JP2003188127A - ワックスレスマウント式研磨方法およびその装置 - Google Patents
ワックスレスマウント式研磨方法およびその装置Info
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Abstract
ウェーハの厚さに応じた研磨を行うワックスレスマウン
ト式研磨方法およびその装置を提供する。 【解決手段】 シリコンウェーハWの研磨前の厚さ変更
時または研磨後の目標厚さ変更時には、各変更後のウェ
ーハ厚さに合わせ、研磨ヘッド12とプレート固定部材
15との間にスペーサSを抜き差しする。こうして、テ
ンプレート14の高さを調整する。その結果、単一な厚
さのテンプレート14を使用して、シリコンウェーハW
の厚さに応じた研磨を行うことができる。
Description
ント式研磨方法およびその装置、詳しくはワックスレス
で保持した半導体ウェーハの表面に機械的化学的研磨を
行うワックスレスマウント式の研磨技術に関する。
て、ワックスレスマウント式研磨方法が知られている。
以下、図面に基づき、これに用いられるワックスレスマ
ウント式研磨装置を説明する。図4は、従来手段に係る
ワックスレスマウント式研磨装置の縦断面図である。図
4に示すように、ワックスレスマウント式研磨装置10
0は、上面に研磨布102が張設された研磨定盤103
と、下面にウェーハ固定用のテンプレート104が設け
られた枚葉式の研磨ヘッド101とを備えている。この
テンプレート104は合成樹脂製で、保水性を有する不
織布製のバックパッド105を介して、研磨ヘッド10
1の下面に取り付けられている。研磨時には、バックパ
ッド105に純水を供給し、その表面張力により、テン
プレート104の孔部に収容されたシリコンウェーハW
をその裏面側から保持する。このとき、シリコンウェー
ハWは、その研磨面の全域をテンプレート104の端面
から所定高さだけ下方に向かって突出している。そし
て、遊離砥粒を含む研磨剤を研磨布102の研磨作用面
に供給しながら、研磨ヘッド101を研磨定盤103上
で回転させ、シリコンウェーハWの研磨面を鏡面研磨す
る。
うな従来のワックスレスマウント式の研磨では、以下の
不都合があった。すなわち、研磨ヘッド101の下面に
は、研磨中にシリコンウェーハWが移動しないようにテ
ンプレート104が取り付けられている。これ以外に
も、テンプレート104の役目として、研磨時のウェー
ハ平坦度の維持およびウェーハ平坦度の悪化防止などが
挙げられる。したがって、テンプレート104の厚さ
は、研磨前のシリコンウェーハWの厚さおよび研磨後の
目標厚さに合わせて変更する必要がある。そのため、テ
ンプレート104は、同じ大きさのシリコンウェーハW
用であっても、厚さが異なるものを数種類、用意してお
かなければならなかった。
プレートを使って、半導体ウェーハの厚さに応じた研磨
を行うことができるワックスレスマウント式研磨方法お
よびその装置を提供することを、その目的としている。
また、この発明は、テンプレートの高さ調整の容易化お
よび低コスト化を図ることができるワックスレスマウン
ト式研磨装置を提供することを、その目的としている。
は、環状のテンプレートの内側に半導体ウェーハを収容
するとともに、この半導体ウェーハと研磨ヘッドとの間
にバックパッドを介在させて半導体ウェーハを研磨する
ワックスレスマウント式研磨方法において、前記研磨ヘ
ッドに、前記テンプレートが固定されるプレート固定部
材を研磨ヘッドの厚さ方向へ移動自在に設け、前記研磨
ヘッドとプレート固定部材との間にスペーサを抜き差し
可能に介在させてテンプレートの高さを調整するワック
スレスマウント式研磨方法である。研磨ヘッドは、上面
に研磨布が展張された研磨定盤の上方に対向して配置さ
れる。この研磨ヘッドは、研磨定盤との対向面に1枚の
半導体ウェーハが保持される枚葉式でもよいし、多数枚
の半導体ウェーハが一括して保持されるバッチ式でもよ
い。また、研磨ヘッドは、研磨布の表面に沿って往復運
動する方式でもよいし、往復運動しない方式でもよい。
往復運動する場合には、半導体ウェーハの外周部の一部
を研磨布の外部にはみ出して研磨してもよいし、そうで
なくてもよい。研磨ヘッドを研磨定盤の上方に対向配置
してもよいし、これとは上下を反対にしてもよい。さら
に、研磨ヘッドと研磨定盤との軸線方向をそれぞれ水平
方向とした縦型の研磨装置でもよい。
ス鋼といった各種の金属、各種のセラミックスなどを採
用することができる。スペーサの厚さは、例えば10μ
m程度である。スペーサの形状は限定されない。例えば
円板状でもよいし、環状でもよい。さらには馬蹄形状で
もよい。バックパッドの素材としては、例えばスウェー
ド布などの不織布を採用することができる。また、その
硬度も限定されない。バックパッドの厚さは、2mm以
下が好ましい。2mmを超えると、バックパッドに硬度
ムラが生じやすい。テンプレートの素材は限定されな
い。例えば、ガラスエポキシ樹脂、各種のセラミックス
などが挙げられる。プレート固定部材の素材としては、
例えば研磨ヘッドと同じ素材を含む各種の金属、テンプ
レートと同じ素材を含む各種の合成樹脂などが挙げられ
る。プレート固定部材の形状は限定されない。例えば、
テンプレートと同じ環状でもよいし、半導体ウェーハの
外周に配置可能な各種のブロック形状でもよい。この半
導体ウェーハは、その研磨時における研磨布の研磨面に
沿った移動が、研磨ヘッドの研磨定盤側の面から所定長
さだけ突出したプレート固定部材によって規制される。
そのため、このテンプレートを省略し、プレート固定部
材だけを利用しながら研磨することも可能である。
ートの内側に半導体ウェーハを収容するとともに、この
半導体ウェーハと研磨ヘッドとの間にバックパッドを介
在させたワックスレスマウント式研磨装置において、前
記研磨ヘッドに、前記テンプレートが固定されるプレー
ト固定部材を研磨ヘッドの厚さ方向へ移動自在に設け、
前記研磨ヘッドとプレート固定部材との間に、スペーサ
を抜き差し可能に介在させて前記テンプレートの高さを
調整する高さ調整手段を設けたワックスレスマウント式
研磨装置である。高さ調整手段の構造は限定されない。
例えば、ボルトナットで手動調整する構造が考えられ
る。この他にも、エアシリンダによりエアで調整する構
造、油圧シリンダにより油圧を用いて調整する構造、歯
車を使用した機械的構造で自動調整可能とすることも含
まれる。また、モータなどを使用してボールシャフト、
直進型シャフトなどを電動によって駆動する構造など、
すべての駆動調整方法と構造が含まれる。
段が、前記プレート固定部材に固定されたボルトと、該
ボルトに螺合され、前記プレート固定部材を研磨ヘッド
に締着するナットと、前記ボルトに着脱自在に挿着され
るスペーサとを有する請求項2に記載のワックスレスマ
ウント式研磨装置である。
馬蹄形状である請求項3に記載のワックスレスマウント
式研磨装置である。
厚さの変更および研磨後の目標厚さの変更時には、各変
更後のウェーハ厚さに合わせ、研磨ヘッドとプレート固
定部材との間にスペーサを抜き差しする。こうして、テ
ンプレートの高さを調整する。その結果、単一な厚さの
テンプレートを使用して、半導体ウェーハの厚さに応じ
た研磨を行うことができる。
たスペーサの挿着枚数に合わせて、ボルトへのナットの
ねじ込み量を加減して、テンプレートの高さを調整す
る。これにより、テンプレートの高さ調整が容易化し、
しかも高さ調整手段の構造が簡単であるので、低コスト
化も図れる。
を馬蹄形状としたので、ボルトへのスペーサの着脱時
に、例えば環状のスペーサの使用時よりもスペーサの着
脱が簡単になる。すなわち、環状のスペーサであれば、
スペーサの着脱時にナットをボルトから外す必要があっ
た。これに対して、スペーサが馬蹄形状であれば、ナッ
トをボルトに螺合したまま、スペーサをボルトの軸線方
向に直交する方向からボルトに挿着することができる。
また、抜き取ることができる。
する。図1は、この発明の一実施例に係るワックスレス
マウント式研磨装置の縦断面図である。図2(a)は、
この発明の一実施例に係るワックスレスマウント式研磨
装置に利用されるスペーサの拡大平面図である。図2
(b)は、この発明の一実施例に係るワックスレスマウ
ント式研磨装置に利用される別のスペーサの拡大平面図
である。図3は、この発明の一実施例に係るワックスレ
スマウント式研磨装置の分解斜視図である。図1におい
て、10はこの発明の一実施例に係るワックスレスマウ
ント式研磨装置(以下、研磨装置)であり、この研磨装
置10は、研磨定盤11と、これに対向して上方に配設
された研磨ヘッド12とを備えている。研磨定盤11
は、その上面に、研磨布13が展張されている。研磨ヘ
ッド12は、その下面に、ウェーハ固定用のテンプレー
ト14が設けられている。
1および研磨ヘッド12は円板形で、対向する各面はそ
れぞれ平坦面である。これらの研磨定盤11および研磨
ヘッド12は、各回転軸を中心にして、図示しない回転
手段によってそれぞれ回転される。このうち、研磨ヘッ
ド12は、略シリコンウェーハWと同じ直径を有し、回
転軸の昇降により上下動する。研磨ヘッド12の厚さ方
向の略中間部には、外方へ突出する厚肉で環状のフラン
ジ12aが一体形成されている。このフランジ12aに
は、周方向へ120度ごとに、研磨ヘッド12の厚さ方
向へ向かう3つのボルト挿通孔12b…が形成されてい
る。このフランジ12aの下方には、環状体であるプレ
ート固定部材15が配置されている。このプレート固定
部材15はステンレス鋼製で、その平面視した大きさお
よび形状は、ほぼフランジ12aと同じである。プレー
ト固定部材15の上面には、各ボルト挿通孔12b…の
下方にボルト16…がそれぞれ立設されている。各ボル
ト16…は、対応するボルト挿通孔12b…に遊挿され
たのち、その上向きの先端部にナット17…をそれぞれ
螺合することで、対応するプレート固定部材15が研磨
ヘッド12に締着される。これらのボルト16…と、ナ
ット17…と、後述するスペーサSとを有し、スペーサ
Sの抜き差しによってテンプレート14の高さを調整す
る高さ調整手段が構成される。
る不織布製のバックパッド18が設けられている。この
バックパッド18を介して、8インチのシリコンウェー
ハWが研磨ヘッド12の下面に取り付けられる。テンプ
レート14は、例えば円形のリング状のガラスエポキシ
板で、プレート固定部材15の下面に固着されている。
このテンプレート14は、その内径がシリコンウェーハ
Wより若干大径で、その厚さは特に限定されない。バッ
クパッド18は、例えばスウェード製で、その大きさは
シリコンウェーハWと略同じで、厚さはパッド全域で均
一である。研磨されるシリコンウェーハWはCZウェー
ハである。
ート固定部材15との間に、シリコンウェーハWの厚さ
の変更分に応じて、所定枚数のスペーサSを抜き差しし
て、テンプレート14の高さを調整する点である。スペ
ーサSは、ステンレス鋼製の平面視して馬蹄形状を有す
る薄い板片である(図2(a))。具体的なスペーサS
の厚さは10μmである。また、このスペーサSに代え
て、環状のスペーサS1を採用してもよい(図2
(b))。
ント式研磨装置10を用いたシリコンウェーハWのワッ
クスレスマウント式研磨方法を説明する。まず、バック
パッド18に純水を供給し、その表面張力により、テン
プレート14の孔部に収容されたシリコンウェーハWを
その裏面側から保持する。次いで、ナット17…をゆる
め、フランジ12aとプレート固定部材15との間に隙
間を形成し、そこから露出したボルト16…の元部に、
所定枚数のスペーサSをボルト16…の軸線方向に直交
する方向から挿着して、テンプレート14の下面とシリ
コンウェーハWの研磨面との高さを略揃える。その後、
ナット17を締めてプレート固定部材15と所定枚数の
スペーサSとを固定する。ここでは、スペーサSを馬蹄
形状としたので、ボルト16…に対するスペーサSの着
脱が、ナット17…をボルト16…に螺合したままでも
行える。これにより、例えば図2(b)の環状ボルト挿
通孔12b…のスペーサS1であれば、スペーサS1の
着脱時にナット17…をボルト16…から外す必要があ
ったが、それが不要になる。その結果、スペーサSの着
脱作業を容易化する。その後、遊離砥粒を含む研磨剤を
研磨布13の研磨作用面に供給しながら、研磨ヘッド1
2を研磨定盤11上で回転させ、シリコンウェーハWの
研磨面を鏡面研磨する。
とき、例えば研磨前のシリコンウェーハWの厚さ変更時
の操作、研磨後における目標厚さ変更時の操作を説明す
る。すなわち、変更後のシリコンウェーハWの厚さに合
わせ、研磨ヘッド12とプレート固定部材15との間か
ら露出したボルト16…の元部に、その不足分のスペー
サSを挿着する。もしくは余分なスペーサSを引き抜
く。こうして、テンプレート14の高さを調整する。そ
の結果、1枚のテンプレート14を使用して、シリコン
ウェーハWの厚さ(研磨前の厚さおよび研磨後の目標厚
さ)に応じた研磨を行うことができる。また、ここで
は、変更されたスペーサSの挿着枚数に合わせて、ボル
ト16…へのナット17…のねじ込み量を加減し、この
テンプレート14の高さを調整する高さ調整手段を採用
したので、テンプレート14の高さ調整が容易になり、
しかもその構造が簡単であるため、低コスト化も図れ
る。
さ変更時および研磨後の目標厚さの変更時には、それぞ
れの変更後のウェーハ厚さに合わせ、研磨ヘッドとプレ
ート固定部材との間にスペーサを抜き差ししてテンプレ
ートの高さを調整するので、単一な厚さのテンプレート
を使用し、半導体ウェーハの厚さに応じた研磨を行うこ
とができる。
手段としてボルトナット構造体を採用したので、テンプ
レートの高さを調整する際には、変更されたスペーサの
挿着枚数に合わせて、ボルトへのナットのねじ込み量を
変更すればよい。そのため、テンプレートの高さ調整が
容易化し、構造が簡単であるので、低コスト化も図れ
る。
を馬蹄形状としたので、ボルトに対するスペーサの着脱
の作業が、ナットをボルトに螺合したままでも行うこと
ができる。その結果、スペーサの着脱が容易になる。
ト式研磨装置の縦断面図である。
レスマウント式研磨装置に利用されるスペーサの拡大平
面図である。(b)は、この発明の一実施例に係るワッ
クスレスマウント式研磨装置に利用される別のスペーサ
の拡大平面図である。
ト式研磨装置の分解斜視図である。
置の縦断面図である。
Claims (4)
- 【請求項1】 環状のテンプレートの内側に半導体ウェ
ーハを収容するとともに、この半導体ウェーハと研磨ヘ
ッドとの間にバックパッドを介在させて半導体ウェーハ
を研磨するワックスレスマウント式研磨方法において、 前記研磨ヘッドに、前記テンプレートが固定されるプレ
ート固定部材を研磨ヘッドの厚さ方向へ移動自在に設
け、 前記研磨ヘッドとプレート固定部材との間にスペーサを
抜き差し可能に介在させてテンプレートの高さを調整す
るワックスレスマウント式研磨方法。 - 【請求項2】 環状のテンプレートの内側に半導体ウェ
ーハを収容するとともに、この半導体ウェーハと研磨ヘ
ッドとの間にバックパッドを介在させたワックスレスマ
ウント式研磨装置において、 前記研磨ヘッドに、前記テンプレートが固定されるプレ
ート固定部材を研磨ヘッドの厚さ方向へ移動自在に設
け、 前記研磨ヘッドとプレート固定部材との間に、スペーサ
を抜き差し可能に介在させて前記テンプレートの高さを
調整する高さ調整手段を設けたワックスレスマウント式
研磨装置。 - 【請求項3】 前記高さ調整手段が、 前記プレート固定部材に固定されたボルトと、 該ボルトに螺合され、前記プレート固定部材を研磨ヘッ
ドに締着するナットと、 前記ボルトに着脱自在に挿着されるスペーサとを有する
請求項2に記載のワックスレスマウント式研磨装置。 - 【請求項4】 前記スペーサが馬蹄形状である請求項3
に記載のワックスレスマウント式研磨装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001388170A JP4013187B2 (ja) | 2001-12-20 | 2001-12-20 | ワックスレスマウント式研磨装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001388170A JP4013187B2 (ja) | 2001-12-20 | 2001-12-20 | ワックスレスマウント式研磨装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003188127A true JP2003188127A (ja) | 2003-07-04 |
JP4013187B2 JP4013187B2 (ja) | 2007-11-28 |
Family
ID=27596774
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001388170A Expired - Fee Related JP4013187B2 (ja) | 2001-12-20 | 2001-12-20 | ワックスレスマウント式研磨装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4013187B2 (ja) |
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---|---|---|---|---|
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KR101083552B1 (ko) | 2011-08-26 | 2011-11-14 | 한상효 | 웨이퍼 연마용 리테이너 링 |
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JP6999284B2 (ja) | 2017-03-28 | 2022-01-18 | 三菱重工業株式会社 | 間隔調整装置および支持装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6394569B2 (ja) | 2015-11-06 | 2018-09-26 | 信越半導体株式会社 | ウェーハの研磨方法及び研磨装置 |
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US8647173B2 (en) | 2009-10-28 | 2014-02-11 | Siltronic Ag | Method for polishing a semiconductor wafer |
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JP6999284B2 (ja) | 2017-03-28 | 2022-01-18 | 三菱重工業株式会社 | 間隔調整装置および支持装置 |
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