性に関しては、粒子
径が小さいにもかかわらず良好である。これは粒子形状
を板状にすることにより、エッジ部分が増加し、その結
果として研磨力が向上したためと考えられる。研磨力が
若干低いものもあるが、回転数や荷重等の研磨条件を、
その研磨液に最適な条件に合わせれば、さらに研磨力は
向上すると考えられる。
【0251】また、研磨による磨耗痕は、いずれの実施
例の研磨液においても発生していない。これは粒子径が
数十nmと極めて微細であるに加えて、粒子径分布がシ
ャープなため、従来の研磨材のように微細粒子に混じっ
て存在する粗大粒子による磨耗痕が生じないためであ
る。
【0252】一方、比較例の研磨液においては、コロイ
ダルシリカを使用した比較例18の研磨液は、研磨力、
磨耗痕ともに比較的良好で、バランスの取れた研磨液で
あるが、材質的に同じ酸化珪素である実施例51の研磨
液に比べると、総合的に劣る。
【0253】また、アルファー酸化鉄粒子を用いた比較
例21の研磨液も、比較的バランスの取れた研磨液であ
ると考えられるが、酸化鉄そのものの硬度が本質的に低
いため、これ以上の研磨力は望めない。一方、本発明の
実施例54のアルファー酸化鉄粒子を用いた研磨液は、
研磨粒子の形状を板状にすることによるエッジ部分によ
り、比較例21の研磨液に比べて、研磨力、磨耗痕とも
に大幅に向上している。
【0254】比較例17の酸化セリウム粒子を用いた研
磨液では、研磨性は比較的バランスが取れているが、研
磨液としては全体的に満足できるものではない。一方、
同じ酸化セリウム粒子を用いた本発明の実施例50の研
磨液では、研磨力、磨耗痕ともに大幅に向上しており、
スラリー状の研磨液として、板状酸化セリウム粒子は、
特に適していることがわかる。
【0255】酸化ジルコニウム粒子を用いた比較例19
と酸化アルミニウム粒子を用いた比較例20の研磨液で
は、研磨力は大きいものの、著しく磨耗痕が発生する。
これは酸化ジルコニウムと酸化アルミニウムは本質的に
硬度が高く研磨力が大きい上に、比較例の酸化ジルコニ
ウム粒子と酸化アルミニウム粒子では、混在する粗大粒
子のために、著しい磨耗痕が発生したものと考えられ
る。一方、本発明に係る板状酸化ジルコニウム粒子を用
いた実施例52と、板状酸化アルミニウム粒子を用いた
実施例53の研磨液では、粒子形状が板状であり、極め
て粒子径が小さく、かつ粒子径分布を極めてシャープな
ため、磨耗痕が発生することなく、優れた研磨力を発揮
することができる。
【0256】さらに実施例55に示すように、本発明の
板状粒子と汎用の研磨粒子とを混合使用することによ
り、各種の被研磨体に対してきめ細かく対応できるよう
になる。
【0257】(9)その他の用途例 以上の例では、本発明の非磁性板状粒子を研磨テープ、
磁気テープおよび研磨液にそれぞれ適用した場合につい
て説明した。本発明の酸化物粒子は、これらの用途のみ
ならず、反射防止膜や、紫外線、赤外線カット膜など、
各種の機能性光学フィルムにも適用できる。即ち、非磁
性板状粒子(特に酸化物粒子)は、板状形状のため、粒
子が板面をフィルム面に平行になるように並び易くな
り、その結果、光の透過性が良好になる。光が非磁性板
状粒子中を透過するときに、光と非磁性板状粒子の相互
作用により、非磁性板状粒子が本来有する特性を発揮す
る。
【0258】例えば、低屈折率の酸化珪素粒子と、高屈
折率の酸化ジルコニウム粒子や酸化セリウム粒子とを積
層すると、従来の粒状あるいは球状酸化物粒子では得ら
れない、極めて透明性の高い高性能の反射防止膜が得ら
れる。また、酸化鉄粒子を用いると透過性の良好な紫外
線カットフィルムが得られる。さらに、酸化ジルコニウ
ム粒子や酸化セリウム粒子は、高屈折率材料であるが、
板状形状を利用して高充填塗膜とすると、塗膜であるに
もかかわらず、スパッタ膜などの薄膜に匹敵する、極め
て高い屈折率を有する透明塗膜が得られる。
【0259】
【発明の効果】以上説明したように、本発明方法によれ
ば、これまでの製造方法では不可能であった、粒子の形
状が板状で、かつ粒子の板面方向の粒子径が10nmか
ら100nmの範囲にある非磁性粒子、具体的には酸化
セリウム粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化アルミニウ
ム粒子、酸化珪素粒子または酸化鉄粒子等の酸化物粒子
が得られる。このようにして得られる本発明の非磁性板
状粒子、特に酸化物板状粒子は、粒子径分布が均一で、
焼結、凝集が極めて少なく、良好な結晶性を有する。こ
のような本発明の非磁性板状粒子を、例えば研磨テー
プ、研磨シート、研磨フィルムおよび研磨具等の研磨
体、磁気テープや各種の機能性光学フィルムなどに適用
すると、従来の酸化物粒子を使用した同種のものに比べ
て、その特性が大幅に向上する。このように本発明の非
磁性板状粒子は、従来実現が不可能であった全く新規な
用途をも開拓するものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1で得られた酸化セリウム粒子のX線回
折スペクトルを示した図である。
【図2】実施例1で得られた酸化セリウム粒子の透過電
子顕微鏡写真(倍率:20万倍)を示した図である。
【図3】実施例2で得られた酸化セリウム粒子の透過電
子顕微鏡写真(倍率:20万倍)を示した図である。
【図4】実施例3で得られた酸化セリウム粒子の透過電
子顕微鏡写真(倍率:20万倍)を示した図である。
【図5】実施例8で得られた酸化ジルコニウム粒子のX
線回折スペクトルを示した図である。
【図6】実施例8で得られた酸化ジルコニウム粒子の透
過電子顕微鏡写真(倍率:20万倍)を示した図であ
る。
【図7】実施例9で得られた酸化ジルコニウム粒子の透
過電子顕微鏡写真(倍率:20万倍)を示した図であ
る。
【図8】実施例15で得られた酸化アルミニウム粒子の
X線回折スペクトルを示した図である。
【図9】実施例15で得られた酸化アルミニウム粒子の
透過電子顕微鏡写真(倍率:20万倍)を示した図であ
る。
【図10】実施例16で得られた酸化アルミニウム粒子
のX線回折スペクトルを示した図である。
【図11】実施例17で得られた酸化アルミニウム粒子
の透過電子顕微鏡写真(倍率:20万倍)を示した図で
ある。
【図12】実施例18で得られた酸化アルミニウム粒子
の透過電子顕微鏡写真(倍率:20万倍)を示した図で
ある。
【図13】実施例20で得られた酸化アルミニウム粒子
のX線回折スペクトルを示した図である。
【図14】実施例20で得られた酸化アルミニウム粒子
の透過電子顕微鏡写真(倍率:20万倍)を示した図で
ある。
【図15】実施例22で得られた酸化珪素粒子の透過電
子顕微鏡写真(倍率:20万倍)を示した図である。
【図16】実施例28で得られた酸化鉄粒子の透過電子
顕微鏡写真(倍率:20万倍)を示した図である。
【図17】実施例29で得られた酸化鉄粒子の透過電子
顕微鏡写真(倍率:20万倍)を示した図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C01F 7/44 C01F 7/44 Z 4G076 17/00 17/00 A C01G 25/02 C01G 25/02 49/06 49/06 A (31)優先権主張番号 特願2001−296127(P2001−296127) (32)優先日 平成13年9月27日(2001.9.27) (33)優先権主張国 日本(JP) (31)優先権主張番号 特願2001−300632(P2001−300632) (32)優先日 平成13年9月28日(2001.9.28) (33)優先権主張国 日本(JP) (31)優先権主張番号 特願2001−305138(P2001−305138) (32)優先日 平成13年10月1日(2001.10.1) (33)優先権主張国 日本(JP) (31)優先権主張番号 特願2001−344785(P2001−344785) (32)優先日 平成13年11月9日(2001.11.9) (33)優先権主張国 日本(JP) (72)発明者 澤木 裕子 大阪府茨木市丑寅1丁目1番88号 日立マ クセル株式会社内 (72)発明者 金野 公彦 大阪府茨木市丑寅1丁目1番88号 日立マ クセル株式会社内 (72)発明者 前田 康守 大阪府茨木市丑寅1丁目1番88号 日立マ クセル株式会社内 Fターム(参考) 3C063 AA03 AB07 BB01 BB03 BB06 CC01 4G002 AA03 AB04 AD02 AD03 AD04 AE05 4G042 DA01 DB12 DB22 DC03 DD01 DD04 DE04 DE12 DE14 4G048 AA02 AB02 AB05 AC08 AD04 AE05 AE06 4G072 AA24 AA25 BB02 BB05 GG01 GG03 HH21 LL14 MM21 RR05 RR12 UU30 4G076 AA02 AB04 BA13 CA04 CA08 DA30

Claims (22)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 粒子の形状が板状で、かつ粒子の板面方
    向の粒子径が10nmから100nmの範囲にあること
    を特徴とする非磁性板状粒子。
  2. 【請求項2】 粒子の形状が板状で、かつ粒子の板面方
    向の粒子径が10nmから100nmの範囲にある酸化
    物粒子からなることを特徴とする非磁性板状粒子。
  3. 【請求項3】 酸化物粒子は、酸化セリウム粒子、酸化
    ジルコニウム粒子、酸化アルミニウム粒子、酸化珪素お
    よび酸化鉄粒子の中から選ばれた少なくとも一種からな
    る、請求項2記載の非磁性板状粒子。
  4. 【請求項4】 酸化物粒子は、酸化セリウム粒子、酸化
    ジルコニウム粒子、酸化アルミニウム粒子、酸化珪素の
    中から選ばれた少なくとも一種からなる、請求項2記載
    の非磁性板状粒子。
  5. 【請求項5】 酸化物粒子は、50%以上の粒子が板厚
    方向に孔を有する酸化鉄からなる、請求項2記載の非磁
    性板状粒子。
  6. 【請求項6】 粒子の形状が多角板状である、請求項1
    ないし5のいずれかに記載の非磁性板状粒子。
  7. 【請求項7】 粒子の形状が円板あるいは楕円板状であ
    る、請求項1ないし5のいずれかに記載の非磁性板状粒
    子。
  8. 【請求項8】 粒子の形状が六角板状である、請求項1
    ないし5のいずれかに記載の非磁性板状粒子。
  9. 【請求項9】 粒子の形状が四角板状である、請求項1
    ないし5のいずれかに記載の非磁性板状粒子。
  10. 【請求項10】 全成分または主成分が、請求項1ない
    し5のいずれかに記載の非磁性板状粒子からなることを
    特徴とする研磨材。
  11. 【請求項11】 請求項1または2記載の非磁性板状粒
    子を製造する方法であって、 アルカリ水溶液に、金属塩または非金属塩の水溶液を添
    加して、金属または非金属の水酸化物あるいは水和物を
    得る工程と、 得られた金属または非金属の水酸化物または水和物を、
    水の存在下で110〜300℃の温度範囲で加熱処理す
    る工程とを含むことを特徴とする非磁性板状粒子の製造
    方法。
  12. 【請求項12】 請求項1または2記載の非磁性板状粒
    子を製造する方法であって、 アルカリ水溶液に、セリウム塩、ジルコニウム塩、アル
    ミニウム塩、珪酸塩、鉄塩の少なくとも一種からなる金
    属塩または非金属塩の水溶液を添加して、金属または非
    金属の水酸化物あるいは水和物を得る工程と、 得られた金属または非金属の水酸化物または水和物を、
    水の存在下で110〜300℃の温度範囲で加熱処理す
    る工程とを含むことを特徴とする非磁性板状粒子の製造
    方法。
  13. 【請求項13】 請求項1または2記載の非磁性板状粒
    子を製造する方法であって、 アルカリ水溶液に、セリウム塩、ジルコニウム塩、アル
    ミニウム塩、珪酸塩、鉄塩の少なくとも一種からなる金
    属塩または非金属塩の水溶液を添加して、金属または非
    金属の水酸化物あるいは水和物を得る工程と、 得られた金属または非金属の水酸化物または水和物を、
    水の存在下で110〜300℃の温度範囲で加熱処理す
    る工程と、 前記加熱処理する工程により得られた生成物を、ろ過、
    乾燥したうえで、さらに空気中300〜1200℃の温
    度範囲で加熱処理する工程とを含むことを特徴とする非
    磁性板状粒子の製造方法。
  14. 【請求項14】 前記空気中300〜1200℃の温度
    範囲で加熱処理する工程後に、さらに水洗により目的と
    する酸化物以外の生成物あるいは残存物を除去する、請
    求項13記載の非磁性板状粒子の製造方法。
  15. 【請求項15】 前記アルカリ水溶液に、セリウム塩、
    ジルコニウム塩、アルミニウム塩、珪酸塩、鉄塩の少な
    くとも一種からなる金属塩または非金属塩の水溶液を添
    加して、金属または非金属の水酸化物あるいは水和物を
    得る工程において、 前記金属または非金属の水酸化物あるいは水和物の生成
    後の懸濁液のpHが8〜12の範囲になるように調整す
    る、請求項12ないし14のいずれかに記載の非磁性板
    状粒子の製造方法。
  16. 【請求項16】 前記アルカリ水溶液に、金属塩または
    非金属塩の水溶液を添加して、金属または非金属の水酸
    化物あるいは水和物を得る工程と、 得られた金属または非金属の水酸化物または水和物を、
    水の存在下で110〜300℃の温度範囲で加熱処理す
    る工程との間に、 前記金属または非金属の水酸化物あるいは水和物を水洗
    することにより、前記金属または非金属の水酸化物ある
    いは水和物以外の生成物または残存物を除去してpHを
    7〜10の範囲に調整する工程を有する、請求項11な
    いし15のいずれかに記載の非磁性板状粒子の製造方
    法。
  17. 【請求項17】 前記水の存在下で110〜300℃の
    温度範囲で加熱処理する工程後に、得られた生成物を含
    んだ懸濁液のPHを6〜9の範囲に調整する、請求項1
    1ないし15のいずれかに記載の非磁性板状粒子の製造
    方法。
  18. 【請求項18】 前記水の存在下で110〜300℃の
    温度範囲で加熱処理する工程後に、得られた生成物をさ
    らに珪素化合物で処理する、請求項11ないし17のい
    ずれかに記載の非磁性板状粒子の製造方法。
  19. 【請求項19】 前記アルカリ水溶液にはオキシアルキ
    ルアミンが含有されている、請求項11ないし18のい
    ずれかに記載の非磁性板状粒子の製造方法。
  20. 【請求項20】 結合剤中に研磨材を分散した研磨層を
    支持体上に設けてなる研磨体であって、前記研磨材とし
    て、請求項1ないし9のいずれかに記載の非磁性板状粒
    子が用いられていることを特徴とする研磨体。
  21. 【請求項21】 請求項1ないし9のいずれかに記載の
    非磁性板状粒子を媒体に分散させてなることを特徴とす
    る研磨液。
  22. 【請求項22】 コロイダルシリカ粒子と請求項1ない
    し9のいずれかに記載の非磁性板状粒子とを媒体に分散
    させてなることを特徴とする研磨液。
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Cited By (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005045102A (ja) * 2003-07-24 2005-02-17 Shin Etsu Handotai Co Ltd ウエーハの研磨方法
JP2006043782A (ja) * 2004-07-30 2006-02-16 Hitachi Maxell Ltd 固定砥粒研削研磨用工具とその製造方法、および固定砥粒研削研磨用工具を用いた被研磨体の研削研磨方法
JP2006143535A (ja) * 2004-11-19 2006-06-08 Catalysts & Chem Ind Co Ltd ジルコニアゾルの製造方法およびジルコニアゾル
JP2006182604A (ja) * 2004-12-28 2006-07-13 Catalysts & Chem Ind Co Ltd 金属酸化物ゾルの製造方法および金属酸化物ゾル
WO2007126030A1 (ja) * 2006-04-27 2007-11-08 Asahi Glass Company, Limited 酸化物結晶微粒子及び該微粒子を含む研磨用スラリー
WO2009031447A1 (ja) * 2007-09-07 2009-03-12 Asahi Glass Company, Limited 酸化物結晶微粒子の製造方法
JP2009513373A (ja) * 2005-10-27 2009-04-02 プリメット プレシジョン マテリアルズ, インコーポレイテッド 小粒子組成物および関連する方法
JP2009274897A (ja) * 2008-05-13 2009-11-26 Hitachi Maxell Ltd 酸化ジルコニウム水和物粒子及びそれを用いた分散体と分散膜
JP2010105892A (ja) * 2008-10-31 2010-05-13 Kanto Denka Kogyo Co Ltd ジルコニア微粒子及びその製造方法
WO2010128604A1 (ja) * 2009-05-08 2010-11-11 コニカミノルタエムジー株式会社 量子ドット内包シリカナノ粒子、その製造方法、およびそれを用いた生体物質標識剤
WO2012057324A1 (ja) 2010-10-28 2012-05-03 日本ゼオン株式会社 二次電池多孔膜、二次電池多孔膜用スラリー及び二次電池
WO2012085994A1 (ja) * 2010-12-20 2012-06-28 株式会社日立製作所 リチウムイオン二次電池用電極およびリチウムイオン二次電池
WO2012120608A1 (ja) 2011-03-07 2012-09-13 日立マクセル株式会社 電池用セパレータおよび電池
WO2013035795A1 (ja) 2011-09-08 2013-03-14 日本ゼオン株式会社 二次電池用スラリー
US8405957B2 (en) 2005-12-08 2013-03-26 Hitachi Maxell, Ltd. Separator for electrochemical device and method for producing the same, and electrochemical device and method for producing the same
JPWO2012102180A1 (ja) * 2011-01-27 2014-06-30 株式会社フジミインコーポレーテッド 研磨材及び研磨用組成物
US9166250B2 (en) 2006-09-07 2015-10-20 Hitachi Maxell, Ltd. Separator for battery, method for manufacturing the same, and lithium secondary battery
JP2020023408A (ja) * 2018-08-06 2020-02-13 日揮触媒化成株式会社 セリア系微粒子分散液、その製造方法およびセリア系微粒子分散液を含む研磨用砥粒分散液
JP2020033237A (ja) * 2018-08-31 2020-03-05 信越化学工業株式会社 希土類化合物粒子の製造方法、希土類酸化物粒子及び希土類酸化物粒子含有スラリー
JP2020050571A (ja) * 2018-09-28 2020-04-02 日揮触媒化成株式会社 セリア系複合微粒子分散液、その製造方法及びセリア系複合微粒子分散液を含む研磨用砥粒分散液
JP2020079163A (ja) * 2018-11-12 2020-05-28 日揮触媒化成株式会社 セリア系複合微粒子分散液、その製造方法及びセリア系複合微粒子分散液を含む研磨用砥粒分散液
US11050095B2 (en) 2004-12-08 2021-06-29 Maxell Holdings, Ltd. Separator for electrochemical device, and electrochemical device
US11233296B2 (en) 2016-07-26 2022-01-25 Nec Corporation Electrode assembly and manufacturing method therefor
WO2022050242A1 (ja) * 2020-09-04 2022-03-10 Agc株式会社 酸化セリウム及び研磨剤

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101465602B1 (ko) * 2012-12-31 2014-11-27 주식회사 케이씨텍 세륨계 연마입자와 이를 포함하는 슬러리 및 그 제조 방법
KR101465600B1 (ko) * 2012-12-31 2014-11-27 주식회사 케이씨텍 세륨계 연마입자와 이를 포함하는 슬러리 및 그 제조 방법
KR101465601B1 (ko) * 2012-12-31 2014-11-27 주식회사 케이씨텍 세륨계 연마입자와 이를 포함하는 슬러리 및 그 제조 방법
KR101483449B1 (ko) * 2013-10-22 2015-01-22 주식회사 케이씨텍 세륨계 연마입자의 제조방법 및 그에 의한 세륨계 연마입자
KR101483450B1 (ko) * 2013-10-22 2015-01-22 주식회사 케이씨텍 세륨계 연마입자의 제조방법 및 그에 의한 세륨계 연마입자

Cited By (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005045102A (ja) * 2003-07-24 2005-02-17 Shin Etsu Handotai Co Ltd ウエーハの研磨方法
JP4608856B2 (ja) * 2003-07-24 2011-01-12 信越半導体株式会社 ウエーハの研磨方法
JP2006043782A (ja) * 2004-07-30 2006-02-16 Hitachi Maxell Ltd 固定砥粒研削研磨用工具とその製造方法、および固定砥粒研削研磨用工具を用いた被研磨体の研削研磨方法
JP2006143535A (ja) * 2004-11-19 2006-06-08 Catalysts & Chem Ind Co Ltd ジルコニアゾルの製造方法およびジルコニアゾル
JP4705361B2 (ja) * 2004-11-19 2011-06-22 日揮触媒化成株式会社 ジルコニアゾルの製造方法
US11050095B2 (en) 2004-12-08 2021-06-29 Maxell Holdings, Ltd. Separator for electrochemical device, and electrochemical device
JP2006182604A (ja) * 2004-12-28 2006-07-13 Catalysts & Chem Ind Co Ltd 金属酸化物ゾルの製造方法および金属酸化物ゾル
JP2009513373A (ja) * 2005-10-27 2009-04-02 プリメット プレシジョン マテリアルズ, インコーポレイテッド 小粒子組成物および関連する方法
US10195612B2 (en) 2005-10-27 2019-02-05 Primet Precision Materials, Inc. Small particle compositions and associated methods
US8405957B2 (en) 2005-12-08 2013-03-26 Hitachi Maxell, Ltd. Separator for electrochemical device and method for producing the same, and electrochemical device and method for producing the same
WO2007126030A1 (ja) * 2006-04-27 2007-11-08 Asahi Glass Company, Limited 酸化物結晶微粒子及び該微粒子を含む研磨用スラリー
US9166250B2 (en) 2006-09-07 2015-10-20 Hitachi Maxell, Ltd. Separator for battery, method for manufacturing the same, and lithium secondary battery
WO2009031447A1 (ja) * 2007-09-07 2009-03-12 Asahi Glass Company, Limited 酸化物結晶微粒子の製造方法
JP2009274897A (ja) * 2008-05-13 2009-11-26 Hitachi Maxell Ltd 酸化ジルコニウム水和物粒子及びそれを用いた分散体と分散膜
JP2010105892A (ja) * 2008-10-31 2010-05-13 Kanto Denka Kogyo Co Ltd ジルコニア微粒子及びその製造方法
WO2010128604A1 (ja) * 2009-05-08 2010-11-11 コニカミノルタエムジー株式会社 量子ドット内包シリカナノ粒子、その製造方法、およびそれを用いた生体物質標識剤
US9023659B2 (en) 2009-05-08 2015-05-05 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Silica nanoparticle embedding quantum dots, preparation method thereof and biosubstance labeling agent by use thereof
WO2012057324A1 (ja) 2010-10-28 2012-05-03 日本ゼオン株式会社 二次電池多孔膜、二次電池多孔膜用スラリー及び二次電池
WO2012085994A1 (ja) * 2010-12-20 2012-06-28 株式会社日立製作所 リチウムイオン二次電池用電極およびリチウムイオン二次電池
JPWO2012102180A1 (ja) * 2011-01-27 2014-06-30 株式会社フジミインコーポレーテッド 研磨材及び研磨用組成物
JP6017315B2 (ja) * 2011-01-27 2016-10-26 株式会社フジミインコーポレーテッド 研磨材及び研磨用組成物
WO2012120608A1 (ja) 2011-03-07 2012-09-13 日立マクセル株式会社 電池用セパレータおよび電池
WO2013035795A1 (ja) 2011-09-08 2013-03-14 日本ゼオン株式会社 二次電池用スラリー
US11233296B2 (en) 2016-07-26 2022-01-25 Nec Corporation Electrode assembly and manufacturing method therefor
JP2020023408A (ja) * 2018-08-06 2020-02-13 日揮触媒化成株式会社 セリア系微粒子分散液、その製造方法およびセリア系微粒子分散液を含む研磨用砥粒分散液
JP7038022B2 (ja) 2018-08-06 2022-03-17 日揮触媒化成株式会社 セリア系微粒子分散液、その製造方法およびセリア系微粒子分散液を含む研磨用砥粒分散液
JP2020033237A (ja) * 2018-08-31 2020-03-05 信越化学工業株式会社 希土類化合物粒子の製造方法、希土類酸化物粒子及び希土類酸化物粒子含有スラリー
US11292726B2 (en) 2018-08-31 2022-04-05 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Method for preparing rare earth compound particles, rare earth oxide particles, and rare earth oxide particles-containing slurry
US11912583B2 (en) 2018-08-31 2024-02-27 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Slurry with rare earth oxide particles
JP2020050571A (ja) * 2018-09-28 2020-04-02 日揮触媒化成株式会社 セリア系複合微粒子分散液、その製造方法及びセリア系複合微粒子分散液を含む研磨用砥粒分散液
JP7038031B2 (ja) 2018-09-28 2022-03-17 日揮触媒化成株式会社 セリア系複合微粒子分散液、その製造方法及びセリア系複合微粒子分散液を含む研磨用砥粒分散液
JP2020079163A (ja) * 2018-11-12 2020-05-28 日揮触媒化成株式会社 セリア系複合微粒子分散液、その製造方法及びセリア系複合微粒子分散液を含む研磨用砥粒分散液
JP7117225B2 (ja) 2018-11-12 2022-08-12 日揮触媒化成株式会社 セリア系複合微粒子分散液、その製造方法及びセリア系複合微粒子分散液を含む研磨用砥粒分散液
WO2022050242A1 (ja) * 2020-09-04 2022-03-10 Agc株式会社 酸化セリウム及び研磨剤

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