JP2003172767A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JP2003172767A
JP2003172767A JP2001374643A JP2001374643A JP2003172767A JP 2003172767 A JP2003172767 A JP 2003172767A JP 2001374643 A JP2001374643 A JP 2001374643A JP 2001374643 A JP2001374643 A JP 2001374643A JP 2003172767 A JP2003172767 A JP 2003172767A
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burn
semiconductor device
internal circuit
hiz
detection circuit
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JP2001374643A
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Inventor
Takayuki Tanaka
崇之 田中
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 製造初期に発生する半導体装置25の不良品
をスクリーニングするために行うバーンイン、特にウェ
ーハレベルバーンイン中に発生する列不良を抑え、半導
体装置25の歩留まりを向上させるようにする。 【解決手段】 バーンイン中に、半導体装置25のテス
ト端子1により、内部回路2の動作をバーンイン用テス
トモードに切り替え、内部回路2のデータを通常の出力
端子3ではなくバーンイン用出力端子4に出力する。バ
ーンイン状態検知回路5は、バーンイン中に何らかの原
因で半導体装置25が破壊し、バーンイン用出力端子4
からデータが出力され続けるような状態に陥った場合
に、トライステートバッファ6を制御してバーンイン用
出力端子4をHiZにする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置のバー
ンインに関し、特にウェーハレベルバーンインを行う際
に、正常にバーンインが行われているかを自己検知する
ことのできる半導体装置に関する技術分野に属する。
【0002】
【従来の技術】従来より、半導体装置においては、製造
初期に発生する不良品をスクリーニングするために、半
導体装置を高温高電圧条件下で動作させることによって
加速試験を行うことは知られている。これをバーンイン
と呼び、一般に樹脂封止(パッケージング)された状態
の半導体装置に対して行われるもので、半導体装置を一
度に実装するためのバーンインボードと呼ばれるソケッ
トを多数備えた配線基盤を用いてこれらの半導体装置を
多数個配置し、そのバーンインボードをバーンイン炉と
呼ばれる高温槽の中に搬入し、その中で半導体装置を高
電圧で動作させてストレスを与え、欠陥が発見された初
期不良品を除外していた(パッケージバーンイン)。
【0003】近年、このバーンインをパッケージングさ
れた半導体装置ではなく、ウェーハ状態にある半導体装
置に対して行う新技術として、ウェーハレベルバーンイ
ンが行われている。ウェーハレベルバーンインでは、ウ
ェーハ上の半導体装置の全パッドを一度にコンタクトす
るための技術が非常に重要であり、さらにバーンイン時
のコンタクト状態と各半導体装置の動作状態とを把握す
ることが重要である。
【0004】従来、半導体装置のパッケージバーンイン
には大きく分けてモニターバーンインとダイナミックバ
ーンインと呼ばれるものがあり、モニターバーンインは
高温高電圧条件下で半導体装置を一定時間動作させるこ
とでストレスを与え、一定のストレスを印加する毎に製
品仕様内での電圧と出力判定レベルで検査して、欠陥が
発見された半導体装置を除外していた。また、ダイナミ
ックバーンインは高温高電圧条件下で半導体装置を一定
時間動作させることでストレスを与えるだけで、前記モ
ニターバーンインのような検査を行っていなかった。
【0005】具体的に図を用いて説明すると、図6は従
来のバーンイン装置を示し、12はパッケージングされ
た半導体装置を装着するためのデバイスソケット、13
は該デバイスソケット12を有しかつ電源及び入出力信
号が配線されたバーンインボード、14は半導体装置を
高温に保つためのバーンイン炉、15は入出力信号及び
バーンイン炉14の温度を制御する制御装置である。
【0006】試験対象のパッケージングされた多数個の
半導体装置がバーンインボード13上の格子状に配置さ
れた各デバイスソケット12に装着された後、このバー
ンインボード13はバーンイン炉14に搬入される。次
に、バーンイン炉14は前記制御装置15により所望の
温度にコントロールされ、半導体装置は制御装置15に
より電圧ストレスを印加される。ダイナミックバーンイ
ンでは、この状態を一定時間継続した後に試験を終了す
る。
【0007】一方、モニターバーンインでは、半導体装
置は制御装置15により電圧ストレスを印加されて一定
時間毎に検査が行われ、この検査のサイクルを一定回数
繰り返した後に試験を終了する。
【0008】図7はバーンインボード13の配線の例を
示し、16は電源配線、17は制御信号配線、18は出
力信号の配線である。
【0009】以下、この配線例に沿ってパッケージバー
ンインでの半導体装置の作用を説明する。各デバイスソ
ケット12に装着された半導体装置は、行方向に共通す
る電源配線16により電源を供給され、同じく行方向に
共通する制御信号配線17によって動作を制御される。
すなわち、同一行にある半導体装置は電源配線16及び
制御信号配線17により一括して電圧ストレスが与えら
れる。バーンイン中は全行の電源配線16から電源が供
給されるとともに、全行の制御信号配線17により信号
が入力され、バーンインボード13上のすべての半導体
装置にストレスが与えられる。また、モニターバーンイ
ンでは一定時間毎に前記制御信号配線17により特定の
行を選択して順番に動作確認を行い、列方向に共通する
出力信号配線18から出力された信号を判定して検査を
行う。
【0010】次に、ウェーハレベルバーンインについて
説明する。図8はウェーハレベルバーンインコンタクタ
の構成を示す。ウェーハレベルバーンインコンタクタは
上述した従来のバーンインのデバイスソケット12及び
バーンインボード13に相当する部品である。19はシ
リコンウェーハ、20はシリコンウェーハ19を固定す
るためのウェーハトレイ、21は信号及び電源パターン
が配線されたコンタクタ基盤、22はシリコンウェーハ
19とコンタクタ基盤22との導通をとるバンプ、23
はウェーハトレイ20とコンタクタ基盤22とに挟まれ
た空間Aの真空を保持するためのシールリング、24は
空間Aを真空に引くための引き口である。
【0011】前記シリコンウェーハ19は、半導体装置
のパッドのある表面側をコンタクタ基盤21によって、
また裏面側をウェーハトレイ20によってそれぞれ挟ま
れる。このとき、半導体装置のパッドにはコンタクタ基
盤21との導通をとるバンプ22が接触するようにアラ
イメントされている。この状態で真空引き口24によっ
て空間Aを減圧することにより、バンプ22とウェーハ
上の半導体装置のパッドとが互いに大気圧に押されて接
触し、コンタクタ基盤21と半導体装置のパッドとの導
通が可能になる。
【0012】前記コンタクタ基盤21には、図7で示し
たバーンインボード13の配線と同様の制御信号配線及
び電源配線がなされており、前記パッケージバーンイン
と同様の手順により各半導体装置に対して電圧ストレス
を与えて試験を行う。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前記従来の検
査方法ではいずれも、バーンイン中の印加電圧を制御装
置側から設定し、共通の電源配線及び信号配線から電源
及び信号を一括して各半導体装置に供給しているため、
バーンイン中に、共通の配線上にある各半導体装置に所
望の電圧ストレスが印加されているかどうかを判断する
ことはできないという問題があった。
【0014】また、ダイナミックバーンインでは、バー
ンイン中にモニターバーンインのような動作確認等のチ
ェックは行わないため、各半導体装置がバーンイン終了
時まで正常にコンタクトできているかどうかを確認する
ことができないという問題があった。
【0015】更にモニターバーンインであっても、何ら
かの理由により入力端子のコンタクト不良が発生して半
導体装置からの出力信号が出力され続けるような状態に
陥った場合に、通常のパッケージバーンインでは複数の
半導体装置の出力信号が共通配線上に引出されているた
め、出力信号が衝突して共通配線上にある半導体装置す
べてが不良と判断されてしまうという列不良が発生する
という問題があった。
【0016】特に、ウェーハレベルバーンインでは、パ
ッケージングされた半導体装置を個別にソケットに装着
する前記従来のパッケージバーンインと異なり、ウェー
ハそのものに対してバーンインを行っているため、前述
のように共通配線上にある半導体装置すべてが不良と判
断されてしまった場合に、不良と判断された半導体装置
だけを選んで再びバーンインすることが非常に困難であ
る。そのため、このような半導体装置は出荷することは
できず、ウェーハレベルバーンインの歩留を低下させる
という問題があった。
【0017】本発明は斯かる諸点に鑑みてなされたもの
であり、その目的とするところは、バーンイン中にバー
ンインが正常に行われているかどうかを半導体装置自身
が検知し、正常にバーンインを行えていない場合に、共
通配線上の列不良を抑え得るようにすることにある。
【0018】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、請求項1の発明では、内部回路と、この内部回路を
バーンイン用テストモードに切り替える信号を入力する
テスト端子と、バーンイン用テストモード時に前記内部
回路のデータを出力する出力端子と、バーンインの状態
を検知する検知回路と、この検知回路の出力をHiZ切
り替え信号に変換するトライステートバッファとを備え
る半導体装置を対象とする。
【0019】そして、バーンイン実施時において、前記
検知回路がバーンイン状態の異常を検知したときに、前
記トライステートバッファが出力端子をHiZ(ハイ・
インピーダンス)にするように構成する。
【0020】前記の構成によると、テスト端子によりバ
ーンインの状態を検知する検知回路を活性化させ、この
検知回路からトライステートバッファにHiZ制御信号
を出力するような回路構成をしているため、半導体装置
がバーンイン中にバーンインが正常に行われているかど
うかを自己判断し、正常でない場合に出力をHiZにす
ることで、列不良の発生を抑えることができる。
【0021】請求項2の発明では、検知回路は、バーン
イン用テストモード時に内部回路を制御する入力端子
と、この入力端子とテスト端子とのコンタクト状態を検
知するコンタクト検知回路とで構成され、バーンイン実
施時に、前記テスト端子又は入力端子のコンタクト不良
が発生したときに、トライステートバッファが出力端子
をHiZにするように構成する。
【0022】前記の構成によると、バーンイン実施中の
コンタクト不良を自己検知し、コンタクト不良を検知し
た場合に、データ出力をHiZにすることで、列不良の
発生を抑えることができる。
【0023】請求項3の発明では、検知回路は内部回路
に印加されている電圧を検知する電圧検知回路で構成さ
れ、バーンイン実施時に、前記内部回路の電圧が適当な
電圧範囲以外であるときに、トライステートバッファが
出力端子をHiZにするように構成する。
【0024】前記の構成によると、バーンイン実施中の
不正な電圧印加を自己検知し、不正な電圧印加が検知さ
れた場合に、データ出力をHiZにすることで、列不良
の発生を抑えることができる。
【0025】請求項4の発明では、検知回路は内部回路
の特定の部位に流れる電流を検知する電流検知回路で構
成され、バーンイン実施時に、内部回路の電流が適当な
電流範囲以外であるときに、トライステートバッファが
出力端子をHiZにするように構成する。
【0026】前記の構成によると、バーンイン実施中の
電流異常を自己検知し、電流異常が検知された場合に、
データ出力をHiZにすることで、列不良の発生を抑え
ることができる。
【0027】請求項5の発明では、検知回路は内部回路
の温度を検知する温度検知回路で構成され、バーンイン
実施時に、内部回路の温度が適当な温度範囲以外であれ
るときに、トライステートバッファが出力端子をHiZ
にするように構成する。
【0028】前記の構成によると、バーンイン実施中の
温度異常を自己検知し、温度異常が検知された場合に、
データ出力をHiZにすることで、列不良の発生を抑え
ることができる。
【0029】
【発明の実施の形態】(実施形態1)図1は本発明の実
施形態1に係る半導体装置25の回路構成を示したもの
である。半導体装置25は内部回路2と、この内部回路
2をバーンイン用テストモードに切り替える信号を入力
するテスト端子1と、バーンイン用テストモード以外で
使用する通常の出力端子3と、バーンイン用テストモー
ド時に前記内部回路2のデータを出力するバーンイン用
出力端子4と、バーンインの状態を検知するバーンイン
状態検知回路5と、この検知回路5の出力をHiZ切り
替え信号に変換するトライステートバッファ6とを備え
ている。尚、テスト端子1及び出力端子3,4はそれぞ
れ複数でもかまわない。
【0030】次に、前記実施形態1の作用について説明
する。尚、検査方法はパッケージバーンインあるいはウ
エハレベルバーンインのどちらでもよく、バーンイン装
置も前記従来技術の図6〜図8相当のものを用いればよ
い。また、具体的な配線方法や検査方法等については前
期従来技術と同様の部分はその詳細な説明は省略する。
【0031】前記テスト端子1からバーンイン用テスト
モードを選択する信号を入力し、このテスト端子1から
の信号を受けて、内部回路2がバーンイン用テストモー
ドに入る。バーンイン用テストモードでは、内部回路2
からの出力結果を通常の出力端子3ではなく、バーンイ
ン用出力端子4に出力する。前記バーンイン状態検知回
路5はバーンイン用テストモードになったときに活性化
し、バーンイン実施中、常にバーンインが正常に行われ
ているかをモニタリングし、バーンイン中に何らかの異
常を検知すると、正常にバーンインが行われていないと
判断し、トライステートバッファ6にHiZ信号を出力
する。このバーンイン状態検知回路5の信号を受けて、
トライステートバッファ6はバーンイン用出力端子4を
HiZにする。
【0032】このように、バーンイン中の何らかの原因
で半導体装置25が破壊し、バーンイン用出力端子4か
らデータが出力され続けるような状態に陥った場合で
も、確実に出力信号をHiZにすることができるため、
共通の出力信号配線上の他の半導体装置25のデータを
読み出す際に、データの衝突が起こらなくなり、共通の
出力信号配線上のすべての半導体装置25が不良と判断
される状態(以下、列不良という)を回避することがで
きる。
【0033】従って、本実施形態1においては、前記テ
スト端子1によりバーンイン状態検知回路5を活性化さ
せ、この検知回路5から前記トライステートバッファ6
にHiZ制御信号を出力するような回路構成をしている
ため、半導体装置25がバーンイン中に正常に行われて
いるかどうかを自己判断し、正常でない場合に、バーン
イン用出力端子4をHiZにすることで、列不良の発生
を抑えることが可能になる。
【0034】(実施形態2)図2は本発明の実施形態2
を示し(尚、以下の各実施形態では、図1と同じ部分に
ついては同じ符号を付してその詳細な説明を省略す
る)、バーンイン状態検知回路5は、内部回路2に対す
る書き込みや読み出し等の制御をするために用いる入力
端子7と、この入力端子7の信号とテスト端子1とのコ
ンタクト状態を検知することのできるコンタクト検知回
路としてのAND回路8とで構成されている。尚、入力
端子7は複数でもかまわない。
【0035】この実施形態2においては、バーンイン
中、前記AND回路8はテスト端子1及び入力端子7の
信号の論理積をとり、その結果をトライステートバッフ
ァ6に出力する。
【0036】この論理の取り方は、前記内部回路2がバ
ーンイン用テストモードを選択するようにするテスト端
子1の信号と、バーンイン用出力端子4から内部回路2
に読み出し動作を行わせる等の信号を出力させる入力端
子7の信号との組み合わせが入力されたときに活性化す
るようにする。
【0037】前記トライステートバッファ6はAND回
路8の信号を受けて、バーンイン用出力端子4のHiZ
制御を行う。すなわち、バーンイン中にテスト端子1又
は入力端子7がコンタクト不良となり、入力信号が不安
定になった場合に、AND回路8では正常にバーンイン
が行われていないと判断し、トライステートバッファ6
にHiZ信号を出力し、バーンイン用出力端子4をHi
Zにする。
【0038】このように、入力信号の組み合わせだけに
よる簡単な論理によって強制的に出力信号をHiZにす
ることで、例えばバーンイン中に発生したコンタクト不
良により内部回路2の動作モードが不安定になり、バー
ンイン出力端子4からデータが出力され続けるような状
態に陥った場合でも、確実に出力信号をHiZにするこ
とができるため、共通の出力信号配線上の他の半導体装
置25のデータを読み出す際に、データの衝突が起こら
なくなり、列不良を回避することができる。
【0039】従って、前記実施形態2では、テスト端子
1と入力端子7との信号をAND回路8に入力し、この
AND回路8からトライステートバッファ6にHiZ制
御信号を出力するような回路構成をしているため、半導
体装置25がバーンイン中に正常な入力信号が入力がさ
れているかどうかを自己検出し、コンタクト不良を検知
した場合に、バーンイン用出力端子4をHiZにするこ
とで、列不良の発生を抑えることが可能になる。
【0040】(実施形態3)図3は本発明の実施形態3
を示し、バーンイン状態検知回路5は、テスト端子1の
信号を受けて活性化し、内部回路2の所望の部位の電圧
を検知する電圧検知回路9で構成されている。
【0041】この実施形態3においては、バーンインを
行っている途中、図示しないが、電源もしくはグランド
端子のコンタクト不良や、共通電源配線上の他の半導体
装置25が電流不良を起こすことによる電圧降下が生じ
た場合、又は装置異常などにより高電圧が印加された場
合に、前記電圧検知回路9により検知された電圧が適当
な電圧範囲内でなければ、正常にバーンインが行えてい
ないと判断し、前記トライステートバッファ6に対して
HiZ信号を出力し、バーンイン用出力端子4をHiZ
にする。
【0042】このように、内部回路2に印可される電圧
により出力信号を制御することで、正常にバーンインが
行われているかどうかを判別することができるととも
に、電圧異常により内部回路2の動作モードに異常を来
たし、バーンイン用出力端子4からデータが出力され続
けるような状態に陥った場合でも、確実に出力信号をH
iZにすることができるため、共通の出力信号配線上の
他の内部回路2のデータを読み出す際に、データの衝突
が起こらなくなり、列不良を回避することができる。
【0043】従って、前記実施形態3では、内部回路2
がバーンイン用テストモードであるときに、内部回路2
の所望の部位の電圧を検知する電圧検知回路9を活性化
し、所望の電圧が印加されていなければ、トライステー
トバッファ6にHiZ制御信号を出力しバーンイン用出
力端子4をHiZにする回路構成をしているため、半導
体装置25がバーンイン中に正常な電圧が印加されてい
るかどうかを自己検出し、不正な電圧印加が検知された
場合に、バーンイン用出力端子4をHiZにすること
で、列不良の発生を抑えることが可能になる。
【0044】(実施形態4)図4は本発明の実施形態4
を示し、バーンイン状態検知回路5は、テスト端子1の
信号を受けて活性化し、内部回路2の所望の部位の電流
を検知する電流検知回路10で構成されている。
【0045】この実施形態4におけるバーンイン用テス
トモードでは、前記テスト端子1の信号を受けて電流検
知回路10が活性化する。この電流検知回路10は内部
回路2での所望の部位の電流を検知しており、バーンイ
ン中、例えばテスト端子1のコンタクトが不良になり、
入力信号が中間電位になって貫通電流が流れたり、ある
いは実際にバーンイン不良が発生して論理回路が破壊し
たりすること等により許容範囲以上の大電流を検知した
場合に、正常にバーンインが行われていない状態又は半
導体装置25が破壊された状態と判断し、トライステー
トバッファ6に対してHiZ制御信号を出力して、バー
ンイン用出力端子4の出力をHiZにする。
【0046】このように内部回路2の所定の部位に流れ
る電流により出力信号を制御することで、正常にバーン
インが行われているかどうかを判別することができると
ともに、電流異常により内部回路2の動作モードに異常
を来たし、バーンイン用出力端子4からデータが出力さ
れ続けるような状態に陥った場合でも、確実に出力信号
をHiZにすることができる。このため、共通の出力信
号配線上の他の半導体装置25のデータを読み出す際
に、データの衝突が起こらなくなり、列不良を回避する
ことができる。
【0047】従って、前記実施形態4では、内部回路2
がバーンイン用テストモードであるときに、内部回路2
での所望の部位の電流を検知する電流検知回路10を活
性化し、異常な電流を検知すれば、トライステートバッ
ファ6にHiZ制御信号を出力してバーンイン用出力端
子4をHiZにする回路構成をしているため、半導体装
置25が正常にバーンインを行えているか自己検出し、
電流異常が検知された場合に、バーンイン用出力端子4
をHiZにすることで、列不良の発生を抑えることが可
能になる。
【0048】(実施形態5)図5は本発明の実施形態5
を示し、バーンイン状態検知回路5は内部回路2の温度
を検知する温度検知回路11で構成されている。
【0049】この実施形態5におけるバーンイン用テス
トモードでは、前記テスト端子1の信号を受けて前記温
度検知回路11が活性化する。温度検知回路11は内部
回路2の温度を検知しており、バーンイン中、例えばテ
スト端子1のコンタクトが不良になり、入力信号が中間
電位になって、その信号を受けているバッファに貫通電
流が流れることで内部回路2の温度が上昇したり、実際
にバーンイン不良が発生し論理回路が破壊したりするこ
と等により許容範囲以上の大電流が発生することで温度
が上昇した場合、又はバーンイン炉の装置トラブルによ
り、炉内がバーンインに適当な温度の範囲外になった場
合に、温度検知回路11は正常にバーンインが行われて
いない状態か、又は内部回路2が破壊された状態と判断
し、トライステートバッファ6に対してHiZ制御信号
を出力して、バーンイン用出力端子4の出力をHiZに
する。
【0050】このように、内部回路2の温度より出力信
号を制御することで、正常にバーンインが行われている
かどうかを判別することができるとともに、温度異常に
より内部回路2の動作モードに異常を来たし、バーンイ
ン用出力端子4からデータが出力され続けるような状態
に陥った場合でも確実に出力信号をHiZにすることが
できるため、共通の出力信号配線上の他の半導体装置2
5のデータを読み出す際に、データの衝突が起こらなく
なり、列不良を回避することができる。
【0051】従って、内部回路2がバーンイン用テスト
モードであるときに、内部回路2の温度を検知する温度
検知回路11を活性化し、バーンイン中に異常な温度を
検知すれば、トライステートバッファ6にHiZ制御信
号を出力してバーンイン用出力端子4をHiZにする回
路構成をしているため、半導体装置25が正常にバーン
インを行えているか自己検出し、温度異常が検知された
場合に、バーンイン用出力端子4をHiZにすること
で、列不良の発生を抑えることが可能になる。
【0052】
【発明の効果】以上の如く、本発明によると、半導体装
置に入力端子のコンタクト状態、印加電圧、内部回路に
流れる電流又は内部回路の温度の不良を自己検知できる
回路を搭載したことにより、バーンイン中に、正常にバ
ーンインが実施されているかどうかを自己検知し、列不
良による歩留まり低下を抑制できる優れた半導体装置を
実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態1に係る半導体装置の回路構
成図である。
【図2】実施形態2を示す図1相当図である。
【図3】実施形態3を示す図1相当図である。
【図4】実施形態4を示す図1相当図である。
【図5】実施形態5を示す図1相当図である。
【図6】従来のバーンイン装置の構成を示す図である。
【図7】バーンインボードの配線例を示した図である。
【図8】ウェーハレベルバーンインコンタクタの構成を
示した図である。
【符号の説明】
1 テスト端子 2 内部回路 3 通常の出力端子 4 バーンイン用出力端子 5 バーンイン状態検知回路 6 トライステートバッファ 7 入力端子 8 AND回路 9 電圧検知回路 10 電流検知回路 11 温度検知回路 25 半導体装置
フロントページの続き Fターム(参考) 2G003 AA10 AC01 AD02 AD07 AF06 AH06 2G132 AA00 AB03 AB14 AD01 AD18 AE16 AE22 AF01 AG01 AK15 AK29 AL04 AL11 4M106 AA01 AA04 AC13 BA01 CA56 DD11

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 内部回路と、前記内部回路をバーンイン
    用テストモードに切り替える信号を入力するテスト端子
    と、 前記バーンイン用テストモード時に前記内部回路のデー
    タを出力する出力端子と、 バーンインの状態を検知する検知回路と、 前記検知回路の出力をHiZ切り替え信号に変換するト
    ライステートバッファとを備える半導体装置であって、 バーンイン実施時において、前記検知回路がバーンイン
    状態の異常を検知したときに、前記トライステートバッ
    ファが出力端子をHiZにするように構成されているこ
    とを特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 請求項1の半導体装置において、 検知回路は、バーンイン用テストモード時に内部回路を
    制御する入力端子と、 前記入力端子とテスト端子とのコンタクト状態を検知す
    るコンタクト検知回路とで構成され、 バーンイン実施時に、前記テスト端子又は入力端子のコ
    ンタクト不良が発生したときに、トライステートバッフ
    ァが出力端子をHiZにするように構成されていること
    を特徴とする半導体装置。
  3. 【請求項3】 請求項1の半導体装置において、 検知回路は内部回路に印加されている電圧を検知する電
    圧検知回路で構成され、 バーンイン実施時に、前記内部回路の電圧が適当な電圧
    範囲以外であるときに、トライステートバッファが出力
    端子をHiZにするように構成されていることを特徴と
    する半導体装置。
  4. 【請求項4】 請求項1の半導体装置において、 検知回路は内部回路の特定の部位に流れる電流を検知す
    る電流検知回路で構成され、 バーンイン実施時に、内部回路の電流が適当な電流範囲
    以外であるときに、トライステートバッファが出力端子
    をHiZにするように構成されていることを特徴とする
    半導体装置。
  5. 【請求項5】 請求項1の半導体装置において、 検知回路は内部回路の温度を検知する温度検知回路で構
    成され、 バーンイン実施時に、内部回路の温度が適当な温度範囲
    以外であるときに、トライステートバッファが出力端子
    をHiZにするように構成されていることを特徴とする
    半導体装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2009053130A (ja) * 2007-08-29 2009-03-12 Nec Electronics Corp 半導体装置
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