JP2003168674A - 基板のディッピング式連続液処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板がディッピングされる槽からの液の流出
を最小限に抑制する。 【解決手段】 処理液を貯留した液処理槽２の前後の端
壁２Ｆ，２Ｒに搬入側，搬出側の開口８，９が形成さ
れ、基板搬送手段５を構成するローラ６により基板１を
搬入側開口８から液処理槽２内に導入して処理液に浸漬
させ、搬出側の開口９から排出させるが、液面レベルＬ
はこれら各開口８，９より高い位置にあり、流出する処
理液分を補給用タンク４から補給するが、この処理液の
補給量を現象させるために、端壁２Ｒには仕切り壁１５
を設けることにより流出量制限チャンバ１４が形成さ
れ、最も端壁２Ｒに近い位置のローラを搬出部ローラ６
Ｒとしてその上部位置にゲートローラ１６を設けて、こ
のゲートローラ１６と搬出部ローラ６Ｒとの両端にはフ
ランジ１７，１８が設けられて、これら両フランジ１
７，１８が当接しており、かつその中間部には基板１が
通過できるように、基板１の厚みと同じか、またはそれ
より僅かに大きい隙間からなるスリット状通路１７が形
成されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶パネルを構成
する透明基板等、表面に所定のパターンが形成される基
板を液処理槽内でディッピングによる液処理を行うに当
って、この液処理を連続的に行えるようにした基板のデ
ィッピング式連続液処理装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】例えば、液晶パネルを構成するＴＦＴ基
板にはマトリックス状にＴＦＴ素子が形成されるが、こ
のために成膜、現像、エッチング等の工程が繰り返し行
なわれる。エッチング及びフォトレジスト膜の剥離等の
処理は、基板を薬液にある時間浸漬させるようにして行
なわれる。このために、処理液を貯留したディッピング
槽内に基板を浸漬させるが、この処理を連続的に行う方
式が、例えば実開平５―２５７２０号公報等に開示され
ている。

【０００３】即ち、処理槽を内槽と外槽との２重の槽で
構成される。内槽の内部を含む位置に、所定のピッチ間
隔をもってローラ式のコンベアを配設すると共に、内槽
の前後の端壁に基板を通過させる細いスリット状の開口
が形成される。基板はコンベアに搬送されて内槽に送り
込まれて、処理液に浸漬される。従って、コンベアの搬
送面は内槽の液面より低い位置としなければならず、槽
内の液面はこれらの開口より高い位置に保持される。こ
のために、内槽の開口からは常時処理液が流出すること
になる。２重の槽のうち、外槽は内槽から流出する処理
液の受け部として機能する。また、内槽の液面低下を防
止するために、処理液補給タンクを備えている。そし
て、内槽から流出する処理液を外槽から処理液補給タン
クを介して内槽に還流させるように処理液を循環させる
ために、外槽から補給用タンクに処理液を流入させる流
出配管と、補給用タンクから内槽に処理液を還流させる
還流配管とが設けられており、還流配管には処理液を汲
み上げるためのポンプが設けられている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、ローラコン
ベアは、それを構成するローラの上面に基板を載置し
て、ローラの回転により基板を搬送するものであり、搬
送中に振動が生じるのを防止できない。特に、液処理槽
内では基板が処理液内に完全に浸漬されて浮力が作用す
る状態となり、かつ処理液を循環させることから、液処
理槽内では処理液は常に流動状態となり、基板が極めて
不安定になる。このように、基板が槽内での位置や姿勢
を制御できないことから、基板を確実に搬入側及び搬出
側の開口を通過させるために、これらの開口部は、特に
搬出側の開口部は、基板の厚み寸法と比較してかなり広
くしなければならない。このように広い開口を形成する
と、当然、処理液の流出量が多くなる。しかも、内槽は
常に一定の液面レベルを保持させなければならないか
ら、流出による液面変動分を十分カバーするには、処理
液補給タンクに多量の処理液を貯留しなければならず、
このために大型のタンクを用いる必要があり、また流出
量に見合った量の処理液を常時内槽に補給する必要があ
るので、ポンプの吐出容量を大きくする必要もある。こ
のために、装置全体が大型化、複雑化する等の問題点が
ある。

【０００５】また、基板に対する処理を促進するため等
の観点から、内槽の内部の処理液は加温状態とするのが
一般的である。従って、処理精度にばらつきが生じない
ようにするためには、処理液の温度管理を厳格に行なわ
なければならない。処理液の温度管理を行うに当って、
内槽から多量の処理液が流出し、この流出分の処理液を
補給するようにした場合、内槽の内部温度が大きく変化
することになり、正確な温度管理を行うのは困難になる
等といった問題点もある。

【０００６】本発明は以上の点に鑑みてなされたもので
あって、その目的とするところは、基板がディッピング
される槽からの液の流出を最小限に抑制できるようにす
ることにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ために、本発明は、処理液を貯留した液処理槽に、その
内部を通る基板搬送手段を設けると共に、その前後の端
壁には、貯留処理液の液面下を含む位置に基板通過用の
開口を形成し、前記基板搬送手段に搬送される基板は搬
入側の開口から導入され、前記液処理槽内で処理液に浸
漬させて、搬出側の開口から排出するようになし、これ
ら各開口から流出する処理液分を処理液補給手段で補給
することにより前記液処理槽内の液面レベルを一定に保
つようにした基板の液処理装置であって、前記基板搬送
手段は、所定のピッチ間隔を置いて配設したローラを回
転駆動することにより前記基板を搬送するようにしたロ
ーラコンベアで構成し、前記液処理槽の基板搬出側の端
部乃至それに近接した位置に設けたローラはその両端に
フランジが形成された搬出部ローラとなし、前記搬出部
ローラの上部位置に、前記フランジと当接し、この搬出
部ローラの回転により回転駆動されるゲートローラを設
置し、この搬出部ローラとゲートローラとの間に前記基
板が、このゲートローラに対して非接触状態で通過可能
なスリット状通路を形成する構成としたことをその特徴
とするものである。

【０００８】液処理槽の内部で基板の位置や姿勢の安定
化を図るために、この基板の進行方向を規制するための
ガイド部材等を設けると、処理にむらが生じる等の問題
点がある。しかしながら、液処理槽の搬出側の端壁に至
ると基板に対する液処理が完了していることになる。そ
こで、この位置にゲートを形成して基板を確実に搬出側
の開口に指向させるようにした。これによって、開口の
寸法を小さくすることができる。しかも、不安定な状態
となっている基板が確実にゲートを通過できるようにす
るために、搬出側の開口に近接した位置に配置されてい
る搬出部ローラを利用し、この搬出部ローラの上部に基
板が通過可能な間隔、つまりスリット状通路を隔ててゲ
ートローラを配置し、このゲートローラを搬出部ローラ
に追従回転させるように構成した。これによって、基板
がゲートの位置に至ると、上下で回転するローラ間のス
リット状通路内に確実に導かれる。

【０００９】例えば、ＴＦＴ基板等においては、その一
面側にパターンが形成されている等のために、このパタ
ーン形成面を上に向けて、反対面側をローラコンベアに
より搬送させる。従って、液処理の開始から終了まで、
基板のパターン形成面を保護するために、何等の部材に
も接触させないように保持しなければならない。搬出部
ローラとゲートローラとの間のスリット状通路の間隔は
基板の厚みより大きくなっているので、基板が搬出部ロ
ーラに当接している限りは、そのパターン形成面をゲー
トローラに接触させずに通過させることができる。そこ
で、基板に作用する浮力を抑制してより確実に直進させ
るためには、押え部材を設けて、基板を確実にローラに
当接させた状態で搬送させる。基板の表面にパターン等
が形成されるにしろ、その全面に及ぶのではなく、周囲
に多少の余白部分を持たせるようにする。そこで、押え
部材は基板の表面における搬送方向の左右両側の余白部
分に当接させることによって、パターン等が形成されて
いる部位を保護し、かつ基板を確実にローラコンベアに
当接させ、その搬送の直進性を確保することによって、
確実にゲートローラに対しては非接触状態でスリット状
通路を通過させることができる。ただし、例えば基板の
比重が大きい等、基板を安定した状態で搬送できる場合
には、必ずしも押え部材を設けなくても良い。

【００１０】スリット状通路は、基板の厚み寸法よりも
大きくする必要があるが、この寸法差はできるだけ小さ
くする方が、液の流出量を少なくできる。このスリット
状通路を狭くすると、基板の先端が進入する直前におい
て、基板の先端が僅かに傾いていると、ゲートローラと
接触することがある。液処理槽の内部側からスリット状
通路を通過する方向に処理液が流れることから、また基
板はこの液の流れ方向に進行することから、基板の先端
エッジがゲートローラに接触しても、完全にスリット状
通路内に入り込んでしまえば、基板表面とゲートローラ
との間に液膜が介在する状態となって、その間が非接触
状態となる。従って、基板がスリット状通路に進入する
際に、ゲートローラに当接しても、このゲートローラが
持ち上がるように変位できれば、基板は確実にスリット
状通路に進入させることができ、しかもその上面はゲー
トローラに対して非接触状態で通過することになる。こ
の基板の進入開始時のために、ゲートローラは搬出部ロ
ーラに対して近接・離間する方向に移動可能な構成とす
るのが望ましい。

【００１１】以上のように構成することによって、基板
が通過する開口、特に搬出側の開口を小さくすることが
できる。また、基板の搬出側の開口を格別小さくしなく
ても、槽内に小さいチャンバを形成して、液処理槽の内
部からこのチャンバへの処理液の流入量を少なくすると
いう構成を採用することによっても処理液の流出量を少
なくできる。このためには、搬出部ローラの下部位置に
仕切り壁を設けることにより流出量制限チャンバとな
し、仕切り壁を搬出側の開口が設けられている液処理槽
の端壁に固定し、かつスリット状通路以外からこの流出
量制限チャンバ内に処理液が流れ込むのを極力抑制する
ために、搬出部ローラと仕切り壁との隙間を最小限にす
る。

【００１２】ここで、液処理槽には搬入側の開口も設け
られているので、搬入部ローラにもスリット状通路を形
成するためのゲートローラを装着することができる。ま
た、これと共に仕切り壁を設けて、搬入側にも液処理槽
からの処理液の流出量制限チャンバを形成しても良い。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて本発明の実
施の一形態について説明する。まず、図１に基板のディ
ッピング式連続液処理装置の全体構成を示す。また、図
２は図１の平面図である。これらの図において、１は液
処理が行われる基板を示し、この基板１は四角形，円形
等であって平板状の薄板からなるものである。２は液処
理槽、３は液処理槽２から流出する処理液を受け入れる
受け槽、４は処理液の補給用タンクをそれぞれ示す。ま
た、５は基板搬送手段を示し、この基板搬送手段５は所
定のピッチ間隔をもって配設したローラ６を有するもの
である。各ローラ６の回転により基板１は図１の矢印で
示した方向に搬送される。このために、ローラ６の回転
軸にはプーリ６ａが連結して設けられており、これら各
プーリ６ａにはモータ等の駆動手段で駆動されるベル
ト、チェーン等の動力伝達手段（いずれも図示せず）が
接続されて、全てのローラ６が同一方向に同一速度で回
転駆動されることになる。

【００１４】また、液処理槽２内に配設された複数のロ
ーラ６のうち、後述する搬出部ローラ６Ｒを除く各ロー
ラ６の上部位置には、基板１の浮き上がりを防止するた
めの基板押え部材７が設けられている。この基板押え部
材７は、回転軸７ａに装着した一対の押えローラ７ｂ，
７ｂから構成され、押えローラ７ｂは基板１の上面に対
して、その左右両側部近傍に当接するようになってい
る。ここで、基板１は、その上面に対して所定の処理を
行うものであるが、その左右の両側部には処理を必要と
しない余白部があり、押えローラ７ｂはこの余白部に当
接する。そして、押えローラ７ｂはローラ６と同期して
回転するようになっており、このために押えローラ７ｂ
はローラ６と同じ駆動源により回転駆動されるようにす
るか、若しくは独立の駆動手段により駆動させる場合に
は、ローラ６の駆動手段と同期させる。なお、基板押え
部材７は必ずしも全てのローラ６の上部に設けるのでは
なく、間欠的に設けるようにしても良い。また、基板押
え部材７は液処理槽２の前後の位置に配置されているロ
ーラ６にも装着するのが望ましい。

【００１５】液処理槽２には基板１の処理液、例えばエ
ッチング液、レジスト膜の剥離液等の処理液が貯留され
ている。ここで、基板１はその両面に前述したような液
処理が施されるのではなく、その一面側にのみ液処理を
行うものである。従って、ローラ６に対する接触面は液
処理が施される面とは反対側の面とする。つまり、液処
理が行われる面を上向きにして搬送させ、かつこの面に
は何等の部材とも接触させないようにして搬送させる。

【００１６】液処理槽２内における処理液の液面はレベ
ルＬに保持される。液処理槽２を構成する前後の端壁２
Ｆ，２Ｒには、基板１を通過させる搬入用開口８及び搬
出用開口９がそれぞれ形成されている。これら搬入用開
口８，搬出用開口９の開設位置は液処理槽２内における
処理液の液面レベルＬより低い位置となっている。従っ
て、ローラ６により搬送される基板１は、受け槽３の上
部を通り、搬入用開口８から液処理槽２内に導入され
て、この液処理槽２内を処理液に浸漬させた状態で搬送
する間に液処理がなされる。その後、基板１は搬出用開
口９から送り出されて次の工程に移行する。基板搬送手
段５により搬送される基板１は、液処理槽２の液面レベ
ルＬより下の位置、つまりその上側を向いた面も液面下
を通過するので、この間に基板１が処理液に完全に浸漬
される結果、エッチングやレジスト剥離等の液処理が行
われる。そして、基板搬送手段５のうち、液処理槽２内
において、搬入用開口８及び搬出用開口９の近傍位置の
ローラは、それぞれ符号６Ｆ，６Ｒで示されている。

【００１７】液処理槽２における搬入用，搬出用の各開
口８，９から処理液が流出する。この処理液は受け槽３
内に流入するが、このために受け槽３と補給用タンク４
との間に流出配管１１が接続されている。また、補給用
タンク４と液処理槽２との間には還流配管１２が接続さ
れており、この還流配管１２には汲み上げポンプ１３が
接続されている。従って、還流配管１２と汲み上げポン
プ１３とにより処理液補給手段が構成され、またこれら
と受け槽３及び流出配管１１とにより処理液の循環機構
が構成される。このように構成することによって、液処
理槽２の内部から開口８，９を介して流出した分の処理
液は補給用タンク４から補給されて、液処理槽２の液面
を常に一定のレベルＬに保持される。

【００１８】液面レベルＬを一定に保つには、補給用タ
ンク４から還流配管１２を介して液処理槽２に補給され
る処理液の量を液処理槽２から流出する処理液の量と一
致させる必要がある。その上で、液処理槽２に補給する
処理液の量を低減するためには、液処理槽２からの流出
流量を低減させなければならない。

【００１９】処理液の流出量を低減するには、基板１の
搬入用及び搬出用の開口８，９の開口面積を小さくすれ
ばよい。一方、基板１がこれらの開口８，９を確実に通
過できなければならない。ここで、搬入側の開口８では
基板１は外部から搬入されるので、基板搬送手段５によ
る基板１の搬送姿勢は比較的安定している。従って、あ
る程度は開口８を絞ることも不可能ではない。これに対
して，搬出側では、循環等により動いている処理液に浸
漬されている基板１の姿勢状態の安定性が著しく欠ける
ことになる。このために、開口９をあまり小さくする
と、基板１が通過することができないことがある。

【００２０】開口９の寸法の大小に拘らず、この開口９
から流出する処理液の量を低減するために、液処理槽２
の内部には、搬出側の開口９を設けた端部位置に流出量
制限チャンバ１４を形成するようにしている。流出量制
限チャンバ１４は、液処理槽２の端壁２Ｒに近接した位
置において、断面がＬ字形状となった仕切り壁１５を端
壁２Ｒに固着することにより構成される。そして、搬出
用開口９は、この流出量制限チャンバ１４内に開口して
いる。

【００２１】図３及び図４には、搬出用開口９の内側に
形成した流出量制限チャンバ１４の構成が示されてい
る。これらの図から明らかなように、仕切り壁１５の水
平部１５Ａは、その端部が端壁２Ｒに固着され、両側の
側部は側壁２Ｓ，２Ｓに固着されている。また、仕切り
壁１５の鉛直部１５Ｂの先端部は搬出部ローラ６Ｒに近
接する位置にまで延在されて、搬出部ローラ６Ｒの回転
に支障を来さない範囲でその間の隙間を最小限のものと
している。ところで、液処理槽２内の液面レベルＬは搬
出部ローラ６Ｒの上部位置にある。即ち、搬出部ローラ
６Ｒは処理液内に埋没している。そこで、搬出部ローラ
６Ｒ上にゲートローラ１６が配置されており、このゲー
トローラ１６は、搬出部ローラ６Ｒと共に流出量制限チ
ャンバ１４の壁部を構成しており、かつ搬出部ローラ６
Ｒとゲートローラ１６とによって、基板１が液処理槽２
の内部から流出量制限チャンバ１４に移行する際のゲー
トを構成している。そして、搬出部ローラ６Ｒとゲート
ローラ１６との間には、基板１が通過可能なスリット状
通路１７が形成されている。このスリット状通路１７を
形成するために、搬出部ローラ６Ｒ及びゲートローラ１
６の少なくとも一方、好ましくは双方の両端部にフラン
ジ１８，１９がそれぞれ形成されている。従って、搬出
部ローラ６Ｒとゲートローラ１６とは両端のフランジ１
８，１９が当接しており、その中間部にスリット状通路
１７が形成される。

【００２２】搬出部ローラ６Ｒの回転軸は液処理槽２に
おける左右の側壁２Ｓ，２Ｓに形成した凹部２０に固定
して設けた軸受２１に回転自在に支承されている。ま
た、ゲートローラ１６の回転軸は軸受２１の上部を構成
する軸保持部２２に回転自在であり、かつ上下方向に移
動可能であり、しかも前後方向には動かないようにして
装着されている。従って、ゲートローラ１６は搬出部ロ
ーラ６Ｒに対して自重で当接しており、この搬出部ロー
ラ６Ｒが図３において矢印方向に回転すると、ゲートロ
ーラ１６も矢印方向に回転することになる。なお、図中
において、２３は液処理槽２内に設けた堰き止め板であ
り、液処理槽２に接続されている還流配管１２から処理
液が流入する際に生じる内部の液の乱れが搬出側に及ぶ
のを規制するためのものである。

【００２３】ところで、液処理槽２の内部から流出量制
限チャンバ１５内に流れる処理液の流路は、図３から明
らかなように、実質的に搬出部ローラ６Ｒと仕切り壁１
５の鉛直部１５Ｂとの間の隙間からなる間隔Ｄ１と、搬
出部ローラ６Ｒとゲートローラ１６との間に形成したス
リット状通路１７を構成する間隔Ｄ２との合計の寸法と
なる。搬出部ローラ６Ｒと仕切り壁１５との間の間隔Ｄ
１は、搬出部ローラ６Ｒの回転に支障を来さないことを
条件として、できるだけ間隔を狭くするようにしてい
る。一方、スリット状通路１７は基板１を通過させる通
路であるから、その間隔Ｄ２は、当然、基板１の厚み寸
法より大きくなっていなければならない。ただし、この
間隔Ｄ２をあまり大きくすると、処理液の流出量が増大
することになる。そこで、間隔Ｄ２は、基板１を搬出部
ローラ６Ｒに当接させた時に、その上面がゲートローラ
１６に対して非接触状態であり、つまりその間に確実に
液膜が介在する状態を確保できることを条件として可及
的に狭くする。

【００２４】以上のように構成することによって、基板
１は基板搬送手段５を構成するローラ６上に当接し、こ
のローラ６が回転することによって、液処理槽２に送り
込まれ、この液処理槽２における液面下を通過する間
に、所定の液処理、つまりディッピング処理が行われ
る。基板１は、液処理槽２の手前位置までは重力の作用
によりローラ６に当接しているので、スリップ等が生じ
ることなく、確実に搬送され、またその位置や姿勢が乱
れるようなく、またこの位置のローラ６には基板押え部
材７が装着されているので、より正確に直進性が保持さ
れる。従って、狭い開口８を通って確実に液処理槽２内
に導かれる。基板１が液処理槽２内に入り込むと、この
基板１に対して浮力が作用することになる。また、液処
理槽２内では、基板１はローラ６と、その上部に配置し
た基板押え部材７の押えローラ７ｂとにより挾持されて
いる。従って、たとえ基板１の比重が小さいものであっ
ても、基板搬送手段５により十分な搬送力を作用させる
ことができ、しかも処理液内で安定した姿勢を保持する
ことができ、基板１が浮き上がってその表面が外部に露
出する等のおそれはない。このようにして液処理槽２内
で処理液に浸漬させることにより液処理が行われた基板
１は搬出部ローラ６Ｒとゲートローラ１６との間のスリ
ット状通路１７を通って液処理槽２から導出されること
になる。

【００２５】ここで、スリット状通路１７の間隔Ｄ２は
最小限にまで狭くなっているので、このスリット状通路
１７内に基板１を確実に挿入させることができ、しかも
基板１の表面をゲートローラ１６に対して非接触状態で
スリット状通路１７を通過させなければならない。

【００２６】まず、基板１の先端部からスリット状通路
１７への進入が開始する。基板１はローラ６と押えロー
ラ７ｂとによって直進性を持たせているが、スリット状
通路１７を構成する搬出部ローラ６Ｒとその手前位置の
ローラ６との間には間隔があることから、浮力の作用で
僅かではあるが、基板１の先端部が浮き上がることもあ
る。しかしながら、ゲートローラ１６は搬出部ローラ６
Ｒに対して上下方向に変位可能となっているので、たと
え基板１の先端部がゲートローラ１６に接触したとして
も、このゲートローラ１６が搬出部ローラ６Ｒから離間
する方向に変位することから、スリット状通路１８内に
確実に導かれる。そして、基板１の先端部には余白部分
が存在することから、この先端部ゲートローラ１６に接
触したとしても、液処理に悪影響を及ぼすことはない。

【００２７】そして、搬出部ローラ６Ｒ及びゲートロー
ラ１６は処理液槽２の内部で回転しており、この回転に
より処理液が基板１の搬送方向の前方に引き込まれるよ
うになり、しかも処理液槽２内では処理液がこの方向へ
の流れを形成している。また基板１には浮力が作用する
ものの、少なくとも処理液の比重より大きいので、基板
１がスリット状通路１８内に進入した後は、前述した処
理液の流れの作用によって、搬出部ローラ６Ｒ側に押し
付けられ、基板１の表面とゲートローラ１６との間を処
理液が流れるようになる。従って、スリット状通路１８
の間隔Ｄ２を基板１の厚み寸法より僅かに大きくしただ
けであっても、基板１の表面はゲートローラ１６に対し
て非接触状態、つまりその間に少なくとも処理液の液膜
が介在した状態で進行する。

【００２８】基板１が搬出部ローラ６Ｒの直前に位置す
るローラ６から離脱する前の段階で処理液槽２の直後に
位置するローラ６による搬送力が及ぶようになり、しか
もこのローラ６には押えローラ７ｂが対面しているの
で、基板１の先端部分はこれらローラ６と押えローラ７
ｂとの間に挾持されることから、その搬送における直進
性が確保される。従って、基板１がスリット状通路１８
を抜けるまで、その表面はゲートローラ１６とは非接触
状態に保たれる。

【００２９】以上のことから、搬出部ローラ６Ｒと仕切
り壁１５との間の隙間からなる間隔Ｄ１と、搬出部ロー
ラ６Ｒとゲートローラ１６との間のスリット状通路１７
からなる間隔Ｄ２との合計の面積、つまりＤ１＋Ｄ２か
らなる開口面積を搬出用開口９より大幅に小さくするこ
とができる。その結果、流出量制限チャンバ１５内の液
面はほぼ搬出用開口９の下端位置となり、かつこの流出
量制限チャンバ１５から流出する処理液の量は極少量に
抑制される。従って、この流出量制限チャンバ１５から
受け槽３に流出した処理液の分量を補給用タンク４に補
給すれば良いことになり、補給量を著しく低減すること
ができる。このために、補給用タンク４を小型化できる
と共に、汲み上げポンプ１３も小型のものを使用でき
る。しかも、液処理槽２内における処理液の循環量が少
なくなるので、この液処理槽２内の温度管理も厳格に行
えるようになる。

【００３０】なお、液処理槽２内において、液面レベル
がＬとなるのは搬出部ローラ６Ｒの手前位置までであ
り、液処理槽２内に形成した流出量制限チャンバ１４内
では液面レベルが低下しており、スリット状通路１７を
通過した基板１は、この流出量制限チャンバ１４内では
実質的に液処理が行われないことになる。つまり、基板
１に対する液処理は、液処理槽２の端壁２Ｆに形成した
搬入用開口８の位置を通過した時から開始され、スリッ
ト状通路１７に至るまで継続することになり、機能的に
は流出量制限チャンバ１４は液処理槽２の外部に位置す
るものである。従って、搬出部ローラ６Ｒはできるでけ
液処理槽２の端壁２Ｒに近接した位置に配置し、流出量
制限チャンバ１４の容積を小さくするのが望ましい。ま
た、基板１の搬出側のゲートを構成する搬出部ローラ６
Ｒとゲートローラ１６とは処理槽２の端壁２Ｒに直接装
着することもできる。この場合には、流出量制限チャン
バ１４は設けられない。また、液処理槽２には搬入側開
口８も設けられており、この搬入側では基板搬送手段５
によって基板１はほぼ直進状態に搬送されるので、この
搬入側開口８はあまり大きく開口させる必要はないが、
この搬入側にも搬出側と同様のゲートを設けることもで
きる。

【００３１】

【発明の効果】本発明は前述のように構成したので、基
板がディッピングされる槽からの液の流出を最小限に抑
制できる等の効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の一形態を示す基板のディッピン
グ式連続液処理装置の概略構成を示す縦断面図である。

【図２】図２の平面図である。

【図３】図１の要部拡大図である。

【図４】図３のＸ−Ｘ断面図である。

【符号の説明】

１ 基板 ２ 液処理槽 ２Ｆ，２Ｒ 端壁 ３ 受け槽 ４ 補助タンク ５ 基板搬送手段 ６，６Ｆ，６Ｒ ローラ ７ 基板押え部材 ７ｂ 押えローラ ８ 搬入用開口 ９ 搬出用開口 １１ 流出配管 １２ 還流配管 １３ 汲み上げポンプ １４ 流出量制限チャンバ １５ 仕切り壁 １６ ゲートローラ １７ スリット状通路 １８，１９ フランジ

フロントページの続き (72)発明者 安池 良友 東京都渋谷区東３丁目16番３号 日立電子 エンジニアリング株式会社内 (72)発明者 油田 国夫 東京都渋谷区東３丁目16番３号 日立電子 エンジニアリング株式会社内 Ｆターム(参考） 2H088 FA17 FA18 FA30 HA08 MA16 MA20 4F040 AA02 AA14 AB13 AC02 BA48 CC01 CC08 CC19 5F043 AA40 DD23 DD30 EE11 EE28 EE36 GG10

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 処理液を貯留した液処理槽に、その内部
   を通る基板搬送手段を設けると共に、その前後の端壁に
   は、貯留処理液の液面下を含む位置に基板を通過させる
   搬入側，搬出側の開口を形成し、前記基板搬送手段に搬
   送される基板が搬入側の開口から前記液処理槽内に導入
   されて処理液に浸漬され、搬出側の開口から排出される
   ようになし、前記各開口から流出する処理液分を処理液
   補給手段で補給することにより前記液処理槽内の液面レ
   ベルを一定に保つようにした基板の液処理装置におい
   て、 前記基板搬送手段は、所定のピッチ間隔を置いて配設し
   たローラを回転駆動することにより前記基板を搬送する
   ローラコンベアで構成し、 前記液処理槽の基板搬出側の端部乃至それに近接した位
   置に設けたローラはその両端にフランジが形成された搬
   出部ローラとなし、 前記搬出部ローラの上部位置に、前記フランジと当接
   し、この搬出部ローラの回転により回転駆動されるゲー
   トローラを設置し、この搬出部ローラとゲートローラと
   の間に前記基板が、このゲートローラに対して非接触状
   態で通過可能なスリット状通路を形成する構成としたこ
   とを特徴とする基板のディッピング式連続液処理装置。
2. 【請求項２】 前記ローラコンベアを構成する各ローラ
   のうち、前記ゲートローラが設けられるローラ以外のロ
   ーラの上部に、前記基板の浮き上がりを規制するため
   に、この基板の左右の両側部近傍と対面する位置に押え
   部材を配置する構成としたことを特徴とする請求項１記
   載の基板のディッピング式連続液処理装置。
3. 【請求項３】 前記押え部材は、前記基板の左右の両側
   部近傍に当接する押えローラで構成したことを特徴とす
   る請求項２記載の基板のディッピング式連続液処理装
   置。
4. 【請求項４】 前記ゲートローラは、前記搬出部ローラ
   に対して近接・離間する方向に移動可能に設置する構成
   としたことを特徴とする請求項１記載の基板のディッピ
   ング式連続液処理装置。
5. 【請求項５】 前記搬出部ローラの下部位置に仕切り壁
   を設け、この仕切り壁を前記搬出側の開口が設けられて
   いる前記液処理槽の端壁に固定するようになし、この仕
   切り壁と前記搬出部ローラ及びゲートローラとにより前
   記液処理槽内に流出量制限チャンバを形成する構成とし
   たことを特徴とする請求項１記載の基板のディッピング
   式連続液処理装置。
6. 【請求項６】 前記液処理槽の搬入側の開口に近接した
   位置に配置した搬入部ローラの上部位置にも前記ゲート
   ローラを設ける構成としたことを特徴とする請求項１記
   載の基板のディッピング式連続液処理装置。
7. 【請求項７】 前記搬入部ローラの下部位置には仕切り
   壁を設け、この仕切り壁は前記搬入側の開口が設けられ
   ている前記液処理槽の端壁に固定するようになし、この
   仕切り壁と前記搬入部ローラ及びゲートローラとにより
   前記液処理槽内に流出量制限チャンバを形成する構成と
   したことを特徴とする請求項６記載の基板のディッピン
   グ式連続液処理装置。