JPH0536056A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 磁気ヘツドの中心をリフアレンストラツクの
中心線上に適正に導くことができる、信頼性の高い磁気
記録媒体を提供するにある。 【構成】 磁性層１０の所定位置にリフアレンストラツ
ク１１が設けられ、リフアレンストラツク１１から磁気
ヘツド走行方向と直交する方向に所定間隔離れた位置に
多数の磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク１２が設
けられ、各磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク１２
間にデータトラツク１４が形成され、前記リフアレンス
トラツク１１は、それの中心線１６上の任意の点１７を
中心にして点対称に一対のリフアレンス凹部領域１８
Ａ，１８Ｂが設けられ、リフアレンス凹部領域１８Ａ，
１８Ｂの隣に凹部のない平面部１９Ａ，１９Ｂが形成さ
れ、そのリフアレンス凹部領域１８Ａ，１８Ｂの凹部２
０がレーザカツトによつて形成されていることを特徴と
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えばフレキシブル磁
気デイスクなどの磁気記録媒体に係り、特に光学的にト
ラツキングができる磁気記録媒体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】フレキシブル磁気デイスクにおいて、そ
れのドーナツ状記録帯域の最内周にリフアレンストラツ
クを形成し、そのリフアレンストラツクから半径方向外
側に向けて所定の間隔離れ、かつ前記リフアレンストラ
ツクと同心円状の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部を
リング状に多数形成し、各リング状磁気ヘツドトラツキ
ング用光学凹部の間をデータトラツクとしたものが知ら
れている（例えば特公平２−３１３８７号公報参照）。

【０００３】この磁気デイスクの前記リフアレンストラ
ツクには、所定の信号が予め記録されている。そしてこ
の磁気デイスクに所望の情報を記録したり、記録した情
報を再生するときには、まず記録帯域の最内周にあるリ
フアレンストラツクの信号を磁気ヘツドで読み取つて、
磁気デイスク上における磁気ヘツドの基準位置を求め
る。そして磁気ヘツドを所定のピツチ径方向外側に移送
し、今度は発光素子と受光素子とを対にした光学的手段
により前記磁気ヘツドトラツキング用光学凹部を走査し
てデータトラツクのトラツキングサーボを行いながら、
情報の記録あるいは再生を行うシステムになつている。

【０００４】図１８ならびに図１９は、従来のリフアレ
ンストラツクの一部拡大平面図ならびに一部拡大断面図
である。リフアレンストラツク１００は図１８に示すよ
うに磁気ヘツドの走行方向Ｘに沿つて延びており、リフ
アレンストラツク１００の中心線１０１上の任意の点１
０２を中心として点対称に長方形のリフアレンス凹部１
０３Ａと１０３Ｂが一対に形成され、このリフアレンス
凹部１０３Ａの隣（リフアレンス凹部１０３Ｂの前方）
ならびにリフアレンス凹部１０３Ｂの隣（リフアレンス
凹部１０３Ａの後方）には凹部のない平面部１０４Ａと
１０４Ｂとがある。これら一組のリフアレンス凹部１０
３Ａ、１０３Ｂ、平面部１０４Ａ、１０４Ｂが、磁気ヘ
ツドの走行方向Ｘに沿つて間欠的に多数形成されること
により、リフアレンストラツク１００を構成している。

【０００５】前記リフアレンス凹部１０３Ａ、１０３Ｂ
は、図１９に示すように磁性層１０５の表面を金型でプ
レスして圧縮することにより形成される。

【０００６】リフアレンストラツク１００の全域にわた
つて一定の信号が記録されるが、前記リフアレンス凹部
１０３Ａ、１０３Ｂは凹んでいるため信号が記録され
ず、平面部１０４Ａ、１０４Ｂに信号が記録されるよう
になつている。そしてこのリフアレンストラツク１００
の上を磁気ヘツドで走査することによつて得られる信号
波形に基づいて、現在の磁気ヘツド位置にフイードバツ
クをかけリフアレンストラツク１００の中心線１０１上
に導くことができる。

【０００７】このようにして磁気ヘツドを磁気デイスク
上の基準位置に置いたのち、その基準位置から所定の距
離だけ磁気ヘツドを径方向外側、すなわちデータトラツ
ク上に移送するようになつている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】ところで従来のリフア
レンス凹部１０３Ａ、１０３Ｂは図１８に示すように、
その全長にわたつて連続して凹んでおり、比較的大きな
面積を有する凹部となつている。一方、磁性層１０５は
磁性粉の他にバインダー、研磨剤、フイラー、潤滑剤な
どを含有しており、ある程度の弾力性を有している。そ
のためリフアレンス凹部１０３Ａ、１０３Ｂを金型でプ
レスして形成したとき、図１９に一点鎖線で示すように
スプリングバツクによりリフアレンス凹部１０３Ａ、１
０３Ｂの中央部１０６が膨らんだ形になり、完全な凹部
とならないことが多い。このような傾向は、リフアレン
ス凹部１０３Ａ、１０３Ｂの磁気ヘツド走行方向Ｘの長
さが長くなればなるほど顕著に現れる。

【０００９】また、リフアレンス凹部１０３Ａ、１０３
Ｂは圧縮によつて形成されているのであるから、そのリ
フアレンス凹部１０３Ａ、１０３Ｂの下部には、磁性粉
の充填密度が他の部分に比較して高い薄層１０７が形成
されることになる。

【００１０】そのため、リフアレンストラツク１００に
信号を記録するとき、リフアレンス凹部１０３Ａ、１０
３Ｂの中央部１０６にも信号が記録されてしまい、した
がつて磁気ヘツドの中心をリフアレンストラツク１００
の中心線上に適正に導くことが出来ず、信頼性に問題が
ある。

【００１１】本発明の目的は、このような従来技術の欠
点を解消し、磁気ヘツドの中心をリフアレンストラツク
の中心線上に適正に導くことができる、信頼性の高い磁
気記録媒体を提供するにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、非磁性体からなる基体と、その基体の上
に形成された磁性層を有し、その磁性層の所定位置にリ
フアレンス部が設けられ、そのリフアレンス部から磁気
ヘツド走行方向と直交する方向に所定間隔離れた位置に
第１の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部が設けられ、
その第１の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部から磁気
ヘツド走行方向と直交する方向に所定間隔離れた位置に
第２の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部が設けられ、
前記第１の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部と第２の
磁気ヘツドトラツキング用光学凹部との間に、所望の信
号を記録する第１のデータトラツクが形成され、前記リ
フアレンス部は、それの中心線上の任意の点を中心にし
て点対称状に一対のリフアレンス凹部領域が設けられ、
そのリフアレンス凹部領域の隣に凹部のない平面部が形
成され、そのリフアレンス凹部領域の凹部がレーザ光に
よる掘削、すなちレーザカツトによつて形成されている
ことを特徴とするものである。尚、前記リフアレンス凹
部領域は中心線上の任意の点を中心にして完全な点対称
であつてもよいが、前記リフアレンス部は通常、円弧状
に形成されるので完全な点対称から僅かにずれた配置と
なるので、本発明ではこれらを総称して点対称状と称し
ている。

【００１３】

【作用】本発明は前述のように、リフアレンス凹部をレ
ーザカツトによつて形成することにより、そのリフアレ
ンス凹部に相当する部分の磁性粉やバインダなどが消失
する。そのため、従来のもののようにスプリングバツク
が生じたり、磁性粉の充填密度が部分的に高くなつたり
することがなく、きれいな凹部が形成される。したがつ
てリフアレンス凹部の所には信号は記録されず、磁気ヘ
ツドの中心をリフアレンストラツクの中心線上に適正に
導くことができ、信頼性の向上が図れる。

【００１４】

【実施例】次に本発明の実施例を図とともに説明する。
図１は実施例に係る磁気デイスクカートリツジの一部を
分解した斜視図、図２は磁気シートの拡大断面図、図３
は磁気デイスクの平面図である。

【００１５】図１に示すように磁気デイスクカートリツ
ジは、カートリツジケース１と、その中に回転自在に収
納されたフレキシブルな磁気デイスク２と、カートリツ
ジケース１にスライド可能に取り付けられたシヤツタ３
と、カートリツジケース１の内面に溶着されたクリーニ
ングシート（図示せず）とから主に構成されている。

【００１６】前記カートリツジケース１は、上ケース１
ａと下ケース１ｂとから構成され、これらは例えばＡＢ
Ｓ樹脂などの硬質合成樹脂から射出成形されている。下
ケース１ｂの略中央部には回転駆動軸挿入用の開口４が
形成され、その近くに長方形のヘツド挿入口５が形成さ
れている。図示していないが、上ケース１ａにも同様に
ヘツド挿入口５が形成されている。上ケース１ａと下ケ
ース１ｂの前面付近には、前記シヤツタ３のスライド範
囲を規制するために少し低くなつた凹部６が形成され、
この凹部６の中間位置に前記ヘツド挿入口５が開口して
いる。

【００１７】前記磁気デイスク２は図３に示すように、
ドーナツ状のフレキシブルな磁気シート７と、その磁気
シート７の中央孔に挿入されて接着された金属製あるい
は合成樹脂製のセンタハブ８とから構成されている。

【００１８】前記磁気シート７は、ベースフイルム９
と、そのベースフイルム９の両面に塗着、形成された磁
性層１０ａ、１０ｂとから構成されている。前記ベース
フイルム９は、例えばポリエチレンテレフタレート（Ｐ
ＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）あるいは
ポリイミドなどの合成樹脂フイルムから構成されてい
る。

【００１９】前記磁性層１０ａ、１０ｂは、強磁性粉、
バインダ、研磨粉ならびに潤滑剤などの混合物から構成
されている。

【００２０】前記強磁性粉としては、例えばα−Ｆｅ、
バリウムフエライト、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｐ、γ−Ｆｅ
₂ Ｏ₃ 、Ｆｅ₃ Ｏ₄ 、Ｃｏ含有γ−Ｆｅ₂ Ｏ₃ 、Ｃｏ含
有γ−Ｆｅ₃ Ｏ₄ 、ＣｒＯ₂ 、Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉなどが
使用される。

【００２１】前記バインダとしては、例えば塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニ
ルアルコール共重合体、ウレタン樹脂、ポリイソシアネ
ート化合物、放射線硬化性樹脂などが使用される。

【００２２】前記研磨粉としては、例えば酸化アルミニ
ウム、酸化クロム、炭化ケイ素、窒化ケイ素などが用い
られる。この研磨粉の添加率は、磁性粉に対して約０．
１〜２５重量％が適当である。

【００２３】前記潤滑剤としては、例えばステアリン
酸、オレイン酸などの高級脂肪酸、これらの高級脂肪酸
エステル、流動パラフイン、スクアラン、フツ素樹脂、
フツ素オイルなどが使用可能である。この潤滑剤の添加
率は、磁性粉に対して約０．１〜２５重量％が適当であ
る。

【００２４】磁性塗料の具体的な組成例を示せば次の通
りである。 磁性塗料組成例 １ α−Ｆｅ １００重量部 （Ｈｃ：１６５００〔Ｏｅ〕，飽和磁化量：１３５〔ｅｍｕ／ｇ〕， 平均長軸径：０．２５〔μｍ〕，平均軸比：８） 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体 １４．１重量部 ウレタン樹脂 ８．５重量部 三官能性イソシアネート化合物 ５．６重量部 酸化アルミニウム粉末（平均粒径０．４３〔μｍ〕） ２０重量部 カーボンブラツク ２重量部 オレイン酸オレイル ７重量部 シクロヘキサノン １５０重量部 トルエン １５０重量部

【００２５】 磁性塗料組成例 ２ バリウムフエライト １００重量部 （Ｈｃ：５３０〔Ｏｅ〕，飽和磁化量：５７〔ｅｍｕ／ｇ〕， 平均粒径：０．０４〔μｍ〕） 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体 １１．０重量部 ウレタン樹脂 ６．６重量部 三官能性イソシアネート化合物 ４．４重量部 酸化アルミニウム粉末（平均粒径０．４３〔μｍ〕） １５重量部 カーボンブラツク ２重量部 オレイン酸オレイル ７重量部 シクロヘキサノン １５０重量部 トルエン １５０重量部

【００２６】前述の磁性塗料組成例１または磁性塗料組
成例２の組成物をボールミル中でよく混合分散して磁性
塗料を調整し、これを６２μｍのポリエチレンテレフタ
レート（ＰＥＴ）のベースフイルムの両面に、乾燥厚み
が０．７μｍとなるように塗布し、乾燥したのち、カレ
ンダ処理を施して磁性層１０ａ、１０ｂをそれぞれ形成
する。

【００２７】このようにして構成された磁気デイスク２
の磁性層１０ａの表面に、図３に示すようにリフアレン
ストラツク１１と、多数の磁気ヘツドトラツキング用光
学トラツク１２が形成される。これらリフアレンストラ
ツク１１ならびに磁気ヘツドトラツキング用光学トラツ
ク１２は、磁気デイスク２の回転中心１３を中心にして
同心円状に設けられている。１つの磁気ヘツドトラツキ
ング用光学トラツク１２と隣の磁気ヘツドトラツキング
用光学トラツク１２との間に、所望の情報が記録できる
データトラツク１４が形成される。

【００２８】図３に示すように磁気デイスク２上に設け
られる記録帯域１５の最内周部に前記リフアレンストラ
ツク１１が形成され、それより径方向外側、すなわち磁
気ヘツドの走行方向と直交する方向外側に磁気ヘツドト
ラツキング用光学トラツク１２とデータトラツク１４が
交互に多数形成される。

【００２９】前記リフアレンストラツク１１は図４に示
すように、磁気ヘツドの走行方向Ｘに沿つて延びてお
り、リフアレンストラツク１１の中心線１６上の任意の
点１７を中心として点対称状に長方形のリフアレンス凹
部領域１８Ａとリフアレンス凹部領域１８Ｂが一対にな
つて形成されている。このリフアレンス凹部領域１８Ａ
の隣（リフアレンス凹部領域１８Ｂの前方）ならびにリ
フアレンス凹部領域１８Ｂの隣（リフアレンス凹部領域
１８Ａの後方）には凹部のない平面部１９Ａと平面部１
９Ｂとがある。これら一組のリフアレンス凹部領域１８
Ａ、１８Ｂ、平面部１９Ａ、１９Ｂが、磁気ヘツドの走
行方向Ｘに沿つて間欠的または連続的に多数形成される
ことにより、リフアレンストラツク１１を構成してい
る。

【００３０】前記リフアレンス凹部領域１８Ａ、１８Ｂ
の全域にわたつて一定の深さを有する凹部２０が設けら
れており、この凹部２０はレーザカツトによつて形成さ
れる。すなわち磁性層１０ａ上にレーザ光をスポツト状
に照射し、そのレーザ光を所定の方向に走査することに
より、その部分の磁性粉やバインダなどを溶融、蒸発さ
せて消失せしめることにより、所定の深さと長さを有す
る凹部２０が形成される。そのため図５に示すように凹
部２０の断面形状は、きれいな矩形状をしている。

【００３１】またこのような掘削によつて凹部２０が形
成されるのであるから、凹部２０の下部の磁性粉充填密
度は他の部分と同じで、しかも磁性層１０ａの厚さがこ
の凹部２０の部分で薄くなるから、従来のスタンピング
によるもののように凹部の磁性粉の充填密度が高くなる
ため出力の減少が少なくなり、平面部との差異が小さく
なるようなことはなく、平面部１９との差異が大きくな
り好ましい。特に凹部２０を磁性層１０ａの全厚で掘削
したときにはより好ましい。

【００３２】この実施例において前記リフアレンス凹部
領域１８Ａ、１８Ｂの磁気ヘツド走行方向の長さＬ１は
２．４ｍｍ、幅方向の長さＬ２は１８μｍ、凹部２０の
深さＬ５（図５参照）は０．３〜０．４μｍである。な
おこれら各部の長さならびに深さは、磁性層１０の物性
ならびにリフアレンストラツク１１に記録する信号波形
の状態などによつて適宜設定される。

【００３３】凹部２０は、例えばルビーレーザ（レーザ
光波長：０．６９μｍ 発振形式：パルス式）、ＹＡＧ
レーザ（レーザ光波長：１．０７μｍ 発振形式：パル
ス式または連続式）、ガラスレーザ（レーザ光波長：
１．０７μｍ 発振形式：パルス式または連続式）ある
いは炭酸ガスレーザ（リフアレンス凹部領域１８Ａ、１
８Ｂ）レーザ光波長：１０．６３μｍ発振形式：連続
式）などによつて形成される。

【００３４】図６は、ＹＡＧレーザによつて凹部２０を
形成する際のレーザ発生装置の概略構成図である。同図
の５１はＹＡＧロツド、５２はフラツシユランプ、５３
は電源部、５４は冷却部、５５はミラー、５６はレーザ
光、５７はダイクロイツクミラー、５８は集光レンズで
ある。このレーザ発生装置を用いて、光デイスク２の所
定の位置（リフアレンス凹部領域１８Ａ、１８Ｂ）に前
述の長さと深さを有する凹部２０を形成する。

【００３５】リフアレンストラツク１１の全域（リフア
レンス凹部領域１８Ａと平面部Ａの合計幅）にわたつて
所定の信号が記録されるが、前記凹部２０は凹んでいる
ため信号が記録されず、平面部１９Ａ、１９Ｂに信号が
記録されるようになつている。そしてこのリフアレンス
トラツク１１の上をそのトラツク幅の１／２のトラツク
幅を有する磁気ヘツドで走査することによつて得られる
信号波形に基づいて、現在の磁気ヘツド位置にフイード
バツクをかけ、磁気ヘツド（磁気ギヤツプ）の中心位置
をリフアレンストラツク１１の中心線１６上に導くこと
ができる。

【００３６】図４においてＩの位置、ＩＩの位置ならび
にＩＩＩの位置で磁気ヘツドを矢印方向に走査させたと
きの出力波形を、リフアレンストラツク１１を併記して
図７に示す。なお、この図の出力波形は、高周波再生出
力のエンベロープ波形である。

【００３７】同図の（Ｉ）は図４においてＩの位置で走
査させたときの出力波形で、波形の形状が矩形波形から
出力が零に変わるとき、磁気ヘツドが平面部１９Ｂとリ
フアレンス凹部領域１８Ａの境界を通過したことを示し
ている。

【００３８】また同図の（ＩＩ）は図４においてＩＩの
位置、すなわちリフアレンストラツク１１の中心線１６
上を走査させたときの出力波形で、前記（Ｉ）よりも出
力の低い連続した矩形波形となつている。

【００３９】さらに同図の（ＩＩＩ）は図４においてＩ
ＩＩの位置で走査させたときの出力波形で、出力が零か
ら矩形波形に変わるとき、磁気ヘツドがリフアレンス凹
部領域１８Ｂと平面部１９Ａの境界を通過したことを示
している。

【００４０】このようにリフアレンストラツク１１上で
の磁気ヘツドの位置が変わると得られる波形の形状が全
く異なり、同図の（ＩＩ）のような出力波形が得られる
ように磁気ヘツドの位置を調整することにより、磁気ヘ
ツド（磁気ギヤツプ）の中心位置をリフアレンストラツ
ク１１の中心線１６上に導くことができる。

【００４１】このように磁気ヘツドの中心位置をリフア
レンストラツク１１の中心線１６上、すなわち基準位置
に合わせると同時に、磁気ヘツドに固定されている発光
素子３１と受光素子群３２とからなる光デイテクタ３６
（後述する）で磁気デイスク２上に形成されている磁気
ヘツドトラツキング用光学トラツク１２間の光デイテク
タ３６の位置を検出する。そしてこのトラツク１２に対
する光デイテクタ３６の位置的なずれ量を演算し、その
ずれ量に基づいて磁気ヘツドのトラツキングサーボを行
う。

【００４２】すなわち、磁気ヘツドキヤリツジを移送す
るモータ（図示せず）を回転して、磁気ヘツド（磁気ギ
ヤツプ）の中心位置を第１データトラツクの中心線２４
（図８参照）近くまで移動させる。そして磁気ヘツドの
トラツキングサーボは、前記磁気ヘツドトラツキング用
光学トラツク１２を利用して行われる。

【００４３】この磁気ヘツドトラツキング用光学トラツ
ク１２にも、図８に示すようにトラツキング用凹部２３
が、磁気ヘツド走行方向Ｘに沿つて間欠的にまたは連続
的に形成されている。この実施例の場合、磁気ヘツドト
ラツキング用光学トラツク１２（トラツキング用凹部２
３）の幅Ｌ６は５μｍ、データトラツク１４の幅Ｌ７は
１５μｍである。

【００４４】次にトラツキングサーボについて図９ない
し図１２を用いて説明する。前述磁気ヘツドトラツキン
グ用光学トラツク１２の各トラツキング用凹部２３は、
図９に示すように同時にプレス加工によつて形成され
る。同図に示すようにセンタハブ８を取り付けた磁気デ
イスク２が、基台２５にセツトされる。この基台２５に
はセンタハブ８の中央孔２６（図３参照）に挿入される
センターピン２７が突設されており、センタハブ８の中
央孔２６にこのセンターピン２７を通して磁気デイスク
２を基台２５上に載置することにより、基台２５上で磁
気デイスク２が位置決めされる。

【００４５】この基台２５の上方には、それと平行にス
タンパ２８が上下動可能に配置されている。そしてこの
スタンパ２８は、センターピン２７によつて上下動がガ
イドされるようになつている。このスタンパ２８には、
前記トラツキング用凹部２３を形成するための微細な突
部２９が形成されている。

【００４６】図９の状態からスタンパ２８を下げて、磁
気デイスク２の磁気シート７を基台２５とスタンパ２８
との間において所定の圧力で挟持する。これによつてス
タンパ２８に形成されている突部２９が磁性層１０の表
面に食い込み、圧縮により断面形状が略台形のトラツキ
ング用凹部２３が一度に形成される。

【００４７】図１０ならびに図１２は、磁気デイスク２
のトラツキングサーボを説明するための図である。これ
らの図に示すように磁気デイスク２は磁気ヘツド３０
ａ、３０ｂの間で挟持され、その磁気ヘツド３０ａの方
には、トラツキングサーボ用の光線を出力する例えばＬ
ＥＤなどからなる発光素子３１と、磁性層１０ａからの
反射光を受光する受光素子群３２とが一体に取り付けら
れている。

【００４８】図１０に示すように磁気ヘツド３０ａの発
光素子３１ならびに受光素子群３２が取り付けられてい
る部分には、磁気デイスク２側に向けて開口している。

【００４９】受光素子群３２は図１１に示すように４つ
の受光素子３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、３２ｄから構成さ
れており、データトラツク１４ならびにトラツキング用
凹部２３上で反射する光をこの受光素子３２ａ、３２
ｂ、３２ｃ、３２ｄで受光して、各受光素子３２ａ、３
２ｂ、３２ｃ、３２ｄの出力は図１２に示すようにサー
ボ信号演算部３３に入力される。そしてこのサーボ信号
演算部３３で求められた位置修正信号がヘツド駆動制御
部３４に入力され、それからの制御信号に基づいて磁気
ヘツド３０のトラツキング制御が成される。

【００５０】図１３はリフアレンストラツクの変形例を
示す図で、リフアレンス凹部領域１８Ａ、１８Ｂには、
磁気ヘツド走行方向Ｘと直交する方向に延びた小凹部２
０ａと凹んでいない小フラツト部２１とが交互に多数形
成されている。このリフアレンス凹部領域１８Ａ、１８
Ｂの磁気ヘツド走行方向の長さＬ１は２．４ｍｍ、幅方
向の長さＬ２は１８μｍ、小凹部２０ａの磁気ヘツド走
行方向の長さＬ３は５μｍ、小フラツト部２１の磁気ヘ
ツド走行方向の長さＬ４は５μｍ、小凹部２０ａの深さ
Ｌ５は０．３〜０．４μｍである。

【００５１】図１４は、図１３においてＩの位置、ＩＩ
の位置ならびにＩＩＩの位置で磁気ヘツドを矢印方向に
走査させたときの出力波形を、リフアレンストラツク１
１を併記して示した図である。この実施例の場合、同図
の（ＩＩ）のような出力波形が得られるように、磁気ヘ
ツドの位置調整が成される。

【００５２】図１５ならびに図１７はリフアレンス凹部
領域１８Ａ、１８Ｂにおける小凹部２０ａ、小フラツト
部２１の変形例を示す図で、色々なパターンの小凹部２
０ａ、小フラツト部２１が適用できる。

【００５３】前記実施例では記録帯域の最内周部にリフ
アレンストラツクを設けたが、記録帯域の最外周部にリ
フアレンストラツクを設けることもできる。

【００５４】また、前記実施例では磁気デイスクの場合
について説明したが、本発明は例えば磁気カードなど他
の形態の磁気記録媒体にも適用できる。

【００５５】

【発明の効果】本発明は前述のように、リフアレンス凹
部をレーザカツトによつて形成することにより、そのリ
フアレンス凹部に相当する部分の磁性粉やバインダなど
が消失する。そのため、従来提案されたもののようにス
プリングバツクが生じたり、磁性粉の充填密度が部分的
に高くなつたりすることがなく、きれいな凹部が形成さ
れる。

【００５６】したがつてリフアレンス凹部の所には信号
は記録されず、磁気ヘツドの中心をリフアレンストラツ
クの中心線上に適正に導くことができ、磁気記録媒体の
信頼性の向上が図れる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例に係る磁気デイスクカートリツ
ジの一部を分解した斜視図である。

【図２】磁気シートの拡大断面図である。

【図３】磁気デイスクの平面図である。

【図４】リフアレンストラツクの一部拡大平面図であ
る。

【図５】リフアレンストラツクの一部拡大断面図であ
る。

【図６】ＹＡＧレーザ発生装置の概略構成図である。

【図７】リフアレンストラツク上での出力波形図であ
る。

【図８】リフアレンストラツクならびに磁気ヘツドトラ
ツキング用光学トラツクを説明するための図である。

【図９】磁気ヘツドトラツキング用光学トラツクを形成
する装置を示す断面図である。

【図１０】磁気ヘツドのトラツキングサーボを説明する
ための断面図である。

【図１１】受光素子の配置状態を示す説明図である。

【図１２】磁気ヘツドのトラツキングサーボを説明する
ためのブロツク図である。

【図１３】リフアレンストラツクの変形例を示す拡大平
面図である。

【図１４】リフアレンストラツク上での出力波形図であ
る。

【図１５】リフアレンストラツクの変形例を示す拡大平
面図である。

【図１６】リフアレンストラツクの変形例を示す拡大平
面図である。

【図１７】リフアレンストラツクの変形例を示す拡大平
面図である。

【図１８】従来のリフアレンストラツクの一部拡大平面
図である。

【図１９】従来のリフアレンストラツクの一部拡大断面
図である。

【符号の説明】

２ 磁気デイスク ７ 磁気シート ９ ベースフイルム １０ａ．１０ｂ 磁性層 １１ リフアレンストラツク １２ 磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク １４ データトラツク １５ 記録帯域 １６ 中心線 １７ 点 １８Ａ、１８Ｂ リフアレンス凹部領域 １９Ａ、１９Ｂ 平面部 ２０ 凹部 ２０ａ 小凹部 ２１ 小フラツト部 ２３ トラツキング用凹部 Ｘ 磁気ヘツドの走行方向

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】 非磁性体からなる基体と、その基体の上
   に形成された磁性層を有し、 その磁性層の所定位置にリフアレンス部が設けられ、 そのリフアレンス部から磁気ヘツド走行方向と直交する
   方向に所定間隔離れた位置に第１の磁気ヘツドトラツキ
   ング用光学凹部が設けられ、 その第１の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部から磁気
   ヘツド走行方向と直交する方向に所定間隔離れた位置に
   第２の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部が設けられ、 前記第１の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部と第２の
   磁気ヘツドトラツキング用光学凹部との間に、所望の信
   号を記録する第１のデータトラツクが形成され、 前記リフアレンス部は、それの中心線上の任意の点を中
   心にして点対称状に一対のリフアレンス凹部領域が設け
   られ、そのリフアレンス凹部領域の隣に凹部のない平面
   部が形成され、 そのリフアレンス凹部領域の凹部がレーザカツトによつ
   て形成されていることを特徴とする磁気記録媒体。