JPH0536055A - 磁気記録媒体ならびにその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 磁気ヘツドの中心をリフアレンストラツクの
中心線上に適正に導くことができる、信頼性の高い磁気
記録媒体を提供するにある。 【構成】 磁性層の所定位置にリフアレンス部１１が設
けられ、リフアレンス部１１から磁気ヘツド走行方向と
直交する方向に所定間隔離れた位置に磁気ヘツドトラツ
キング用光学凹部２３とデータトラツク１４とが交互に
多数形成され、前記リフアレンス部１１は、それの中心
線１６上の任意の点１７を中心にして点対称に一対のリ
フアレンス凹部領域１８Ａ，１８Ｂ（凹部２０）が設け
られ、リフアレンス凹部領域１８Ａ，１８Ｂの隣に凹部
のない平面部１９Ａ，１９Ｂが形成され、その平面部１
９Ａ，１９Ｂが磁気ヘツドなどによつて一様に同極に磁
化されていることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えばフレキシブル磁
気デイスクなどの磁気記録媒体に係り、特に光学的にト
ラツキングができる磁気記録媒体ならびにその製造方法
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】フレキシブル磁気デイスクにおいて、そ
れのドーナツ状記録帯域の最内周にリフアレンストラツ
クを形成し、そのリフアレンストラツクから半径方向外
側に向けて所定の間隔離れ、かつ前記リフアレンストラ
ツクと同心円状の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部を
リング状に多数形成し、各リング状磁気ヘツドトラツキ
ング用光学凹部の間をデータトラツクとしたものが知ら
れている（例えば特公平２−３１３８７号公報参照）。

【０００３】この磁気デイスクの前記リフアレンストラ
ツクには、所定の信号が予め記録されている。そしてこ
の磁気デイスクに所望の情報を記録したり、記録した情
報を再生するときには、まず記録帯域の最内周にあるリ
フアレンストラツクの信号を磁気ヘツドで読み取つて、
磁気デイスク上における磁気ヘツドの基準位置を求め
る。そして磁気ヘツドを所定のピツチ径方向外側に移送
し、今度は発光素子と受光素子とを対にした光学的手段
により前記磁気ヘツドトラツキング用光学凹部を走査し
てデータトラツクのトラツキングサーボを行いながら、
情報の記録あるいは再生を行うシステムになつている。

【０００４】図１６ならびに図１７は、従来のリフアレ
ンストラツクの一部拡大平面図ならびに一部拡大断面図
である。リフアレンストラツク１００は図１６に示すよ
うに磁気ヘツドの走行方向Ｘに沿つて延びており、リフ
アレンストラツク１００の中心線１０１上の任意の点１
０２を中心として点対称に長方形のリフアレンス凹部１
０３Ａと１０３Ｂが一対に形成され、このリフアレンス
凹部１０３Ａの隣（リフアレンス凹部１０３Ｂの前方）
ならびにリフアレンス凹部１０３Ｂの隣（リフアレンス
凹部１０３Ａの後方）には凹部のない平面部１０４Ａと
１０４Ｂとがある。これら一組のリフアレンス凹部１０
３Ａ、１０３Ｂ、平面部１０４Ａ、１０４Ｂが、磁気ヘ
ツドの走行方向Ｘに沿つて間欠的に多数形成されること
により、リフアレンストラツク１００を構成している。

【０００５】前記リフアレンス凹部１０３Ａ、１０３Ｂ
は、図１７に示すように磁性層１０５の表面を金型でプ
レスして圧縮することにより形成される。

【０００６】リフアレンストラツク１００の全域にわた
つて所定の高周波の信号が記録されるが、前記リフアレ
ンス凹部１０３Ａ、１０３Ｂは凹んでいるため信号が記
録されず、平面部１０４Ａ、１０４Ｂに信号が記録され
るようになつている。そしてこのリフアレンストラツク
１００の上を磁気ヘツドで走査することによつて得られ
る信号波形に基づいて、現在の磁気ヘツド位置にフイー
ドバツクをかけリフアレンストラツク１００の中心線１
０１上に導くことができる。

【０００７】このようにして磁気ヘツドを磁気デイスク
上の基準位置に置いたのち、その基準位置から所定の距
離だけ磁気ヘツドを径方向外側、すなわちデータトラツ
ク上に移送するようになつている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】ところで従来のリフア
レンス凹部１０３Ａ、１０３Ｂは図１６に示すように、
その全長にわたつて連続して凹んでおり、比較的大きな
面積を有する凹部となつている。一方、磁性層１０５は
磁性粉の他にバインダー、研磨剤、フイラー、潤滑剤な
どを含有しており、ある程度の弾力性を有している。

【０００９】そのためリフアレンス凹部１０３Ａ、１０
３Ｂを金型でプレスして形成したとき、図１７に一点鎖
線で示すようにスプリングバツクによりリフアレンス凹
部１０３Ａ、１０３Ｂの中央部１０６が膨らんだ形にな
り、完全な凹部とならないことが多い。このような傾向
は、リフアレンス凹部１０３Ａ、１０３Ｂの磁気ヘツド
走行方向Ｘの長さが長くなればなるほど顕著に現れる。

【００１０】そのため、リフアレンストラツク１００に
高周波信号を記録するとき、リフアレンス凹部１０３
Ａ、１０３Ｂの中央部１０６にも信号が記録されてしま
い、したがつて磁気ヘツドの中心をリフアレンストラツ
ク１００の中心線上に適正に導くことが出来ず、信頼性
に問題がある。

【００１１】本発明の目的は、このような従来技術の欠
点を解消し、磁気ヘツドの中心をリフアレンストラツク
の中心線上に適正に導くことができる、信頼性の高い磁
気記録媒体ならびにその製造方法を提供するにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、非磁性体からなる基体と、その基体の上
に形成された磁性層を有し、その磁性層の所定位置にリ
フアレンス部が設けられ、そのリフアレンス部から磁気
ヘツド走行方向と直交する方向に所定間隔離れた位置に
第１の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部が設けられ、
その第１の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部から磁気
ヘツド走行方向と直交する方向に所定間隔離れた位置に
第２の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部が設けられ、
前記第１の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部と第２の
磁気ヘツドトラツキング用光学凹部との間に、所望の信
号を記録する第１のデータトラツクが形成され、前記リ
フアレンス部は、それの中心線上の任意の点を中心にし
て点対称状に一対のリフアレンス凹部領域が設けられ、
そのリフアレンス凹部領域の隣に凹部のない平面部が形
成され、その平面部が一様に同極に磁化されていること
を特徴とするものである。なお、前記リフアレンス凹部
領域は中心線上の任意の点を中心にして完全な点対称で
あつてもよいが、前記リフアレンス部は通常、円弧状に
形成されるので完全な点対称から僅かにずれた配置とな
るので、本発明ではこれらを総称して点対称状と総称し
ている。

【００１３】上記目的を達成するために、さらに本発明
は、非磁性体からなる基体と、その基体の上に形成され
た磁性層を有し、その磁性層の所定位置にリフアレンス
部が設けられ、そのリフアレンス部から磁気ヘツド走行
方向と直交する方向に所定間隔離れた位置に第１の磁気
ヘツドトラツキング用光学凹部が設けられ、その第１の
磁気ヘツドトラツキング用光学凹部から磁気ヘツド走行
方向と直交する方向に所定間隔離れた位置に第２の磁気
ヘツドトラツキング用光学凹部が設けられ、前記第１の
磁気ヘツドトラツキング用光学凹部と第２の磁気ヘツド
トラツキング用光学凹部との間に、所望の信号を記録す
る第１のデータトラツクが形成され、前記リフアレンス
部は、それの中心線上の任意の点を中心にして点対称状
に一対のリフアレンス凹部領域が設けられ、そのリフア
レンス凹部領域の隣に凹部のない平面部が形成された磁
気記録媒体の製造方法において、前記リフアレンス凹部
領域の凹部を例えばプレスなどによつて形成したのち、
そのリフアレンス部を例えば磁気ヘツドあるいは永久磁
石などによつて、前記磁性層に使用している磁性粉の保
磁力以上の直流磁界で磁化したことを特徴とするもので
ある。

【００１４】

【作用】本発明は前述のように、直流磁界で平面部を一
様に同極に磁化することにより、平面部の端縁、すなわ
ち平面部の凹部と隣接するエツジの部分に相当する所で
出力波形に急激な変化が現れる。リフアレンス部の凹部
をプレスなどで形成して凹部の底面にスプリングバツク
による湾曲状の突出部分が形成され、その突出部分が前
記直流磁界によつて磁化されても、湾曲突出部からの出
力波形よりも前記平面部の端縁部分の急激な出力波形の
変化の方がはるかに大である。そのためリフアレンス部
の平面部（凹部）を明確に検出することができ、その結
果、磁気ヘツドの中心がリフアレンストラツクの中心線
上に適正に導かれ、磁気記録媒体の信頼性を向上するこ
とができる。

【００１５】

【実施例】次に本発明の実施例を図とともに説明する。
図１は実施例に係る磁気デイスクカートリツジの一部を
分解した斜視図、図２は磁気シートの拡大断面図、図３
は磁気デイスクの平面図である。

【００１６】図１に示すように磁気デイスクカートリツ
ジは、カートリツジケース１と、その中に回転自在に収
納されたフレキシブルな磁気デイスク２と、カートリツ
ジケース１にスライド可能に取り付けられたシヤツタ３
と、カートリツジケース１の内面に溶着されたクリーニ
ングシート（図示せず）とから主に構成されている。

【００１７】前記カートリツジケース１は、上ケース１
ａと下ケース１ｂとから構成され、これらは例えばＡＢ
Ｓ樹脂などの硬質合成樹脂から射出成形されている。下
ケース１ｂの略中央部には回転駆動軸挿入用の開口４が
形成され、その近くに長方形のヘツド挿入口５が形成さ
れている。図示していないが、上ケース１ａにも同様に
ヘツド挿入口５が形成されている。上ケース１ａと下ケ
ース１ｂの前面付近には、前記シヤツタ３のスライド範
囲を規制するために少し低くなつた凹部６が形成され、
この凹部６の中間位置に前記ヘツド挿入口５が開口して
いる。

【００１８】前記磁気デイスク２は図３に示すように、
ドーナツ状のフレキシブルな磁気シート７と、その磁気
シート７の中央孔に挿入されて接着された金属製あるい
は合成樹脂製のセンタハブ８とから構成されている。

【００１９】前記磁気シート７は、ベースフイルム９
と、そのベースフイルム９の両面に塗着、形成された磁
性層１０ａ、１０ｂとから構成されている。前記ベース
フイルム９は、例えばポリエチレンテレフタレート（Ｐ
ＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）あるいは
ポリイミドなどの合成樹脂フイルムから構成されてい
る。

【００２０】前記磁性層１０ａ、１０ｂは、強磁性粉、
バインダ、研磨粉ならびに潤滑剤などの混合物から構成
されている。

【００２１】前記強磁性粉としては、例えばα−Ｆｅ、
バリウムフエライト、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｐ、γ−Ｆｅ
₂ Ｏ₃ 、Ｆｅ₃ Ｏ₄ 、Ｃｏ含有γ−Ｆｅ₂ Ｏ₃ 、Ｃｏ含
有γ−Ｆｅ₃ Ｏ₄ 、ＣｒＯ₂ 、Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉなどが
使用される。

【００２２】前記バインダとしては、例えば塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニ
ルアルコール共重合体、ウレタン樹脂、ポリイソシアネ
ート化合物、放射線硬化性樹脂などが使用される。

【００２３】前記研磨粉としては、例えば酸化アルミニ
ウム、酸化クロム、炭化ケイ素、窒化ケイ素などが用い
られる。この研磨粉の添加率は、磁性粉に対して約０．
１〜２５重量％が適当である。

【００２４】前記潤滑剤としては、例えばステアリン
酸、オレイン酸などの高級脂肪酸、これらの高級脂肪酸
エステル、流動パラフイン、スクアラン、フツ素樹脂、
フツ素オイルなどが使用可能である。この潤滑剤の添加
率は、磁性粉に対して約０．１〜２５重量％が適当であ
る。

【００２５】磁性塗料の具体的な組成例を示せば次の通
りである。 磁性塗料組成例 １ α−Ｆｅ １００重量部 （Ｈｃ：１６５００〔Ｏｅ〕，飽和磁化量：１３５〔ｅｍｕ／ｇ〕， 平均長軸径：０．２５〔μｍ〕，平均軸比：８） 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体 １４．１重量部 ウレタン樹脂 ８．５重量部 三官能性イソシアネート化合物 ５．６重量部 酸化アルミニウム粉末（平均粒径０．４３〔μｍ〕） ２０重量部 カーボンブラツク ２重量部 オレイン酸オレイル ７重量部 シクロヘキサノン １５０重量部 トルエン １５０重量部

【００２６】 磁性塗料組成例 ２ バリウムフエライト １００重量部 （Ｈｃ：５３０〔Ｏｅ〕，飽和磁化量：５７〔ｅｍｕ／ｇ〕， 平均粒径：０．０４〔μｍ〕） 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体 １１．０重量部 ウレタン樹脂 ６．６重量部 三官能性イソシアネート化合物 ４．４重量部 酸化アルミニウム粉末（平均粒径０．４３〔μｍ〕） １５重量部 カーボンブラツク ２重量部 オレイン酸オレイル ７重量部 シクロヘキサノン １５０重量部 トルエン １５０重量部

【００２７】前述の磁性塗料組成例１または磁性塗料組
成例２の組成物をボールミル中でよく混合分散して磁性
塗料を調整し、これを６２μｍのポリエチレンテレフタ
レート（ＰＥＴ）のベースフイルムの両面に、乾燥厚み
が０．７μｍとなるように塗布し、乾燥したのち、カレ
ンダ処理を施して磁性層１０ａ、１０ｂをそれぞれ形成
する。

【００２８】このようにして構成された磁気デイスク２
の磁性層１０ａの表面に、図３に示すようにリフアレン
ストラツク１１と、多数の磁気ヘツドトラツキング用光
学トラツク１２が形成される。これらリフアレンストラ
ツク１１ならびに磁気ヘツドトラツキング用光学トラツ
ク１２は、磁気デイスク２の回転中心１３を中心にして
同心円状に設けられている。１つの磁気ヘツドトラツキ
ング用光学トラツク１２と隣の磁気ヘツドトラツキング
用光学トラツク１２との間に、所望の情報が記録できる
データトラツク１４が形成される。

【００２９】図３に示すように磁気デイスク２上に設け
られる記録帯域１５の最内周部に前記リフアレンストラ
ツク１１が形成され、それより径方向外側、すなわち磁
気ヘツドの走行方向と直交する方向外側に磁気ヘツドト
ラツキング用光学トラツク１２とデータトラツク１４が
交互に多数形成される。

【００３０】前記リフアレンストラツク１１は図４に示
すように、磁気ヘツドの走行方向Ｘに沿つて延びてお
り、リフアレンストラツク１１の中心線１６上の任意の
点１７を中心として点対称状に長方形のリフアレンス凹
部領域１８Ａとリフアレンス凹部領域１８Ｂが一対にな
つて形成されている。このリフアレンス凹部領域１８Ａ
の隣（リフアレンス凹部領域１８Ｂの前方）ならびにリ
フアレンス凹部領域１８Ｂの隣（リフアレンス凹部領域
１８Ａの後方）には凹部のない平面部１９Ａと平面部１
９Ｂとがある。これら一組のリフアレンス凹部領域１８
Ａ、１８Ｂ、平面部１９Ａ、１９Ｂが、磁気ヘツドの走
行方向Ｘに沿つて間欠的または連続的に多数形成される
ことにより、リフアレンストラツク１１を構成してい
る。

【００３１】図４に示すようにリフアレンス凹部領域１
８Ａ、１８Ｂには、磁気ヘツド走行方向Ｘと直交する方
向に延びた小凹部２０と凹んでいない小フラツト部２１
とが交互に多数形成されている。同図において３８は、
リフアレンス凹部領域１８Ａ、１８Ｂ、平面部１９Ａ、
１９Ｂの前方に設けられたリフアレンス信号検知用のス
タート信号を出力するためのスタート信号凹部である。

【００３２】図５（ａ）は、前記小凹部２０ならびに小
フラツト部２１の拡大断面図である。また図５（ｂ）
は、前記リフアレンス凹部領域１８Ａ（１８Ｂ）の直流
消去後の一部の再生出力波形を示す図である。この図に
示すように小フラツト部２１の小凹部２０と隣接するエ
ツジ部において極端な波形変化が認められる。

【００３３】図４においてＩの位置、ＩＩの位置ならび
にＩＩＩの位置で、リフアレンス凹部領域１８Ａの縦幅
Ｌ２より僅かに短いトラツク長を有する磁気ヘツドを矢
印方向に走査させたときの再生出力波形を、リフアレン
ストラツク１１を併記して図６に示す。なお、この図の
出力波形は微分波形を積分化したエンベロープ波形であ
る。

【００３４】同図の（Ｉ）は図４においてＩの位置で平
面部１９Ｂからリフアレンス凹部領域１８Ａにかけて磁
気ヘツドで走査させたときの出力波形で、断続波形が現
れたとき、磁気ヘツドが平面部１９Ｂとリフアレンス凹
部領域１８Ａの境界を通過したことを示している。

【００３５】また同図の（ＩＩ）は図４においてＩＩの
位置、すなわちリフアレンストラツク１１の中心線１６
上を走査させたときの出力波形で、波形の形状が連続し
た歯形の形状である。

【００３６】さらに同図の（ＩＩＩ）は図４においてＩ
ＩＩの位置でリフアレンス凹部領域１８から平面部１９
にかけて磁気ヘツドを走査させたときの出力波形で、断
続波形が消えたとき、磁気ヘツドがリフアレンス凹部領
域１８Ｂと平面部１９Ａの境界を通過したことを示して
いる。

【００３７】このようにリフアレンストラツク１１上で
の磁気ヘツドの位置が変わると得られる波形の形状が全
く異なり、同図の（ＩＩ）のような出力波形が得られる
ように磁気ヘツドの位置を調整することにより、磁気ヘ
ツド（磁気ギヤツプ）の中心位置をリフアレンストラツ
ク１１の中心線１６上に導くことができる。

【００３８】この実施例において前記リフアレンス凹部
領域１８Ａ、１８Ｂの磁気ヘツド走行方向の長さＬ１は
２．４ｍｍ、幅方向の長さＬ２は１８μｍ、小凹部２０
の磁気ヘツド走行方向の長さＬ３は５μｍ、小フラツト
部２１の磁気ヘツド走行方向の長さＬ４は５μｍ（とも
に図４参照）、凹部２０の深さＬ５〔図５（ａ）参照〕
は０．３〜０．４μｍである。なおこれら各部の長さな
らびに深さは、磁性層１０の組成、物性ならびに厚さな
どによつて適宜設定される。

【００３９】リフアレンストラツク１１の全域（リフア
レンス凹部領域１８Ａと平面部Ａの合計幅）にわたつ
て、磁気ヘツドにより直流消去がなされる。前述の磁性
塗料組成例２で示したように磁性材料としてバリウムフ
エライトを使用すると、それの保磁力（Ｈｃ）は５３０
〔Ｏｅ〕であるから、本実施例では１０００〔Ｏｅ〕か
ら３０００〔Ｏｅ〕の直流磁界によつてリフアレンスラ
ツク１１の全域を消去した。この消去により、前記平面
部１９Ａ、１９Ｂが一様に同極に磁化される。なお、本
発明で使用される直流磁界は、磁性層の保磁力（Ｈｃ）
の２倍以上、好ましくは４〜１０倍以上の磁力を印加す
ればよい。

【００４０】前記磁気ヘツド３０ａは図７に示すよう
に、例えばＭｏ−Ｎｉ−Ｆｅ合金、Ａｌ−Ｓｉ−Ｆｅ合
金、Ｎｉ−Ｚｎフエライトあるいはアモルフアス合金な
どの磁性材料からなる磁気コア３３と、その磁気コア３
３を保持する例えばチタン酸バリウムなどの非磁性材料
からなるスライダ３４とから構成されている。このスラ
イダ３４の磁気デイスク２と対向する下面には空気抜き
用の溝３５が形成され、その溝３５のほぼ中央部には開
口部が設けられている。

【００４１】磁気ヘツド３０ａによつてリフアレンスト
ラツク１１の全域を直流消去したのち、磁気ヘツドで再
生したときの出力波形を前述のように図５（ｂ）に示
す。この図に示すように、小フラツト部２１の端縁、す
なわち小フラツト部２１の小凹部２０と隣接するエツジ
付近において出力波形に急激な変化が認められ、小凹部
２０の検出が確実である。

【００４２】このように磁気ヘツドの中心位置をリフア
レンストラツク１１の中心線１６上、すなわち基準位置
に合わせると同時に、磁気ヘツドに固定されている発光
素子３１と受光素子群３２とからなる光デイテクタ３６
で磁気デイスク２上に形成されている磁気ヘツドトラツ
キング用光学トラツク１２間の光デイテクタ３６の位置
を検出する。そしてこのトラツク１２に対する光デイテ
クタ３６の位置的なずれ量を演算し、そのずれ量に基づ
いて磁気ヘツドのトラツキングサーボを行う。

【００４３】すなわち、磁気ヘツドキヤリツジを移送す
るモータ（図示せず）を回転して、磁気ヘツド（磁気ギ
ヤツプ）の中心位置を第１データトラツクの中心線２４
近くまで移動させる。そして磁気ヘツドのトラツキング
サーボは、前記磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク
１２を利用して行われる。

【００４４】この磁気ヘツドトラツキング用光学トラツ
ク１２にも、図８に示すようにトラツキング用凹部２３
が、磁気ヘツド走行方向Ｘに沿つて間欠的にまたは連続
的に形成されている。この実施例の場合、磁気ヘツドト
ラツキング用光学トラツク１２（トラツキング用凹部２
３）の幅Ｌ６は５μｍ、データトラツク１４の幅Ｌ７は
１５μｍである。

【００４５】次にトラツキングサーボについて図９ない
し図１２を用いて説明する。前記磁気ヘツドトラツキン
グ用光学トラツク１２の各トラツキング用凹部２３は、
図９に示すように同時にプレス加工によつて形成され
る。同図に示すようにセンタハブ８を取り付けた磁気デ
イスク２が、基台２５にセツトされる。この基台２５に
はセンタハブ８の中央孔２６（図３参照）に挿入される
センターピン２７が突設されており、センタハブ８の中
央孔２６にこのセンターピン２７を通して磁気デイスク
２を基台２５上に載置することにより、基台２５上で磁
気デイスク２が位置決めされる。

【００４６】この基台２５の上方には、それと平行にス
タンパ２８が上下動可能に配置されている。そしてこの
スタンパ２８は、センターピン２７によつて上下動がガ
イドされるようになつている。このスタンパ２８には、
前記リフアレンス用凹部２０ならびにトラツキング用凹
部２３を形成するための微細な突部２９が形成されてい
る。

【００４７】図９の状態からスタンパ２８を下げて、磁
気デイスク２の磁気シート７を基台２５とスタンパ２８
との間において所定の圧力で挟持する。これによつてス
タンパ２８に形成されている突部２９が磁性層１０の表
面に食い込み、圧縮により断面形状が略台形のリフアレ
ンス用凹部２０ならびにトラツキング用凹部２３が一度
に形成される。

【００４８】図１０ないし図１２は、磁気デイスク２の
トラツキングサーボを説明するための図である。これら
の図に示すように磁気デイスク２は磁気ヘツド３０ａ、
３０ｂの間で挟持され、その磁気ヘツド３０ａの方に
は、トラツキングサーボ用の光線を出力する例えばＬＥ
Ｄなどからなる発光素子３１と、磁性層１０ａからの反
射光を受光する受光素子群３２とが一体に取り付けられ
ている。

【００４９】図１０に示すように磁気ヘツド３０ａの発
光素子３１ならびに受光素子群３２からなる光デテクタ
３６が取り付けられている部分には、磁気デイスク２側
に向けて開口部が形成されている（なお、この図におい
て光デテクタ３６は便宜上、図６の光デテクタ３６より
も大きく描かれている）。

【００５０】受光素子群３２は図１１に示すように４つ
の受光素子３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、３２ｄから構成さ
れており、データトラツク１４ならびにトラツキング用
凹部２３上で反射する光をこの受光素子３２ａ、３２
ｂ、３２ｃ、３２ｄで受光して、各受光素子３２ａ、３
２ｂ、３２ｃ、３２ｄの出力は図１２に示すようにサー
ボ信号演算部３３に入力される。そしてこのサーボ信号
演算部３３で求められた位置修正信号がヘツド駆動制御
部３４に入力され、それからの制御信号に基づいて磁気
ヘツド３０のトラツキング制御が成される。

【００５１】図１３は、リフアレンストラツク１１の変
形例を示す図である。この例の場合リフアレンス凹部領
域１８Ａ、１８Ｂには、従来と同様にそれの全領域にわ
たつて凹部２０ａがプレスによつて形成されている。こ
の凹部２０ａの断面形状を図１４の（ａ）に示す。凹部
２０ａがプレスによつて形成されるためスプリングバツ
クにより、同図に示すように凹部２０のほぼ中央には湾
曲状に突出した突出部３７が形成される。

【００５２】その突出部３７が直流磁界によつて磁化さ
れても、曲面がなだらかであるため出力波形の変化が緩
やかであり、その湾曲突出部３７からの出力波形よりも
平面部１９のエツジ部の急激な出力波形の変化の方がは
るかに大で、明確に区別することができ、平面部１９
（凹部２０ａ）を明確に検出することが可能である。

【００５３】図１５はリフアレンストラツク１１のさら
に変形例を示す図で、この例の場合、小凹部２０ａと比
較的小さい平面部１９とが磁気ヘツドの走行方向Ｘに沿
つて交互に多数形成されている。この図１５のように上
側小凹部２０ａの下端と下側小凹部２０ａの上端とが隣
接した形状に限らず、上側小凹部２０ａの下端と下側小
凹部２０ａの上端とが所定の間隔で離間したものであつ
てもよい。

【００５４】前記実施例では記録帯域の最内周部にリフ
アレンストラツクを設けたが、記録帯域の最外周部にリ
フアレンストラツクを設けることもできる。

【００５５】前記実施例では凹部をプレスによつて圧縮
形成したが、磁性層にレーザ光を照射させたり、あるい
は打抜きによつて凹部を形成することもできる。

【００５６】また、前記実施例では磁気デイスクの場合
について説明したが、本発明は例えば磁気カードなど他
の形態の磁気記録媒体にも適用できる。

【００５７】

【発明の効果】本発明は前述のように、直流磁界で平面
部を一様に同極に磁化することにより、平面部の端縁、
すなわち平面部の凹部と隣接するエツジの部分に相当す
る所で出力波形に急激な変化が現れる。これを利用して
磁気ヘツドの中心をリフアレンストラツクの中心線上に
適正に導くことができ、その結果、磁気記録媒体の信頼
性が向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例に係る磁気デイスクカートリツ
ジの一部を分解した斜視図である。

【図２】磁気シートの拡大断面図である。

【図３】磁気デイスクの平面図である。

【図４】リフアレンストラツクの一部拡大平面図であ
る。

【図５】リフアレンストラツクの一部拡大断面図ならび
に再生出力波形図である。

【図６】リフアレンストラツクの再生出力波形図であ
る。

【図７】磁気ヘツドの底面図である。

【図８】リフアレンストラツクならびに磁気ヘツドトラ
ツキング用光学トラツクを説明するための図である。

【図９】リフアレンストラツクならびに磁気ヘツドトラ
ツキング用光学トラツクを形成する装置の断面図であ
る。

【図１０】磁気ヘツドのトラツキングサーボを説明する
ための断面図である。

【図１１】受光素子の配置状態を示す説明図である。

【図１２】磁気ヘツドのトラツキングサーボを説明する
ためのブロツク図である。

【図１３】リフアレンストラツクの変形例を示す拡大平
面図である。

【図１４】リフアレンストラツクの一部拡大断面図なら
びに再生出力波形図である。

【図１５】リフアレンストラツクのさらに変形例を示す
拡大平面図である。

【図１６】従来のリフアレンストラツクの一部拡大平面
図である。

【図１７】従来のリフアレンストラツクの一部拡大断面
図である。

【符号の説明】

２ 磁気デイスク ７ 磁気シート ９ ベースフイルム １０ａ．１０ｂ 磁性層 １１ リフアレンストラツク １２ 磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク １４ データトラツク １５ 記録帯域 １６ 中心線 １７ 点 １８Ａ、１８Ｂ リフアレンス凹部領域 １９、１９Ａ、１９Ｂ 平面部 ２０ 凹部 ２０ａ 小凹部 ２１ 小フラツト部 ２３ トラツキング用凹部 Ｘ 磁気ヘツドの走行方向

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性体からなる基体と、その基体の上
   に形成された磁性層を有し、 その磁性層の所定位置にリフアレンス部が設けられ、 そのリフアレンス部から磁気ヘツド走行方向と直交する
   方向に所定間隔離れた位置に第１の磁気ヘツドトラツキ
   ング用光学凹部が設けられ、 その第１の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部から磁気
   ヘツド走行方向と直交する方向に所定間隔離れた位置に
   第２の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部が設けられ、 前記第１の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部と第２の
   磁気ヘツドトラツキング用光学凹部との間に、所望の信
   号を記録する第１のデータトラツクが形成され、 前記リフアレンス部は、それの中心線上の任意の点を中
   心にして点対称状に一対のリフアレンス凹部領域が設け
   られ、そのリフアレンス凹部領域の隣に凹部のない平面
   部が形成され、 その平面部が一様に同極に磁化されていることを特徴と
   する磁気記録媒体。
2. 【請求項２】 非磁性体からなる基体と、その基体の上
   に形成された磁性層を有し、 その磁性層の所定位置にリフアレンス部が設けられ、 そのリフアレンス部から磁気ヘツド走行方向と直交する
   方向に所定間隔離れた位置に第１の磁気ヘツドトラツキ
   ング用光学凹部が設けられ、 その第１の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部から磁気
   ヘツド走行方向と直交する方向に所定間隔離れた位置に
   第２の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部が設けられ、 前記第１の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部と第２の
   磁気ヘツドトラツキング用光学凹部との間に、所望の信
   号を記録する第１のデータトラツクが形成され、 前記リフアレンス部は、それの中心線上の任意の点を中
   心にして点対称に一対のリフアレンス凹部領域が設けら
   れ、そのリフアレンス凹部領域の隣に凹部のない平面部
   が形成された磁気記録媒体の製造方法において、 前記リフアレンス凹部領域の凹部を形成したのち、その
   リフアレンス部を一様に直流磁界で磁化したことを特徴
   とする磁気記録媒体の製造方法。
3. 【請求項３】 請求項２記載において、前記リフアレン
   ス部の平面部を磁気ヘツドによつて発生する直流磁界で
   磁化したことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。