JP2003200542A - 芳香族ポリアミドフィルム、その製造方法および磁気記録媒体 - Google Patents
芳香族ポリアミドフィルム、その製造方法および磁気記録媒体Info
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Landscapes
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 表面性が均一で、ロールに巻き取ったときの
形状と、フィルムを再利用したときの異物の発生が改善
された芳香族ポリアミドフィルム、および出力特性に優
れた磁気記録媒体を提供する。 【解決手段】 突起形成面にX線光電子分光法により測
定される表面硫黄濃度S/Cが0.003以下の樹脂薄
膜と、平均粒径10〜100nmの粒子からなる突起を
1×106〜1×108個/mm2有し、原子間力顕微鏡
(AFM)で測定した走査範囲2μm角での中心面平均
粗さRaA(nm)と、走査範囲30μm角での中心面
平均粗さRaB(nm)の比が下記式(1)を満たす芳
香族ポリアミドフィルムとする。 0.5≦RaA/RaB≦1.0 ・・・(1)
形状と、フィルムを再利用したときの異物の発生が改善
された芳香族ポリアミドフィルム、および出力特性に優
れた磁気記録媒体を提供する。 【解決手段】 突起形成面にX線光電子分光法により測
定される表面硫黄濃度S/Cが0.003以下の樹脂薄
膜と、平均粒径10〜100nmの粒子からなる突起を
1×106〜1×108個/mm2有し、原子間力顕微鏡
(AFM)で測定した走査範囲2μm角での中心面平均
粗さRaA(nm)と、走査範囲30μm角での中心面
平均粗さRaB(nm)の比が下記式(1)を満たす芳
香族ポリアミドフィルムとする。 0.5≦RaA/RaB≦1.0 ・・・(1)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、表面形態が極めて
均一で、かつ、リサイクルして用いてもリサイクル後の
フィルムにおいて異物が少ない芳香族ポリアミドフィル
ムとその製造方法に関する。更には、かかるフィルムを
用いた磁気記録媒体に関する。
均一で、かつ、リサイクルして用いてもリサイクル後の
フィルムにおいて異物が少ない芳香族ポリアミドフィル
ムとその製造方法に関する。更には、かかるフィルムを
用いた磁気記録媒体に関する。
【0002】
【従来の技術】芳香族ポリアミドフィルムは、その優れ
た耐熱性、機械特性を活かして様々な用途に展開されて
きている。特にパラ配向性の芳香族ポリアミドは剛性、
強度などの機械特性が他のポリマーより優れているた
め、フィルムの薄物化に非常に有利であり、プリンター
リボン、磁気記録媒体、コンデンサーなどの用途が考え
られている。
た耐熱性、機械特性を活かして様々な用途に展開されて
きている。特にパラ配向性の芳香族ポリアミドは剛性、
強度などの機械特性が他のポリマーより優れているた
め、フィルムの薄物化に非常に有利であり、プリンター
リボン、磁気記録媒体、コンデンサーなどの用途が考え
られている。
【0003】特に磁気テープに代表される磁気記録媒体
に使用する場合、フィルムに適切な表面形態(表面性)
を付与することが必要であり、例えば、フィルムを形成
するポリマー中に無機粒子あるいは有機粒子を含有させ
る方法(例えば、特開昭60−127523号公報、特
開昭60−201914号公報)、フィルム製膜時ある
いは製膜後に微粒子を含有した塗液をコーティングする
方法(例えば、特開平3−119512号公報、特開平
7−241962号公報、特開平9−323385号公
報、WO99/53483号公報)が代表的なものとし
て挙げられる。こうした従来の方法は、磁気記録媒体と
したときの出力特性や走行性を高めることを目的とし
て、フィルムの平均的な表面形態、構造を規制してきた
ものである。
に使用する場合、フィルムに適切な表面形態(表面性)
を付与することが必要であり、例えば、フィルムを形成
するポリマー中に無機粒子あるいは有機粒子を含有させ
る方法(例えば、特開昭60−127523号公報、特
開昭60−201914号公報)、フィルム製膜時ある
いは製膜後に微粒子を含有した塗液をコーティングする
方法(例えば、特開平3−119512号公報、特開平
7−241962号公報、特開平9−323385号公
報、WO99/53483号公報)が代表的なものとし
て挙げられる。こうした従来の方法は、磁気記録媒体と
したときの出力特性や走行性を高めることを目的とし
て、フィルムの平均的な表面形態、構造を規制してきた
ものである。
【0004】しかしながら、近年、記録の高密度化、す
なわち単位ビットあたりの記録面積の微小化は止まると
ころを知らず、種々の問題を生じるようになってきた。
例えば、1ビットあたりの記録面積は、1970年代に
は100μm2オーダーであったのに対し、1980年
代には10μm2オーダー、1990年代には1μm2オ
ーダーとなり、現在、1μm2を切るものが検討されて
いる。このように記録面積が微小化すると、フィルムの
平均的な表面形態、構造を制御するだけでは、今後、益
々の高密度化に対応できない懸念がある。更に、記録の
高密度化が進むにつれて、フィルム表面には平滑性が要
求されるが、平滑性を高めるとフィルム相互の摩擦が高
くなり、ロールに巻き取った時の形状が悪化して、製品
の歩留まりを低下させる懸念がある。
なわち単位ビットあたりの記録面積の微小化は止まると
ころを知らず、種々の問題を生じるようになってきた。
例えば、1ビットあたりの記録面積は、1970年代に
は100μm2オーダーであったのに対し、1980年
代には10μm2オーダー、1990年代には1μm2オ
ーダーとなり、現在、1μm2を切るものが検討されて
いる。このように記録面積が微小化すると、フィルムの
平均的な表面形態、構造を制御するだけでは、今後、益
々の高密度化に対応できない懸念がある。更に、記録の
高密度化が進むにつれて、フィルム表面には平滑性が要
求されるが、平滑性を高めるとフィルム相互の摩擦が高
くなり、ロールに巻き取った時の形状が悪化して、製品
の歩留まりを低下させる懸念がある。
【0005】また優れた品質のフィルムを安価に製造す
るためには、製造工程あるいは加工工程で発生した屑フ
ィルムを再利用することが有効であるが、再利用する場
合にはリサイクルフィルムにおいても異物が少ないこと
が要求される。すなわち、異物の多いリサイクルフィル
ムを単層でそのまま磁気テープに用いた場合には、粗大
突起によって磁気テープのデータが欠落する懸念があ
る。また積層フィルムの中間層や走行面に、異物の多い
リサイクルフィルムを用いても同様に、粗大突起による
データ欠落の懸念があり、従来の方法では、これらを満
足させることが困難であった。
るためには、製造工程あるいは加工工程で発生した屑フ
ィルムを再利用することが有効であるが、再利用する場
合にはリサイクルフィルムにおいても異物が少ないこと
が要求される。すなわち、異物の多いリサイクルフィル
ムを単層でそのまま磁気テープに用いた場合には、粗大
突起によって磁気テープのデータが欠落する懸念があ
る。また積層フィルムの中間層や走行面に、異物の多い
リサイクルフィルムを用いても同様に、粗大突起による
データ欠落の懸念があり、従来の方法では、これらを満
足させることが困難であった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
点を解決し、フィルムの巻き姿に優れ、フィルムを再利
用しても異物の発生が少なく、かつ、磁気記録媒体とし
たときに出力が高い芳香族ポリアミドフィルム、その製
造方法および磁気記録媒体を提供することを目的とす
る。
点を解決し、フィルムの巻き姿に優れ、フィルムを再利
用しても異物の発生が少なく、かつ、磁気記録媒体とし
たときに出力が高い芳香族ポリアミドフィルム、その製
造方法および磁気記録媒体を提供することを目的とす
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明は、少なくとも片面に、X線光電子分光法によ
り測定される表面硫黄濃度(S/C)が0.003以下
である樹脂薄膜層を有し、この樹脂薄膜層の表面に平均
径が10〜100nmである突起が1×106〜1×1
08個/mm2の密度で形成され、この突起が形成された
面の、原子間力顕微鏡(AFM)により測定される走査
範囲2μm角での中心面平均粗さRaA(nm)と、走
査範囲30μm角での中心面平均粗さRaB(nm)と
の比が下記式(1)を満たす芳香族ポリアミドフィルム
を特徴とする。
の本発明は、少なくとも片面に、X線光電子分光法によ
り測定される表面硫黄濃度(S/C)が0.003以下
である樹脂薄膜層を有し、この樹脂薄膜層の表面に平均
径が10〜100nmである突起が1×106〜1×1
08個/mm2の密度で形成され、この突起が形成された
面の、原子間力顕微鏡(AFM)により測定される走査
範囲2μm角での中心面平均粗さRaA(nm)と、走
査範囲30μm角での中心面平均粗さRaB(nm)と
の比が下記式(1)を満たす芳香族ポリアミドフィルム
を特徴とする。
【0008】0.5≦RaA/RaB≦1 ・・・(1)
【0009】
【発明の実施の形態】本発明の芳香族ポリアミドとして
は、たとえば、次の式(I)および/または式(II)
で表される繰り返し単位を50モル%以上有するものを
用いることができる。
は、たとえば、次の式(I)および/または式(II)
で表される繰り返し単位を50モル%以上有するものを
用いることができる。
【0010】式(I):
【0011】
【化1】
式(II):
【0012】
【化2】
ここで、Ar1、Ar2、Ar3の基としては、例えば、
【0013】
【化3】
などが挙げられる。
【0014】ここで、X、Yは芳香環の結合基であっ
て、例えば、−O−、−CH2−、−CO−、−S−、
−C(CH3)2−などから選ばれるが、これらに限定さ
れるものではない。更にこれらの芳香環上の水素原子の
一部が、フッ素や臭素、塩素などのハロゲン基(特に塩
素)、ニトロ基、メチルやエチル、プロピルなどのアル
キル基(特にメチル基)、メトキシやエトキシ、プロポ
キシなどのアルコキシ基などの置換基で置換されていて
もよく、また、重合体を構成するアミド結合中の水素が
他の置換基によって置換されていてもよい。
て、例えば、−O−、−CH2−、−CO−、−S−、
−C(CH3)2−などから選ばれるが、これらに限定さ
れるものではない。更にこれらの芳香環上の水素原子の
一部が、フッ素や臭素、塩素などのハロゲン基(特に塩
素)、ニトロ基、メチルやエチル、プロピルなどのアル
キル基(特にメチル基)、メトキシやエトキシ、プロポ
キシなどのアルコキシ基などの置換基で置換されていて
もよく、また、重合体を構成するアミド結合中の水素が
他の置換基によって置換されていてもよい。
【0015】また、本発明に用いる芳香族ポリアミド
は、上記の芳香環がパラ配向性を有しているものが、全
芳香環の70モル%以上、より好ましくは80モル%以
上占めていることが好ましい。ここでパラ配向性とは、
芳香環上の主鎖を構成する2価の結合手が互いに同軸ま
たは平行にある状態をいう。このパラ配向性が70モル
%未満の場合、フィルムの剛性および耐熱性が不十分と
なることがある。
は、上記の芳香環がパラ配向性を有しているものが、全
芳香環の70モル%以上、より好ましくは80モル%以
上占めていることが好ましい。ここでパラ配向性とは、
芳香環上の主鎖を構成する2価の結合手が互いに同軸ま
たは平行にある状態をいう。このパラ配向性が70モル
%未満の場合、フィルムの剛性および耐熱性が不十分と
なることがある。
【0016】本発明における芳香族ポリアミドは、前記
した式(I)および/または式(II)で表される繰り
返し単位の他の繰り返し単位が50モル%未満のように
少量ならば共重合またはブレンドされていてもよい。
した式(I)および/または式(II)で表される繰り
返し単位の他の繰り返し単位が50モル%未満のように
少量ならば共重合またはブレンドされていてもよい。
【0017】また、本発明の目的を阻害しない範囲で、
酸化防止剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、核生成剤などの
無機または有機の添加剤がブレンドされていてもよい。
酸化防止剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、核生成剤などの
無機または有機の添加剤がブレンドされていてもよい。
【0018】本発明における樹脂薄膜層には、水性樹
脂、すなわち水溶性樹脂および/または水分散樹脂を含
んでいる。樹脂薄膜層を形成するための水性樹脂として
は、例えば、メチルセルロースなどのセルロース誘導
体、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水
溶性や水分散性のエポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリエ
ステル樹脂、ポリウレタン樹脂などが挙げられるが、こ
れらの中では、芳香族ポリアミドフィルムとの密着性、
リサイクルフィルムにおける異物の低減、および樹脂の
耐熱性の点から、水溶性および/または水分散性のポリ
エステル樹脂が好ましく、更に樹脂中の未反応のカルボ
キシル基をアンモニアや揮発性アミンで中和して水性化
した水性ポリエステル樹脂が更に好ましい。これらの水
性樹脂は単体、共重合体、混合物のいずれの形態で用い
てもよい。なお上記水性樹脂の親水基および耐熱性につ
いては後述する。
脂、すなわち水溶性樹脂および/または水分散樹脂を含
んでいる。樹脂薄膜層を形成するための水性樹脂として
は、例えば、メチルセルロースなどのセルロース誘導
体、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水
溶性や水分散性のエポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリエ
ステル樹脂、ポリウレタン樹脂などが挙げられるが、こ
れらの中では、芳香族ポリアミドフィルムとの密着性、
リサイクルフィルムにおける異物の低減、および樹脂の
耐熱性の点から、水溶性および/または水分散性のポリ
エステル樹脂が好ましく、更に樹脂中の未反応のカルボ
キシル基をアンモニアや揮発性アミンで中和して水性化
した水性ポリエステル樹脂が更に好ましい。これらの水
性樹脂は単体、共重合体、混合物のいずれの形態で用い
てもよい。なお上記水性樹脂の親水基および耐熱性につ
いては後述する。
【0019】上記水溶性および/または水分散性のポリ
エステル樹脂は、テレフタル酸、イソフタル酸、アジピ
ン酸、コハク酸、セバシン酸、ドデカン二酸などの酸成
分と、エチレングリコール、プロピレングリコール、
1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、
ネオペンチルグリコールなどのアルコール成分との重縮
合反応によって得られるポリエステル樹脂に、スルホン
酸基を有する化合物を共重合させる方法や、カルボキシ
ル基を導入してアンモニアや揮発性アミンで中和する方
法などで得られる。特に、ポリエステル樹脂に5−スル
ホイソフタル酸ナトリウムなどを共重合させてスルホン
酸基を導入する方法は、極性が強く水溶化力に優れてお
り、樹脂を水性化する方法として有効である。しかしス
ルホン酸基を有する水性樹脂は、水系溶媒に溶かして水
系塗液とし、これを芳香族ポリアミドフィルム上に塗
布、乾燥して得られた樹脂薄膜層を有するフィルムを、
芳香族ポリアミドフィルムの回収溶媒に溶かして再利用
する場合に、フィルムに異物を生じさせ易い。これは芳
香族ポリアミドフィルムの回収溶媒に含まれる無機塩や
有機アミンと、スルホン酸基とが反応して、芳香族ポリ
アミドと相溶性の悪い異物を生じさせるためと考えられ
る。このような異物を低減するためには、樹脂薄膜の表
面硫黄濃度S/C(以下、単にS/Cという)が0.0
03以下となる水性樹脂を用いることが必要である。こ
こでS/Cとは、樹脂薄膜層中のスルホン酸基含有量の
指標であり、後述するX線光電子分光法の測定によって
求められる。この樹脂薄膜層のS/Cが0.003を超
えると、再利用フィルムに異物を生じさせ易い。樹脂薄
膜層のS/Cは、より好ましくは0.002以下であ
り、0.001以下が更に好ましい。また、ポリエステ
ル樹脂にトリメリット酸やピロメリット酸を共重合させ
て、未反応のカルボキシル基をアンモニアや揮発性アミ
ンで中和して得られる水溶性および/または水分散性の
ポリエステル樹脂は、スルホン酸基を含有していないの
で特に好ましい。
エステル樹脂は、テレフタル酸、イソフタル酸、アジピ
ン酸、コハク酸、セバシン酸、ドデカン二酸などの酸成
分と、エチレングリコール、プロピレングリコール、
1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、
ネオペンチルグリコールなどのアルコール成分との重縮
合反応によって得られるポリエステル樹脂に、スルホン
酸基を有する化合物を共重合させる方法や、カルボキシ
ル基を導入してアンモニアや揮発性アミンで中和する方
法などで得られる。特に、ポリエステル樹脂に5−スル
ホイソフタル酸ナトリウムなどを共重合させてスルホン
酸基を導入する方法は、極性が強く水溶化力に優れてお
り、樹脂を水性化する方法として有効である。しかしス
ルホン酸基を有する水性樹脂は、水系溶媒に溶かして水
系塗液とし、これを芳香族ポリアミドフィルム上に塗
布、乾燥して得られた樹脂薄膜層を有するフィルムを、
芳香族ポリアミドフィルムの回収溶媒に溶かして再利用
する場合に、フィルムに異物を生じさせ易い。これは芳
香族ポリアミドフィルムの回収溶媒に含まれる無機塩や
有機アミンと、スルホン酸基とが反応して、芳香族ポリ
アミドと相溶性の悪い異物を生じさせるためと考えられ
る。このような異物を低減するためには、樹脂薄膜の表
面硫黄濃度S/C(以下、単にS/Cという)が0.0
03以下となる水性樹脂を用いることが必要である。こ
こでS/Cとは、樹脂薄膜層中のスルホン酸基含有量の
指標であり、後述するX線光電子分光法の測定によって
求められる。この樹脂薄膜層のS/Cが0.003を超
えると、再利用フィルムに異物を生じさせ易い。樹脂薄
膜層のS/Cは、より好ましくは0.002以下であ
り、0.001以下が更に好ましい。また、ポリエステ
ル樹脂にトリメリット酸やピロメリット酸を共重合させ
て、未反応のカルボキシル基をアンモニアや揮発性アミ
ンで中和して得られる水溶性および/または水分散性の
ポリエステル樹脂は、スルホン酸基を含有していないの
で特に好ましい。
【0020】上記水性樹脂の耐熱性については、粒子と
フィルムとの密着性を向上させ、リサイクルフィルムの
異物を低減する上で、300℃の熱減量が5重量%以下
であることが好ましい。本発明の300℃の熱減量と
は、熱重量測定装置を用いて、窒素雰囲気中、昇温速度
10℃/分の条件下で水性樹脂の熱減量を測定し、下記
(2)式により求めた値であり、この値が低いほど耐熱
性に優れている。ここで、120℃での重量を基準とし
ている理由は、水性樹脂の吸湿による重量変化の影響を
除くためである。
フィルムとの密着性を向上させ、リサイクルフィルムの
異物を低減する上で、300℃の熱減量が5重量%以下
であることが好ましい。本発明の300℃の熱減量と
は、熱重量測定装置を用いて、窒素雰囲気中、昇温速度
10℃/分の条件下で水性樹脂の熱減量を測定し、下記
(2)式により求めた値であり、この値が低いほど耐熱
性に優れている。ここで、120℃での重量を基準とし
ている理由は、水性樹脂の吸湿による重量変化の影響を
除くためである。
【0021】
300℃の熱減量(重量%)=((120℃での重量−300℃での重量)/
120℃での重量)×100 ・・・ (2)
上記300℃の熱減量が5重量%を超えると、水性樹脂
が熱分解し易く、水性樹脂と粒子との密着性が悪くな
り、磁気テープとしたときの耐久性が低下することがあ
り、またリサイクルフィルムに生じる異物が増加するこ
とがある。更に、熱分解した水性樹脂が製膜中の熱処理
工程を汚したり、熱処理工程に堆積した水性樹脂の熱分
解物がフィルム表面に付着して粗大突起を生じさせ、磁
気テープとしたときにデータを欠落させるなどの問題を
引き起こすことがある。水性樹脂の300℃の熱減量
は、より好ましくは4重量%以下、更に好ましくは3重
量%以下である。
が熱分解し易く、水性樹脂と粒子との密着性が悪くな
り、磁気テープとしたときの耐久性が低下することがあ
り、またリサイクルフィルムに生じる異物が増加するこ
とがある。更に、熱分解した水性樹脂が製膜中の熱処理
工程を汚したり、熱処理工程に堆積した水性樹脂の熱分
解物がフィルム表面に付着して粗大突起を生じさせ、磁
気テープとしたときにデータを欠落させるなどの問題を
引き起こすことがある。水性樹脂の300℃の熱減量
は、より好ましくは4重量%以下、更に好ましくは3重
量%以下である。
【0022】上記水性樹脂から形成される樹脂薄膜層の
厚みは、粒子の平均粒径や用途などにより適切に設計さ
れるものであるが、粒子の平均粒径に対して20〜80
%の範囲内が好ましい。樹脂薄膜層の厚みが粒子の平均
粒径に対して20%未満の場合には、粒子と水性樹脂と
の接触面積が小さいため密着性が不足して粒子が脱落し
易くなり、磁気テープとしたときの耐久性が低下するこ
とがある。また、樹脂薄膜層の厚みが粒子の平均粒径に
対して80%を超えると、水性樹脂と粒子との密着性は
向上するが、粒子による滑り性が悪化し、フィルムの巻
き姿が悪くなったり、磁気テープとしたときの走行性が
悪化することがある。樹脂薄膜層の厚みは、粒子の平均
粒径に対して30〜70%の範囲内がより好ましく、4
0〜60%の範囲内が更に好ましい。
厚みは、粒子の平均粒径や用途などにより適切に設計さ
れるものであるが、粒子の平均粒径に対して20〜80
%の範囲内が好ましい。樹脂薄膜層の厚みが粒子の平均
粒径に対して20%未満の場合には、粒子と水性樹脂と
の接触面積が小さいため密着性が不足して粒子が脱落し
易くなり、磁気テープとしたときの耐久性が低下するこ
とがある。また、樹脂薄膜層の厚みが粒子の平均粒径に
対して80%を超えると、水性樹脂と粒子との密着性は
向上するが、粒子による滑り性が悪化し、フィルムの巻
き姿が悪くなったり、磁気テープとしたときの走行性が
悪化することがある。樹脂薄膜層の厚みは、粒子の平均
粒径に対して30〜70%の範囲内がより好ましく、4
0〜60%の範囲内が更に好ましい。
【0023】本発明において、突起を形成させる粒子は
特に限定されないが、突起の分散性の点では、シリコー
ン粒子、ポリイミド粒子、テフロン(登録商標)粒子、
架橋共重合体粒子、架橋ポリエステル粒子、架橋ポリス
チレン粒子、コアシェル粒子などの有機高分子粒子を用
いることが好ましく、更に樹脂薄膜層との密着性を向上
させる点では、架橋ポリエステル粒子、架橋ポリスチレ
ン粒子、コアシェル粒子を用いることが更に好ましい。
ここでコアシェル粒子とは、内部(以下、コア部とい
う)と外部(以下、シェル部という)とが性質の異なる
ポリマーで構成される、多層構造を有するポリマー微粒
子をいい、コア部よりもシェル部の方がより軟質である
ような粒子が好ましい。ここで多層構造とは2層構造以
上を意味し、性質が微粒子の直径方向に連続的に変化し
ているものでもよい。また、シェル部は、フィルム表面
に塗布などにより配設された後、熱処理を行うことによ
り上記水性樹脂と反応したり、溶融、軟化、変形して水
性樹脂やベースフィルムとの親和性を高め、コアシェル
粒子とベースフィルムとの密着性を強固なものとする機
能を有し、コア部は、シェル部とともにフィルムに適度
の滑り性と磁気ヘッドなどとの最適なスペーシングを与
える機能を有する。このような機能を付与するために
は、シェル部には水性樹脂やベースフィルムとの親和
性、密着性に優れ、かつ製膜熱処理温度での適切な物理
的、化学的、熱的特性を有していることが好ましく、コ
ア部には圧力、摩擦などによって変形しない、シェル部
やベースフィルムに対して高い硬度を有していることが
好ましい。
特に限定されないが、突起の分散性の点では、シリコー
ン粒子、ポリイミド粒子、テフロン(登録商標)粒子、
架橋共重合体粒子、架橋ポリエステル粒子、架橋ポリス
チレン粒子、コアシェル粒子などの有機高分子粒子を用
いることが好ましく、更に樹脂薄膜層との密着性を向上
させる点では、架橋ポリエステル粒子、架橋ポリスチレ
ン粒子、コアシェル粒子を用いることが更に好ましい。
ここでコアシェル粒子とは、内部(以下、コア部とい
う)と外部(以下、シェル部という)とが性質の異なる
ポリマーで構成される、多層構造を有するポリマー微粒
子をいい、コア部よりもシェル部の方がより軟質である
ような粒子が好ましい。ここで多層構造とは2層構造以
上を意味し、性質が微粒子の直径方向に連続的に変化し
ているものでもよい。また、シェル部は、フィルム表面
に塗布などにより配設された後、熱処理を行うことによ
り上記水性樹脂と反応したり、溶融、軟化、変形して水
性樹脂やベースフィルムとの親和性を高め、コアシェル
粒子とベースフィルムとの密着性を強固なものとする機
能を有し、コア部は、シェル部とともにフィルムに適度
の滑り性と磁気ヘッドなどとの最適なスペーシングを与
える機能を有する。このような機能を付与するために
は、シェル部には水性樹脂やベースフィルムとの親和
性、密着性に優れ、かつ製膜熱処理温度での適切な物理
的、化学的、熱的特性を有していることが好ましく、コ
ア部には圧力、摩擦などによって変形しない、シェル部
やベースフィルムに対して高い硬度を有していることが
好ましい。
【0024】上記機能を実現するためのコアシェル粒子
のポリマー組成として、シェル部については熱可塑性樹
脂が好ましく、特にアクリル系樹脂が好ましい。コア部
については、上記熱可塑性樹脂の他にフェノール樹脂、
エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂
などの熱硬化性樹脂を用いることができるが、特にジビ
ニルベンゼン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリル系
樹脂、あるいは硬度を高めるためにこれらの樹脂の同種
または異種同士の共重合体が好ましい。もちろん、シェ
ル部、コア部ともに上記機能を有するならば特にこれら
に限定されるものではない。
のポリマー組成として、シェル部については熱可塑性樹
脂が好ましく、特にアクリル系樹脂が好ましい。コア部
については、上記熱可塑性樹脂の他にフェノール樹脂、
エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂
などの熱硬化性樹脂を用いることができるが、特にジビ
ニルベンゼン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリル系
樹脂、あるいは硬度を高めるためにこれらの樹脂の同種
または異種同士の共重合体が好ましい。もちろん、シェ
ル部、コア部ともに上記機能を有するならば特にこれら
に限定されるものではない。
【0025】更にシェル部については、水性樹脂との親
和性を高めることを目的に、ポリマー中に任意の割合で
水性樹脂やベースフィルムとの反応性もしくは親和性を
有する官能基、具体的にはカルボキシル基、アミド基、
アミノ基、エポキシ基などを導入してもよい。これらの
官能基は単独、場合によっては2種以上併用してもよ
い。
和性を高めることを目的に、ポリマー中に任意の割合で
水性樹脂やベースフィルムとの反応性もしくは親和性を
有する官能基、具体的にはカルボキシル基、アミド基、
アミノ基、エポキシ基などを導入してもよい。これらの
官能基は単独、場合によっては2種以上併用してもよ
い。
【0026】上記コアシェル粒子は、例えば昭和53年
1月30日高分子刊行会発行の「合成樹脂エマルジョ
ン」第26〜27頁等に示されている乳化重合法で得ら
れるが、特にこれに限定されるものではない。乳化重合
法の例を挙げると、まず水系溶媒にコア部を形成するモ
ノマー、乳化剤および重合開始剤を添加して第1段階の
乳化重合を行い、第1段階の重合が終了した後、シェル
部を形成するモノマーと重合開始剤とを添加して第2段
階の乳化重合を行う。更にモノマー組成を変えて第3段
階の乳化重合、あるいはそれ以上の重合を行って多層構
造を有する粒子としてもよい。
1月30日高分子刊行会発行の「合成樹脂エマルジョ
ン」第26〜27頁等に示されている乳化重合法で得ら
れるが、特にこれに限定されるものではない。乳化重合
法の例を挙げると、まず水系溶媒にコア部を形成するモ
ノマー、乳化剤および重合開始剤を添加して第1段階の
乳化重合を行い、第1段階の重合が終了した後、シェル
部を形成するモノマーと重合開始剤とを添加して第2段
階の乳化重合を行う。更にモノマー組成を変えて第3段
階の乳化重合、あるいはそれ以上の重合を行って多層構
造を有する粒子としてもよい。
【0027】上記粒子の平均粒径は10〜100nmで
あることが必要である。平均粒径が10nm未満の場合
には、粒子同士が凝集して粗大突起となり磁気テープの
出力が低下したり、ドロップアウトが多くなり、逆に大
きすぎる場合にも同様の問題が生じる。粒子の平均粒径
は、より好ましくは15〜80nm、更に好ましくは2
0〜50nmである。
あることが必要である。平均粒径が10nm未満の場合
には、粒子同士が凝集して粗大突起となり磁気テープの
出力が低下したり、ドロップアウトが多くなり、逆に大
きすぎる場合にも同様の問題が生じる。粒子の平均粒径
は、より好ましくは15〜80nm、更に好ましくは2
0〜50nmである。
【0028】粒子を塗液に含有させてフィルムに塗布す
る場合、塗液に対する添加量は、塗布厚み、用途などに
よって適切に設計されるべきであるが、塗液に対して
0.001〜0.1重量%の範囲内が好ましい。粒子の
添加量が0.001重量%未満の場合には、走行性が悪
化してフィルムの巻き姿が悪化し易く、0.1重量%を
超える場合には、塗液中あるいは塗液を乾燥する工程で
粒子同士が凝集体を形成する可能性がある。粒子の添加
量は、塗液に対して0.002〜0.9重量%の範囲内
がより好ましく、0.003〜0.8重量%の範囲内が
更に好ましい。
る場合、塗液に対する添加量は、塗布厚み、用途などに
よって適切に設計されるべきであるが、塗液に対して
0.001〜0.1重量%の範囲内が好ましい。粒子の
添加量が0.001重量%未満の場合には、走行性が悪
化してフィルムの巻き姿が悪化し易く、0.1重量%を
超える場合には、塗液中あるいは塗液を乾燥する工程で
粒子同士が凝集体を形成する可能性がある。粒子の添加
量は、塗液に対して0.002〜0.9重量%の範囲内
がより好ましく、0.003〜0.8重量%の範囲内が
更に好ましい。
【0029】また、本発明の芳香族ポリアミドフィルム
の用途によっては、平均粒径の異なる複数種の粒子を併
用してもよい。
の用途によっては、平均粒径の異なる複数種の粒子を併
用してもよい。
【0030】上記塗液には界面活性剤を含有させてもよ
く、具体的には、アニオン界面活性剤、カチオン界面活
性剤、ノニオン界面活性剤、フッ素系界面活性剤、反応
性界面活性剤などが挙げられるが、耐薬品性、耐熱性、
界面活性に優れるフッ素系界面活性剤が好ましい。この
ような界面活性剤は、塗液中の粒子の分散状態を良好に
し、フィルムに対する濡れ性などを改良する効果が期待
できる。界面活性剤の添加量は、塗液の組成によって任
意の割合で添加されるものであるが、塗液に対して0.
01〜3重量%であることが好ましい。界面活性剤の添
加量が3重量%を超えると、期待したほどの界面活性効
果が得られず不経済であり、リサイクルフィルムに異物
を生じさせることがある。また、界面活性剤の添加量が
0.01重量%未満であると界面活性効果が低く、フィ
ルム表面に塗布したときに、はじきや塗布斑が生じて突
起個数斑が悪化することがある。界面活性剤の添加量
は、塗液に対して0.05〜2重量%であることがより
好ましく、0.1〜1重量%であることが更に好まし
い。
く、具体的には、アニオン界面活性剤、カチオン界面活
性剤、ノニオン界面活性剤、フッ素系界面活性剤、反応
性界面活性剤などが挙げられるが、耐薬品性、耐熱性、
界面活性に優れるフッ素系界面活性剤が好ましい。この
ような界面活性剤は、塗液中の粒子の分散状態を良好に
し、フィルムに対する濡れ性などを改良する効果が期待
できる。界面活性剤の添加量は、塗液の組成によって任
意の割合で添加されるものであるが、塗液に対して0.
01〜3重量%であることが好ましい。界面活性剤の添
加量が3重量%を超えると、期待したほどの界面活性効
果が得られず不経済であり、リサイクルフィルムに異物
を生じさせることがある。また、界面活性剤の添加量が
0.01重量%未満であると界面活性効果が低く、フィ
ルム表面に塗布したときに、はじきや塗布斑が生じて突
起個数斑が悪化することがある。界面活性剤の添加量
は、塗液に対して0.05〜2重量%であることがより
好ましく、0.1〜1重量%であることが更に好まし
い。
【0031】本発明の芳香族ポリアミドフィルムの突起
が形成される側の面(以下、突起形成面という)は、芳
香族ポリアミドフィルムの少なくとも片面に、上記水性
樹脂、粒子および界面活性剤を含有する水系塗液を塗布
した後、乾燥後あるいは乾燥させながら延伸および/ま
たは熱処理を行うことで形成することができる。
が形成される側の面(以下、突起形成面という)は、芳
香族ポリアミドフィルムの少なくとも片面に、上記水性
樹脂、粒子および界面活性剤を含有する水系塗液を塗布
した後、乾燥後あるいは乾燥させながら延伸および/ま
たは熱処理を行うことで形成することができる。
【0032】また、本発明の芳香族ポリアミドフィルム
は、上記突起形成面に樹脂薄膜層と平均径が10〜10
0nmの突起とが形成され、かつ、この突起の存在密度
が1×106〜1×108個/mm2である。突起の存在
密度が1×106個/mm2未満の場合には磁気テープの
走行性が不良となり、また、1×108個/mm2を超え
る場合には磁気テープの出力が低下する。突起は、より
好ましくは2×106〜7×107個/mm2であり、更
に好ましくは2×106〜5×107個/mm2である。
また、突起の平均径が10nmを下回ると磁気テープの
走行性が不良となり、100nmを超えると磁気テープ
の出力が低下する。上記範囲内にある突起を形成するた
めには、平均粒径が10〜100nmの範囲内にある粒
子を用いるとよい。
は、上記突起形成面に樹脂薄膜層と平均径が10〜10
0nmの突起とが形成され、かつ、この突起の存在密度
が1×106〜1×108個/mm2である。突起の存在
密度が1×106個/mm2未満の場合には磁気テープの
走行性が不良となり、また、1×108個/mm2を超え
る場合には磁気テープの出力が低下する。突起は、より
好ましくは2×106〜7×107個/mm2であり、更
に好ましくは2×106〜5×107個/mm2である。
また、突起の平均径が10nmを下回ると磁気テープの
走行性が不良となり、100nmを超えると磁気テープ
の出力が低下する。上記範囲内にある突起を形成するた
めには、平均粒径が10〜100nmの範囲内にある粒
子を用いるとよい。
【0033】また、本発明の芳香族ポリアミドフィルム
は、突起形成面の原子間力顕微鏡(AFM)で測定した
走査範囲2μm角での中心面平均粗さRaA(nm)
と、走査範囲30μm角での中心面平均粗さRaB(n
m)の比が下記式(1)を満たすことが必要である。
は、突起形成面の原子間力顕微鏡(AFM)で測定した
走査範囲2μm角での中心面平均粗さRaA(nm)
と、走査範囲30μm角での中心面平均粗さRaB(n
m)の比が下記式(1)を満たすことが必要である。
【0034】0.5≦RaA/RaB≦1 ・・・(1)
突起形成面のRaA/RaBが0.5未満の場合、例えば
フィルム表面に不連続被膜によるウネリや、海島状のム
ラなどがあると、表面全体の平滑性や均一性が損なわれ
るため、磁気テープのノイズが大きくなって出力が低下
したり、フィルムの巻き姿が悪化することがある。また
突起形成面のRaA/RaBが1を超える場合には、高密
度磁気テープの出力変動が大きくなることがある。突起
形成面のRaA/RaBは、0.6〜1であることがより
好ましく、0.6〜0.09であることが更に好まし
い。
フィルム表面に不連続被膜によるウネリや、海島状のム
ラなどがあると、表面全体の平滑性や均一性が損なわれ
るため、磁気テープのノイズが大きくなって出力が低下
したり、フィルムの巻き姿が悪化することがある。また
突起形成面のRaA/RaBが1を超える場合には、高密
度磁気テープの出力変動が大きくなることがある。突起
形成面のRaA/RaBは、0.6〜1であることがより
好ましく、0.6〜0.09であることが更に好まし
い。
【0035】本発明の芳香族ポリアミドフィルムにおい
て、突起の凝集率が20%以下であると、磁気記録媒体
としたときのドロップアウトが少なく、データ欠落など
の信頼性が最も重視されるデータストレージ用途に最適
に用いることができ好ましい。このような用途における
突起の凝集率は15%以下がより好ましく、10%以下
が更に好ましい。
て、突起の凝集率が20%以下であると、磁気記録媒体
としたときのドロップアウトが少なく、データ欠落など
の信頼性が最も重視されるデータストレージ用途に最適
に用いることができ好ましい。このような用途における
突起の凝集率は15%以下がより好ましく、10%以下
が更に好ましい。
【0036】更に本発明の芳香族ポリアミドフィルム
は、突起形成面の原子間力顕微鏡(AFM)で測定した
走査範囲30μm角での10点平均粗さRzAが10〜
100nmであると、磁気記録媒体としたときの出力や
ドロップアウトが優れるので特に好ましい。10点平均
粗さRzAは、15〜80nmであることがより好まし
く、20〜50nmであると更に好ましい。
は、突起形成面の原子間力顕微鏡(AFM)で測定した
走査範囲30μm角での10点平均粗さRzAが10〜
100nmであると、磁気記録媒体としたときの出力や
ドロップアウトが優れるので特に好ましい。10点平均
粗さRzAは、15〜80nmであることがより好まし
く、20〜50nmであると更に好ましい。
【0037】本発明の芳香族ポリアミドフィルムは、製
膜が容易である点から単層フィルムであることが好まし
いが、磁気テープとしたときの出力やドロップアウト、
走行性を優れたレベルで達成するためには、共押出によ
る積層フィルムとすることが一層好ましい。積層フィル
ムとするときは、少なくとも一方の最表層を本発明の突
起形成面とすればよい。したがって、最表層のうちの片
側層は本発明のフィルム要件を満たすが、他の片側層は
本発明のフィルム要件を満たさなくてもよい。
膜が容易である点から単層フィルムであることが好まし
いが、磁気テープとしたときの出力やドロップアウト、
走行性を優れたレベルで達成するためには、共押出によ
る積層フィルムとすることが一層好ましい。積層フィル
ムとするときは、少なくとも一方の最表層を本発明の突
起形成面とすればよい。したがって、最表層のうちの片
側層は本発明のフィルム要件を満たすが、他の片側層は
本発明のフィルム要件を満たさなくてもよい。
【0038】ただし、2層の積層フィルムにおいて、磁
性層を形成しない側の層(以下、B層という)に、走行
性を付与することを目的として、芳香族ポリアミド中に
無機粒子および/または有機粒子を含有せしめる方法
や、芳香族ポリアミド中に異種ポリマー(例えばポリエ
ーテルスルホンなど)を混合し、混合ポリマー溶液の乾
燥時に異種ポリマーを相分離させる方法などにより微細
突起を形成させる場合、あるいはリサイクルポリマーを
B層に用いる場合には、本発明の突起形成面に悪影響を
及ぼさないように注意することを要する。すなわち、B
層内において、無機粒子、有機粒子および/または異種
ポリマーに起因する凝集物や、リサイクルポリマーに異
物が生じると、突起形成面にも悪影響を及ぼし、磁気テ
ープとしたときにドロップアウトが生じ易くなることが
あるためである。
性層を形成しない側の層(以下、B層という)に、走行
性を付与することを目的として、芳香族ポリアミド中に
無機粒子および/または有機粒子を含有せしめる方法
や、芳香族ポリアミド中に異種ポリマー(例えばポリエ
ーテルスルホンなど)を混合し、混合ポリマー溶液の乾
燥時に異種ポリマーを相分離させる方法などにより微細
突起を形成させる場合、あるいはリサイクルポリマーを
B層に用いる場合には、本発明の突起形成面に悪影響を
及ぼさないように注意することを要する。すなわち、B
層内において、無機粒子、有機粒子および/または異種
ポリマーに起因する凝集物や、リサイクルポリマーに異
物が生じると、突起形成面にも悪影響を及ぼし、磁気テ
ープとしたときにドロップアウトが生じ易くなることが
あるためである。
【0039】B層内における凝集物の生成を抑制するた
めには、B層に配合する無機粒子、有機粒子および/ま
たは異種ポリマーの平均粒径や含有量を適切に設計する
こと、突起形成面側の積層厚みを厚くすることが好まし
い。例えば、B層に配合する無機粒子、有機粒子および
/または異種ポリマーの平均粒径は1〜300nmであ
ることが好ましく、5〜200nmであると更に好まし
い。この平均粒径が1nmを下回ると、粒子が凝集して
粗大突起となり、突起形成面にも粗大突起を生じさせ、
磁気テープの出力が低下したり、ドロップアウトが多く
なることがあり、逆に300nmを超えても同様の問題
が生じることがある。また、B層に配合する無機粒子、
有機粒子および/または異種ポリマーの含有量は、芳香
族ポリアミドに対して0.01〜3重量%であることが
好ましく、0.02〜2重量%であると更に好ましい。
この含有量が0.01重量%を下回る場合には、磁気テ
ープの走行性が不良となってフィルムの巻き姿が悪化し
たり、3重量%を超える場合には粒子が凝集して粗大突
起となり、突起形成面にも粗大突起を生じさせ、磁気テ
ープの出力が低下したり、ドロップアウトが多くなるこ
とがある。また、更に磁気テープの出力、走行性、無欠
点性を極めて優れたレベルとするためには、B層による
悪影響を低減する上で、突起形成面側の積層厚みを2.
5μm以上とすることが好ましく、3μm以上とするこ
とが更に好ましい。なお、水性樹脂で形成された樹脂薄
膜層を有するフィルムでリサイクルポリマーを調製し、
これをB層に用いる場合には、樹脂薄膜層のS/Cが
0.003以下の芳香族ポリアミドフィルムを用いるこ
とが好ましい。
めには、B層に配合する無機粒子、有機粒子および/ま
たは異種ポリマーの平均粒径や含有量を適切に設計する
こと、突起形成面側の積層厚みを厚くすることが好まし
い。例えば、B層に配合する無機粒子、有機粒子および
/または異種ポリマーの平均粒径は1〜300nmであ
ることが好ましく、5〜200nmであると更に好まし
い。この平均粒径が1nmを下回ると、粒子が凝集して
粗大突起となり、突起形成面にも粗大突起を生じさせ、
磁気テープの出力が低下したり、ドロップアウトが多く
なることがあり、逆に300nmを超えても同様の問題
が生じることがある。また、B層に配合する無機粒子、
有機粒子および/または異種ポリマーの含有量は、芳香
族ポリアミドに対して0.01〜3重量%であることが
好ましく、0.02〜2重量%であると更に好ましい。
この含有量が0.01重量%を下回る場合には、磁気テ
ープの走行性が不良となってフィルムの巻き姿が悪化し
たり、3重量%を超える場合には粒子が凝集して粗大突
起となり、突起形成面にも粗大突起を生じさせ、磁気テ
ープの出力が低下したり、ドロップアウトが多くなるこ
とがある。また、更に磁気テープの出力、走行性、無欠
点性を極めて優れたレベルとするためには、B層による
悪影響を低減する上で、突起形成面側の積層厚みを2.
5μm以上とすることが好ましく、3μm以上とするこ
とが更に好ましい。なお、水性樹脂で形成された樹脂薄
膜層を有するフィルムでリサイクルポリマーを調製し、
これをB層に用いる場合には、樹脂薄膜層のS/Cが
0.003以下の芳香族ポリアミドフィルムを用いるこ
とが好ましい。
【0040】B層に配合する粒子の種類としては、Si
O2、TiO2、Al2O3、CaSO 4、BaSO4、Ca
CO3、カーボンブラック、ゼオライト、その他の金属
微粉末などの無機粒子、シリコーン粒子、ポリイミド粒
子、テフロン(登録商標)粒子、架橋共重合体粒子、架
橋ポリエステル粒子、架橋ポリスチレン粒子、コアシェ
ル粒子などが挙げられ、これら粒子のいずれを用いて
も、あるいは複数種を併用してもよい。
O2、TiO2、Al2O3、CaSO 4、BaSO4、Ca
CO3、カーボンブラック、ゼオライト、その他の金属
微粉末などの無機粒子、シリコーン粒子、ポリイミド粒
子、テフロン(登録商標)粒子、架橋共重合体粒子、架
橋ポリエステル粒子、架橋ポリスチレン粒子、コアシェ
ル粒子などが挙げられ、これら粒子のいずれを用いて
も、あるいは複数種を併用してもよい。
【0041】また、突起形成面側の芳香族ポリアミド中
には、本発明の目的を阻害しない範囲で、易滑性を付与
するための上記無機粒子、有機粒子および/または異種
ポリマーなどが含まれていてもよいが、これらは含まれ
ていないことが好ましい。
には、本発明の目的を阻害しない範囲で、易滑性を付与
するための上記無機粒子、有機粒子および/または異種
ポリマーなどが含まれていてもよいが、これらは含まれ
ていないことが好ましい。
【0042】また、B層に本発明の樹脂薄膜層を設けて
走行性を付与してもよい。
走行性を付与してもよい。
【0043】更に、本発明の芳香族ポリアミドフィルム
は少なくとも一方向のヤング率が8GPa以上であるこ
とが好ましい。磁気テープの出力は、テープとヘッドと
のヘッドタッチ性の向上に伴って上がるため、ベースフ
ィルムには高ヤング率を有することが求められる。記録
方法が固定ヘッド式の場合には長手方向のヤング率が、
また、ヘリカルスキャン方式の場合には幅方向のヤング
率が特に重要であるため、ベースフィルムのいずれの方
向においてもヤング率が8GPa未満であると、いずれ
の記録方式を採用しても高出力が得られないことがあ
る。なお、上記ヤング率は9GPa以上がより好まし
く、10GPa以上が更に好ましい。また、全ての方向
のヤング率が8GPa以上であることが特に好ましい。
これらの特性を満たすためには、上記したように、本発
明に用いる芳香族ポリアミドの芳香環がパラ配向性を有
しているものが、全芳香環の70モル%以上、より好ま
しくは80モル%以上をしめていることが好ましい。
は少なくとも一方向のヤング率が8GPa以上であるこ
とが好ましい。磁気テープの出力は、テープとヘッドと
のヘッドタッチ性の向上に伴って上がるため、ベースフ
ィルムには高ヤング率を有することが求められる。記録
方法が固定ヘッド式の場合には長手方向のヤング率が、
また、ヘリカルスキャン方式の場合には幅方向のヤング
率が特に重要であるため、ベースフィルムのいずれの方
向においてもヤング率が8GPa未満であると、いずれ
の記録方式を採用しても高出力が得られないことがあ
る。なお、上記ヤング率は9GPa以上がより好まし
く、10GPa以上が更に好ましい。また、全ての方向
のヤング率が8GPa以上であることが特に好ましい。
これらの特性を満たすためには、上記したように、本発
明に用いる芳香族ポリアミドの芳香環がパラ配向性を有
しているものが、全芳香環の70モル%以上、より好ま
しくは80モル%以上をしめていることが好ましい。
【0044】本発明の芳香族ポリアミドフィルムの伸度
は10%以上、より好ましくは20%以上、更に好まし
くは30%以上であることが、テープが適度な柔軟性を
持つために好ましい。
は10%以上、より好ましくは20%以上、更に好まし
くは30%以上であることが、テープが適度な柔軟性を
持つために好ましい。
【0045】更に吸湿率は、5%以下、より好ましくは
3%以下、更に好ましくは2%以下であることが、湿度
変化による磁気テープの寸法変化が小さく良好な出力を
保つために好ましい。
3%以下、更に好ましくは2%以下であることが、湿度
変化による磁気テープの寸法変化が小さく良好な出力を
保つために好ましい。
【0046】本発明の芳香族ポリアミドフィルムの20
0℃、10分間での熱収縮率は0.5%以下、より好ま
しくは0.3%以下であることが、温度変化による磁気
テープの寸法変化が小さく良好な出力を保つために好ま
しい。
0℃、10分間での熱収縮率は0.5%以下、より好ま
しくは0.3%以下であることが、温度変化による磁気
テープの寸法変化が小さく良好な出力を保つために好ま
しい。
【0047】これらの特性は、単層フィルム、積層フィ
ルムを問わず満足することが好ましい。
ルムを問わず満足することが好ましい。
【0048】本発明の芳香族ポリアミドフィルムは、フ
レキシブルプリント基板、コンデンサー、プリンタリボ
ン、音響振動板、太陽電池のベースフィルムなどの種々
の用途にも好ましく用いられるが、表面性、耐熱性、剛
性などに優れるという特性を活かして、磁気記録媒体の
ベースフィルムとして特に好ましく用いられる。
レキシブルプリント基板、コンデンサー、プリンタリボ
ン、音響振動板、太陽電池のベースフィルムなどの種々
の用途にも好ましく用いられるが、表面性、耐熱性、剛
性などに優れるという特性を活かして、磁気記録媒体の
ベースフィルムとして特に好ましく用いられる。
【0049】次に本発明の磁気記録媒体について説明す
る。
る。
【0050】本発明の磁気記録媒体は、上記芳香族ポリ
アミドフィルムの突起形成面に磁性層を設けたものであ
る。このとき、磁性層の厚みは300nm以下であるこ
とが好ましい。
アミドフィルムの突起形成面に磁性層を設けたものであ
る。このとき、磁性層の厚みは300nm以下であるこ
とが好ましい。
【0051】磁性層を形成する強磁性材料としては、F
e、Co、Niなどの強磁性金属や、Fe−Co、Co
−Ni、Fe−Co−Ni、Fe−Cu、Co−Cu、
Co−Au、Co−Pt、Mn−Al、Fe−Cr、C
o−Cr、Ni−Cr、Fe−Co−Cr、Co−Ni
−Cr、Fe−Co−Ni−Crなどの強磁性合金など
が挙げられる。
e、Co、Niなどの強磁性金属や、Fe−Co、Co
−Ni、Fe−Co−Ni、Fe−Cu、Co−Cu、
Co−Au、Co−Pt、Mn−Al、Fe−Cr、C
o−Cr、Ni−Cr、Fe−Co−Cr、Co−Ni
−Cr、Fe−Co−Ni−Crなどの強磁性合金など
が挙げられる。
【0052】磁性層は単層膜であっても、多層膜であっ
てもよく、また磁性層を形成した後、磁気記録媒体の耐
久性や耐候性を高める目的で、磁性層表面にスパッタリ
ング法などによるDLC(ダイヤモンドライクコーティ
ング)膜を設けてもよく、更に潤滑剤を存在させて走行
性を高めてもよい。更に、易滑性と耐久性を向上させる
ために、磁性層と反対側のフィルム面にバックコート層
を設けてもよい。
てもよく、また磁性層を形成した後、磁気記録媒体の耐
久性や耐候性を高める目的で、磁性層表面にスパッタリ
ング法などによるDLC(ダイヤモンドライクコーティ
ング)膜を設けてもよく、更に潤滑剤を存在させて走行
性を高めてもよい。更に、易滑性と耐久性を向上させる
ために、磁性層と反対側のフィルム面にバックコート層
を設けてもよい。
【0053】磁気記録媒体の形態は、ディスク状、カー
ド状、テープ状など特に限定されないが、ベースフィル
ムの厚みが10μm以下、幅が2.3〜13mm、長さ
が60m/巻以上、記録密度(非圧縮時)が5キロバイ
ト/mm2以上の高記録密度磁気テープなどの磁気記録
媒体としたとき、均一性に優れた表面特性と、高い剛性
とを有するという本発明のフィルムの特性をより一層活
かすことができるので特に好ましい。なお、ここでいう
記録密度は下式により算出される値である。
ド状、テープ状など特に限定されないが、ベースフィル
ムの厚みが10μm以下、幅が2.3〜13mm、長さ
が60m/巻以上、記録密度(非圧縮時)が5キロバイ
ト/mm2以上の高記録密度磁気テープなどの磁気記録
媒体としたとき、均一性に優れた表面特性と、高い剛性
とを有するという本発明のフィルムの特性をより一層活
かすことができるので特に好ましい。なお、ここでいう
記録密度は下式により算出される値である。
【0054】
記録密度 = 記録容量/(テープ幅×テープ長さ)
磁気テープに代表される磁気記録媒体には近年ますます
低価格化、高容量化の要請が高くなってきているが、高
容量化を実施する上でのポイントには以下のものがあ
る。一つは、ベースフィルムの厚みを薄くして長尺化に
より全体としての記録容量を向上させる方法であり、今
一つは、トラック幅の狭幅化、記録波長の短波長化など
により単位面積当たりの記録密度を高める方法であり、
一般的にはこれらを併用する方向で高容量化が図られて
いる。このように、トラック幅の狭幅化や記録波長の短
波長化などにより高記録密度化が進むと、ベースフィル
ム表面は無欠点であることが望まれている。一方、低価
格化のためには、ベースフィルムの巻き姿を向上させて
製品の歩留まりを低くすることや、ベースフィルムの製
膜工程で発生した屑フィルムを再利用して製品コストを
下げることなどが重要であり、均一な表面を有し、フィ
ルムの巻き姿が良好で、再利用しても異物による欠点が
少ない本発明の芳香族ポリアミドフィルムは極めて有効
である。
低価格化、高容量化の要請が高くなってきているが、高
容量化を実施する上でのポイントには以下のものがあ
る。一つは、ベースフィルムの厚みを薄くして長尺化に
より全体としての記録容量を向上させる方法であり、今
一つは、トラック幅の狭幅化、記録波長の短波長化など
により単位面積当たりの記録密度を高める方法であり、
一般的にはこれらを併用する方向で高容量化が図られて
いる。このように、トラック幅の狭幅化や記録波長の短
波長化などにより高記録密度化が進むと、ベースフィル
ム表面は無欠点であることが望まれている。一方、低価
格化のためには、ベースフィルムの巻き姿を向上させて
製品の歩留まりを低くすることや、ベースフィルムの製
膜工程で発生した屑フィルムを再利用して製品コストを
下げることなどが重要であり、均一な表面を有し、フィ
ルムの巻き姿が良好で、再利用しても異物による欠点が
少ない本発明の芳香族ポリアミドフィルムは極めて有効
である。
【0055】以上のように本発明の芳香族ポリアミドフ
ィルムは、こうした低価格化、高容量化の要請に対し好
適に応えることのできる磁気テープとすることができ
る。
ィルムは、こうした低価格化、高容量化の要請に対し好
適に応えることのできる磁気テープとすることができ
る。
【0056】なおベースフィルムの厚みは好ましくは、
7μm以下、更に好ましくは5μm以下であり、磁気記
録媒体としての記録密度は好ましくは8キロバイト/m
m2以上、更に好ましくは25キロバイト/mm2以上で
ある。
7μm以下、更に好ましくは5μm以下であり、磁気記
録媒体としての記録密度は好ましくは8キロバイト/m
m2以上、更に好ましくは25キロバイト/mm2以上で
ある。
【0057】本発明の磁気記録媒体は、民生用、プロ
用、D−1、D−2、D−3などの放送局用デジタルビ
デオカセット用途、DDS−2,3,4、データ8m
m、AIT、DLT、LTOなどのデータストレージ用
途に好適に用いることができるが、特に、高容量で信頼
性が最も重視されるデータストレージ用途に最適に用い
ることができる。
用、D−1、D−2、D−3などの放送局用デジタルビ
デオカセット用途、DDS−2,3,4、データ8m
m、AIT、DLT、LTOなどのデータストレージ用
途に好適に用いることができるが、特に、高容量で信頼
性が最も重視されるデータストレージ用途に最適に用い
ることができる。
【0058】本発明の芳香族ポリアミドフィルムは、例
えば、次のような方法で製造できるが、これに限定され
るものではない。
えば、次のような方法で製造できるが、これに限定され
るものではない。
【0059】まず芳香族ポリアミドを芳香族ジ酸クロリ
ドと芳香族ジアミンから得る場合には、N−メチルピロ
リドン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド
などの非プロトン性有機極性溶媒中での溶液重合により
合成する。このとき、低分子量物の生成を抑制するた
め、反応を阻害するような水、その他の物質の混入は避
けるべきであり、効率的な攪拌手段をとることが好まし
い。また、原料の当量性は重要であるが、製膜性を損な
う恐れのあるときは適当に調整することができる。ま
た、溶解助剤として塩化カルシウム、塩化リチウム、臭
化リチウム、硝酸リチウムなどを添加してもよい。
ドと芳香族ジアミンから得る場合には、N−メチルピロ
リドン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド
などの非プロトン性有機極性溶媒中での溶液重合により
合成する。このとき、低分子量物の生成を抑制するた
め、反応を阻害するような水、その他の物質の混入は避
けるべきであり、効率的な攪拌手段をとることが好まし
い。また、原料の当量性は重要であるが、製膜性を損な
う恐れのあるときは適当に調整することができる。ま
た、溶解助剤として塩化カルシウム、塩化リチウム、臭
化リチウム、硝酸リチウムなどを添加してもよい。
【0060】モノマーとして芳香族ジ酸クロリドと芳香
族ジアミンを用いると塩化水素が副生するが、これを中
和する場合には周期律表I族かII族のカチオンと水酸
化物イオン、炭酸イオンなどのアニオンとからなる塩に
代表される無機の中和剤、またエチレンオキサイド、プ
ロピレンオキサイド、アンモニア、トリエチルアミン、
トリエタノールアミン、ジエタノールアミンなどの有機
の中和剤を使用すればよい。
族ジアミンを用いると塩化水素が副生するが、これを中
和する場合には周期律表I族かII族のカチオンと水酸
化物イオン、炭酸イオンなどのアニオンとからなる塩に
代表される無機の中和剤、またエチレンオキサイド、プ
ロピレンオキサイド、アンモニア、トリエチルアミン、
トリエタノールアミン、ジエタノールアミンなどの有機
の中和剤を使用すればよい。
【0061】また、フィルムの湿度特性を改善する目的
で、塩化ベンゾイル、無水フタル酸、酢酸クロリド、ア
ニリンなどを重合の完了した系に添加し、ポリマーの末
端を封鎖してもよい。
で、塩化ベンゾイル、無水フタル酸、酢酸クロリド、ア
ニリンなどを重合の完了した系に添加し、ポリマーの末
端を封鎖してもよい。
【0062】本発明の芳香族ポリアミドフィルムを得る
ためには、ポリマーの固有粘度(ポリマー0.5gを硫
酸中で100mlの溶液として30℃で測定した値)
は、0.5以上であることが好ましい。
ためには、ポリマーの固有粘度(ポリマー0.5gを硫
酸中で100mlの溶液として30℃で測定した値)
は、0.5以上であることが好ましい。
【0063】製膜原液としては、中和後のポリマー溶液
をそのまま用いてもよいし、一旦単離したポリマーを硫
酸などからなる無機溶媒や有機溶媒に再溶解したものを
用いてもよい。
をそのまま用いてもよいし、一旦単離したポリマーを硫
酸などからなる無機溶媒や有機溶媒に再溶解したものを
用いてもよい。
【0064】本発明の芳香族ポリアミドフィルムを得る
ためには、重合ポリマーを製膜工程の口金から押し出す
前にポリマー内の異物を除去しておくことが好ましい。
ためには、重合ポリマーを製膜工程の口金から押し出す
前にポリマー内の異物を除去しておくことが好ましい。
【0065】ポリマー溶液をそのまま用いる場合には、
非プロトン性有機極性溶媒は、あらかじめ蒸留や濾過な
どの精製操作を行った後に重合溶媒としてポリマー重合
に用いることが好ましく、モノマーである芳香族ジアミ
ンや芳香族ジ酸クロリドも、各々をそのまま、または一
旦重合溶媒に溶解させた後に濾過操作を行って、ポリマ
ー重合に用いることが好ましい。
非プロトン性有機極性溶媒は、あらかじめ蒸留や濾過な
どの精製操作を行った後に重合溶媒としてポリマー重合
に用いることが好ましく、モノマーである芳香族ジアミ
ンや芳香族ジ酸クロリドも、各々をそのまま、または一
旦重合溶媒に溶解させた後に濾過操作を行って、ポリマ
ー重合に用いることが好ましい。
【0066】このような濾過には、例えば、ポリプロピ
レン、ステンレスやフッ素樹脂などで構成されたフィル
ターを用いることができ、また濾過精度は、3μm以下
が好ましく、より好ましくは2μm以下、更に好ましく
は1μm以下である。上記した通り、濾過精度は小さい
方が好ましい方向ではあるが、あまりに小さ過ぎるとフ
ィルターの目詰まりが早くなり溶媒の移送が速やかに行
えなくなるため、その下限は0.1μm程度が適切であ
る。
レン、ステンレスやフッ素樹脂などで構成されたフィル
ターを用いることができ、また濾過精度は、3μm以下
が好ましく、より好ましくは2μm以下、更に好ましく
は1μm以下である。上記した通り、濾過精度は小さい
方が好ましい方向ではあるが、あまりに小さ過ぎるとフ
ィルターの目詰まりが早くなり溶媒の移送が速やかに行
えなくなるため、その下限は0.1μm程度が適切であ
る。
【0067】また、ポリマー重合中、重合槽内へのコン
タミネーションの混入を避けるために、重合槽内のポリ
マー溶液に対して、例えば濾過精度0.3μmの除塵フ
ィルターで濾過された不活性なガスを流し込み、重合槽
内の圧力を大気圧より高くする方法も有効である。
タミネーションの混入を避けるために、重合槽内のポリ
マー溶液に対して、例えば濾過精度0.3μmの除塵フ
ィルターで濾過された不活性なガスを流し込み、重合槽
内の圧力を大気圧より高くする方法も有効である。
【0068】また、モノマーに芳香族ジ酸クロリドや芳
香族ジアミンを用いたときに副生する塩化水素を中和す
る場合には、精製操作を行った無機および/または有機
の中和剤を用いることが好ましい。
香族ジアミンを用いたときに副生する塩化水素を中和す
る場合には、精製操作を行った無機および/または有機
の中和剤を用いることが好ましい。
【0069】このとき中和剤として無機の炭酸塩を用い
る場合には、塩化水素と炭酸塩のモル比に対しても注意
することを要する。すなわち、塩化水素のモル濃度に対
して過剰の炭酸塩で中和を行った場合には、過剰分の炭
酸塩がポリマー内に残存し、残存した炭酸塩がコンタミ
ネーションとなることがあり、逆に少な過ぎると塩化水
素の中和が不充分で製膜装置を腐食させ易い。また、塩
化水素のモル濃度に対して等当量モル濃度の炭酸塩で中
和を行った場合には、中和反応が完了するまでに長時間
を要し、あまり長時間の中和を行っても期待したほどの
効果が得られず、逆に生産性が悪くなるので好ましくな
い。炭酸塩などによる塩化水素の中和は、それぞれ適切
に決めるべきであるが、塩化水素に対して93〜99モ
ル%、特に94〜98.5モル%の中和剤で中和するこ
とが好ましく、また、中和時間は2時間以上が、特に3
時間以上が好ましく、上限は10時間程度が適切であ
る。更に残存する塩化水素を中和する場合には、有機の
中和剤を用いることが好ましい。
る場合には、塩化水素と炭酸塩のモル比に対しても注意
することを要する。すなわち、塩化水素のモル濃度に対
して過剰の炭酸塩で中和を行った場合には、過剰分の炭
酸塩がポリマー内に残存し、残存した炭酸塩がコンタミ
ネーションとなることがあり、逆に少な過ぎると塩化水
素の中和が不充分で製膜装置を腐食させ易い。また、塩
化水素のモル濃度に対して等当量モル濃度の炭酸塩で中
和を行った場合には、中和反応が完了するまでに長時間
を要し、あまり長時間の中和を行っても期待したほどの
効果が得られず、逆に生産性が悪くなるので好ましくな
い。炭酸塩などによる塩化水素の中和は、それぞれ適切
に決めるべきであるが、塩化水素に対して93〜99モ
ル%、特に94〜98.5モル%の中和剤で中和するこ
とが好ましく、また、中和時間は2時間以上が、特に3
時間以上が好ましく、上限は10時間程度が適切であ
る。更に残存する塩化水素を中和する場合には、有機の
中和剤を用いることが好ましい。
【0070】また、一旦単離した重合ポリマーを再び硫
酸などからなる無機溶媒や有機溶媒に溶解せしめる場合
においても、その溶媒について同様の濾過操作が行われ
ていることが好ましい。
酸などからなる無機溶媒や有機溶媒に溶解せしめる場合
においても、その溶媒について同様の濾過操作が行われ
ていることが好ましい。
【0071】また上記したように、本発明の目的を阻害
しない範囲で、芳香族ポリアミドフィルムに、酸化防止
剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、核生成剤などの無機およ
び/または有機の添加剤を重合ポリマーにブレンドさせ
てもよい。
しない範囲で、芳香族ポリアミドフィルムに、酸化防止
剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、核生成剤などの無機およ
び/または有機の添加剤を重合ポリマーにブレンドさせ
てもよい。
【0072】また、ポリマー溶液中のポリマー濃度は2
〜40重量%であることが好ましい。これは、ポリマー
濃度が2重量%を下回る場合、生産性が悪く、十分な剛
性を有するフィルムが得られ難くなるなどの問題が生じ
易く、逆にポリマー濃度が40重量%を超える場合、ポ
リマー溶液の粘度が高くなり重合および製膜工程でのハ
ンドリング性が悪化するなどの問題が生じ易いためであ
る。
〜40重量%であることが好ましい。これは、ポリマー
濃度が2重量%を下回る場合、生産性が悪く、十分な剛
性を有するフィルムが得られ難くなるなどの問題が生じ
易く、逆にポリマー濃度が40重量%を超える場合、ポ
リマー溶液の粘度が高くなり重合および製膜工程でのハ
ンドリング性が悪化するなどの問題が生じ易いためであ
る。
【0073】上記のように調製されたポリマー溶液は、
コンタミネーションを除去する上で、製膜工程の口金か
ら押し出す直前に再び濾過を行うことが好ましい。この
ポリマー溶液の濾過には、溶媒が硫酸などからなる無機
溶媒や有機溶媒であることから耐蝕性に優れた素材から
なるフィルターを用いることが好ましく、このようなフ
ィルターとしては、例えば、ニッケル、チタン、ジルコ
ニウム、タンタル、鉛の単体、およびそれら単体を主成
分とする“インコネル”、“モネル”(International
Nickel Co.社の商標名)、“ハステロイ”(Haynes Ste
llite Co.社の商標名)などの合金、不動体化された鉄
あるいはステンレスなどの金属からなる素材や、ポリエ
チレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、テフロン(登録商
標)樹脂、活性炭、ガラスなどの非金属からなる素材か
らなるフィルター、あるいは上記素材の2種類以上を組
み合わせてなるフィルターが挙げられる。
コンタミネーションを除去する上で、製膜工程の口金か
ら押し出す直前に再び濾過を行うことが好ましい。この
ポリマー溶液の濾過には、溶媒が硫酸などからなる無機
溶媒や有機溶媒であることから耐蝕性に優れた素材から
なるフィルターを用いることが好ましく、このようなフ
ィルターとしては、例えば、ニッケル、チタン、ジルコ
ニウム、タンタル、鉛の単体、およびそれら単体を主成
分とする“インコネル”、“モネル”(International
Nickel Co.社の商標名)、“ハステロイ”(Haynes Ste
llite Co.社の商標名)などの合金、不動体化された鉄
あるいはステンレスなどの金属からなる素材や、ポリエ
チレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、テフロン(登録商
標)樹脂、活性炭、ガラスなどの非金属からなる素材か
らなるフィルター、あるいは上記素材の2種類以上を組
み合わせてなるフィルターが挙げられる。
【0074】このポリマー溶液の濾過精度は、好ましく
は3μm以下、より好ましくは2μm以下、更に好まし
くは1μm以下である。上記したように、ポリマー溶液
の濾過は、濾過精度を小さくすることが好ましい方向で
あるが、あまり小さすぎるとフィルターの目詰まりを生
じさせたり、濾圧が高くなってフィルターが破損したり
するため、その下限は0.1μm程度が適切である。
は3μm以下、より好ましくは2μm以下、更に好まし
くは1μm以下である。上記したように、ポリマー溶液
の濾過は、濾過精度を小さくすることが好ましい方向で
あるが、あまり小さすぎるとフィルターの目詰まりを生
じさせたり、濾圧が高くなってフィルターが破損したり
するため、その下限は0.1μm程度が適切である。
【0075】上記のように調製されたポリマー溶液の製
膜方法としては、乾湿式法、湿式法、半乾半湿式法の溶
液製膜法が挙げられ、いずれの製膜方法でフィルム化し
てもよいが、表面形態を制御しやすい点で乾湿式法が好
ましく、以下、乾湿式法を例にとって説明する。
膜方法としては、乾湿式法、湿式法、半乾半湿式法の溶
液製膜法が挙げられ、いずれの製膜方法でフィルム化し
てもよいが、表面形態を制御しやすい点で乾湿式法が好
ましく、以下、乾湿式法を例にとって説明する。
【0076】上記ポリマー溶液を口金からドラムやエン
ドレスベルトなどの支持体上に押し出して薄膜とし、次
いでかかる薄膜層から溶媒を飛散させ薄膜を乾燥する。
ドレスベルトなどの支持体上に押し出して薄膜とし、次
いでかかる薄膜層から溶媒を飛散させ薄膜を乾燥する。
【0077】このとき、脱溶媒速度は、10〜30重量
%/分で乾燥することが好ましい。脱溶媒速度が10重
量%/分未満では生産性が悪く、また、脱溶媒速度が3
0重量%/分を超えると急激な溶媒蒸発でフィルム表面
が粗れることがある。乾燥温度は100〜210℃であ
ることが好ましく、120〜180℃であるとより好ま
しい。また、乾燥時間は、2〜10分が好ましく、3〜
8分がより好ましい。
%/分で乾燥することが好ましい。脱溶媒速度が10重
量%/分未満では生産性が悪く、また、脱溶媒速度が3
0重量%/分を超えると急激な溶媒蒸発でフィルム表面
が粗れることがある。乾燥温度は100〜210℃であ
ることが好ましく、120〜180℃であるとより好ま
しい。また、乾燥時間は、2〜10分が好ましく、3〜
8分がより好ましい。
【0078】次いで、乾式工程を終えたフィルムは支持
体から剥離されて、湿式工程に導入され、脱塩、脱溶媒
などが行なわれる。この湿式工程を通さずに剥離したゲ
ルフィルムをそのまま延伸および熱処理するとポリマー
内の塩が析出し、後の塗布工程で塗布斑が生じたり、粗
大突起が多くなることがある。湿式工程の溶媒は一般的
に水系であるが、水の他に少量の無機、有機の溶剤や無
機塩などを含有していてもよい。なお溶媒温度は通常0
〜100℃で使用される。更に必要に応じて、湿式工程
中でフィルムを長手方向に延伸してもよい。
体から剥離されて、湿式工程に導入され、脱塩、脱溶媒
などが行なわれる。この湿式工程を通さずに剥離したゲ
ルフィルムをそのまま延伸および熱処理するとポリマー
内の塩が析出し、後の塗布工程で塗布斑が生じたり、粗
大突起が多くなることがある。湿式工程の溶媒は一般的
に水系であるが、水の他に少量の無機、有機の溶剤や無
機塩などを含有していてもよい。なお溶媒温度は通常0
〜100℃で使用される。更に必要に応じて、湿式工程
中でフィルムを長手方向に延伸してもよい。
【0079】ここで、フィルムの少なくとも一面に、水
性樹脂、粒子および界面活性剤を含有する水系塗液を塗
布する工程については、フィルムの表面性や生産性など
の観点から、上記湿式工程と熱処理工程との間で塗布す
ることが好ましい。例えば、上記ポリマー溶液を口金か
らキャストした後や支持体から剥離した後に水系塗液を
塗布した場合には、フィルム表面が粗れ易く、熱処理後
も粒子の密着性が低下することがあり、また製膜後に塗
布する場合には、再び塗液を乾燥、熱処理する工程が必
要となるため経済的ではない。
性樹脂、粒子および界面活性剤を含有する水系塗液を塗
布する工程については、フィルムの表面性や生産性など
の観点から、上記湿式工程と熱処理工程との間で塗布す
ることが好ましい。例えば、上記ポリマー溶液を口金か
らキャストした後や支持体から剥離した後に水系塗液を
塗布した場合には、フィルム表面が粗れ易く、熱処理後
も粒子の密着性が低下することがあり、また製膜後に塗
布する場合には、再び塗液を乾燥、熱処理する工程が必
要となるため経済的ではない。
【0080】上記湿式工程を終えたフィルムに水系塗液
を塗布する場合には、含溶媒率が10〜100%のフィ
ルムに塗布することが好ましい。ここで含溶媒率とは下
式により算出される値である。
を塗布する場合には、含溶媒率が10〜100%のフィ
ルムに塗布することが好ましい。ここで含溶媒率とは下
式により算出される値である。
【0081】含溶媒率(%)=((含溶媒フィルムの重
量−乾燥後のフィルム重量)/含溶媒フィルムの重量)
×100 本発明の樹脂薄膜層を形成するために用いる水系塗液中
には、上記界面活性剤が含まれている場合、良好な塗れ
性を有することとなるが、含溶媒率が10%未満の場合
には塗液のハジキや塗布ムラが生じ、また100%を越
える場合には粒子が凝集したり樹脂薄膜の厚みムラが生
じて、走査範囲2μm角と30μm角の中心面平均粗さ
の比RaA/RaBが、本発明の規定する範囲から外れる
ことがある。このようなフィルムの含溶媒率を本発明の
範囲内とする方法は特に限定されないが、例えば、吸水
性で多孔表面を有するロールとフィルムを接触させて含
溶媒率を制御する方法が好ましい。含溶媒率は10〜8
0%がより好ましく、20〜60%が更に好ましい。
量−乾燥後のフィルム重量)/含溶媒フィルムの重量)
×100 本発明の樹脂薄膜層を形成するために用いる水系塗液中
には、上記界面活性剤が含まれている場合、良好な塗れ
性を有することとなるが、含溶媒率が10%未満の場合
には塗液のハジキや塗布ムラが生じ、また100%を越
える場合には粒子が凝集したり樹脂薄膜の厚みムラが生
じて、走査範囲2μm角と30μm角の中心面平均粗さ
の比RaA/RaBが、本発明の規定する範囲から外れる
ことがある。このようなフィルムの含溶媒率を本発明の
範囲内とする方法は特に限定されないが、例えば、吸水
性で多孔表面を有するロールとフィルムを接触させて含
溶媒率を制御する方法が好ましい。含溶媒率は10〜8
0%がより好ましく、20〜60%が更に好ましい。
【0082】塗布方法としては、メタリングバー方式、
ダイコート方式、グラビア方式、リバースロール方式、
ドクターブレード方式などいずれの塗布方式であっても
よい。
ダイコート方式、グラビア方式、リバースロール方式、
ドクターブレード方式などいずれの塗布方式であっても
よい。
【0083】上記塗布方式によって塗布された塗液は、
乾燥後あるいは乾燥させながら延伸および/または熱処
理が行われる。ここで塗液の乾燥温度は100〜400
℃の範囲が好ましい。乾燥温度が350℃を超えると、
急激な温度変化により塗液中の粒子同士が凝集して、走
査範囲2μm角と30μm角の中心面平均粗さの比Ra
A/RaBが、本発明の規定する範囲から外れることがあ
る。また、乾燥温度が低すぎると塗液の乾燥に長時間を
要し生産性が悪くなるため、乾燥温度の下限は100℃
が適切である。塗液の乾燥温度は、より好ましくは35
0℃以下、更に好ましくは300℃以下である。
乾燥後あるいは乾燥させながら延伸および/または熱処
理が行われる。ここで塗液の乾燥温度は100〜400
℃の範囲が好ましい。乾燥温度が350℃を超えると、
急激な温度変化により塗液中の粒子同士が凝集して、走
査範囲2μm角と30μm角の中心面平均粗さの比Ra
A/RaBが、本発明の規定する範囲から外れることがあ
る。また、乾燥温度が低すぎると塗液の乾燥に長時間を
要し生産性が悪くなるため、乾燥温度の下限は100℃
が適切である。塗液の乾燥温度は、より好ましくは35
0℃以下、更に好ましくは300℃以下である。
【0084】この後、延伸、熱処理が行なわれてフィル
ムとなる。
ムとなる。
【0085】延伸温度は200〜400℃の温度範囲内
で行うことがフィルムの機械特性向上に有効であり、よ
り好ましくは220〜350℃、更に好ましくは240
〜300℃であり、幅方向の延伸倍率は0.9〜3倍の
範囲内とすることが好ましい。幅方向の延伸倍率が0.
9倍未満の場合には、製膜の安定性は向上するものの優
れた機械物性のフィルムが得られ難い。また幅方向の延
伸倍率が3倍を超える場合には、フィルム破れが多発す
るなど製膜が不安定となり、突起形成面の樹脂薄膜が不
連続被膜や海島ムラとなって、走査範囲2μm角と30
μm角の中心面平均粗さの比RaA/RaBが、本発明の
規定する範囲から外れることがある。幅方向の延伸倍率
はより好ましくは1.2〜2.5倍の範囲内である。な
お延伸倍率とは、延伸後のフィルム幅を延伸前のフィル
ム幅で除した値で定義する。
で行うことがフィルムの機械特性向上に有効であり、よ
り好ましくは220〜350℃、更に好ましくは240
〜300℃であり、幅方向の延伸倍率は0.9〜3倍の
範囲内とすることが好ましい。幅方向の延伸倍率が0.
9倍未満の場合には、製膜の安定性は向上するものの優
れた機械物性のフィルムが得られ難い。また幅方向の延
伸倍率が3倍を超える場合には、フィルム破れが多発す
るなど製膜が不安定となり、突起形成面の樹脂薄膜が不
連続被膜や海島ムラとなって、走査範囲2μm角と30
μm角の中心面平均粗さの比RaA/RaBが、本発明の
規定する範囲から外れることがある。幅方向の延伸倍率
はより好ましくは1.2〜2.5倍の範囲内である。な
お延伸倍率とは、延伸後のフィルム幅を延伸前のフィル
ム幅で除した値で定義する。
【0086】また、フィルムの延伸中あるいは延伸後に
熱処理が行なわれるが、熱処理温度は200〜300℃
の範囲内にあることがフィルムの寸法安定性を向上させ
る点で好ましい。
熱処理が行なわれるが、熱処理温度は200〜300℃
の範囲内にあることがフィルムの寸法安定性を向上させ
る点で好ましい。
【0087】更に延伸あるいは熱処理後のフィルムを徐
冷することが、フィルムの平面性を向上させるために有
効であり、50℃/秒以下の速度で冷却することが有効
である。
冷することが、フィルムの平面性を向上させるために有
効であり、50℃/秒以下の速度で冷却することが有効
である。
【0088】上記したように、本発明の芳香族ポリアミ
ドフィルムは単層フィルムでも、積層フィルムでもよ
く、積層フィルムとする場合には、例えば、口金内での
積層、複合管での積層や、一旦1層を形成しておいてそ
の上に他の層を形成する方法などを用いればよいが、少
なくとも一方の最表層が本発明の突起形成面とすること
が必要である。
ドフィルムは単層フィルムでも、積層フィルムでもよ
く、積層フィルムとする場合には、例えば、口金内での
積層、複合管での積層や、一旦1層を形成しておいてそ
の上に他の層を形成する方法などを用いればよいが、少
なくとも一方の最表層が本発明の突起形成面とすること
が必要である。
【0089】上記した方法により、本発明の突起形成面
を有する芳香族ポリアミドフィルムを製造することがで
きる。
を有する芳香族ポリアミドフィルムを製造することがで
きる。
【0090】また本発明の磁気記録媒体は、上記方法で
得られた芳香族ポリアミドフィルムの突起形成面に磁性
層を形成することにより得られるもので、磁性層を形成
する方法は特に限定されないが、例えば、真空下で強磁
性材料を加熱蒸発させて非磁性支持体上に堆積させる真
空蒸着法、強磁性材料の蒸発を放電中で行うイオンプレ
ーティング法、アルゴンを主成分とする雰囲気中でグロ
ー放電を起こして生じたアルゴンイオンでターゲット表
面の原子を叩き出すスパッタリング法などの真空中での
物理的成膜法(PVD法:Physical Vapor Depositio
n)などが好ましく用いられる。
得られた芳香族ポリアミドフィルムの突起形成面に磁性
層を形成することにより得られるもので、磁性層を形成
する方法は特に限定されないが、例えば、真空下で強磁
性材料を加熱蒸発させて非磁性支持体上に堆積させる真
空蒸着法、強磁性材料の蒸発を放電中で行うイオンプレ
ーティング法、アルゴンを主成分とする雰囲気中でグロ
ー放電を起こして生じたアルゴンイオンでターゲット表
面の原子を叩き出すスパッタリング法などの真空中での
物理的成膜法(PVD法:Physical Vapor Depositio
n)などが好ましく用いられる。
【0091】なお本発明における物性の測定、効果の評
価は次の方法によるものとする。
価は次の方法によるものとする。
【0092】(1)突起の平均径
走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて突起形成面を以下
の条件で観察し、観察像の粒子20個について最長径を
求め、その平均値をnmに換算して突起の平均径とし
た。
の条件で観察し、観察像の粒子20個について最長径を
求め、その平均値をnmに換算して突起の平均径とし
た。
【0093】装置:超高分解能電解放射型走査電子顕微
鏡(日立(株)製S−900H) 加速電圧:2kV 観察倍率:5万倍以上 (2)粒子の平均粒径 動的光散乱法の粒度分析計MICROTRAC UPA MODEL;9230(L
eeds&Northrup社製)を用いて測定を行い粒子の平均粒子
径とした。
鏡(日立(株)製S−900H) 加速電圧:2kV 観察倍率:5万倍以上 (2)粒子の平均粒径 動的光散乱法の粒度分析計MICROTRAC UPA MODEL;9230(L
eeds&Northrup社製)を用いて測定を行い粒子の平均粒子
径とした。
【0094】(3)突起密度
原子間力顕微鏡(AFM)を用いて突起形成面を以下の
条件で測定し、高さ5nm以上の突起数を求め、個/m
m2に換算して突起の存在密度とした。なお、測定は1
サンプルにつき10回の測定を行い、測定によるばらつ
きの影響を排除するために最大と最小のものを除外した
ものを測定値として、その平均値を求めた。
条件で測定し、高さ5nm以上の突起数を求め、個/m
m2に換算して突起の存在密度とした。なお、測定は1
サンプルにつき10回の測定を行い、測定によるばらつ
きの影響を排除するために最大と最小のものを除外した
ものを測定値として、その平均値を求めた。
【0095】装置:NanoScopeIIIa ver3.2 AFM Jスキャナー
使用(Digital Instruments社製) 探針:ナノセンサーズ社製SPMプローブNCH−W
型、単結晶シリコン 走査モ−ド:タッピングモ−ド サンプル数:256 走査範囲:5μm×5μm 走査速度:1.0Hz 測定環境:温度23℃、相対湿度65%、大気中 (4)走査範囲2μm角での中心面平均粗さRaA 走査範囲を2μm×2μmとする以外は、上記(3)の
突起密度と同じ条件で測定を行い、中心面平均粗さRa
Aを求めた。
使用(Digital Instruments社製) 探針:ナノセンサーズ社製SPMプローブNCH−W
型、単結晶シリコン 走査モ−ド:タッピングモ−ド サンプル数:256 走査範囲:5μm×5μm 走査速度:1.0Hz 測定環境:温度23℃、相対湿度65%、大気中 (4)走査範囲2μm角での中心面平均粗さRaA 走査範囲を2μm×2μmとする以外は、上記(3)の
突起密度と同じ条件で測定を行い、中心面平均粗さRa
Aを求めた。
【0096】(5)走査範囲30μm角での中心面平均
粗さRaB
粗さRaB
【0097】走査範囲を30μm×30μmとする以外
は、上記(3)の突起密度と同じ条件で測定を行い、中
心面平均粗さRaBを求めた。
は、上記(3)の突起密度と同じ条件で測定を行い、中
心面平均粗さRaBを求めた。
【0098】(6)中心面平均粗さの比RaA/RaB
【0099】上記(4)の走査範囲2μm角での中心面
平均粗さRaAを、上記(5)の走査範囲30μm角で
の中心面平均粗さRaBで除して、中心面平均粗さの比
RaA/RaBとした。
平均粗さRaAを、上記(5)の走査範囲30μm角で
の中心面平均粗さRaBで除して、中心面平均粗さの比
RaA/RaBとした。
【0100】(7)樹脂薄膜の表面硫黄濃度S/C
米国SSI社製のモデルSSX-100-206を用いて、突起形
成面の樹脂薄膜を次の条件で測定した。
成面の樹脂薄膜を次の条件で測定した。
【0101】光電子脱出角度:35°
X線源:AlKα1,2
試料チャンバー内真空度:1×10-8Torr
次に、測定時の帯電に伴うピークの補正のため、C1Sの
主ピークの結合エネルギー値B.Eを284.6eVに
合わせた。
主ピークの結合エネルギー値B.Eを284.6eVに
合わせた。
【0102】次いで、C1Sのピーク面積[C1S]は、2
82〜296eVの範囲で直線のベースラインを引くこ
とにより求め、S2Pのピーク面積[S2P]は、165〜
178eVの範囲で直線のベースラインを引くことによ
り求めた。
82〜296eVの範囲で直線のベースラインを引くこ
とにより求め、S2Pのピーク面積[S2P]は、165〜
178eVの範囲で直線のベースラインを引くことによ
り求めた。
【0103】表面硫黄濃度S/Cは、上記S1Pのピーク
面積[S2P]と、C1Sのピーク面積[C1S]の比、およ
び装置固有の感度補正値より、次式により求めた。
面積[S2P]と、C1Sのピーク面積[C1S]の比、およ
び装置固有の感度補正値より、次式により求めた。
【0104】
S/C=([S2P]/[C1S])/(感度補正値)
なお、ここでは、前記装置固有の感度補正値を1.73
とした。
とした。
【0105】(8)突起の凝集率
上記(1)の走査型電子顕微鏡(SEM)の観察像か
ら、突起の凝集状態を確認し、下式から突起の凝集率を
求めた。
ら、突起の凝集状態を確認し、下式から突起の凝集率を
求めた。
【0106】突起の凝集率(%)=(凝集突起の総数/
単分散突起と凝集突起の総数)×100 ここで凝集突起とは2個以上の粒子が接触している状態
の突起であり、また単分散突起とは単独の粒子によって
形成されている突起である。例えば、一つのSEM観察
像において、単分散突起が2つ、粒子2個が接触してい
る状態の凝集突起が1つ、粒子4個が接触している状態
の凝集突起が1つ存在する場合、凝集突起の総数は6
個、単分散突起と凝集突起の総数は8個とし、突起の凝
集率は75%と計算した。
単分散突起と凝集突起の総数)×100 ここで凝集突起とは2個以上の粒子が接触している状態
の突起であり、また単分散突起とは単独の粒子によって
形成されている突起である。例えば、一つのSEM観察
像において、単分散突起が2つ、粒子2個が接触してい
る状態の凝集突起が1つ、粒子4個が接触している状態
の凝集突起が1つ存在する場合、凝集突起の総数は6
個、単分散突起と凝集突起の総数は8個とし、突起の凝
集率は75%と計算した。
【0107】(9)走査範囲30μm角での10点平均
粗さRzA 原子間力顕微鏡(AFM)を用いて突起形成面を以下の
条件で測定して、10点平均粗さRzAを求めた。な
お、測定は1サンプルにつき10回の測定を行い、測定
によるバラツキの影響を排除するために最大と最小のも
のを除外したものを測定値として、その平均値を求め
た。
粗さRzA 原子間力顕微鏡(AFM)を用いて突起形成面を以下の
条件で測定して、10点平均粗さRzAを求めた。な
お、測定は1サンプルにつき10回の測定を行い、測定
によるバラツキの影響を排除するために最大と最小のも
のを除外したものを測定値として、その平均値を求め
た。
【0108】装置:NanoScopeIIIa ver3.2 AFM Jスキャナー
使用(Digital Instruments社製) 探針:ナノセンサーズ社製SPMプローブNCH−W
型、単結晶シリコン 走査モ−ド:タッピングモ−ド サンプル数:256 走査範囲:30μm×30μm 走査速度:0.5Hz 測定環境:温度23℃、相対湿度65%、大気中 (10)300℃の熱減量 島津製作所(株)製の熱重量測定装置(TGA−50
H)と解析装置サーマルアナライザー(TA−50)
に、データ処理用のパーソナルコンピューターを組み合
わせた装置を用いて測定を行った。120℃で12時間
乾燥したサンプル約7mgを炉内にセットして、炉内を
窒素雰囲気下とし、昇温速度10℃/分で室温から60
0℃まで加熱した。得られた熱重量曲線から下式によ
り、300℃の熱減量を求めた。
使用(Digital Instruments社製) 探針:ナノセンサーズ社製SPMプローブNCH−W
型、単結晶シリコン 走査モ−ド:タッピングモ−ド サンプル数:256 走査範囲:30μm×30μm 走査速度:0.5Hz 測定環境:温度23℃、相対湿度65%、大気中 (10)300℃の熱減量 島津製作所(株)製の熱重量測定装置(TGA−50
H)と解析装置サーマルアナライザー(TA−50)
に、データ処理用のパーソナルコンピューターを組み合
わせた装置を用いて測定を行った。120℃で12時間
乾燥したサンプル約7mgを炉内にセットして、炉内を
窒素雰囲気下とし、昇温速度10℃/分で室温から60
0℃まで加熱した。得られた熱重量曲線から下式によ
り、300℃の熱減量を求めた。
【0109】300℃の熱減量(重量%)=((120
℃での重量−300℃での重量)/120℃での重量)
×100 (11)樹脂薄膜の厚み フィルム小片をエポキシ樹脂で固定成形して、ミクロト
ームで超薄切片(フィルム長手方向に平行に切断)を作
成した。この超薄切片を透過型電子顕微鏡(日立製H−
7100FA型)を用いて加速電圧100kVで観察
し、樹脂薄膜の境界面を探して厚みを求めた。
℃での重量−300℃での重量)/120℃での重量)
×100 (11)樹脂薄膜の厚み フィルム小片をエポキシ樹脂で固定成形して、ミクロト
ームで超薄切片(フィルム長手方向に平行に切断)を作
成した。この超薄切片を透過型電子顕微鏡(日立製H−
7100FA型)を用いて加速電圧100kVで観察
し、樹脂薄膜の境界面を探して厚みを求めた。
【0110】(12)引張りヤング率、破断伸度
オリエンテック(株)製フィルム強伸度自動測定装置
“テンシロンAMF/RTA−100”を用いて、幅1
0mm、長さ150mmに切断したフィルムをチャック
間距離50mmの装置にセットして、引張速度300m
m/分、温度23℃、相対湿度65%の条件下で引張試
験を行い、得られた荷重−伸び曲線の立ち上がり部の接
線から引張りヤング率を求めた。またフィルム破断時の
長さからチャック間距離を減じたものをチャック間距離
で除したものに100を乗じて伸度とした。
“テンシロンAMF/RTA−100”を用いて、幅1
0mm、長さ150mmに切断したフィルムをチャック
間距離50mmの装置にセットして、引張速度300m
m/分、温度23℃、相対湿度65%の条件下で引張試
験を行い、得られた荷重−伸び曲線の立ち上がり部の接
線から引張りヤング率を求めた。またフィルム破断時の
長さからチャック間距離を減じたものをチャック間距離
で除したものに100を乗じて伸度とした。
【0111】(13)フィルムの巻き姿
長さ3,000m、幅500mmの磁性層を形成する前
のフィルムを、巻き取り張力0.5〜1g/mm2で巻
き取ったフィルムの状態を以下の基準で評価した。
のフィルムを、巻き取り張力0.5〜1g/mm2で巻
き取ったフィルムの状態を以下の基準で評価した。
【0112】◎:巻き取りフィルム表面にシワ、傷、凸
凹がまったくない。
凹がまったくない。
【0113】○:巻き取りフィルム表面にシワ、傷、凸
凹が少ない。
凹が少ない。
【0114】×:巻き取りフィルム表面にシワ、傷、凸
凹が多く見られる。
凹が多く見られる。
【0115】(14)リサイクルフィルムの異物
水性樹脂を1重量%含有する水系塗液を、メタリングバ
ーを用いて塗布厚みが6μmとなるように芳香族ポリア
ミドフィルム表面に塗布した。次いで、280℃の乾燥
機で塗液を乾燥して、樹脂薄膜を有する芳香族ポリアミ
ドフィルムを得た。このフィルムを以下の組成となるよ
うに溶媒へ溶かし、リサイクルポリマーを得た。
ーを用いて塗布厚みが6μmとなるように芳香族ポリア
ミドフィルム表面に塗布した。次いで、280℃の乾燥
機で塗液を乾燥して、樹脂薄膜を有する芳香族ポリアミ
ドフィルムを得た。このフィルムを以下の組成となるよ
うに溶媒へ溶かし、リサイクルポリマーを得た。
【0116】
・N−メチル−2−ピロリドン 85重量%
・塩化リチウム 3重量%
・トリエタノールアミン 2重量%
・フィルム 10重量%
次にアプリケーターを用いてリサイクルポリマーをガラ
ス板上にキャストし、厚み50μmのキャストフィルム
を得た。次いでキャストフィルムを120℃のオーブン
で7分間乾燥した後、ゲルフィルムを金枠に固定して水
槽に5分間浸した。次いで水槽から取り出した含水フィ
ルムの水滴をウエスで取り除いた後、300℃のオーブ
ンで1分間の乾燥および熱処理を行ってリサイクルフィ
ルムを得た。
ス板上にキャストし、厚み50μmのキャストフィルム
を得た。次いでキャストフィルムを120℃のオーブン
で7分間乾燥した後、ゲルフィルムを金枠に固定して水
槽に5分間浸した。次いで水槽から取り出した含水フィ
ルムの水滴をウエスで取り除いた後、300℃のオーブ
ンで1分間の乾燥および熱処理を行ってリサイクルフィ
ルムを得た。
【0117】次に真空蒸着機でアルミ蒸着されたリサイ
クルフィルムの表面を、倍率400倍の微分干渉顕微鏡
で観察し、以下の基準で評価した。
クルフィルムの表面を、倍率400倍の微分干渉顕微鏡
で観察し、以下の基準で評価した。
【0118】○:リサイクルフィルム表面に異物がまっ
たくない。
たくない。
【0119】△:リサイクルフィルム表面にわずかに異
物が見られる。
物が見られる。
【0120】×:リサイクルフィルム表面に異物が見ら
れる。
れる。
【0121】(15)出力特性
突起形成面に連続斜め蒸着法で、厚さ170nmのCo
−O磁性層を形成した。次いでスパッタ法により厚さ5
nmのダイヤモンドライクコーティング膜を磁性層上に
形成し、更にその上に、有機物防錆剤0.1重量%の溶
液をグラビアロールを用いて塗布し、100℃の乾燥機
で乾燥させた。その後に、潤滑剤としてパーフルオロポ
リエーテル誘導体からなる有機物を主体とした0.5重
量%溶液をグラビアロールを用いて塗布し、100℃の
乾燥機で乾燥させた。
−O磁性層を形成した。次いでスパッタ法により厚さ5
nmのダイヤモンドライクコーティング膜を磁性層上に
形成し、更にその上に、有機物防錆剤0.1重量%の溶
液をグラビアロールを用いて塗布し、100℃の乾燥機
で乾燥させた。その後に、潤滑剤としてパーフルオロポ
リエーテル誘導体からなる有機物を主体とした0.5重
量%溶液をグラビアロールを用いて塗布し、100℃の
乾燥機で乾燥させた。
【0122】次に磁性層の反対面にカーボンを主体と
し、結合剤として酢酸ビニル系樹脂を使用した厚み0.
3μmのバックコート層を形成した。
し、結合剤として酢酸ビニル系樹脂を使用した厚み0.
3μmのバックコート層を形成した。
【0123】以上のようにして得られた磁気記録媒体を
幅8mm、長さ250mにスリットして、カセットに組
み込み磁気テープとした。
幅8mm、長さ250mにスリットして、カセットに組
み込み磁気テープとした。
【0124】市販のAIT−1ドライブを用いて、記録
周波数7MHzの信号を記録して、その再生出力を測定
し、そのS/N比の平均値を市販のHi8テープを基準
(0dB)として比較した。なお△は実用可能レベルで
ある。
周波数7MHzの信号を記録して、その再生出力を測定
し、そのS/N比の平均値を市販のHi8テープを基準
(0dB)として比較した。なお△は実用可能レベルで
ある。
【0125】
○:+1dB以上
△:−1dB以上、+1dB未満
×:−1dB未満
【0126】
【実施例】以下に実施例に基づいて本発明をより具体的
に説明するが、本発明はこれらに限定されるものでな
い。なお、以下の実施例中、NMPはN−メチル−2−
ピロリドン、CTPCは2−クロルテレフタル酸クロリ
ド、CPAは2−クロルパラフェニレンジアミン、DP
Eは4,4’−ジアミノジフェニルエーテルを表す。 (実施例1)脱水したNMPに、85モル%に相当する
CPAと15モル%に相当するDPEを溶解させ、この
溶液を濾過精度0.6μmのポリプロピレンからなるフ
ィルターに通して濾過した後、重合槽へ移送し、これに
濾過精度0.6μmのポリプロピレンからなるフィルタ
ーに通した98.5モル%に相当するCTPCを添加し
て、30℃以下で2時間の撹拌を行い重合ポリマーを得
た。
に説明するが、本発明はこれらに限定されるものでな
い。なお、以下の実施例中、NMPはN−メチル−2−
ピロリドン、CTPCは2−クロルテレフタル酸クロリ
ド、CPAは2−クロルパラフェニレンジアミン、DP
Eは4,4’−ジアミノジフェニルエーテルを表す。 (実施例1)脱水したNMPに、85モル%に相当する
CPAと15モル%に相当するDPEを溶解させ、この
溶液を濾過精度0.6μmのポリプロピレンからなるフ
ィルターに通して濾過した後、重合槽へ移送し、これに
濾過精度0.6μmのポリプロピレンからなるフィルタ
ーに通した98.5モル%に相当するCTPCを添加し
て、30℃以下で2時間の撹拌を行い重合ポリマーを得
た。
【0127】次に、重合ポリマー中の塩化水素に対して
98.5モル%の炭酸リチウムを添加して4時間の中和
を行い、重合ポリマー中の塩化水素に対して10モル%
のトリエタノールアミンを添加して1時間の撹拌を行
い、ポリマー濃度10.8重量%の芳香族ポリアミド溶
液Aを得た。
98.5モル%の炭酸リチウムを添加して4時間の中和
を行い、重合ポリマー中の塩化水素に対して10モル%
のトリエタノールアミンを添加して1時間の撹拌を行
い、ポリマー濃度10.8重量%の芳香族ポリアミド溶
液Aを得た。
【0128】また、脱水したNMPに、85モル%に相
当するCPAと15モル%に相当するDPEを溶解さ
せ、この溶液を濾過精度0.6μmのポリプロピレンか
らなるフィルターに通して濾過した後、重合槽へ移送
し、これに濾過精度0.6μmのポリプロピレンからな
るフィルターに通した98.5モル%に相当するCTP
Cを添加して、30℃以下で2時間の撹拌を行い重合ポ
リマーを得た。
当するCPAと15モル%に相当するDPEを溶解さ
せ、この溶液を濾過精度0.6μmのポリプロピレンか
らなるフィルターに通して濾過した後、重合槽へ移送
し、これに濾過精度0.6μmのポリプロピレンからな
るフィルターに通した98.5モル%に相当するCTP
Cを添加して、30℃以下で2時間の撹拌を行い重合ポ
リマーを得た。
【0129】次に、重合ポリマー中の塩化水素に対して
98.5モル%の炭酸リチウムを添加して4時間の中和
を行い、平均1次粒径が16nmのシリカ(日本アエロ
ジル株式会社製“AEROSIL”R972タイプ)を
ポリマーに対して1.0重量%添加して1時間の攪拌を
行った後、重合ポリマー中の塩化水素に対して10モル
%のトリエタノールアミンを添加して1時間の撹拌を行
い、ポリマー濃度10.6重量%の芳香族ポリアミド溶
液Bを得た。
98.5モル%の炭酸リチウムを添加して4時間の中和
を行い、平均1次粒径が16nmのシリカ(日本アエロ
ジル株式会社製“AEROSIL”R972タイプ)を
ポリマーに対して1.0重量%添加して1時間の攪拌を
行った後、重合ポリマー中の塩化水素に対して10モル
%のトリエタノールアミンを添加して1時間の撹拌を行
い、ポリマー濃度10.6重量%の芳香族ポリアミド溶
液Bを得た。
【0130】次に、芳香族ポリアミド溶液Aを濾過精度
0.9μmのステンレスからなる金属繊維フィルターに
通し、また、芳香族ポリアミド溶液Bを濾過精度1.2
μmのステンレスからなる金属繊維フィルターに通した
後に口金内部で積層した。この時の積層厚みは、最終フ
ィルムにおける芳香族ポリアミド溶液Aの厚みが3μ
m、芳香族ポリアミド溶液Bの厚みが1μmとなるよう
に積層した。次に、積層したポリマー溶液を表面が鏡面
状のステンレス製ベルト上にキャストし、160℃で3
分間加熱して溶媒を蒸発させ、自己保持性を得たフィル
ムをベルトから連続的に剥離した。この時のゲルフィル
ムのポリマー濃度は40重量%であり、脱溶媒速度は2
0重量%/分であった。
0.9μmのステンレスからなる金属繊維フィルターに
通し、また、芳香族ポリアミド溶液Bを濾過精度1.2
μmのステンレスからなる金属繊維フィルターに通した
後に口金内部で積層した。この時の積層厚みは、最終フ
ィルムにおける芳香族ポリアミド溶液Aの厚みが3μ
m、芳香族ポリアミド溶液Bの厚みが1μmとなるよう
に積層した。次に、積層したポリマー溶液を表面が鏡面
状のステンレス製ベルト上にキャストし、160℃で3
分間加熱して溶媒を蒸発させ、自己保持性を得たフィル
ムをベルトから連続的に剥離した。この時のゲルフィル
ムのポリマー濃度は40重量%であり、脱溶媒速度は2
0重量%/分であった。
【0131】次に、濾過精度0.6μmのポリプロピレ
ンからなるフィルターで濾過された水を用いた水槽内
に、ゲルフィルムを2分間通して残存溶媒や中和で生じ
た無機塩、有機アミンの水抽出を行い、更にこの間でフ
ィルムを長手方向に1.2倍延伸して含溶媒フィルムを
得た。
ンからなるフィルターで濾過された水を用いた水槽内
に、ゲルフィルムを2分間通して残存溶媒や中和で生じ
た無機塩、有機アミンの水抽出を行い、更にこの間でフ
ィルムを長手方向に1.2倍延伸して含溶媒フィルムを
得た。
【0132】次に、含溶媒フィルム両面の水分を水切り
ロールで除去して、含溶媒率を33%にした。次いで、
芳香族ポリアミド溶液A層(芳香族ポリアミド溶液Aに
より成形される層)側に、濾過精度0.6μmのポリプ
ロピレンからなるフィルターで濾過された表1に示す塗
液を、メタリングバー方式で塗布厚み6μmとなるよう
に塗布した。次いで、乾燥温度200℃の乾燥機で塗液
を乾燥した。ここで粒子は、スチレン(30重量%)、
ブチルアクリレート(30重量%)、ジビニルベンゼン
(40重量%)の乳化重合で合成した平均粒径25nm
の架橋ポリスチレン粒子を用いた。また水性樹脂には、
テレフタル酸ジメチル(30モル%)、イソフタル酸ジ
メチル(14モル%)、無水ピロメリット酸(6モル
%)、エチレングリコール(35モル%)、1,6ヘキ
サンジオール(10モル%)、ネオペンチルグリコール
(5モル%)の重縮合反応で得た水性ポリエステル樹脂
を、アンモニア中和で水性化して用いた。この水性ポリ
エステル樹脂で形成された樹脂薄膜の表面硫黄濃度S/
Cは0.0001であり、樹脂の300℃の熱減量は
2.2重量%であった。
ロールで除去して、含溶媒率を33%にした。次いで、
芳香族ポリアミド溶液A層(芳香族ポリアミド溶液Aに
より成形される層)側に、濾過精度0.6μmのポリプ
ロピレンからなるフィルターで濾過された表1に示す塗
液を、メタリングバー方式で塗布厚み6μmとなるよう
に塗布した。次いで、乾燥温度200℃の乾燥機で塗液
を乾燥した。ここで粒子は、スチレン(30重量%)、
ブチルアクリレート(30重量%)、ジビニルベンゼン
(40重量%)の乳化重合で合成した平均粒径25nm
の架橋ポリスチレン粒子を用いた。また水性樹脂には、
テレフタル酸ジメチル(30モル%)、イソフタル酸ジ
メチル(14モル%)、無水ピロメリット酸(6モル
%)、エチレングリコール(35モル%)、1,6ヘキ
サンジオール(10モル%)、ネオペンチルグリコール
(5モル%)の重縮合反応で得た水性ポリエステル樹脂
を、アンモニア中和で水性化して用いた。この水性ポリ
エステル樹脂で形成された樹脂薄膜の表面硫黄濃度S/
Cは0.0001であり、樹脂の300℃の熱減量は
2.2重量%であった。
【0133】この後テンターで延伸と熱処理を行って厚
み4.0μmの芳香族ポリアミドフィルムを得た。この
間に280℃でフィルムを幅方向に1.4倍延伸し、2
00℃で1.5分間熱処理を行なった後、20℃/秒の
速度で徐冷した。
み4.0μmの芳香族ポリアミドフィルムを得た。この
間に280℃でフィルムを幅方向に1.4倍延伸し、2
00℃で1.5分間熱処理を行なった後、20℃/秒の
速度で徐冷した。
【0134】この芳香族ポリアミドフィルムの引張りヤ
ング率は、長手方向で12,100N/mm2、幅方向
で17,300N/mm2であり、また破断伸度は、長
手方向で53%、幅方向で32%であった。
ング率は、長手方向で12,100N/mm2、幅方向
で17,300N/mm2であり、また破断伸度は、長
手方向で53%、幅方向で32%であった。
【0135】この芳香族ポリアミド積層フィルムの突起
形成面の表面特性を評価した結果を表2に示した。ま
た、フィルム特性および、突起形成面に磁性層を形成
し、磁気テープとして評価した結果を表3に示す。フィ
ルムの巻き姿、リサイクルフィルムの異物、出力特性は
良好であった。 (実施例2〜5)粒子の添加量を表1のように変更する
以外は実施例1と同様の方法で芳香族ポリアミド積層フ
ィルムを得た。
形成面の表面特性を評価した結果を表2に示した。ま
た、フィルム特性および、突起形成面に磁性層を形成
し、磁気テープとして評価した結果を表3に示す。フィ
ルムの巻き姿、リサイクルフィルムの異物、出力特性は
良好であった。 (実施例2〜5)粒子の添加量を表1のように変更する
以外は実施例1と同様の方法で芳香族ポリアミド積層フ
ィルムを得た。
【0136】これら芳香族ポリアミド積層フィルムの突
起形成面の表面特性を評価した結果を表2に示した。ま
た、フィルム特性および、突起形成面に磁性層を形成
し、磁気テープとして評価した結果を表3に示す。フィ
ルムの巻き姿、リサイクルフィルムの異物、出力特性は
良好であった。 (実施例6、7)粒子の平均粒径、水性樹脂の添加量、
および界面活性剤の添加量を表1のように変更する以外
は実施例1と同様の方法で芳香族ポリアミド積層フィル
ムを得た。
起形成面の表面特性を評価した結果を表2に示した。ま
た、フィルム特性および、突起形成面に磁性層を形成
し、磁気テープとして評価した結果を表3に示す。フィ
ルムの巻き姿、リサイクルフィルムの異物、出力特性は
良好であった。 (実施例6、7)粒子の平均粒径、水性樹脂の添加量、
および界面活性剤の添加量を表1のように変更する以外
は実施例1と同様の方法で芳香族ポリアミド積層フィル
ムを得た。
【0137】これら芳香族ポリアミド積層フィルムの突
起形成面の表面特性を評価した結果を表2に示した。ま
た、フィルム特性および、突起形成面に磁性層を形成
し、磁気テープとして評価した結果を表3に示す。フィ
ルムの巻き姿、リサイクルフィルムの異物、出力特性は
良好であった。 (実施例8)平均粒径25nmのコロイダルシリカ(触
媒化成工業株式会社製“CATALOID”SI−50
タイプ)を用いて、粒子の添加量を表1のように変更す
る以外は実施例1と同様の方法で芳香族ポリアミド積層
フィルムを得た。
起形成面の表面特性を評価した結果を表2に示した。ま
た、フィルム特性および、突起形成面に磁性層を形成
し、磁気テープとして評価した結果を表3に示す。フィ
ルムの巻き姿、リサイクルフィルムの異物、出力特性は
良好であった。 (実施例8)平均粒径25nmのコロイダルシリカ(触
媒化成工業株式会社製“CATALOID”SI−50
タイプ)を用いて、粒子の添加量を表1のように変更す
る以外は実施例1と同様の方法で芳香族ポリアミド積層
フィルムを得た。
【0138】この芳香族ポリアミド積層フィルムの突起
形成面の表面特性を評価した結果を表2に示した。ま
た、フィルム特性および、突起形成面に磁性層を形成
し、磁気テープとして評価した結果を表3に示す。フィ
ルムの巻き姿、リサイクルフィルムの異物、出力特性は
良好であった。 (実施例9)塗液を乾燥した後の、テンターでの延伸条
件を、300℃でフィルム幅方向に1.8倍延伸するこ
と以外は実施例1と同様の方法で芳香族ポリアミド積層
フィルムを得た。
形成面の表面特性を評価した結果を表2に示した。ま
た、フィルム特性および、突起形成面に磁性層を形成
し、磁気テープとして評価した結果を表3に示す。フィ
ルムの巻き姿、リサイクルフィルムの異物、出力特性は
良好であった。 (実施例9)塗液を乾燥した後の、テンターでの延伸条
件を、300℃でフィルム幅方向に1.8倍延伸するこ
と以外は実施例1と同様の方法で芳香族ポリアミド積層
フィルムを得た。
【0139】この芳香族ポリアミド積層フィルムの突起
形成面の表面特性を評価した結果を表2に示した。ま
た、フィルム特性および、突起形成面に磁性層を形成
し、磁気テープとして評価した結果を表3に示す。フィ
ルムの巻き姿、リサイクルフィルムの異物、出力特性は
良好であった。 (実施例10)水性樹脂に、テレフタル酸ジメチル(3
0モル%)、イソフタル酸ジメチル(15モル%)、無
水ピロメリット酸(4モル%)、ジメチル−5−スルホ
イソフタレートナトリウム塩(1モル%)、エチレング
リコール(35モル%)、1,6ヘキサンジオール(1
0モル%)、ネオペンチルグリコール(5モル%)の重
縮合反応物である水性ポリエステル樹脂を用いること以
外は実施例1と同様の方法で芳香族ポリアミド積層フィ
ルムを得た。なお、上記水性ポリエステル樹脂で形成さ
れた樹脂薄膜の表面硫黄濃度S/Cは0.002であ
り、樹脂の300℃の熱減量は2.8重量%であった。
形成面の表面特性を評価した結果を表2に示した。ま
た、フィルム特性および、突起形成面に磁性層を形成
し、磁気テープとして評価した結果を表3に示す。フィ
ルムの巻き姿、リサイクルフィルムの異物、出力特性は
良好であった。 (実施例10)水性樹脂に、テレフタル酸ジメチル(3
0モル%)、イソフタル酸ジメチル(15モル%)、無
水ピロメリット酸(4モル%)、ジメチル−5−スルホ
イソフタレートナトリウム塩(1モル%)、エチレング
リコール(35モル%)、1,6ヘキサンジオール(1
0モル%)、ネオペンチルグリコール(5モル%)の重
縮合反応物である水性ポリエステル樹脂を用いること以
外は実施例1と同様の方法で芳香族ポリアミド積層フィ
ルムを得た。なお、上記水性ポリエステル樹脂で形成さ
れた樹脂薄膜の表面硫黄濃度S/Cは0.002であ
り、樹脂の300℃の熱減量は2.8重量%であった。
【0140】この芳香族ポリアミド積層フィルムの突起
形成面の表面特性を評価した結果を表2に示した。ま
た、フィルム特性および、突起形成面に磁性層を形成
し、磁気テープとして評価した結果を表3に示す。フィ
ルムの巻き姿、リサイクルフィルムの異物、出力特性は
良好であった。 (比較例1、2)粒子の添加量を表1のように変更する
以外は実施例1と同様の方法で芳香族ポリアミド積層フ
ィルムを得た。
形成面の表面特性を評価した結果を表2に示した。ま
た、フィルム特性および、突起形成面に磁性層を形成
し、磁気テープとして評価した結果を表3に示す。フィ
ルムの巻き姿、リサイクルフィルムの異物、出力特性は
良好であった。 (比較例1、2)粒子の添加量を表1のように変更する
以外は実施例1と同様の方法で芳香族ポリアミド積層フ
ィルムを得た。
【0141】これら芳香族ポリアミド積層フィルムの突
起形成面の表面特性を評価した結果を表2に示した。ま
た、フィルム特性および、突起形成面に磁性層を形成
し、磁気テープとして評価した結果を表3に示す。フィ
ルムの巻き姿、リサイクルフィルムの異物、出力特性が
すべて良好なフィルム、磁気テープは得られなかった。 (比較例3)水性樹脂に、テレフタル酸ジメチル(45
モル%)、ジメチル−5−スルホイソフタレートナトリ
ウム塩(5モル%)、エチレングリコール(50モル
%)の重縮合反応物である水性ポリエステル樹脂を用い
ること以外は実施例1と同様の方法で芳香族ポリアミド
積層フィルムを得た。なお、上記水性ポリエステル樹脂
で形成された樹脂薄膜の表面硫黄濃度S/Cは0.01
5であり、樹脂の300℃の熱減量は0.3重量%であ
った。
起形成面の表面特性を評価した結果を表2に示した。ま
た、フィルム特性および、突起形成面に磁性層を形成
し、磁気テープとして評価した結果を表3に示す。フィ
ルムの巻き姿、リサイクルフィルムの異物、出力特性が
すべて良好なフィルム、磁気テープは得られなかった。 (比較例3)水性樹脂に、テレフタル酸ジメチル(45
モル%)、ジメチル−5−スルホイソフタレートナトリ
ウム塩(5モル%)、エチレングリコール(50モル
%)の重縮合反応物である水性ポリエステル樹脂を用い
ること以外は実施例1と同様の方法で芳香族ポリアミド
積層フィルムを得た。なお、上記水性ポリエステル樹脂
で形成された樹脂薄膜の表面硫黄濃度S/Cは0.01
5であり、樹脂の300℃の熱減量は0.3重量%であ
った。
【0142】この芳香族ポリアミド積層フィルムの突起
形成面の表面特性を評価した結果を表2に示した。ま
た、フィルム特性および、突起形成面に磁性層を形成
し、磁気テープとして評価した結果を表3に示す。フィ
ルムの巻き姿、磁気テープの出力特性は良好であった
が、リサイクルフィルムの異物が悪化した。 (比較例4)粒子の平均粒径、水性樹脂の添加量、およ
び界面活性剤の添加量を表1のように変更する以外は実
施例1と同様の方法で芳香族ポリアミド積層フィルムを
得た。
形成面の表面特性を評価した結果を表2に示した。ま
た、フィルム特性および、突起形成面に磁性層を形成
し、磁気テープとして評価した結果を表3に示す。フィ
ルムの巻き姿、磁気テープの出力特性は良好であった
が、リサイクルフィルムの異物が悪化した。 (比較例4)粒子の平均粒径、水性樹脂の添加量、およ
び界面活性剤の添加量を表1のように変更する以外は実
施例1と同様の方法で芳香族ポリアミド積層フィルムを
得た。
【0143】この芳香族ポリアミド積層フィルムの突起
形成面の表面特性を評価した結果を表2に示した。ま
た、フィルム特性および、突起形成面に磁性層を形成
し、磁気テープとして評価した結果を表3に示す。フィ
ルムの巻き姿、リサイクルフィルムの異物は良好であっ
たが、磁気テープの出力特性が悪化した。 (比較例5)実施例1と同様の方法で得た含溶媒フィル
ムを、2つのロールでニップして水分を除去した含溶媒
フィルムの芳香族ポリアミド溶液A層(芳香族ポリアミ
ド溶液Aにより成形される層)側に、濾過精度0.6μ
mのポリプロピレンからなるフィルターで濾過された表
1に示す塗液を、メタリングバー方式で塗布厚み6μm
となるように塗布した。なお、上記含溶媒フィルムの含
溶媒率は183%であった。
形成面の表面特性を評価した結果を表2に示した。ま
た、フィルム特性および、突起形成面に磁性層を形成
し、磁気テープとして評価した結果を表3に示す。フィ
ルムの巻き姿、リサイクルフィルムの異物は良好であっ
たが、磁気テープの出力特性が悪化した。 (比較例5)実施例1と同様の方法で得た含溶媒フィル
ムを、2つのロールでニップして水分を除去した含溶媒
フィルムの芳香族ポリアミド溶液A層(芳香族ポリアミ
ド溶液Aにより成形される層)側に、濾過精度0.6μ
mのポリプロピレンからなるフィルターで濾過された表
1に示す塗液を、メタリングバー方式で塗布厚み6μm
となるように塗布した。なお、上記含溶媒フィルムの含
溶媒率は183%であった。
【0144】以下実施例1と同様にして芳香族ポリアミ
ド積層フィルムを得た。
ド積層フィルムを得た。
【0145】この芳香族ポリアミド積層フィルムの突起
形成面の表面特性を評価した結果を表2に示した。ま
た、フィルム特性および、突起形成面に磁性層を形成
し、磁気テープとして評価した結果を表3に示す。リサ
イクルフィルムの異物は良好であったが、フィルムの巻
き姿と、磁気テープの出力特性が悪化した。 (比較例6)水性樹脂に、メタクリル酸メチル(60モ
ル%)、アクリル酸エチル(38モル%)、アクリル酸
(1モル%)、nメチロールアクリルアミド(1モル
%)で合成した水性アクリル系樹脂を用いること以外は
実施例1と同様の方法で芳香族ポリアミド積層フィルム
を得た。なお、上記水性アクリル樹脂で形成された樹脂
薄膜の表面硫黄濃度S/Cは0.0001であり、樹脂
の300℃の熱減量は3.8重量%であった。
形成面の表面特性を評価した結果を表2に示した。ま
た、フィルム特性および、突起形成面に磁性層を形成
し、磁気テープとして評価した結果を表3に示す。リサ
イクルフィルムの異物は良好であったが、フィルムの巻
き姿と、磁気テープの出力特性が悪化した。 (比較例6)水性樹脂に、メタクリル酸メチル(60モ
ル%)、アクリル酸エチル(38モル%)、アクリル酸
(1モル%)、nメチロールアクリルアミド(1モル
%)で合成した水性アクリル系樹脂を用いること以外は
実施例1と同様の方法で芳香族ポリアミド積層フィルム
を得た。なお、上記水性アクリル樹脂で形成された樹脂
薄膜の表面硫黄濃度S/Cは0.0001であり、樹脂
の300℃の熱減量は3.8重量%であった。
【0146】この芳香族ポリアミド積層フィルムの突起
形成面の表面特性を評価した結果を表2に示した。ま
た、フィルム特性および、突起形成面に磁性層を形成
し、磁気テープとして評価した結果を表3に示す。リサ
イクルフィルムの異物については、表面硫黄濃度S/C
が0.0001であったが、上記水性アクリル樹脂と芳
香族ポリアミドの相溶性が悪く、フィルム表面に異物が
生じた。またフィルムの巻き姿、出力特性も悪化した。
形成面の表面特性を評価した結果を表2に示した。ま
た、フィルム特性および、突起形成面に磁性層を形成
し、磁気テープとして評価した結果を表3に示す。リサ
イクルフィルムの異物については、表面硫黄濃度S/C
が0.0001であったが、上記水性アクリル樹脂と芳
香族ポリアミドの相溶性が悪く、フィルム表面に異物が
生じた。またフィルムの巻き姿、出力特性も悪化した。
【0147】
【表1】
【0148】
【表2】
【0149】
【表3】
【0150】
【発明の効果】本発明の芳香族ポリアミドフィルムは、
表面性が均一で、ロールに巻き取ったときの形状が良
く、フィルムを再利用しても異物の発生が少ないので、
歩留まりが低く、安価なフィルムを製造することができ
る。また上記フィルムをベースフィルムとして用いるこ
とにより、出力が高い磁気記録媒体を製造することがで
きる。
表面性が均一で、ロールに巻き取ったときの形状が良
く、フィルムを再利用しても異物の発生が少ないので、
歩留まりが低く、安価なフィルムを製造することができ
る。また上記フィルムをベースフィルムとして用いるこ
とにより、出力が高い磁気記録媒体を製造することがで
きる。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考)
// B29K 77:00 B29K 77:00
B29L 7:00 B29L 7:00
Fターム(参考) 4F006 AA38 AB35 BA09 CA02 DA04
4F100 AK41A AK47B BA02 DD07A
GB90 JB09A JK14A JM01A
JM02A YY00A
4F210 AA24 AA29 AF16 AG01 AH38
QC03 QD08 QG01 QG18 QW05
5D006 CB03 CB07 CB08 FA09
5D112 AA02 AA22 BA01 BA09
Claims (8)
- 【請求項1】 少なくとも片面に、X線光電子分光法に
より測定される表面硫黄濃度(S/C)が0.003以
下である樹脂薄膜層を有し、この樹脂薄膜層の表面に平
均径が10〜100nmである突起が1×106〜1×
108個/mm2の密度で形成され、この突起が形成され
た面の、原子間力顕微鏡(AFM)により測定される走
査範囲2μm角での中心面平均粗さRaA(nm)と、
走査範囲30μm角での中心面平均粗さRaB(nm)
との比が下記式(1)を満たす芳香族ポリアミドフィル
ム。 0.5≦RaA/RaB≦1 ・・・(1) - 【請求項2】 樹脂薄膜層が、水溶性および/または水
分散性のポリエステル樹脂を含んでいる、請求項1に記
載の芳香族ポリアミドフィルム。 - 【請求項3】 水溶性および/または水分散性のポリエ
ステル樹脂中の未反応のカルボキシル基が中和されてい
る、請求項2に記載の芳香族ポリアミドフィルム。 - 【請求項4】 突起の凝集率が20%以下である、請求
項1〜3のいずれかに記載の芳香族ポリアミドフィル
ム。 - 【請求項5】 突起が形成された面の原子間力顕微鏡
(AFM)により測定される走査範囲30μm角での1
0点平均粗さRzA(nm)が、10〜100nmであ
る請求項1〜4のいずれかに記載の芳香族ポリアミドフ
ィルム。 - 【請求項6】 湿式工程を終えた含溶媒率10〜100
%のフィルムの少なくとも片面に、X線光電子分光法に
より測定される表面硫黄濃度S/Cが0.003以下の
水性樹脂、粒子および界面活性剤を含有する水系塗液を
塗布した後、乾燥後あるいは乾燥させながら0.9〜
3.0倍の延伸および/または熱処理を行う芳香族ポリ
アミドフィルムの製造方法。 - 【請求項7】 請求項1〜5のいずれかに記載の芳香族
ポリアミドフィルムの突起が形成された面に磁性層を配
設してなる磁気記録媒体。 - 【請求項8】 磁性層の厚みが20〜200nmであ
る、請求項7に記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002000556A JP2003200542A (ja) | 2002-01-07 | 2002-01-07 | 芳香族ポリアミドフィルム、その製造方法および磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002000556A JP2003200542A (ja) | 2002-01-07 | 2002-01-07 | 芳香族ポリアミドフィルム、その製造方法および磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003200542A true JP2003200542A (ja) | 2003-07-15 |
Family
ID=27640911
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002000556A Pending JP2003200542A (ja) | 2002-01-07 | 2002-01-07 | 芳香族ポリアミドフィルム、その製造方法および磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003200542A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112770231A (zh) * | 2020-12-21 | 2021-05-07 | 歌尔股份有限公司 | 用于发声装置的振动板及发声装置 |
JP7461419B2 (ja) | 2021-08-31 | 2024-04-03 | エスケーマイクロワークス 株式会社 | ポリアミド系フィルム、その製造方法、並びにそれを含むカバーウィンドウおよびディスプレイ装置 |
-
2002
- 2002-01-07 JP JP2002000556A patent/JP2003200542A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112770231A (zh) * | 2020-12-21 | 2021-05-07 | 歌尔股份有限公司 | 用于发声装置的振动板及发声装置 |
JP7461419B2 (ja) | 2021-08-31 | 2024-04-03 | エスケーマイクロワークス 株式会社 | ポリアミド系フィルム、その製造方法、並びにそれを含むカバーウィンドウおよびディスプレイ装置 |
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