JP2003157513A - 記録ヘッド整列のための光学センサー - Google Patents

記録ヘッド整列のための光学センサー

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JP2003157513A
JP2003157513A JP2002324321A JP2002324321A JP2003157513A JP 2003157513 A JP2003157513 A JP 2003157513A JP 2002324321 A JP2002324321 A JP 2002324321A JP 2002324321 A JP2002324321 A JP 2002324321A JP 2003157513 A JP2003157513 A JP 2003157513A
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recording
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JP2002324321A
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English (en)
Inventor
Vijay K Basra
ヴィジェイ・ケイ・バスラ
Leo Guglielmo
レオ・ガグリエルモ
George Bellesis
ジョージ・ベルシス
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Quantum Corp
Original Assignee
Quantum Corp
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/48Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
    • G11B5/58Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
    • G11B5/584Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following for track following on tapes

Abstract

(57)【要約】 【課題】 記録ヘッドとデータトラックとの不整列を防
止する。 【解決手段】 磁気記録テープシステムの読み書きアッ
センブリ14の光学サーボシステム22に対して記録ヘ
ッド20を位置決めする技術は、記録ヘッド20上の記
録チャンネルの選択された一つに対する第1の位置で光
学サーボシステム22の光学センサー37を位置決め
し、記録ヘッド上の整列ターゲット38を使用して、選
択された記録チャンネルに対する第2の位置で光学セン
サー37を位置決めする、各工程を含む。磁気記録シス
テムの読み書きアッセンブリの記録ヘッドは、ウェハ上
に製作された記録チャンネルと、記録チャンネルの、第
1の読み書きエレメントと、第2の読み書きエレメント
との間でウェハに付着された整列ターゲットとを含み、
該整列ターゲットは光学反射信号を生成するように製作
される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気テープ記録シ
ステムにおける磁気記録ヘッド整列のための光学センサ
ーに関する。
【0002】
【従来技術】データ記録及び検索の性能を向上させるた
め、多数の磁気テープ記録システムは、多数の直線デー
タトラックを所定幅のテープ媒体上で達成することがで
きるように、幅狭の記録ギャップ及びトラック幅を備え
たマルチヘッドのマルチチャンネルの固定ヘッド構造を
利用する。テープ媒体は、より薄く作られ、小さな直径
のパッケージ内でテープ長さを増大させてもいる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ヘッド位置決め光学サ
ーボシステムは、選択されたデータトラックの上方に磁
気テープシステムの記録ヘッドを位置決めするために用
いられている。これらのシステムは、レーザー案内磁気
記録(LGMR)システムと一般に称されている。記録
ヘッドとデータトラックとの不整列は、読み込みの間に
データエラーをもたらし、書き込みの間に隣接するトラ
ックでデータ損失を引き起こす。
【0004】記録作業ヘッド位置決め光学サーボシステ
ム及び磁気テープカートリッジの交換能力を確保するた
め、光学サーボシステムは、磁気記録ヘッドと密接に整
列されるべきである。
【0005】
【課題を解決するための手段】一般的な態様では、本発
明は、磁気記録テープシステム読み書きアッセンブリに
おける光学サーボシステムに対して記録ヘッドを位置決
めする方法を特徴とする。該方法は、記録ヘッド上の複
数の記録チャンネルのうち選択された一つに対する第1
の位置に該光学サーボシステムの光学センサーを位置決
めし、該記録ヘッド上の整列ターゲットを使用して選択
された記録チャンネルに対する第2の位置に光学センサ
ーを位置決めする工程を含んでいる。
【0006】好ましい実施形態では、第1の位置に光学
センサーを位置決めする工程は、顕微鏡下で、光学セン
サーアジャスターを用いて選択された記録チャンネルに
対する光学センサーを仮想線に沿って視覚的に整列さ
せ、該アジャスターを用いて光学サーボシステムを適所
に一時的に係止させる、各工程を含んでいる。
【0007】整列ターゲットは、エッチングされた平行
整列溝、磁気テープ移動方向に平行に配置された整列溝
を備えている。整列溝の各々は、光学信号反射率を強化
するためのプロフィールを備えている。このプロフィー
ルは、溝深さと、溝角度を有する傾斜壁と、底部形状
と、を備える。溝深さは、200乃至300ナノメート
ルの範囲にある。溝角度は、50度乃至60度の範囲に
あり、底部形状は、湾曲形状である。
【0008】溝の各々は、シリコンウェハ、アルミニウ
ムチタニウムカーバイド(aluminumtitanium carbide ;
AlTiC)ウェハ、又は、シリコン/AlTiCウ
ェハスタック上に製作される。整列溝は、画像反転レジ
ストプロセス(image reversal resist process)又は
二重層レジストプロセス(bi-layer resist process)
を使用して製作される。
【0009】整列ターゲットは、選択された記録チャン
ネルの対の2つのエレメントの間に配置される。光学サ
ーボシステムを第2の位置に位置決めする工程は、光学
サーボシステムからの光ビームを整列溝に差し向け、最
小光学反射信号が光学サーボシステムの光学センサーに
より検出されるまで、整列溝に垂直に該光学サーボシス
テムを移動させ、最小光学反射信号が検出されるときア
ジャスターを用いて前記光学サーボシステムを係止させ
る、各工程を含む。
【0010】別の態様では、本発明は、磁気記録テープ
システムの読み書きアッセンブリにおける記録ヘッドを
特徴とする。該記録ヘッドは、ウェハ上に製作された記
録チャンネルと、記録チャンネルの第1の読み書きエレ
メントと該記録チャンネルの第2の読み書きエレメント
との間でウェハに付着された、光学反射信号を生成する
ように製作された整列ターゲットと、を含む。
【0011】好ましい実施形態では、整列ターゲット
は、紫外線(UV)硬化接着剤を使用してウェハに付着
される。記録ヘッド及び整列ターゲットは、同一材料か
ら製作される。この材料は、シリコン、アルミニウムチ
タニウムカーバイド(AlTiC)、又は、シリコン−
アルミニウムチタニウムカーバイド(AlTiC)であ
る。
【0012】整列ターゲットは、エッチングされた整列
溝を含んでおり、該整列溝の各々は互いに等間隔に隔て
られ、磁気テープの移動方向に平行に配列されている。
整列溝は画像反転レジストプロセス又は二重層レジスト
プロセスを使用して製作される。
【0013】整列溝の各々は、光学信号反射率を最小に
するためのプロフィールを備えている。このプロフィー
ルは、溝深さと、溝角度を有する傾斜壁と、底部形状
と、を備える。溝深さは、200乃至300ナノメート
ルの範囲にある。溝角度は、50乃至60度の範囲にあ
り、底部形状は、湾曲形状である。
【0014】別の態様では、本発明は、磁気テープ記録
システムの読み書きアッセンブリにおける光学サーボシ
ステムに対して記録ヘッドを整列させるための整列ター
ゲットを特徴としている。この整列ターゲットは記録ヘ
ッド上に存在している記録チャンネル対の2つのエレメ
ントの間に適合するための寸法を有する整列溝を備え、
該溝はテープの移動方向に平行に配位されている。
【0015】好ましい実施形態では、整列溝の各々は、
光学信号反射率を最小にするためのプロフィールへと製
作される。このプロフィールは、溝深さと、傾斜壁溝角
度と、底部形状と、を備える。溝深さは、200乃至3
00ナノメートルの範囲にある。傾斜した壁溝角度は、
50度乃至60度の範囲にあり、底部形状は、湾曲形状
である。
【0016】本発明の実施形態は、次の利点のうち1つ
又はそれ以上を奏することができる。光学サーボシステ
ムの光学センサーの記録ヘッドに対する整列作用は、整
列ターゲットが記録ヘッドに永久的に固定されるので、
エンジニアリング、製造、及び、郵送移動耐用期間(po
st shipment life)の間に高精度で達成することができ
る。
【0017】整列ターゲットは、記録ヘッドに付着さ
れ、記録ヘッドと熱的にマッチングしているため、時間
の経過に関して、及び、熱条件が変動した状態でも変化
しない。
【0018】整列ターゲットの溝設計の特性は、溝プロ
フィール及び表面反射率特性を有し、これらは、望まし
くない2次的反射信号を消去し、位置誤差読み取り及び
調整のための光学センサーにより高い光学反射信号を提
供する。
【0019】深さ、製作プロフィール、及び、整列ター
ゲット中の各整列溝の底部分の整列ターゲットの各整列
溝の回りの頂部表面に対する反射比率を最適化すること
によって、高い光学反射信号が得られ、かくして、光学
サーボシステムの光学センサーの記録ヘッドに対する整
列のための正確なフィードバッグを提供する。
【0020】製造後の使用中には、低パワーの顕微鏡
を、永久配置整列ターゲットを用いて光学センサーの記
録ヘッドへの整列を再校正するために使用してもよい。
代替記録ヘッドの設計は、例えば、シリコン、アルミニ
ウムチタニウムカーバイド(AlTiC)及びシリコン
/AlTiCスタック等の様々な材料から製作された整
列ターゲットを利用することができる。
【0021】本発明の1つ又はそれ以上の詳細は、添付
図面及び以下の詳細な説明に記載されている。本発明の
他の特徴、目的及び利点は、詳細な説明、図面及び請求
の範囲から明らかとなろう。
【0022】
【発明の実施の形態】図1を参照すると、一例としての
磁気テープ記録システム10は、送出システム12、読
み書きアッセンブリ14、及び、巻き取りシステム16
を備えている。送出システム12は磁気テープを包含し
ている。磁気テープ18は、記録ヘッド20、及び、読
み書きアッセンブリ14内に備えられた光学サーボシス
テム22を通り過ぎて移動し、巻き取りシステム16に
配給される。記録ヘッド20は、磁気テープが送出シス
テム12から巻き取りシステム16に移動するとき、一
般にデータと称される情報を読み取り、磁気テープ18
の磁気表面に書き込む。磁気テープ18が記録ヘッド2
0を通り越したとき、磁気テープ18は、例えば、横方
向テープ運動(LTM)に起因して、意図されたトラッ
ク位置に関して不整列されるようになる。横方向のテー
プ位置の変化は、光学サーボトラックが磁気テープ18
の非帯磁表面に位置してサーボ制御閉ループを介して補
償されたとき、光学サーボシステム22により検出され
る。
【0023】図2を参照すると、読み書きアッセンブリ
14は、記録ヘッド20と、光学サーボシステム22
と、を備える。アクチュエータ24が読み書きアッセン
ブリ14に接続された状態で示されている。作動中に
は、記録ヘッド20及び光学サーボシステム22は、互
いに対して適所に固定され、かくして、読み書きアッセ
ンブリ14が移動されたとき、更に一体的になる。磁気
テープ18は、記録ヘッド20に亘って移動し、1組の
4データトラック(図示せず)が磁気テープ18に記録
され、又は、該テープから読み出される。この例では、
記録ヘッド20は、記録ヘッド20に存在している、1
組の記録チャンネル26、28、30及び32を備え
る。各々の記録チャンネルは、夫々、磁気テープ18に
データを書き込んだり、該テープからデータを読み込ん
だりする、ライター及びリーダーを有する隆起部(bump
s)を備える。作動中には、光学サーボシステム22
は、軸線36に沿って磁気テープ18の横方向運動(L
TM)を検出するため磁気テープ18の非帯磁表面34
上のサーボトラック(図示せず)を利用している。LT
Mは、アクチュエータ24の移動を介したテープ18に
対する読み書きアッセンブリ14の位置決めにより、補
償される。
【0024】より詳しくは、光学サーボシステム22
は、磁気テープ18の非帯磁表面34上に配置された光
学サーボトラックの特定の一つに光ビームを差し向け
る。光学サーボトラックからの光ビームの反射は、電子
的に認識可能なLTM位置誤差信号を生じさせる。この
位置誤差信号は、光学フィードバック制御ループに送ら
れる。該ループは、サーボバイアストルクを生じさせる
コイルモーターに電流を送る双方向性ヘッド位置修正作
用を生じさせる。このバイアストルクは、磁気テープ1
8に対して軸線36に沿って読み書きアッセンブリ14
を移動させ、これにより、LTMの存在に拘わらず磁気
テープ18に従うためアクチュエータ24に印加され
る。
【0025】読み書きアッセンブリ14の製造中には、
光学サーボシステム22の光学センサー37は、記録ヘ
ッド20上の記録チャンネルの一つに対して第1の位置
に配置される。光学サーボシステム22の光学センサー
37は、整列ターゲット38を使用して記録ヘッド20
上の記録チャンネルに対する第2の位置に密接に整列さ
れる。この整列ターゲット38は、光学サーボシステム
22の光学センサー37及び選択された記録チャンネル
を、アジャスター40を介して手動で位置決めするため
使用される。整列ターゲット38を使用したこの整列プ
ロセスは、読み書きアッセンブリ14の製造の間に使用
されてもよい。整列ターゲット38は、カスタマーのサ
イトで、稼動中に、光学センサー37及び選択された記
録チャンネルを密接に整列するためにも使用されてもよ
い。整列ターゲット38を使用したとき、アジャスター
40は、記録ヘッド20に対して光学サーボシステム2
2を適所に移動させて係止させるために使用される。ア
ジャスター40は、光学サーボシステム22を、軸線3
6に平行な方向に移動させる。アジャスター40は、記
録ヘッド20に対して光学サーボシステム22を回転さ
せることもでき、かくして、記録ヘッド20に対する光
学サーボシステムの方位角を調整することができる。シ
ステム14の製造の間にこの整列がなされない場合、光
学サーボシステム22及び記録ヘッド20の不整列は、
これら2つの構成要素の間に大きな横方向のオフセット
を与えかねない。このことは、夫々の磁気テープ記録シ
ステム中の光学サーボシステム及び記録ヘッドの間の大
きな横方向のオフセットに起因して、第1の磁気テープ
記録システムの記録ヘッドによりテープ上に書き込まれ
た該テープの読み取りデータから、第2の異なる磁気テ
ープ記録システムにおいて記録ヘッドの不能化をもたら
してしまう。
【0026】より詳しくは、その光学サーボシステムか
らの大きな横方向オフセットを有する第1の記録ヘッド
により、データが磁気テープにより書き込まれた場合、
その光学サーボシステムからの大きいが反対側にある横
方向オフセットを有する第2の記録ヘッドは、各記録ヘ
ッドの横方向運動の固有の限定された範囲の故に、第1
及び第2のオフセットの差異を補償することができなく
なる。第2の記録ヘッドは、磁気テープからデータを読
み取ることができなくなる。かくして、全ての磁気テー
プ記録システムにおいて記録ヘッドへの光学サーボシス
テムのオフセットを最小にすることが重要である。
【0027】図3を参照すると、前面斜視で表された記
録ヘッド20の一部分は、例えば、記録チャンネル28
の隆起部44及び隆起部46の間に配置された整列ター
ゲット38を備える。かくして、溝42を備えた整列タ
ーゲット38は、隆起部44及び46の間に存在する。
読み書きエレメントは、隆起部44及び46に配置さ
れ、即ち、チャンネル対が分割されている。対のうち1
つのエレメントは、1つの隆起部に存在し、対のうち他
方のエレメントは、他方の隆起部に存在する。エレメン
トとは、結合された読み書き用薄フィルム変換器を意味
する。1つ以上のチャンネルを備える記録ヘッドに対し
て、他方の対は、隆起部44及び46にも存在してい
る。各チャンネル対は、テープ18が1つの隆起部上の
対のうち1つのエレメントを通過して、他方の隆起部上
の該対の他方のエレメントに至るように配列されてい
る。この態様では、1つの隆起部上の各チャンネルによ
り書かれたデータは、直ちに読み取られ、他方の隆起部
上の相当するチャンネルエレメントにより実証される。
一般には、隆起部は、テープが読み書きヘッドに亘って
移動するとき、空気力学的な力がテープを該隆起部に保
持するように形成された表面である。
【0028】磁気テープ18が、磁気テープ記録システ
ム10の作動中に記録チャンネル26、28、30及び
32の隆起部に亘って移動するとき、それが磁気テープ
18と干渉せず、物理的に接触させないように整列ター
ゲット38が製作され、記録ヘッド20に永久的に付着
される。
【0029】別の例では、整列ターゲット38は、隆起
部を存在させない平坦ヘッドの記録ヘッド(図示せず)
上に作られる。平坦ヘッド記録ヘッドは、それがテープ
と接触する長さ全体に沿ってほぼ平坦である。整列溝
は、読み書きエレメントの間で記録ヘッドそれ自体から
切削される。
【0030】上述されたように、整列ターゲット38
は、読み書きアッセンブリ14の製造中に光学サーボシ
ステム22の光学センサー37に対して選択された記録
チャンネルを密接に整列させ、かくして、記録ヘッド2
0と光学サーボシステム22の間のオフセットを最小に
するため使用される。加えて、整列ターゲット38が隆
起部間の記録ヘッド20に永久的に付着されるので、整
列ターゲット38は、製造後のフィールドにおいて、作
用中には最小化される間の時間に亘って生じる横方向オ
フセットの任意のインクリメントを維持するため、選択
された記録チャンネルに対して光学センサー37を整列
させるように使用してもよい。
【0031】整列ターゲット38は、1つ又はそれ以上
の整列溝42を備える。整列溝42は、整列ターゲット
38内にエッチングされており、光学サーボシステム2
2と連係した光学反射信号を提供するように配位され
る。この光学反射信号は、光学センサー37により検出
され、アジャスター40を介して、選択された記録チャ
ンネルに光学サーボシステム33を密接に整列するため
使用される。
【0032】図4を参照すると、整列ターゲット38の
断面が、3つのエッチングされた整列溝42を示してい
る。単一の整列溝を利用してもよいが、3つの整列溝4
2を使用することが、後述される方位角調整に対して提
供される。整列溝42の各々は、光学サーボシステム2
2が整列ターゲット38に光ビームを差し向けるときに
高いコントラストの光学反射信号を提供するためのプロ
フィールへと製作される。高いコントラストの光学反射
信号を達成するため、整列溝42の各々は、300乃至
400ナノメーターの深さ(D)48を有するのが好ま
しい。整列溝42の各々は、50度乃至60度の壁角度
(θ)及び湾曲状底部52を備えて形成されることも好
ましい。壁角度(θ)50は54度であることが更に好
ましい。深さ48、角度50及び湾曲状底部52の配位
のこの組み合わせは、概ね低い光学反射信号を提供す
る。
【0033】整列溝42の各々は、光学サーボシステム
22により整列溝42差し向けられた1つ又はそれ以上
の光スポットを使用する、後述の整列プロセスに適合す
るため間隔を隔てられている。溝対溝の間隔(S)54
は、約24マイクロメーター(24μm)が好ましい
が、他の溝間隔も利用することができる。
【0034】整列溝42の各々は、湿化学エッチング
(wet chemical etching)、乾燥化学エッチング(dry
chemical etching)、又は、鉄フライス削り(iron mil
ling)を使用してシリコン内に形成される。角度を形成
した鉄フライス削りは、低い光学反射信号を生成する適
切な整列溝のプロフィールを提供する。結晶配位依存エ
ッチング法(crystal orientation dependent etching
methods)を使用したシリコンの湿化学エッチングは、
首尾一貫した整列溝プロフィールを提供する。
【0035】アルミニウムチタニウムカーバイド(AL
TiC)のパターン形成は、画像反転レジストプロセス
を使用して実行される。その代わりに、AlTiCパタ
ーン形成は、二重層レジストプロセスを使用して実行さ
れてもよい。AlTiCウェーハーの整列溝42の各々
は、該溝中に傾斜の付けられた壁を形成するため、高い
角度でイオンミリング(ion mill)される。この壁の角
度θ50は、光学サーボシステム22の光学センサー3
7が整列溝の壁から光の反射を受け取らないように設定
される。AlTicパターン形成が画像反転レジストプ
ロセスを使用して実行される場合、例えば酸化アルミニ
ウム等の誘電体を、整列溝42へと沈着させ、画像反転
のリフトオフ(lift-off; 持ち上がり)特性を使用して
余剰のアルミナを整列溝42の外側から除去することが
できる。
【0036】その代わりに、より低い光学反射信号を、
画像反転フォトリソグラフ技術(image reversal photo
lithographic techniques)を使用して整列溝42内に
沈着された単一層非反射(AR)コーティングを使用す
ることによって整列ターゲット38から達成することが
できる。例えばクロム等の金属反射コーティングを使用
したALTiCで高いコントラストも達成可能である。
【0037】記録ヘッド20は典型的にはAlTiCウ
ェハーから製作されるので、整列ターゲット38を持つ
能力は、記録ヘッド20及び整列ターゲット38の間の
熱膨張の相違が存在しないAlTiCの手段から作られ
る。整列ターゲット38が、記録ヘッドを製作するため
使用されるものと同じ材料から製作されるのが好まし
い。
【0038】上述されたように、整列ダーゲット38
は、記録チャンネル対の間で適合するため切削される。
整列ターゲット38は、記録ヘッド20の永久特徴であ
ると考えられる。整列ターゲット38は、それが記録チ
ャンネルを横切って移動するとき、記録チャンネル隆起
部を通り過ぎて突出せず、磁気テープ12と干渉しない
ように薄く形成されている。
【0039】整列ターゲット38が製作された後、それ
は記録チャンネル対の間に手で配置される。図6を参照
すると、整列プロセス100は、例えば、図5の顕微鏡
60等の顕微鏡の下で、整列ターゲット38の1つ又は
それ以上の整列溝42を、選択された記録チャンネルに
接続された仮想線に視覚的に整列させる工程(102)
を含んでいる。一旦、仮想線に沿って視覚的に配列され
ると、整列ターゲット38は、永久的に結合される(1
04)。好ましくは、紫外線(UV)で硬化される接着
剤を用いて記録対の間で記録ヘッド20に永久結合され
る。
【0040】整列ターゲット38が記録ヘッド20に永
久的に結合された後、1つ又はそれ以上の光スポット
は、光学サーボシステム22により整列ターゲット38
へと差し向けられる(106)。アジャスター40を使
用して、光学サーボシステム22により生成された光ス
ポットは、テープ移動方向に垂直な方向に整列溝42を
横切って移動され、即ち、整列ターゲット38にエッチ
ングされた整列溝42を横切って移動される(10
8)。光スポットが整列ターゲット38を照射したと
き、それは後方に反射され、光学反射信号を生成する。
光学サーボシステム22の光学センサー37は、該光学
反射信号を検出する(110)。垂直運動の間、スポッ
トの反射信号は光学サーボシステム22により受け取ら
れ、記録される(112)。光スポットが整列溝42の
一つの上方で中心合わせされたとき、光学反射信号は最
小値を取り、これに対応する電圧は最大となる。光学サ
ーボシステム22をアジャスター40を使用して整列溝
42を横切って横方向に移動させることによって、光学
サーボシステム22を、整列ターゲット38上の整列溝
42の任意の一つに密接に整列させることができる。一
旦、光学サーボシステム22が溝42の選択された一つ
に密接に整列されると、即ち最小反射率/最大電圧が検
出されると、光学サーボシステム22はアジャスター4
0を用いて手動で係止される(114)。整列プロセス
100は、選択された記録値と、光学サーボシステム2
2との間の横方向オフセットを最小にする。記録ヘッド
20は、製造プロセスにおける引き続く工程のための準
備をする。
【0041】上述された整列プロセス100は、記録ヘ
ッド20と光学サーボシステム22との間の光学方位角
を調整するためにも使用することができる。作動中に
は、光学サーボシステム22により、3つの等間隔に隔
てられた光スポットが整列ターゲット38上の3つの等
間隔に隔てられた整列溝42に差し向けられる。光学サ
ーボシステム22は、整列溝42に垂直な平面内で回転
され、かくして、整列ターゲット38に向かって差し向
けられた3つのスポットが回転される。光学サーボシス
テム22により検出された3つのスポットの光学反射信
号が等しい場合、即ち、3つの検出された電圧の各々が
等しい場合、記録ヘッド20及び光学サーボシステム2
2の方位角が整列される。光学サーボシステム22は、
アジャスター40を使用して係止される。記録ヘッド2
0は、製造プロセスにおける引き続く工程のための準備
をする。
【0042】上述された整列プロセス100は、記録ヘ
ッド20及び光学サーボシステム22の間の光学方位角
を調整するためにも使用され得る。作動中には、3つの
等間隔に隔てられた光スポットが光学サーボシステム2
2により、整列ターゲット38上の3つの等間隔に隔て
られた整列溝42に向かって差し向けられる。光学サー
ボシステム22は、整列溝42に垂直な平面内で回転さ
れ、かくして整列ターゲット38へ差し向けられた3つ
のスポットが回転される。光学サーボシステム22によ
り検出された3つのスポットの光学反射信号が等しいと
き、即ち、3つの検出された電圧の各々が等しいとき、
記録ヘッド20及び光学サーボシステム22の方位角が
整列されたことになる。光学サーボシステム22は、ア
ジャスター40を使用して係止される。記録ヘッド20
は、製造プロセスにおける引き続く工程を準備する。
【0043】本発明の多数の実施形態が説明された。そ
れにも拘わらず、様々な変更が、本発明の精神及び範囲
から逸脱することなくなし得るということが理解されよ
う。例えば、記録ヘッド上の記録チャンネルの一つを、
チャンネルのライター及びリーダーの間の記録チャンネ
ル上でエッチングされた整列溝を用いて製作することが
できる。
【0044】別の例では、磁気テープ記録システムが製
造後に使われるとき、整列ターゲットを、選択された記
録チャンネルに対する光学サーボシステムの荒い位置調
整をなすために使用してもよい。低いパワーの顕微鏡を
使用するとき、光学サーボシステムは、整列ターゲット
に向かって光スポットを差し向ける。光学サーボシステ
ムは、顕微鏡下で見られるような該スポットが整列溝の
一つに関して中心合わせされるまで、アジャスターを使
用して手で移動される。一旦、該整列溝に関して中心合
わせがなされると、光学サーボシステムは、アジャスタ
ーにより適所に係止され、磁気記録テープシステムが持
続的な使用のため準備される。
【0045】従って、他の実施形態も請求の範囲内にあ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、一例としての磁気テープ記録システム
のブロック図である。
【図2】図2は、図1の読み書きアッセンブリの断面の
ブロック図である。
【図3】図3は、図1の記録ヘッドの斜視図である。
【図4】図4は、図2の整列ターゲットの断面図であ
る。
【図5】図5は、一例としての顕微鏡のブロック図であ
る。
【図6】図6は、整列プロセスの流れ図である。
【符号の説明】
10 磁気テープ記録システム 12 送出システム 14 読み書きアッセンブリ 16 巻き取りシステム 18 磁気テープ 20 記録ヘッド 22 光学サーボシステム 24 アクチュエータ 26、28、30、32 記録チャンネル 34 磁気テープの非帯磁表面 36 軸線 37 光学センサー 38 整列ターゲット 40 アジャスター 42 溝 44、46 隆起部 48 整列溝の深さ(D) 50 壁角度(θ) 52 湾曲状底部 60 顕微鏡
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 レオ・ガグリエルモ アメリカ合衆国フロリダ州32174,オーモ ンド・ビーチ,サンチェス・アベニュー 83 (72)発明者 ジョージ・ベルシス アメリカ合衆国マサチューセッツ州01522, ジェファーソン,ヘザー・サークル 59 Fターム(参考) 5D042 AA01 BA07 CA01 CA04 EA06 FA06 GA01 HA18 HB07

Claims (40)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 磁気記録テープシステムの読み書きアッ
    センブリにおいて光学サーボシステムに対して記録ヘッ
    ドを位置決めする方法であって、 前記記録ヘッド上の複数の記録チャンネルの選択された
    一つに対する第1の位置に光学サーボシステムの光学セ
    ンサーを位置決めし、 前記記録ヘッド上の整列ターゲットを使用して、前記選
    択された記録チャンネルに対する第2の位置に前記光学
    センサーを位置決めする、各工程を含む、方法。
  2. 【請求項2】 前記光学センサーを前記第1の位置に位
    置決めする工程は、 顕微鏡下で、光学サーボシステムのアジャスターを用い
    て前記記録チャンネルに関する前記光学センサーを仮想
    線に沿って視覚的に整列させ、 前記アジャスターを用いて前記光学サーボシステムを適
    所に一時的に係止させる、請求項1に記載の方法。
  3. 【請求項3】 前記整列ターゲットは、複数のエッチン
    グされた平行溝を備えており、該溝は磁気テープ移動の
    方向に平行に位置決めされる、請求項1に記載の方法。
  4. 【請求項4】 前記溝の各々は、光学信号の反射を強化
    するためのプロフィールを備える、請求項3に記載の方
    法。
  5. 【請求項5】 前記プロフィールは、 溝深さと、 溝角度を有する傾斜壁と、 底部形状と、を備える、請求項4に記載の方法。
  6. 【請求項6】 前記溝深さは、200乃至300ナノメ
    ートルの範囲にある、請求項5に記載の方法。
  7. 【請求項7】 前記溝角度は、50乃至60度である、
    請求項5に記載の方法。
  8. 【請求項8】 前記底部形状は、湾曲形状である、請求
    項5に記載の方法。
  9. 【請求項9】 前記溝の各々は、シリコンウェハ上に製
    作される、請求項3に記載の方法。
  10. 【請求項10】 前記溝の各々は、アルミニウムチタニ
    ウムカーバイド(AlTiC)のウェハ上に製作され
    る、請求項3に記載の方法。
  11. 【請求項11】 前記溝の各々は、シリコン/AlTi
    Cのウェハ上に製作される、請求項3に記載の方法。
  12. 【請求項12】 前記溝は、画像反転レジストプロセス
    を使用して製作される、請求項3に記載の方法。
  13. 【請求項13】 前記溝は、二重層レジストプロセスを
    使用して製作される、請求項3に記載の方法。
  14. 【請求項14】 前記整列ターゲットは、選択された記
    録チャンネルの一方の読み書きエレメントと、選択され
    た記録チャンネルの他方の読み書きエレメントとの間に
    配置される、請求項1に記載の方法。
  15. 【請求項15】 前記光学センサーを第2に位置に位置
    決めする工程は、 前記光学サーボシステムからの光ビームを前記溝に差し
    向け、 最大光学反射信号が前記光学サーボシステムの光学セン
    サーにより検出されるまで、前記溝に垂直に前記光学サ
    ーボシステムを移動させ、 最小光学反射信号が検出されるとき前記アジャスターを
    用いて前記光学サーボシステムを係止させる、各工程を
    含む、請求項3に記載の方法。
  16. 【請求項16】 磁気記録テープシステムの読み書きア
    ッセンブリにおける記録ヘッドであって、 ウェハ上に製作された複数の記録チャンネルと、 記録チャンネルの第1の読み書きエレメントと該記録チ
    ャンネルの第2の読み書きエレメントとの間で前記ウェ
    ハに付着された、光学反射信号を生成するように製作さ
    れた整列ターゲットと、 を含む、記録ヘッド。
  17. 【請求項17】 前記整列ターゲットは、紫外線(U
    V)硬化接着剤を使用して前記ウェハに付着される、請
    求項16に記載の記録ヘッド。
  18. 【請求項18】 前記記録ヘッド及び前記整列ターゲッ
    トは、同一材料から製作される、請求項16に記載の記
    録ヘッド。
  19. 【請求項19】 前記材料は、シリコンである、請求項
    18に記載の記録ヘッド。
  20. 【請求項20】 前記材料は、アルミニウムチタニウム
    カーバイド(AlTiC)である、請求項18に記載の
    記録ヘッド。
  21. 【請求項21】 前記材料は、シリコンとアルミニウム
    チタニウムカーバイド(AlTiC)との組成物であ
    る、請求項18に記載の記録ヘッド。
  22. 【請求項22】 前記整列ターゲットは、複数のエッチ
    ングされた整列溝を含み、該溝の各々は互いから等間隔
    に隔てられ、磁気テープ移動方向と平行に配列されてい
    る、請求項16に記載の記録ヘッド。
  23. 【請求項23】 前記溝は、画像反転レジストプロセス
    を使用して製作される、請求項22に記載の記録ヘッ
    ド。
  24. 【請求項24】 前記溝は、二重層レジストプロセスを
    使用して製作される、請求項22に記載の記録ヘッド。
  25. 【請求項25】 前記溝の各々は、光学信号の反射率を
    最大にするためのプロフィールを有する、請求項16に
    記載の記録ヘッド。
  26. 【請求項26】 前記プロフィールは、溝深さと、溝角
    度を有する傾斜壁と、底部形状と、を含む、請求項25
    に記載の記録ヘッド。
  27. 【請求項27】 前記溝深さは、200乃至300ナノ
    メートルの範囲にある、請求項26に記載の記録ヘッ
    ド。
  28. 【請求項28】 前記傾斜壁の溝角度は、50乃至60
    度の範囲にある、請求項26に記載の記録ヘッド。
  29. 【請求項29】 前記底部形状は、湾曲形状である、請
    求項26に記載の記録ヘッド。
  30. 【請求項30】 磁気テープ記録システムの読み書きア
    ッセンブリにおける光学サーボシステムに対して平坦記
    録ヘッドを整列させるための整列ターゲットであって、 前記平坦記録ヘッド上に存在する記録チャンネル対の間
    に適合するための寸法を有する等間隔に隔てられた整列
    溝を含み、該溝は、前記平坦記録ヘッドに亘ってテープ
    移動方向と平行に配位されている、整列ターゲット。
  31. 【請求項31】 前記整列溝の各々は、光学信号の反射
    率を最小にするためのプロフィールに製作されている、
    請求項30に記載の整列ターゲット。
  32. 【請求項32】 前記プロフィールは、溝深さと、溝角
    度を有する傾斜壁と、底部形状と、を含む、請求項31
    に記載の整列ターゲット。
  33. 【請求項33】 前記溝深さは、200乃至300ナノ
    メートルの範囲にある、請求項32に記載の整列ターゲ
    ット。
  34. 【請求項34】 前記傾斜壁の溝角度は、50乃至60
    度の範囲にある、請求項32に記載の整列ターゲット。
  35. 【請求項35】 前記底部形状は、湾曲形状である、請
    求項32に記載の整列ターゲット。
  36. 【請求項36】 磁気読み書きアッセンブリの記録ヘッ
    ド上に存在する2つの隣接する記録チャンネルの間に適
    合させるようにウェハのサイズを調整し、前記ウェハの
    長さ方向に垂直に且つ磁気テープの移動方向に平行に複
    数の等間隔に隔てられた平行整列溝を形成する、各工程
    を含む方法。
  37. 【請求項37】 前記形成工程は、光学信号反射率を最
    大にするため前記ウェハを切断する工程を含む、請求項
    36に記載の方法。
  38. 【請求項38】 前記切断工程は、前記ウェハにおける
    溝深さ、溝角度及び底部形状に関してなされる、請求項
    37に記載の方法。
  39. 【請求項39】 前記切断工程は画像反転レジストプロ
    セスを含む、請求項38に記載の方法。
  40. 【請求項40】 前記切断工程は二重層レジストプロセ
    スを含む、請求項38に記載の方法。
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