JPH04298869A - フレキシブル磁気デイスクを用いる記録再生装置ならびにその磁気デイスクを用いる記録再生方法 - Google Patents
フレキシブル磁気デイスクを用いる記録再生装置ならびにその磁気デイスクを用いる記録再生方法Info
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Classifications
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、フレキシブル磁気デイ
スクを用いる記録再生装置ならびにその磁気デイスクを
用いる記録再生方法に係り、特に磁気ヘツド装置のトラ
ツキングに関するものである。 【０００２】 【従来の技術】従来、磁性層にトラツキングサーボ用の
溝を形成した磁気デイスクならびにそれを使用する記録
再生装置などが提案されている（例えば特開平２−１４
４３６号公報、特開平２−３１３８７号公報参照）。 【０００３】図１４ならびに図１５は、この種の磁気デ
イスクを説明するための磁気デイスクの拡大断面図なら
びに平面図である。これらの図に示すように、例えばポ
リエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などからなるベー
スフイルム１００の表面には磁性層１０１が設けられて
おり、この磁性層１０１にはトラツキングサーボ用の溝
１０２が磁気デイスクの回転方向に延びるように、例え
ばレーザ加工などの手段によつて形成されている。従っ
て溝１０２と溝１０２との間が記録トラツク１０３とな
る（図１５参照）。 【０００４】一方、記録再生装置の方には、磁気デイス
クの表面にトラツキングサーボ用の光線１０４を出射す
る発光素子（図示せず）と、磁気デイスク表面からの反
射光１０５を受光する受光素子１０６ａ、１０６ｂ、１
０６ｃ、１０６ｄ（図１５参照）とを備えている。 【０００５】そして前記発光素子から出射された光線１
０４を磁気デイスク表面に当てて、それからの反射光１
０５を受光する受光素子１０６ａ、１０６ｂ、１０６ｃ
、１０６ｄで受光する。 【０００６】前述のよう磁性層１０１にはトラツキング
サーボ用の溝１０２が形成されているため、記録トラツ
ク１０３上で反射する光強度と溝１０２上で反射する光
強度は異なる。図１５に示す例では前記受光素子１０６
ｂと１０６ｄにより溝１０２上で反射光を受光するよう
になつているから、この受光素子１０６ｂと１０６ｄの
出力値を比較して、両者の出力値が等しくなるように磁
気ヘツド（図示せず）のトラツキングサーボが行われる
。 【０００７】 【発明が解決しようとする課題】従来の磁気デイスクは
磁性層１０１の厚みが２．５μｍ以上あり厚いため、発
光素子と受光素子１０６ａ、１０６ｂ、１０６ｃ、１０
６ｄを一体として、磁性層１０１からの反射光１０５を
受光素子１０６ａ、１０６ｂ、１０６ｃ、１０６ｄで良
好に受光することがてきた。 【０００８】ところで、この種の磁気デイスクではその
オーバライト特性を改善するため、磁性層の厚さは薄く
なる傾向にある。また、使用しているベースフイルムは
通常、透明である。従って、極薄の磁性層を有する磁気
デイスクでトラツキングサーボを行おうとした場合、磁
性層に出射した光の一部あるいはそのほとんどが磁性層
ならびにベースフイルムを透過してしまう。そのため、
反射光の強度が弱く、適正なトラツキングサーボが行わ
れず、信頼性が問題となる。また、強度の弱い反射光で
も検出できるような感度のよい受光素子を使用すること
も考えられるが、そうするとコストが高くなるから好ま
しくない。 【０００９】本発明の目的は、このような欠点を解消し
、オーバライト特性が改善でき、しかも適正なトラツキ
ングサーボが行われる信頼性の高いフレキシブル磁気デ
イスクを用いる記録再生装置、ならびにその磁気デイス
クを用いる記録再生方法を提供するにある。 【００１０】 【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
、本発明は、透明でフレキシブルなベースフイルムの両
面に磁性層が形成されて，その両方の磁性層の膜厚がそ
れぞれ１μｍ以下に規制され、一方の第１の磁性層の表
面は平坦に形成されて、その第１の磁性層と反対側の第
２の磁性層の外表面に当該磁気デイスクの回転方向に沿
って延びたトラツキングサーボ用の凹部を設けたフレキ
シブル磁気デイスクを装着して回転駆動する駆動手段と
、前記第１の磁性層と対向する側に配置されたトラツキ
ングサーボ用の発光素子と、前記第２の磁性層と対向す
る側に配置され、前記磁気デイスクを透過したトラツキ
ングサーボ用の光線を検知する受光素子とを設けたこと
を特徴とするものである。 【００１１】前記目的を達成するため、さらに本発明は
、透明でフレキシブルなベースフイルムの両面に磁性層
が形成されて，その両方の磁性層の膜厚がそれぞれ１μ
ｍ以下に規制され、一方の第１の磁性層の表面は平坦に
形成されて、その第１の磁性層と反対側の第２の磁性層
の外表面に当該磁気デイスクの回転方向に沿って延びた
トラツキングサーボ用の凹部を設けたフレキシブル磁気
デイスクを記録再生装置の駆動手段に装着して、前記第
１の磁性層と対向する側にトラツキングサーボ用の発光
素子を配置し、前記第２の磁性層と対向する側に受光素
子を配置し、前記発光素子からの光線を前記磁気デイス
クを透過させて前記受光素子で受光しながら磁気ヘツド
装置のトラツキングサーボを行うことを特徴とするもの
である。 【００１２】 【作用】本発明は前述したように、磁性層の膜厚を１μ
ｍ以下に規制することにより、磁気デイスクのオーバラ
イト特性を改善して、ノイズの少ない磁気デイスクを得
ることができる。また、第２の磁性層の外表面付近に受
光素子を設けることにより、光の透過で適正なトラツキ
ングサーボが実現でき、信頼性の向上が図れる。 【００１３】 【実施例】次に本発明の実施例を図面とともに説明する
。図１は実施例に係る磁気デイスクカートリツジの一部
を分解した斜視図、図２は磁気シートの拡大断面図、図
３は磁気デイスクの平面図、図４はクリーニングシート
の拡大断面図、図５はこの磁気デイスクカートリツジの
使用状態を示す磁気ヘツド挿入口付近の拡大断面図、図
６はこの磁気デイスクカートリツジの弾性片付近の拡大
断面図である。 【００１４】図１に示すように磁気デイスクカートリツ
ジは、カートリツジケース１と、その中に回転自在に収
納されたフレキシブルな磁気デイスク２と、カートリツ
ジケース１に摺動可能に支持されたシヤツタ３とから主
に構成されている。 【００１５】カートリツジケース１は、上ケース１ａと
下ケース１ｂとから構成され、これらは例えばＡＢＳ樹
脂などの硬質合成樹脂で射出成形されている。下ケース
１ｂのほぼ中央には、回転駆動軸挿入用の開口４が形成
され、その近くに長方形のヘツド挿入口５が形成され、
上ケース１ａにも同様にヘツド挿入口５が設けられてい
る（図５参照）。上ケース１ａならびに下ケース１ｂの
前面付近には、図１に示すように、前記シヤツタ３の摺
動範囲を規制するために少し低くなった凹部６がそれぞ
れ形成され、この凹部６の中間位置に前記ヘツド挿入口
５が設けられている。 【００１６】図５ならびに図６に示しているように、上
ケース１ａならびに下ケース１ｂの内面には、クリーニ
ングシート７が例えば超音波溶着などの手段によつて貼
着されている。このクリーニングシート７は図４に示す
ように、磁気デイスク２と接触するデイスク側不織布層
７ａと、カートリツジケース１と接触するケース側不織
布層７ｂと、そのデイスク側不織布層７ａとケース側不
織布層７ｂとを連結するための中間不織布層７ｃとから
構成されている。 【００１７】前記デイスク側不織布層７ａならびにケー
ス側不織布層７ｂは、ともにレイヨン繊維単独で構成さ
れており、表裏の区別がないようにできている。前記中
間不織布層７ｃは、レイヨン繊維と熱可塑性繊維の混合
層から構成されている。その熱可塑性繊維としては、例
えばポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニ
ル、アクリル繊維などが使用される。その他、アクリル
繊維またはポリエステル繊維の単独、またはこれら、あ
るいはレンヨン繊維などとの混紡からなる不織布を前記
不織布層７ａ，７ｂとして使用することができる。 【００１８】磁気デイスクカートリツジの使用状態では
図５に示すように、磁気的な読み書きを行うヘツドコア
と、そのヘツドコアが安定に磁気デイスクと接触するた
めのスライダを含む第１の磁気ヘツド装置８ａと、この
磁気ヘツド装置８ａと同様にヘツドコアとスライダを有
する第２の磁気ヘツド装置８ｂがヘツド挿入口５、５か
らそれぞれ挿入され、両方の磁気ヘツド装置８ａ、８ｂ
によつて磁気デイスク２が挟持された状態で回転して両
磁気ヘツド装置８ａ，８ｂによつて信号の書込み、読出
しが行われる。 なお、本発明で使用される磁気ヘツ
ド装置としては、必ずしも前述のスライダは必要とせず
、ヘツドコアを所定形状に保持したものだけであっても
よい。 【００１９】また図６に示すように、下ケース１ｂの内
面にはポリエステルなどのプラスチツクスシートを折り
曲げて形成した弾性片９が傾斜状態で取付けられている
。一方、上ケース１ａの内面で前記弾性片９と対向する
位置には、突部１０が形成されている。そのため前記弾
性片９により下側のクリーニングシート７の一部が持ち
上げられるとともに、上ケース１ａ側の突部１０により
その持ち上がりが少し押し下げられて、磁気デイスク２
が上、下のクリーニングシート７、７により弾性的に挟
持されている。そして磁気デイスク２の回転にともない
、クリーニングシート７、７によりデイスク表面が清掃
される。 【００２０】次に磁気デイスク２の構成について説明す
る。磁気デイスク２は図３に示すように、円盤状のフレ
キシブルな磁気シート１１と、その磁気シート１１の中
央孔に挿入されて接着されたセンタハブ１２とから構成
されている。 【００２１】更に前記磁気シート１１は、図２に示すよ
うに透明なポリエステルフイルムなどで構成されたベー
スフイルム１３と、そのベースフイルム１３の両面に塗
着形成された磁性層１４ａ、１４ｂから構成されている
。 【００２２】前記ベースフイルム１３としては、例えば
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン
ナフタレート（ＰＥＮ）あるいはポリイミドなどの合成
樹脂フイルムが使用される。 【００２３】前記磁性層１４は、強磁性粉、バインダ、
潤滑剤、補強粉などの混合物から構成されている。 【００２４】前記強磁性金属粉としては、例えばα−Ｆ
ｅ、バリウムフエライト、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｐなどが
使用される。 【００２５】前記バインダとしては、例えば塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニ
ルアルコール共重合体、ウレタン樹脂、ポリイソシアネ
ート化合物などが使用される。 【００２６】前記潤滑剤としては、例えばステアリン酸
、オレイン酸などの高級脂肪酸、これらの高級脂肪酸エ
ステル、流動パラフイン、スクアラン、フッ素樹脂など
が使用可能である。なお、潤滑剤の添加率は、前記強磁
性金属粉に対して１〜２５重量％が適当である。 【００２７】前記補強粉としては、例えば酸化アルミニ
ウム、酸化クロム、炭化ケイ素、窒化ケイ素などが用い
られる。なお、補強粉の添加率は、前記強磁性金属粉に
対して０．１〜２５重量％が適当である。 【００２８】磁性塗料の具体的な組成例を示せば次の通
りである。
磁性塗料組成例１ α−Ｆｅ
１００重量部（Ｈｃ：
１６５０Ｏｅ， 飽和磁化量：１３５ｅｍｕ／ｇ
平均長軸径：０．２５μｍ， 平均軸比：８） 塩
化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体
１４．１重量部 ウレタン樹脂
８．５重量部 三官能性
イソシアネート化合物
５．６重量部 アルミナ
粉末（平均粒径０．４３μｍ）
２０重量部 カーボンブラツ
ク
２重量部
オレイン酸オレイル
７重量部 シクロヘキサノン
１５０重量部 トルエン
１５０重量部 【００２９】
磁性塗料組成例２ バリウムフエライト
１００重量部（Ｈｃ：５３０Ｏｅ
， 飽和磁化量：５７ｅｍｕ／ｇ， 平均粒径：０
．０４μｍ） 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合
体 １１．０重量部 ウレタン樹脂
６．６重量部 三
官能性イソシアネート化合物
４．４重量部 ア
ルミナ粉末（平均粒径０．４３μｍ）
１５重量部 カーボン
ブラツク
２重
量部 オレイン酸オレイル
７重量部 シクロヘキサノン
１５０重量部 トルエン
１５０重量部 【００３０】前述の磁性塗料組成例１または磁性塗料組
成例２の組成物をボールミル中でよく混合分散して磁性
塗料を調整し、これを７５μｍのポリエチレンテレフタ
レート（ＰＥＴ）のベースフイルムの両面に、乾燥厚み
が０．７μｍとなるように塗布し、乾燥したのち、カレ
ンダ処理を施して表面粗さＲａ（０．０８ｍｍカツトオ
フ）が０．０１μｍ以下の磁性層１４を形成した。 【００３１】このようにして構成された磁気デイスク２
の第２の磁性層１４ｂの表面にに連続あるいは不連続の
トラツキングサーボ用溝状凹部１５が、その幅ａ＝５μ
ｍで、トラツク幅＝ｂ（例えば１５μｍ）に相当する間
隔で同心円状に例えばエンボス加工などによつて多数形
成される。この凹部１５の全体的なパターンの一例を示
せば図３のように磁気デイスク２の回転中心と同心円状
に形成されており、図３、図７ならびに図８に示すよう
に凹部１５と凹部１５との間が実質的な記録トラツク部
１６となる。この凹部１５は後述のようにスタンパによ
る圧縮で形成されるもので、図８に示すように断面形状
が逆台形の凹部１５の形成にともないその周囲が盛り上
がり、そのために記録トラツク１６の両側に断面形状が
ほぼ山形の突部１７が連続あるいは不連続の状態で形成
される。またこの突部１７、１７の間には、その突部１
７よりも相対的に低くなった（しかし、前記凹１部より
も浅い）低部１８が形成され、この低部１８が丁度、磁
気ヘツド装置の磁気ギヤツプ（図示せず）と対向するこ
とになる。 【００３２】図８は第２の磁性層１４ｂの表面を表面粗
さ計で測定した状態を示すチヤートで、同図に示すよう
に、突部１７の形状ならびに高さは必ずしも一定してい
ないが、全体的に断面形状が山形をしており、低部１８
はほぼ同じレベルに形成されていることがわかる。 【００３３】同図に示すように、各低部１８の底面を通
る基準ラインＬを引いたとき、その基準ラインＬからの
凹部１５の平均深さは０．０１〜０．５μｍ（実施例で
は約０．１５μｍ）、突部１７の平均高さは０．０１〜
０．１μｍ（実施例では約０．０５μｍ）、また低部１
８の底面から突部１７の頂部までの平均段差は０．０１
〜０．１μｍ（実施例では約０．０５μｍ）が適当であ
る。 【００３４】図９は、前記凹部１５を形成する工程を説
明するための図である。センタハブ１２を取りつけた磁
気デイスク２が、基台１９にセツトされる。この基台１
９にはセンタハブ１２の中央孔２０（図３参照）に挿入
されるガイドピン２１が突設されており、センタハブ１
２の中央孔２０にこのガイドピン２１を通すようにして
磁気デイスク２を基台１９上に載置することにより、基
台１９上で磁気デイスク２が位置決めされる。 【００３５】この基台１９の上方には、それと平行にス
タンパ２２が上下動可能に配置されている。そしてこの
スタンパ２２は基台１９のガイドピン２１によつて、上
下動がガイドされるようになつている。また、スタンパ
２２には、凹部１５を形成するための微細な突部２３が
多数同心円状に形成されている。 【００３６】図９の状態からスタンパ２２を下げて、磁
気デイスク２の磁気シート１１を基台１９とスタンパ２
２との間において所定の圧力で挟持する。これによつて
スタンパ２２に形成されている突部２３が第２の磁性層
１４ｂの表面に食い込み、図８に示すように圧縮によつ
て断面形状が逆ほぼ台形の凹部１５が形成されるととも
に、磁性層１４ｂの一部が押しやられて突部１７が形成
される。このようにして形成された突部１７は、低部１
８に比べて磁性層中の磁性粉、補強粉ならびにバインダ
の充填率が高くなって、機械的強度が大きく、磨耗しに
くい構造となる。 【００３７】図１０は、本発明で使用される第１の磁気
ヘツド装置８ａの上面図である。同図に示すように磁気
ヘツド装置８ａは、Ｍｏ−Ｎｉ−Ｆｅ合金、Ａｌ−Ｓｉ
−Ｆｅ合金、Ｎｉ−Ｚｎフエライトあるいはアモルフア
ス合金などの磁性材料からなる磁気コア２５ａと、その
磁気コア２５ａを保持する例えばチタン酸バリウムなど
の非磁性材からなるスライダ２６ａとから構成されてい
る。そのスライダ２６ａの磁気デイスク２と対向する上
面には空気抜き用の溝２７ａが貫通するように形成され
、この溝２７ａのほぼ中央の位置には発光素子２９が一
体に取りつけられている。 【００３８】図１１は、本発明で使用される第２の磁気
ヘツド装置８ｂの底面図である。この磁気ヘツド装置８
ｂも同様にＭｏ−Ｎｉ−Ｆｅ合金、Ａｌ−Ｓｉ−Ｆｅ合
金、Ｎｉ−Ｚｎフエライトあるいはアモルフアス合金な
どの磁性材料からなる磁気コア２５ｂと、その磁気コア
２５ｂを保持する例えばチタン酸バリウムなどの非磁性
材からなるスライダ２６ｂとから構成されている。その
スライダ２６ｂの磁気デイスク２と対向する下面には空
気抜き用の溝２７ｂが貫通するように形成され、この溝
２７のほぼ中央の位置、すなわち前記発光素子２９と対
向する位置には受光素子３０が一体に取りつけられてい
る。なお、発光素子２９ならびに受光素子３０はスライ
ダ２６ａ，２６ｂの中央部に限らず、例えばスライダ２
６ａ，２６ｂのデイスク回転方向上流側などスライダ２
６ａ，２６ｂの外周部に一体に取り付けてもよい。 【００３９】図１２ならびに図１３は、磁気デイスク２
のトラツキングサーボを説明するための図である。これ
らの図に示すように、磁気デイスク２の第１の磁性層１
４ａと対向する第１の磁気ヘツド装置８ａには、トラツ
キングサーボの光線を出射する例えばＬＥＤなどからな
る発光素子２９が一体に取りつけられている。また磁気
デイスク２の第２の磁性層１４ｂと対向する第２の磁気
ヘツド装置８ｂには、受光素子３０（実際には複数の検
出素子から構成されている。）が一体に取りつけられて
いる。なお、これら磁気ヘツド装置８ａ，８ｂの発光素
子２９ならびに受光素子３０が取りつけられた部分は、
それぞれ磁気デイスク２側に向けて開口している。 【００４０】発光素子２９からの光は、平坦な表面を有
する第１の磁性層１４ａ、ベースフイルム１３を透過し
、第２の磁性層１４ｂの凹部１５ならびにその凹部１５
の両側にある記録トラツク部１６の一部を透過し、受光
素子３０に受光される。前述のようにこの第１の磁性層
１４ａは表面状態が平坦になつているため、光が第１の
磁性層１４ａを透過する際にトラツキングサーボに悪影
響を及ぼすようなことがない。 【００４１】この受光素子３０からのそれぞれの検出信
号３１は図１３に示すようにサーボ信号演算部３２に入
力され、現時点での記録トラツク部１６に対する磁気ヘ
ツド装置８ａ（８ｂ）のずれ量、換言すればその記録ト
ラツク部１６に対する磁気ヘツド装置８ａ（８ｂ）の位
置修正量が演算される。 【００４２】そして現在、例えば第１の磁気ヘツド装置
８ａを使用して情報の書込み、読出し、消去のいずれか
の動作を行っているときは、前記サーボ信号演算部３２
によって求められた位置修正制御信号３３ａが第１のヘ
ツド駆動制御部３４ａに入力され、その制御信号３３ａ
に基づいて第１の磁気ヘツド装置８ａのトラツキング制
御が行われる。 【００４３】一方、第２の磁気ヘツド装置８ｂを使用し
て情報の書込み、読出し、消去のいずれかの動作を行っ
ているときは、前記サーボ信号演算部３２によつて求め
られた位置修正制御信号３３ｂが第２のヘツド駆動制御
部３４ｂに入力され、その制御信号３３ｂに基づいて第
２の磁気ヘツド装置８ｂのトラツキング制御が行われる
。なお、図中の３５は、磁気デイスク２を回転駆動する
ための駆動モータである。 【００４４】次に磁性層の厚さならびに磁性層の厚さに
対する凹部深さの比率について、種々検討した結果を説
明する。まず、磁性層の厚さとオーバライト特性との関
係について説明する。前記磁性塗料組成例２の磁性塗料
を使用して種々の厚さの磁性層を有する２ＭＢの磁気デ
イスクを製作して、各磁気デイスクのオーバライト特性
を測定した。この特性の試験条件としては、磁気デイス
クに対して最初、線記録密度が８．５ｋｆｃｉで所定の
信号を書込み、その後に線記録密度が２倍の１７ｋｆｃ
ｉで信号を書込んだときの、前の消え残り分と後から書
いた分の比率でオーバライト特性を評価し、その結果を
次の表に表した。 【００４５】 磁性層の厚さ（μｍ）
オーバライト特性（ｄＢ）
２．８
−２５
１．０
−３５
０．７
−４０
０．５
−４５
０．３
−４８
【００４６】こ
の表から明らかなように、従来のように磁性層の厚さが
２．５μｍもあると、オーバライト特性が−３０ｄＢよ
り大きいく、ノイズの点で問題がある。 これに対して磁性層の厚さが１μｍ以下になると、オー
バライト特性が−３０ｄＢ以下であり、特に磁性層の厚
さが０．７μｍ以下、さらに好ましくは０．５μｍ以下
のものは、オーバライト特性が非常に良好であり、信頼
性の高い磁気デイスクを提供することができる。このよ
うなことから、磁性層の厚さは１μｍ以下に規制するこ
とが好ましい。 【００４７】次に磁性層の厚さに対する凹部深さの比率
について説明する。前述のオーバライト特性の結果から
磁性層の厚さを１μｍに規定し、同じ形の凹部でその深
さを種々変えた場合のトラツキングサーボ時における凹
部の受光強度比を測定し、その結果を次の表に示す。な
お、表中の凹部の深さの比率とは、磁性層の厚さ（１μ
ｍ）に対する凹部の深さの比率を示すものである。また
凹部受光強度比とは、凹部を形成していない記録トラツ
ク部の反射による受光強度を１００とした場合の、凹部
の反射による受光強度の比率を示すものである。 【００４８】 凹部の深さ 凹部の深さの比率（％
） 凹部の受光強度比 （μｍ） ０．００ ０
１００
０．０
１ １
６５
０．０３
３
４２
０．０５ ５
３４
０．０７
７
３０
０．１０ １０
２９
【００４９】この表から明
らかなように、磁性層の厚さに対する凹部の深さの比率
が１％程度であれば、前述のように第２の磁性層の裏側
に反射手段を設けても、凹部を形成していない記録トラ
ツク部の反射による受光強度と余り差がなく、すなわち
凹部を形成した効果がはっきりと現れず、トラツキング
制御の信頼性が問題となる。 【００５０】これに対して磁性層の厚さに対する凹部の
深さの比率が３％以上、好ましくは５％以上、より好ま
しくは７％以上であれば、第２の磁性層の裏側に反射手
段を設けることとの共働で、凹部を形成していない記録
トラツク部の反射による受光強度との差が明確に現れ、
適切なトラツキング制御が可能となり、信頼性の向上が
図れる。 【００５１】なお、磁性層の厚さに対する凹部の深さの
比率は３％以上であれば深いほど、凹部を形成していな
い記録トラツク部の反射による受光強度との差が明確に
現れるため好ましい訳であるが、本発明の実施例のよう
にスタンパによる圧縮で凹部を形成する方法を採用した
場合、磁性層の厚さに対する凹部の深さの比率は実際問
題２０％が限度である。 【００５２】すなわち、凹部の深さの比率を例えば３０
％，４０％にすることも可能であるが、このようにする
ためにはスタンパの圧力を極めて高圧にする必要がある
。またこのように圧力が極めて高くなると、繰り返して
スタンパを使用していると、凹部を形成するための突部
の磨耗が激しくなり、スタンパの耐用寿命が短いばかり
でなく、突部の磨耗により凹部の形状が変わって、明確
な形状を有する凹部を形成することがてきなくなる。 【００５３】このようなことから、磁性層の厚さに対す
る凹部の深さの比率は２０％までに規制する方がよい。 従って本発明においては、磁性層の厚さに対する凹部の
深さの比率は３〜２０％の範囲に規制している。 【００５４】磁性層の厚さと、それに対する凹部の深さ
の好適な例を示せば下記の通りである。 磁性層の厚さ（μｍ） 凹部の深さ（μｍ）
凹部の深さの比率（％） １．０
０．０７
７
０．７
０．０５ ７
０
．５ ０．０３
６
【００５５】 【効果】本発明は前述したように、磁性層の膜厚を１μ
ｍ以下に規制することにより、磁気デイスクのオーバラ
イト特性を改善して、ノイズの少ない磁気デイスクを得
ることができる。また、第２の磁性層の外表面付近に受
光素子を設けることにより、光の透過で適正なトラツキ
ングサーボが実現でき、信頼性の向上が図れる。
スクを用いる記録再生装置ならびにその磁気デイスクを
用いる記録再生方法に係り、特に磁気ヘツド装置のトラ
ツキングに関するものである。 【０００２】 【従来の技術】従来、磁性層にトラツキングサーボ用の
溝を形成した磁気デイスクならびにそれを使用する記録
再生装置などが提案されている（例えば特開平２−１４
４３６号公報、特開平２−３１３８７号公報参照）。 【０００３】図１４ならびに図１５は、この種の磁気デ
イスクを説明するための磁気デイスクの拡大断面図なら
びに平面図である。これらの図に示すように、例えばポ
リエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などからなるベー
スフイルム１００の表面には磁性層１０１が設けられて
おり、この磁性層１０１にはトラツキングサーボ用の溝
１０２が磁気デイスクの回転方向に延びるように、例え
ばレーザ加工などの手段によつて形成されている。従っ
て溝１０２と溝１０２との間が記録トラツク１０３とな
る（図１５参照）。 【０００４】一方、記録再生装置の方には、磁気デイス
クの表面にトラツキングサーボ用の光線１０４を出射す
る発光素子（図示せず）と、磁気デイスク表面からの反
射光１０５を受光する受光素子１０６ａ、１０６ｂ、１
０６ｃ、１０６ｄ（図１５参照）とを備えている。 【０００５】そして前記発光素子から出射された光線１
０４を磁気デイスク表面に当てて、それからの反射光１
０５を受光する受光素子１０６ａ、１０６ｂ、１０６ｃ
、１０６ｄで受光する。 【０００６】前述のよう磁性層１０１にはトラツキング
サーボ用の溝１０２が形成されているため、記録トラツ
ク１０３上で反射する光強度と溝１０２上で反射する光
強度は異なる。図１５に示す例では前記受光素子１０６
ｂと１０６ｄにより溝１０２上で反射光を受光するよう
になつているから、この受光素子１０６ｂと１０６ｄの
出力値を比較して、両者の出力値が等しくなるように磁
気ヘツド（図示せず）のトラツキングサーボが行われる
。 【０００７】 【発明が解決しようとする課題】従来の磁気デイスクは
磁性層１０１の厚みが２．５μｍ以上あり厚いため、発
光素子と受光素子１０６ａ、１０６ｂ、１０６ｃ、１０
６ｄを一体として、磁性層１０１からの反射光１０５を
受光素子１０６ａ、１０６ｂ、１０６ｃ、１０６ｄで良
好に受光することがてきた。 【０００８】ところで、この種の磁気デイスクではその
オーバライト特性を改善するため、磁性層の厚さは薄く
なる傾向にある。また、使用しているベースフイルムは
通常、透明である。従って、極薄の磁性層を有する磁気
デイスクでトラツキングサーボを行おうとした場合、磁
性層に出射した光の一部あるいはそのほとんどが磁性層
ならびにベースフイルムを透過してしまう。そのため、
反射光の強度が弱く、適正なトラツキングサーボが行わ
れず、信頼性が問題となる。また、強度の弱い反射光で
も検出できるような感度のよい受光素子を使用すること
も考えられるが、そうするとコストが高くなるから好ま
しくない。 【０００９】本発明の目的は、このような欠点を解消し
、オーバライト特性が改善でき、しかも適正なトラツキ
ングサーボが行われる信頼性の高いフレキシブル磁気デ
イスクを用いる記録再生装置、ならびにその磁気デイス
クを用いる記録再生方法を提供するにある。 【００１０】 【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
、本発明は、透明でフレキシブルなベースフイルムの両
面に磁性層が形成されて，その両方の磁性層の膜厚がそ
れぞれ１μｍ以下に規制され、一方の第１の磁性層の表
面は平坦に形成されて、その第１の磁性層と反対側の第
２の磁性層の外表面に当該磁気デイスクの回転方向に沿
って延びたトラツキングサーボ用の凹部を設けたフレキ
シブル磁気デイスクを装着して回転駆動する駆動手段と
、前記第１の磁性層と対向する側に配置されたトラツキ
ングサーボ用の発光素子と、前記第２の磁性層と対向す
る側に配置され、前記磁気デイスクを透過したトラツキ
ングサーボ用の光線を検知する受光素子とを設けたこと
を特徴とするものである。 【００１１】前記目的を達成するため、さらに本発明は
、透明でフレキシブルなベースフイルムの両面に磁性層
が形成されて，その両方の磁性層の膜厚がそれぞれ１μ
ｍ以下に規制され、一方の第１の磁性層の表面は平坦に
形成されて、その第１の磁性層と反対側の第２の磁性層
の外表面に当該磁気デイスクの回転方向に沿って延びた
トラツキングサーボ用の凹部を設けたフレキシブル磁気
デイスクを記録再生装置の駆動手段に装着して、前記第
１の磁性層と対向する側にトラツキングサーボ用の発光
素子を配置し、前記第２の磁性層と対向する側に受光素
子を配置し、前記発光素子からの光線を前記磁気デイス
クを透過させて前記受光素子で受光しながら磁気ヘツド
装置のトラツキングサーボを行うことを特徴とするもの
である。 【００１２】 【作用】本発明は前述したように、磁性層の膜厚を１μ
ｍ以下に規制することにより、磁気デイスクのオーバラ
イト特性を改善して、ノイズの少ない磁気デイスクを得
ることができる。また、第２の磁性層の外表面付近に受
光素子を設けることにより、光の透過で適正なトラツキ
ングサーボが実現でき、信頼性の向上が図れる。 【００１３】 【実施例】次に本発明の実施例を図面とともに説明する
。図１は実施例に係る磁気デイスクカートリツジの一部
を分解した斜視図、図２は磁気シートの拡大断面図、図
３は磁気デイスクの平面図、図４はクリーニングシート
の拡大断面図、図５はこの磁気デイスクカートリツジの
使用状態を示す磁気ヘツド挿入口付近の拡大断面図、図
６はこの磁気デイスクカートリツジの弾性片付近の拡大
断面図である。 【００１４】図１に示すように磁気デイスクカートリツ
ジは、カートリツジケース１と、その中に回転自在に収
納されたフレキシブルな磁気デイスク２と、カートリツ
ジケース１に摺動可能に支持されたシヤツタ３とから主
に構成されている。 【００１５】カートリツジケース１は、上ケース１ａと
下ケース１ｂとから構成され、これらは例えばＡＢＳ樹
脂などの硬質合成樹脂で射出成形されている。下ケース
１ｂのほぼ中央には、回転駆動軸挿入用の開口４が形成
され、その近くに長方形のヘツド挿入口５が形成され、
上ケース１ａにも同様にヘツド挿入口５が設けられてい
る（図５参照）。上ケース１ａならびに下ケース１ｂの
前面付近には、図１に示すように、前記シヤツタ３の摺
動範囲を規制するために少し低くなった凹部６がそれぞ
れ形成され、この凹部６の中間位置に前記ヘツド挿入口
５が設けられている。 【００１６】図５ならびに図６に示しているように、上
ケース１ａならびに下ケース１ｂの内面には、クリーニ
ングシート７が例えば超音波溶着などの手段によつて貼
着されている。このクリーニングシート７は図４に示す
ように、磁気デイスク２と接触するデイスク側不織布層
７ａと、カートリツジケース１と接触するケース側不織
布層７ｂと、そのデイスク側不織布層７ａとケース側不
織布層７ｂとを連結するための中間不織布層７ｃとから
構成されている。 【００１７】前記デイスク側不織布層７ａならびにケー
ス側不織布層７ｂは、ともにレイヨン繊維単独で構成さ
れており、表裏の区別がないようにできている。前記中
間不織布層７ｃは、レイヨン繊維と熱可塑性繊維の混合
層から構成されている。その熱可塑性繊維としては、例
えばポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニ
ル、アクリル繊維などが使用される。その他、アクリル
繊維またはポリエステル繊維の単独、またはこれら、あ
るいはレンヨン繊維などとの混紡からなる不織布を前記
不織布層７ａ，７ｂとして使用することができる。 【００１８】磁気デイスクカートリツジの使用状態では
図５に示すように、磁気的な読み書きを行うヘツドコア
と、そのヘツドコアが安定に磁気デイスクと接触するた
めのスライダを含む第１の磁気ヘツド装置８ａと、この
磁気ヘツド装置８ａと同様にヘツドコアとスライダを有
する第２の磁気ヘツド装置８ｂがヘツド挿入口５、５か
らそれぞれ挿入され、両方の磁気ヘツド装置８ａ、８ｂ
によつて磁気デイスク２が挟持された状態で回転して両
磁気ヘツド装置８ａ，８ｂによつて信号の書込み、読出
しが行われる。 なお、本発明で使用される磁気ヘツ
ド装置としては、必ずしも前述のスライダは必要とせず
、ヘツドコアを所定形状に保持したものだけであっても
よい。 【００１９】また図６に示すように、下ケース１ｂの内
面にはポリエステルなどのプラスチツクスシートを折り
曲げて形成した弾性片９が傾斜状態で取付けられている
。一方、上ケース１ａの内面で前記弾性片９と対向する
位置には、突部１０が形成されている。そのため前記弾
性片９により下側のクリーニングシート７の一部が持ち
上げられるとともに、上ケース１ａ側の突部１０により
その持ち上がりが少し押し下げられて、磁気デイスク２
が上、下のクリーニングシート７、７により弾性的に挟
持されている。そして磁気デイスク２の回転にともない
、クリーニングシート７、７によりデイスク表面が清掃
される。 【００２０】次に磁気デイスク２の構成について説明す
る。磁気デイスク２は図３に示すように、円盤状のフレ
キシブルな磁気シート１１と、その磁気シート１１の中
央孔に挿入されて接着されたセンタハブ１２とから構成
されている。 【００２１】更に前記磁気シート１１は、図２に示すよ
うに透明なポリエステルフイルムなどで構成されたベー
スフイルム１３と、そのベースフイルム１３の両面に塗
着形成された磁性層１４ａ、１４ｂから構成されている
。 【００２２】前記ベースフイルム１３としては、例えば
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン
ナフタレート（ＰＥＮ）あるいはポリイミドなどの合成
樹脂フイルムが使用される。 【００２３】前記磁性層１４は、強磁性粉、バインダ、
潤滑剤、補強粉などの混合物から構成されている。 【００２４】前記強磁性金属粉としては、例えばα−Ｆ
ｅ、バリウムフエライト、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｐなどが
使用される。 【００２５】前記バインダとしては、例えば塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニ
ルアルコール共重合体、ウレタン樹脂、ポリイソシアネ
ート化合物などが使用される。 【００２６】前記潤滑剤としては、例えばステアリン酸
、オレイン酸などの高級脂肪酸、これらの高級脂肪酸エ
ステル、流動パラフイン、スクアラン、フッ素樹脂など
が使用可能である。なお、潤滑剤の添加率は、前記強磁
性金属粉に対して１〜２５重量％が適当である。 【００２７】前記補強粉としては、例えば酸化アルミニ
ウム、酸化クロム、炭化ケイ素、窒化ケイ素などが用い
られる。なお、補強粉の添加率は、前記強磁性金属粉に
対して０．１〜２５重量％が適当である。 【００２８】磁性塗料の具体的な組成例を示せば次の通
りである。
磁性塗料組成例１ α−Ｆｅ
１００重量部（Ｈｃ：
１６５０Ｏｅ， 飽和磁化量：１３５ｅｍｕ／ｇ
平均長軸径：０．２５μｍ， 平均軸比：８） 塩
化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体
１４．１重量部 ウレタン樹脂
８．５重量部 三官能性
イソシアネート化合物
５．６重量部 アルミナ
粉末（平均粒径０．４３μｍ）
２０重量部 カーボンブラツ
ク
２重量部
オレイン酸オレイル
７重量部 シクロヘキサノン
１５０重量部 トルエン
１５０重量部 【００２９】
磁性塗料組成例２ バリウムフエライト
１００重量部（Ｈｃ：５３０Ｏｅ
， 飽和磁化量：５７ｅｍｕ／ｇ， 平均粒径：０
．０４μｍ） 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合
体 １１．０重量部 ウレタン樹脂
６．６重量部 三
官能性イソシアネート化合物
４．４重量部 ア
ルミナ粉末（平均粒径０．４３μｍ）
１５重量部 カーボン
ブラツク
２重
量部 オレイン酸オレイル
７重量部 シクロヘキサノン
１５０重量部 トルエン
１５０重量部 【００３０】前述の磁性塗料組成例１または磁性塗料組
成例２の組成物をボールミル中でよく混合分散して磁性
塗料を調整し、これを７５μｍのポリエチレンテレフタ
レート（ＰＥＴ）のベースフイルムの両面に、乾燥厚み
が０．７μｍとなるように塗布し、乾燥したのち、カレ
ンダ処理を施して表面粗さＲａ（０．０８ｍｍカツトオ
フ）が０．０１μｍ以下の磁性層１４を形成した。 【００３１】このようにして構成された磁気デイスク２
の第２の磁性層１４ｂの表面にに連続あるいは不連続の
トラツキングサーボ用溝状凹部１５が、その幅ａ＝５μ
ｍで、トラツク幅＝ｂ（例えば１５μｍ）に相当する間
隔で同心円状に例えばエンボス加工などによつて多数形
成される。この凹部１５の全体的なパターンの一例を示
せば図３のように磁気デイスク２の回転中心と同心円状
に形成されており、図３、図７ならびに図８に示すよう
に凹部１５と凹部１５との間が実質的な記録トラツク部
１６となる。この凹部１５は後述のようにスタンパによ
る圧縮で形成されるもので、図８に示すように断面形状
が逆台形の凹部１５の形成にともないその周囲が盛り上
がり、そのために記録トラツク１６の両側に断面形状が
ほぼ山形の突部１７が連続あるいは不連続の状態で形成
される。またこの突部１７、１７の間には、その突部１
７よりも相対的に低くなった（しかし、前記凹１部より
も浅い）低部１８が形成され、この低部１８が丁度、磁
気ヘツド装置の磁気ギヤツプ（図示せず）と対向するこ
とになる。 【００３２】図８は第２の磁性層１４ｂの表面を表面粗
さ計で測定した状態を示すチヤートで、同図に示すよう
に、突部１７の形状ならびに高さは必ずしも一定してい
ないが、全体的に断面形状が山形をしており、低部１８
はほぼ同じレベルに形成されていることがわかる。 【００３３】同図に示すように、各低部１８の底面を通
る基準ラインＬを引いたとき、その基準ラインＬからの
凹部１５の平均深さは０．０１〜０．５μｍ（実施例で
は約０．１５μｍ）、突部１７の平均高さは０．０１〜
０．１μｍ（実施例では約０．０５μｍ）、また低部１
８の底面から突部１７の頂部までの平均段差は０．０１
〜０．１μｍ（実施例では約０．０５μｍ）が適当であ
る。 【００３４】図９は、前記凹部１５を形成する工程を説
明するための図である。センタハブ１２を取りつけた磁
気デイスク２が、基台１９にセツトされる。この基台１
９にはセンタハブ１２の中央孔２０（図３参照）に挿入
されるガイドピン２１が突設されており、センタハブ１
２の中央孔２０にこのガイドピン２１を通すようにして
磁気デイスク２を基台１９上に載置することにより、基
台１９上で磁気デイスク２が位置決めされる。 【００３５】この基台１９の上方には、それと平行にス
タンパ２２が上下動可能に配置されている。そしてこの
スタンパ２２は基台１９のガイドピン２１によつて、上
下動がガイドされるようになつている。また、スタンパ
２２には、凹部１５を形成するための微細な突部２３が
多数同心円状に形成されている。 【００３６】図９の状態からスタンパ２２を下げて、磁
気デイスク２の磁気シート１１を基台１９とスタンパ２
２との間において所定の圧力で挟持する。これによつて
スタンパ２２に形成されている突部２３が第２の磁性層
１４ｂの表面に食い込み、図８に示すように圧縮によつ
て断面形状が逆ほぼ台形の凹部１５が形成されるととも
に、磁性層１４ｂの一部が押しやられて突部１７が形成
される。このようにして形成された突部１７は、低部１
８に比べて磁性層中の磁性粉、補強粉ならびにバインダ
の充填率が高くなって、機械的強度が大きく、磨耗しに
くい構造となる。 【００３７】図１０は、本発明で使用される第１の磁気
ヘツド装置８ａの上面図である。同図に示すように磁気
ヘツド装置８ａは、Ｍｏ−Ｎｉ−Ｆｅ合金、Ａｌ−Ｓｉ
−Ｆｅ合金、Ｎｉ−Ｚｎフエライトあるいはアモルフア
ス合金などの磁性材料からなる磁気コア２５ａと、その
磁気コア２５ａを保持する例えばチタン酸バリウムなど
の非磁性材からなるスライダ２６ａとから構成されてい
る。そのスライダ２６ａの磁気デイスク２と対向する上
面には空気抜き用の溝２７ａが貫通するように形成され
、この溝２７ａのほぼ中央の位置には発光素子２９が一
体に取りつけられている。 【００３８】図１１は、本発明で使用される第２の磁気
ヘツド装置８ｂの底面図である。この磁気ヘツド装置８
ｂも同様にＭｏ−Ｎｉ−Ｆｅ合金、Ａｌ−Ｓｉ−Ｆｅ合
金、Ｎｉ−Ｚｎフエライトあるいはアモルフアス合金な
どの磁性材料からなる磁気コア２５ｂと、その磁気コア
２５ｂを保持する例えばチタン酸バリウムなどの非磁性
材からなるスライダ２６ｂとから構成されている。その
スライダ２６ｂの磁気デイスク２と対向する下面には空
気抜き用の溝２７ｂが貫通するように形成され、この溝
２７のほぼ中央の位置、すなわち前記発光素子２９と対
向する位置には受光素子３０が一体に取りつけられてい
る。なお、発光素子２９ならびに受光素子３０はスライ
ダ２６ａ，２６ｂの中央部に限らず、例えばスライダ２
６ａ，２６ｂのデイスク回転方向上流側などスライダ２
６ａ，２６ｂの外周部に一体に取り付けてもよい。 【００３９】図１２ならびに図１３は、磁気デイスク２
のトラツキングサーボを説明するための図である。これ
らの図に示すように、磁気デイスク２の第１の磁性層１
４ａと対向する第１の磁気ヘツド装置８ａには、トラツ
キングサーボの光線を出射する例えばＬＥＤなどからな
る発光素子２９が一体に取りつけられている。また磁気
デイスク２の第２の磁性層１４ｂと対向する第２の磁気
ヘツド装置８ｂには、受光素子３０（実際には複数の検
出素子から構成されている。）が一体に取りつけられて
いる。なお、これら磁気ヘツド装置８ａ，８ｂの発光素
子２９ならびに受光素子３０が取りつけられた部分は、
それぞれ磁気デイスク２側に向けて開口している。 【００４０】発光素子２９からの光は、平坦な表面を有
する第１の磁性層１４ａ、ベースフイルム１３を透過し
、第２の磁性層１４ｂの凹部１５ならびにその凹部１５
の両側にある記録トラツク部１６の一部を透過し、受光
素子３０に受光される。前述のようにこの第１の磁性層
１４ａは表面状態が平坦になつているため、光が第１の
磁性層１４ａを透過する際にトラツキングサーボに悪影
響を及ぼすようなことがない。 【００４１】この受光素子３０からのそれぞれの検出信
号３１は図１３に示すようにサーボ信号演算部３２に入
力され、現時点での記録トラツク部１６に対する磁気ヘ
ツド装置８ａ（８ｂ）のずれ量、換言すればその記録ト
ラツク部１６に対する磁気ヘツド装置８ａ（８ｂ）の位
置修正量が演算される。 【００４２】そして現在、例えば第１の磁気ヘツド装置
８ａを使用して情報の書込み、読出し、消去のいずれか
の動作を行っているときは、前記サーボ信号演算部３２
によって求められた位置修正制御信号３３ａが第１のヘ
ツド駆動制御部３４ａに入力され、その制御信号３３ａ
に基づいて第１の磁気ヘツド装置８ａのトラツキング制
御が行われる。 【００４３】一方、第２の磁気ヘツド装置８ｂを使用し
て情報の書込み、読出し、消去のいずれかの動作を行っ
ているときは、前記サーボ信号演算部３２によつて求め
られた位置修正制御信号３３ｂが第２のヘツド駆動制御
部３４ｂに入力され、その制御信号３３ｂに基づいて第
２の磁気ヘツド装置８ｂのトラツキング制御が行われる
。なお、図中の３５は、磁気デイスク２を回転駆動する
ための駆動モータである。 【００４４】次に磁性層の厚さならびに磁性層の厚さに
対する凹部深さの比率について、種々検討した結果を説
明する。まず、磁性層の厚さとオーバライト特性との関
係について説明する。前記磁性塗料組成例２の磁性塗料
を使用して種々の厚さの磁性層を有する２ＭＢの磁気デ
イスクを製作して、各磁気デイスクのオーバライト特性
を測定した。この特性の試験条件としては、磁気デイス
クに対して最初、線記録密度が８．５ｋｆｃｉで所定の
信号を書込み、その後に線記録密度が２倍の１７ｋｆｃ
ｉで信号を書込んだときの、前の消え残り分と後から書
いた分の比率でオーバライト特性を評価し、その結果を
次の表に表した。 【００４５】 磁性層の厚さ（μｍ）
オーバライト特性（ｄＢ）
２．８
−２５
１．０
−３５
０．７
−４０
０．５
−４５
０．３
−４８
【００４６】こ
の表から明らかなように、従来のように磁性層の厚さが
２．５μｍもあると、オーバライト特性が−３０ｄＢよ
り大きいく、ノイズの点で問題がある。 これに対して磁性層の厚さが１μｍ以下になると、オー
バライト特性が−３０ｄＢ以下であり、特に磁性層の厚
さが０．７μｍ以下、さらに好ましくは０．５μｍ以下
のものは、オーバライト特性が非常に良好であり、信頼
性の高い磁気デイスクを提供することができる。このよ
うなことから、磁性層の厚さは１μｍ以下に規制するこ
とが好ましい。 【００４７】次に磁性層の厚さに対する凹部深さの比率
について説明する。前述のオーバライト特性の結果から
磁性層の厚さを１μｍに規定し、同じ形の凹部でその深
さを種々変えた場合のトラツキングサーボ時における凹
部の受光強度比を測定し、その結果を次の表に示す。な
お、表中の凹部の深さの比率とは、磁性層の厚さ（１μ
ｍ）に対する凹部の深さの比率を示すものである。また
凹部受光強度比とは、凹部を形成していない記録トラツ
ク部の反射による受光強度を１００とした場合の、凹部
の反射による受光強度の比率を示すものである。 【００４８】 凹部の深さ 凹部の深さの比率（％
） 凹部の受光強度比 （μｍ） ０．００ ０
１００
０．０
１ １
６５
０．０３
３
４２
０．０５ ５
３４
０．０７
７
３０
０．１０ １０
２９
【００４９】この表から明
らかなように、磁性層の厚さに対する凹部の深さの比率
が１％程度であれば、前述のように第２の磁性層の裏側
に反射手段を設けても、凹部を形成していない記録トラ
ツク部の反射による受光強度と余り差がなく、すなわち
凹部を形成した効果がはっきりと現れず、トラツキング
制御の信頼性が問題となる。 【００５０】これに対して磁性層の厚さに対する凹部の
深さの比率が３％以上、好ましくは５％以上、より好ま
しくは７％以上であれば、第２の磁性層の裏側に反射手
段を設けることとの共働で、凹部を形成していない記録
トラツク部の反射による受光強度との差が明確に現れ、
適切なトラツキング制御が可能となり、信頼性の向上が
図れる。 【００５１】なお、磁性層の厚さに対する凹部の深さの
比率は３％以上であれば深いほど、凹部を形成していな
い記録トラツク部の反射による受光強度との差が明確に
現れるため好ましい訳であるが、本発明の実施例のよう
にスタンパによる圧縮で凹部を形成する方法を採用した
場合、磁性層の厚さに対する凹部の深さの比率は実際問
題２０％が限度である。 【００５２】すなわち、凹部の深さの比率を例えば３０
％，４０％にすることも可能であるが、このようにする
ためにはスタンパの圧力を極めて高圧にする必要がある
。またこのように圧力が極めて高くなると、繰り返して
スタンパを使用していると、凹部を形成するための突部
の磨耗が激しくなり、スタンパの耐用寿命が短いばかり
でなく、突部の磨耗により凹部の形状が変わって、明確
な形状を有する凹部を形成することがてきなくなる。 【００５３】このようなことから、磁性層の厚さに対す
る凹部の深さの比率は２０％までに規制する方がよい。 従って本発明においては、磁性層の厚さに対する凹部の
深さの比率は３〜２０％の範囲に規制している。 【００５４】磁性層の厚さと、それに対する凹部の深さ
の好適な例を示せば下記の通りである。 磁性層の厚さ（μｍ） 凹部の深さ（μｍ）
凹部の深さの比率（％） １．０
０．０７
７
０．７
０．０５ ７
０
．５ ０．０３
６
【００５５】 【効果】本発明は前述したように、磁性層の膜厚を１μ
ｍ以下に規制することにより、磁気デイスクのオーバラ
イト特性を改善して、ノイズの少ない磁気デイスクを得
ることができる。また、第２の磁性層の外表面付近に受
光素子を設けることにより、光の透過で適正なトラツキ
ングサーボが実現でき、信頼性の向上が図れる。
【図１】本発明の実施例に係る磁気デイスクカートリツ
ジの一部を分解した斜視図である。
ジの一部を分解した斜視図である。
【図２】その磁気デイスクカートリツジに用いられる磁
気デイスクの拡大断面図である。
気デイスクの拡大断面図である。
【図３】その磁気デイスクカートリツジに用いられる磁
気デイスクの平面図である。
気デイスクの平面図である。
【図４】その磁気デイスクカートリツジに用いられるク
リーニングシートの拡大断面図である。
リーニングシートの拡大断面図である。
【図５】その磁気デイスクカートリツジの使用状態を示
す磁気ヘツド挿入口付近の拡大断面図である。
す磁気ヘツド挿入口付近の拡大断面図である。
【図６】その磁気デイスクカートリツジの弾性片付近の
拡大断面図である。
拡大断面図である。
【図７】その磁気デイスクカートリツジに用いられる磁
気デイスクの一部拡大平面図である。
気デイスクの一部拡大平面図である。
【図８】その磁気デイスクの表面状態を示すチヤートで
ある。
ある。
【図９】その磁気デイスクの溝加工を説明するための図
である。
である。
【図１０】第１の磁気ヘツド装置の上面図である。
【図１１】第２の磁気ヘツド装置の底面図である。
【図１２】磁気ヘツドのトラツキングを説明するための
図である。
図である。
【図１３】磁気ヘツドのトラツキングを説明するための
図である。
図である。
【図１４】従来提案された磁気デイスクの拡大断面図で
ある。
ある。
【図１５】その磁気デイスクの平面図である。
１ カートリツジケース
２ 磁気デイスク
８ａ 第１の磁気ヘツド装置
８ｂ 第２の磁気ヘツド装置
１１ 磁気シート
１３ ベースフイルム
１４ａ 第１の磁性層
１４ｂ 第２の磁性層
１５ 凹部
１６ 記録トラツク部
１７ 突部
１８ 低部
２２ スタンパ
２３ 突部
２５ 磁気コア
２６ スライダ
２９ 発光素子
３０ 受光素子
３１ 検出信号
３２ サーボ信号演算部
３３ａ 位置修正制御信号
３３ｂ 位置修正制御信号
３４ａ 第１のヘツド駆動制御信号
３４ｂ 第２のヘツド駆動制御信号
３５ 駆動モータ
Claims (6)
- 【請求項１】 透明でフレキシブルなベースフイルム
の両面に磁性層が形成されて，その両方の磁性層の膜厚
がそれぞれ１μｍ以下に規制され、一方の第１の磁性層
の表面は平坦に形成されて、その第１の磁性層と反対側
の第２の磁性層の外表面に当該磁気デイスクの回転方向
に沿って延びたトラツキングサーボ用の凹部を設けたフ
レキシブル磁気デイスクを装着して回転駆動する駆動手
段と、前記第１の磁性層と対向する側に配置されたトラ
ツキングサーボ用の発光素子と、前記第２の磁性層と対
向する側に配置され、前記磁気デイスクを透過したトラ
ツキングサーボ用の光線を検知する受光素子とを設けた
ことを特徴とする磁気記録再生装置。 - 【請求項２】 請求項１記載において、前記トラツキ
ングサーボ用の発光素子が前記第１の磁性層に情報の書
込み、読出しを行う第１の磁気ヘツド装置に一体に設け
られ、前記受光素子が前記第２の磁性層に情報の書込み
、読出しを行う第２の磁気ヘツド装置に一体に設けられ
て、前記フレキンシブル磁気デイスクが前記第１の磁気
ヘツド装置と第２の磁気ヘツド装置との間に回転可能に
挟まれていることを特徴とする磁気記録再生装置。 - 【請求項３】 請求項１記載において、前記第２の磁
性層が少なくとも磁性粉とバインダとを有して塗着形成
され、その磁性層を部分的に圧縮することにより前記凹
部が形成されていることを特徴とする磁気記録再生装置
。 - 【請求項４】 請求項１記載において、前記第２の磁
性層に形成されている凹部の断面形状が逆台形をしてい
ることを特徴とする磁気記録再生装置。 - 【請求項５】 透明でフレキシブルなベースフイルム
の両面に磁性層が形成されて，その両方の磁性層の膜厚
がそれぞれ１μｍ以下に規制され、一方の第１の磁性層
の表面は平坦に形成されて、その第１の磁性層と反対側
の第２の磁性層の外表面に当該磁気デイスクの回転方向
に沿って延びたトラツキングサーボ用の凹部を設けたフ
レキシブル磁気デイスクを記録再生装置の駆動手段に装
着して、前記第１の磁性層と対向する側にトラツキング
サーボ用の発光素子を配置し、前記第２の磁性層と対向
する側に受光素子を配置し、前記発光素子からの光線を
前記磁気デイスクを透過させて前記受光素子で受光しな
がら磁気ヘツド装置のトラツキングサーボを行うことを
特徴とする磁気記録再生方法。 - 【請求項６】 請求項５記載において、前記トラツキ
ングサーボ用の発光素子が前記第１の磁性層に情報の書
込み、読出しを行う第１の磁気ヘツド装置に一体に設け
られ、前記受光素子が前記第２の磁性層に情報の書込み
、読出しを行う第２の磁気ヘツド装置に一体に設けられ
て、前記フレキンシブル磁気デイスクが前記第１の磁気
ヘツド装置と第２の磁気ヘツド装置との間に回転可能に
挟まれていることを特徴とする磁気記録再生方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3085871A JPH04298869A (ja) | 1991-03-27 | 1991-03-27 | フレキシブル磁気デイスクを用いる記録再生装置ならびにその磁気デイスクを用いる記録再生方法 |
| US07/857,833 US5319507A (en) | 1991-03-27 | 1992-03-26 | Recording/reproducing system using a flexible magnetic disk |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3085871A JPH04298869A (ja) | 1991-03-27 | 1991-03-27 | フレキシブル磁気デイスクを用いる記録再生装置ならびにその磁気デイスクを用いる記録再生方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04298869A true JPH04298869A (ja) | 1992-10-22 |
Family
ID=13870963
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3085871A Withdrawn JPH04298869A (ja) | 1991-03-27 | 1991-03-27 | フレキシブル磁気デイスクを用いる記録再生装置ならびにその磁気デイスクを用いる記録再生方法 |
Country Status (2)
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|---|---|
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| JP (1) | JPH04298869A (ja) |
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