JP2003151450A - プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法 - Google Patents

プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法

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JP2003151450A JP2002321548A JP2002321548A JP2003151450A JP 2003151450 A JP2003151450 A JP 2003151450A JP 2002321548 A JP2002321548 A JP 2002321548A JP 2002321548 A JP2002321548 A JP 2002321548A JP 2003151450 A JP2003151450 A JP 2003151450A
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ジョー，ヨン・デ
Tae Wan Choi
チョイ，テ・ワン
Seung Tea Park
パク，スン・テ
Soon Hak Kim
キム，スン・ハク
Seok Dong Kang
カン，ソク・ドン
Sang Tae Kim
キム，サン・テ
Hyoung Kyun Bae
ベエ，ヒョン・キュン
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 製造工程を単純化して製造コストをダウン
させることができるプラズマディスプレイパネルおよび
その製造方法を提供する。 【解決手段】 透明電極とバス電極との間に形成される
ブラック層とブラックマトリックスとを同時に形成す
る。このとき、ブラック層とブラックマトリックスは一
体に形成される。また、本発明はブラック層のブラック
パウダーとして価格の安いでありながらも非導電性酸化
物と使用することができる。特に、ブラック層とブラッ
クマトリックスとが 一体に形成される場合、バス電極
を非放電領域へ移動させて輝度を向上させることができ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネルに関し、より詳しくは、放電セル内に位置す
るブラック層と、放電セルの間に位置するブラックマト
リックスとを同時に形成することができるプラズマディ
スプレイパネルの前面基板に関する。
【０００２】一般に、プラズマディスプレイパネル（
以下、ＰＤＰという）は、ガス放電で生成される真空紫
外線が蛍光体を励起して生成される可視光線を用いる表
示装置である。
【０００３】ＰＤＰは、従来、表示装置として多く用い
られている陰極線管（ＣＲＴ）に比べて厚さが薄くて軽
く、高鮮明な画面を大型化することができる点などのメ
リットがある。
【０００４】このようなＰＤＰは、マトリックス形態で
配列された多数の放電セルで構成され、１つの放電セル
が画面の１画素を構成している。
【０００５】図１および図２は、それぞれ従来の一般的
なプラズマディスプレイパネルの構造を示した図であ
る。同図に示したように、プラズマディスプレイパネル
は、画像がディスプレイされる表示面である前面基板１
０と、この前面基板１０と対向する位置に配置される後
面基板２０とが一定の距離をおいて結合されている。
【０００６】前面基板１０の後面基板２０側の表面に
は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）物質から形成される透
明電極（または、ＩＴＯ電極）１１ａと、この透明電極
１１ａ上に銀（Ａｇ）のような導電性材質からなるバス
電極１１ｂとが配列された複数の維持電極１１が平行に
配列されている。
【０００７】一般に、バス電極は銀（Ａｇ）で形成され
るが、この銀は放電による光を透過させず、外部光を反
射させる。従って、このような銀（Ａｇ）の特性は、プ
ラズマディスプレイパネルのコントラストを悪くすると
いう問題がある。この問題を解決するため、透明電極１
１ａとバス電極１１ｂとの間にコントラストを向上させ
るためのブラック電極層１１ｃが形成されていた。
【０００８】維持電極１１は、放電電流を制限し、電極
対間を絶縁させる誘電層１２によって覆われ、誘電層１
２上には放電条件を容易にするため、酸化マグネシウム
（ＭｇＯ）を蒸着した保護層１３が形成される。
【０００９】放電セルの間には、図２に示したように、
前面基板１０の外部から入射してくる外部光を吸収して
反射を低減させる光カット機能を有し、前面基板１０の
純度およびコントラストを向上させる機能をするブラッ
クマトリックス１４が配列される。
【００１０】後面基板２０は、複数の放電空間、即ち、
放電セルを形成させるためのストライプ型（またはウェ
ル型）の隔壁２１が平行に配列され、維持電極１１と交
差する箇所でアドレス放電を行って真空紫外線を発生さ
せる多数のアドレス電極２２が隔壁２１に平行に配置さ
れる。
【００１１】隔壁２１内には、放電セル内で生成された
真空紫外線によって励起されて可視光線を放出するＲ．
Ｇ．Ｂ蛍光層２３が塗布され、後面基板２０およびアド
レス電極２２の全面には下部誘電層２４が焼成によって
形成される。
【００１２】このような従来のプラズマディスプレイパ
ネルの前面基板の製造方法を以下に説明する。
【００１３】図３は、従来のプラズマディスプレイパネ
ルの前面基板の製造工程を示すものである。同図に示し
たように、前面基板１０上にＩＴＯ物質の透明電極１１
ａが形成された状態で、ブラック電極層を形成するため
のブラックペーストを印刷した後、約１２０℃程度で乾
燥させ（図３Ａ）、その上にバス電極１１ｂを形成する
ための銀（Ａｇ）ペーストを印刷した後、乾燥させる
（図３Ｂ）。次いで、第１のフォトマスク３０（Ｐ／
Ｍ）を用いて紫外線（ＵＶ）を露光し（図３Ｃ）、現像
した後、約５５０℃以上の焼成炉（図示せず）で約３時
間焼成する（図３Ｄ）。次いで、誘電体ペーストを印刷
した後、乾燥させ（図３Ｅ）、放電セル間の非放電領域
にブラックマトリックス１４（ＢＭ；Black Matrix）を
パターン印刷して乾燥させた後（図３Ｆ）、誘電体層と
ブラックマトリックスとを同時に約５５０℃以上の焼成
炉（図示せず）でさらに約３時間焼成する（図３Ｇ）。
【００１４】このように、従来のプラズマ表示パネルの
前面基板を製造する場合、バス電極１１ｂは、ブラック
電極層１１ｃ、バス電極１１ｂおよびブラックマトリッ
クス１４に対してそれぞれ１回ずつの印刷・乾燥工程お
よび２回の焼成工程を経ているため、製造工程が長くな
って製造コストがアップするという問題点があった。
【００１５】なお、通常、輝度を向上させためには放電
セル内のバス電極間の距離をできる限り広くして放電面
積を拡大させることが好ましい。しかし、図３の製造方
法のように、バス電極は、放電セル内の透明電極上での
み形成され得るため、従来のプラズマディスプレイパネ
ルの前面基板の構造では、バス電極間の距離の拡大には
限界がある。もし、非放電領域にバス電極が形成される
と、バス電極の銀（Ａｇ）粒子がマイグレーション（Mi
gration）され、前面基板の鉛成分などと結合して、バ
ス電極に変色が発生する。これによってパネルの温度が
低下して輝度が急に低下する。また、バス電極の銀（Ａ
ｇ）粒子がマイグレーションされて絶縁破壊が発生する
こともある。
【００１６】従って、従来のプラズマディスプレイパネ
ル構造では、バス電極が放電セル内の透明電極上に形成
されるため、バス電極間の距離拡大による輝度の向上に
限界がある。また、たとえ、バス電極を所定の距離で非
放電領域に形成しても、従来の方法では、バス電極の銀
（Ａｇ）粒子によるマイグレーションでバス電極の変色
が発生して輝度が低下する。
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な問題点を解決するためになされたものであって、ブラ
ック層とブラックマトリックスとを同時に形成して製造
工程を単純化することができるプラズマディスプレイパ
ネルおよびその製造方法を提供することが目的である。
【００１８】本発明は、バス電極の一部を非放電領域に
形成して輝度を向上させることができるプラズマディス
プレイパネルおよびその製造方法を提供することに他の
目的である。
【００１９】本発明は、製造コストをダウンさせると共
に、隣接した放電セルどうしが短絡することを防止する
ことができるプラズマディスプレイパネルおよびその製
造方法を提供するがさらに他の目的である。
【００２０】
【課題を解決するための手段】上記のような目的を達成
するための本発明の好ましい適な一実施態様態様による
と、前面基板と、この前面基板と一定の間隔をおいて配
置される後面基板と、前面基板上に平行に配列される複
数の維持電極と、後面基板上に維持電極に交差する方向
に配列される複数のデータ電極と、前面基板および後面
基板の間に一定の間隔で配置され、放電セルを区画する
複数の隔壁とを含むプラズマディスプレイパネルが、維
持電極のそれぞれが透明電極と透明電極の上に配置され
るバス電極とからなり、透明電極とバス電極との間には
コントラスト向上のためのブラック層が形成され、ブラ
ック層が、放電セル間の非放電領域に露出される前面基
板の上を完全に覆うように形成される。
【００２１】非放電領域に形成されたブラック層は、ブ
ラックマトリックスである。
【００２２】バス電極は、放電セル内の透明電極上に形
成されたブラック層にのみ形成されるか、または、放電
セル内の透明電極上に形成されたブラック層の一部から
非放電領域に形成されたブラック層の一部にわたって形
成させることができる。
【００２３】ブラック層は、コバルト（Ｃｏ）系酸化
物、クロム（Ｃｒ）系酸化物、マンガン（Ｍｎ）系酸化
物、銅（Ｃｕ）系酸化物、鉄（Ｆｅ）系酸化物、カーボ
ン（Ｃ）系酸化物のうちの少なくとも１つで構成される
ブラックパウダーを含むことができる。
【００２４】ブラック層は、 ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３−Ｂｉ
２Ｏ３、ＺｎＯ−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３、ＰｂＯ−Ｂ２
Ｏ３−ＣａＯ−ＳｉＯ２のうちの少なくとも１つを含む
４５０℃以上の高軟化点のフリットガラスを含有するこ
とができる。
【００２５】本発明の好ましい他の実施態様によると、
前面基板と、この前面基板と一定の間隔をおいて配置さ
れる後面基板と、前面基板上に平行に配列される複数の
維持電極と、後面基板上に維持電極に交差する方向に配
列される複数のデータ電極と、前面基板および後面基板
の間に一定の間隔で配置され、放電セルを区画する複数
の隔壁とを含むプラズマディスプレイパネルが、維持電
極のそれぞれが透明電極とこの透明電極の間に配置され
るバス電極とからなり、透明電極とバス電極との間には
コントラスト向上のためのブラック層が形成され、放電
セル間にはブラックマトリックスが形成され、ブラック
層およびブラックマトリックスが前面基板の表面から同
一の高さで形成されるとともに同一の材料で構成され
る。
【００２６】ブラック層およびブラックマトリックスは
同一の工程で同時に形成される。
【００２７】ブラック層は、ブラックマトリックスと狭
い間隔で離隔され、放電セル間の非放電領域の一部まで
延長するように形成される。
【００２８】本発明の好ましいまた他の実施態様による
と、前面基板と、この前面基板と一定の間隔をおいて配
置される後面基板と、前面基板上に平行に配列されて透
明電極およびバス電極が対をなす複数の維持電極と、後
面基板上に維持電極に交差する方向に配列される複数の
データ電極と、前面基板および後面基板の間に一定の間
隔で配置され、放電セルを区画する複数の隔壁とを含む
プラズマディスプレイパネルの製造方法は、前面基板上
に複数の透明電極を平行に形成するステップと、複数の
透明電極が形成された前面基板の全面にブラックペース
トを塗布して乾燥させるステップと、第１のフォトマス
クを用いてブラック層形成部分を露光するステップと、
露光されたブラックペースト上にバス電極ペーストを塗
布して乾燥させるステップと、第２のフォトマスクを用
いてバス電極形成部分を露光するステップと、露光され
た前面基板を現像し、焼成してブラック層およびバス電
極を形成するステップと、ブラック層およびバス電極が
形成された前面基板の全面に誘電体ペーストを塗布して
乾燥させるステップとを含む。
【００２９】第１のフォトマスクは、ブラック層が１つ
の放電セル内の透明電極から放電セル間の非放電領域を
経由して、隣接した他の放電セル内の透明電極にまで形
成されるようにパターニングされる。なお、非放電領域
に形成されるブラック層はブラックマトリックスである
ことが好ましい。
【００３０】第２のフォトマスクは、バス電極が１つの
放電セル内の透明電極上に形成されたブラック層と同一
の大きさで形成されるようにパターニングされる。
【００３１】第２のフォトマスクは、または、バス電極
が１つの放電セル内の透明電極上に形成されたブラック
層の一部から非放電領域に形成されたブラック層の一部
にわたって形成されるようにパターニングされる。
【００３２】本発明の好ましいさらに他の実施態様によ
ると、前面基板と、この前面基板と一定の間隔をおいて
配置される後面基板と、前面基板上に平行に配列されて
透明電極およびバス電極が対をなす複数の維持電極と、
後面基板上に維持電極に交差する方向に配列される複数
のデータ電極と、前面基板および後面基板の間に一定の
間隔で配置され、放電セルを区画する複数の隔壁とを含
むプラズマディスプレイパネルの製造方法は、前面基板
上に複数の透明電極を平行に形成するステップと、複数
の透明電極が形成された前面基板の全面にブラックペー
ストを塗布して乾燥させるステップと、第１のフォトマ
スクを用いてブラックマトリックス形成部分を露光する
ステップと、露光されたブラックペースト上にバス電極
ペーストを塗布して乾燥させるステップと、第２のフォ
トマスクを用いてバス電極形成部分を露光するステップ
と、露光された前面基板を現像し、焼成してブラックマ
トリックスおよびバス電極を形成するステップと、ブラ
ックマトリックスおよびバス電極が形成された前面基板
の全面に誘電体ペーストを塗布して乾燥させるステップ
とを含む。
【００３３】ブラック層は、１つの放電セル内に形成さ
れた透明電極から延長され、１つの放電セルと隣接する
他の放電セル間の非放電領域の一部にまで形成される。
【００３４】バス電極形成部分を露光させる時、ブラッ
ク層が同時に形成されることが好ましい。
【００３５】本発明の好ましいまたさらに他の実施態様
によると、前面基板と、この前面基板と一定の間隔をお
いて配置される後面基板と、前面基板上に平行に配列さ
れて透明電極およびバス電極が対をなす複数の維持電極
と、後面基板上に維持電極に交差する方向に配列される
複数のデータ電極と、前面基板および後面基板の間に一
定の間隔で配置され、放電セルを区画する複数の隔壁と
を含むプラズマディスプレイパネルの製造方法は、前面
基板上に複数の透明電極を平行に形成するステップと、
複数の透明電極が形成された前面基板の全面にブラック
ペーストを塗布して乾燥させるステップと、第１のフォ
トマスクを用いてブラック層およびブラックマトリック
ス形成部分を露光するステップと、露光されたブラック
ペースト上にバス電極ペーストを塗布して乾燥させるス
テップと、第２のフォトマスクを用いてバス電極形成部
分を露光するステップと、露光された前面基板を現像
し、焼成してブラックマトリックスおよびバス電極を形
成するステップと、ブラックマトリックスおよびバス電
極が形成された前面基板の全面に誘電体ペーストを塗布
して乾燥させるステップとを含む。
【００３６】ブラック層およびブラックマトリックスは
同時に形成されることが好ましい。
【００３７】
【発明の実施の形態】以下、添付の図面を参照し、本発
明の好ましい実施形態を説明する。説明の便宜のため、
従来のものと同じ部材には同じ符号を付してある。
【００３８】図４は、本発明の好ましい第１の実施形態
によるプラズマディスプレイパネルの前面基板の構造を
示す図である。同図に示したように、本発明の第１の実
施形態に係るプラズマディスプレイパネルの前面基板１
０は、ブラックマトリックス１４とブラック層１１ｃと
を同時に形成する構造となっている。即ち、透明電極１
１ａが形成された前面基板１０の全面にブラック層１１
ｃおよびブラックマトリックス１４を形成するためのブ
ラックペーストを塗布・乾燥し、フォトマスクを用いて
ブラックペーストに対して露光を行う。このとき、フォ
トマスクにはブラック層１１ｃおよびブラックマトリッ
クス１４が形成されるように予めパターンが形成されて
いる。
【００３９】従って、前述のように、予めパターニング
が行われたフォトマスクを用い、１回の露光工程でブラ
ック層１１ｃとブラックマトリックス１４とが同時に形
成される。これによって、ブラック層１１ｃとブラック
マトリックス１４とは前面基板１０から同一の高さに形
成される。また、前面基板１０上にブラックペーストが
塗布・乾燥されるため、形成されたブラック層１１ｃと
ブラックマトリックス１４とが同じ材料で形成される。
【００４０】このようなプラズマディスプレイパネルの
前面基板の構造を製造する方法を図５において説明して
いる。同図は、図４のプラズマディスプレイパネルの前
面基板の製造方法を示す図である。
【００４１】まず、前面基板１０上にブラックペースト
を印刷工程で塗布した後、乾燥工程を行う（図５Ａ）。
このとき、前面基板１０上には所定の位置に予め複数の
透明電極１１ａが形成されている。
【００４２】第１のフォトマスク３０を用いてブラック
ペーストが塗布・乾燥された前面基板１０を対象にして
露光工程を行ってブラックマトリックス形成部分をパタ
ーニングさせる（図５Ｂ）。
【００４３】露光工程を行った前面基板１０上にバス電
極を塗布した後、乾燥工程を行う（図５Ｃ）。
【００４４】第２のフォトマスク３０’を用いてバス電
極が塗布・乾燥された前面基板１０を対象にして露光工
程を行ってバス電極形成部分をパターニングさせる（図
５Ｄ）。
【００４５】露光工程を行った前面基板１０を現像液で
現像した後、焼成工程を行ってブラックマトリックス１
４およびバス電極１１ｂを形成する（図５Ｅ）。
【００４６】ブラックマトリックス１４およびバス電極
１１ｂが形成された前面基板１０上に誘電体ペーストを
塗布した後、乾燥および焼成工程を行う（図５Ｆ）。
【００４７】図５Ａないし図５Ｆに示したように、ブラ
ック層１１ｃおよびブラックマトリックス１４が第１の
フォトマスク３０を用いて一度に同時に形成されるた
め、従来のブラック層とブラックマトリックスとを別に
形成する方法における製造工程の複雑化を解決すること
ができる。即ち、従来と比べてみると、別にブラックマ
トリックスを形成する工程を省略することができるた
め、別にブラックマトリックスを形成するための材料
費、ブラックマトリックス形成用フォトマスクおよび洗
浄液などを節減することができ、ブラックマトリックス
形成のための印刷機および乾燥機が不要となる。
【００４８】また、パネルの品質面からみて、従来、ブ
ラックマトリックスを別に形成する時、別のブラックマ
トリックス形成用フォトマスクの使用によるミスアライ
メント現象を防止することができる。また、一回に一括
してブラック層とブラックマトリックスとを形成するこ
とができるため、ブラックマトリックスのパターン特性
を向上させることができる。
【００４９】図５Ａないし図５Ｆの製造工程において、
ブラック層１１ｃは、別の露光工程を行うことなく、図
５Ｄに示したように、ブラックペースト上に塗布された
バス電極のみを露光させることによって形成される。従
って、ブラック層１１ｃは、透明電極１１ａとバス電極
１１ｂとの間に形成されることになる。このように、ブ
ラック層１１ｃを露光することなく、後でバス電極形成
部分に対する露光工程を通じて形成させると、バス電極
形成部分に対する現像時に現像液がブラック層部分に浸
透して図６に示したようにブラック層１１ｃの下部がよ
り多くエッチングされるアンダーカット現象が発生す
る。このようなアンダーカット現象は、焼成工程中にお
いてバス電極の形状がエッジカール（ｅｄｇｅ ｃｕｒ
ｌ）の形態に発展するか、または、バス電極上に誘電ペ
ーストを塗布する時にエッジカール部分において誘電体
が満たされなくなって電極気泡が発生するようになる。
電極気泡は、セル欠陥、絶縁破壊などの原因となる。
【００５０】アンダーカット現象を防止するためのプラ
ズマディスプレイパネルの前面基板の製造方法を図７に
示している。同図は、バス電極のアンダーカット現象を
解決するためのプラズマディスプレイパネルの前面基板
の製造方法を示している。
【００５１】同図を参照すると、複数の透明電極１１ａ
が形成された前面基板１０にブラックペーストを塗布す
る印刷・乾燥工程を行った後（図７Ａ）、第１のフォト
マスク３０を用いてブラックペーストを露光させてブラ
ック層とブラックマトリックス形成部分をパターニング
させる（図５Ｂ）。このとき、第１のフォトマスク３０
にはブラック層およびブラックマトリックス形成部分を
露光させるようにパターンが予め設計されている。
【００５２】次いで、露光された前面基板１０上にバス
電極を塗布する印刷・乾燥工程を行った後（図７Ｃ）、
第２のフォトマスク３０’を用いてバス電極を露光させ
てバス電極１１ｂ形成部分のパターニングを行う（図７
Ｄ）。次いで、現像および焼成工程を行ってブラックマ
トリックス１４およびバス電極１１ｂを形成する（図７
Ｅ）。
【００５３】そして、ブラックマトリックス１４および
バス電極１１ｂが形成された前面基板１０上に誘電体ペ
ーストを塗布する印刷・乾燥工程を行った後、一定の時
間焼成させる（図７Ｆ）。
【００５４】従って、図７Ｂに示したように、ブラック
マトリックス形成部分を露光させる時、ブラック層形成
部分も共に露光させることにより、図７Ｅのような現像
工程時に現像液がブラック層部分へ浸透できなくなりア
ンダーカットの発生を防止することができる。また、ブ
ラック層１１ｃは、現像工程時にバス電極１１ｂと共に
形成される。したがって、ブラック層１１ｃは透明電極
１１ａとバス電極１１ｂとの間に形成される。
【００５５】結局、図７に示したように、予めブラック
層およびブラックマトリックス形成部分がパターン化さ
れた第１のフォトマスク３０を用いて一回露光させるこ
とで、ブラック層１１ｃとブラックマトリックス１４と
を同時に形成することができる。また、ブラックマトリ
ックス形成部分のみを露光させる図５Ｂとは異なり、図
７に示したようなブラックマトリックス形成部分と共に
ブラック層形成部分も同時に露光させることで、現像工
程時に発生することがあるアンダーカット現象を前もっ
て防止することができる。
【００５６】図７の製造方法で完成したプラズマディス
プレイパネルの前面基板１０において、銀（Ａｇ）粒子
はマイグレーションされて前面基板１０上の鉛粒子など
と結合され、バス電極１１ｂの変色を生じ、これによっ
てパネルの色温度が低下して輝度が低下することもあ
る。また、このような銀（Ａｇ）粒子のマイグレーショ
ンによる絶縁破壊も発生することもある。
【００５７】上述のように、銀（Ａｇ）粒子のマイグレ
ーションによるバス電極の変色を解決するためのプラズ
マディスプレイパネルの前面基板の構造を図８に示し
た。同図は、本発明の好ましい第２の実施形態によるプ
ラズマディスプレイパネルの前面基板の構造を示してい
る。同図を参照すると、本発明の第２の実施形態による
プラズマディスプレイパネルの前面基板１０は、図４の
ものとは異なり、ブラック層１１ｃが１つの放電セル
（Ａ）内の透明電極１１ａから延長され、１つの放電セ
ル（Ａ）と隣接した他の放電セル（Ｂ）との間に位置す
る非放電領域の一部にまで形成される。このとき、１つ
の放電セル（Ａ）の透明電極１１ａと隣接した他の放電
セル（Ｂ）内の透明電極１１ａ’との間の距離が図４の
それと同様であれば、ブラック層１１ｃが非放電領域の
一部に形成されるため、ブラックマトリックス１４の幅
は狭くなる。
【００５８】このような構成のプラズマディスプレイパ
ネルの前面基板を製造するための方法は図５および図７
に示すと同様に行うことができる。但し、ブラック層が
非放電領域の一部を含めるようにするために、ブラック
層形成部分およびバス電極形成部分が図５および図７の
それより広くなるように予めパターン化されたフォトマ
スクを製作しておく必要がある。
【００５９】図９は、本発明の好ましい第３の実施形態
によるプラズマディスプレイパネルの前面基板の構造を
示す図である。
【００６０】一般に、プラズマディスプレイパネルの前
面基板は、放電が発生する放電領域と放電が発生しない
非放電領域とに区分される。非放電領域とは、透明電極
１１ａが対をなして形成されている放電セルと隣接した
放電セルとの間に形成される領域である。
【００６１】本発明の第３の実施形態によるプラズマデ
ィスプレイパネルの前面基板１０は、透明電極１１ａと
バス電極１１ｂとの間にブラック層１１ｃが形成される
と共に、ブラック層１１ｃが放電セル（Ａ）と放電セル
（Ｂ）との間の非放電領域に位置する前面基板１０を全
部覆うように形成される。このとき、非放電領域間に形
成されたブラック層はブラックマトリックスであること
が好ましい。なお、上記ではブラック層とブラックマト
リックスとが一定の距離を置いて離隔されているが、本
発明の第３の実施形態では、ブラック層とブラックマト
リックスとが離隔されることなく一体に形成される。ま
た、ブラック層とブラックマトリックスとは製造工程に
おいて同時に形成される。
【００６２】このような本発明の第３の実施形態による
プラズマディスプレイパネルの前面基板を製造するため
の方法を説明する。図１０は、図９のプラズマディスプ
レイパネルの前面基板の製造方法を示す。
【００６３】同図に示したように、複数の透明電極１１
ａが形成された前面基板１０上にブラックペーストを塗
布する印刷・乾燥工程を行う（図１０Ａ）。
【００６４】第１のフォトマスク３０を用いて塗布され
たブラックペーストを露光させてブラック層形成部分を
パターニングする（図１０Ｂ）。このとき、第１のフォ
トマスク３０は、１つの放電セル（Ａ）内の透明電極１
１ａの一部から隣接した他の放電セル（Ｂ）内の透明電
極１１ａ’の一部まで露光されるように予め十分に広く
パターニングされていることが好ましい。
【００６５】露光された前面基板１０上にバス電極を塗
布する印刷・乾燥工程を行う（図１０Ｃ）。
【００６６】第２のフォトマスク３０’を用いて塗布さ
れたバス電極を露光させてバス電極形成部分のパターニ
ングを行う（図１０Ｄ）。
【００６７】露光工程を行った前面基板１０を現像液で
現像した後、焼成工程を行ってブラック層１１ｃおよび
バス電極１１ｂを形成する（図１０Ｅ）。
【００６８】ブラック層１１ｃおよびバス電極１１ｂが
形成された前面基板１０上に誘電体ペーストを塗布した
後、乾燥および焼成工程を行う（図１０Ｆ）。
【００６９】図９および図１０に示したように、本発明
の第３の実施形態によれば、ブラック層とブラックマト
リックスとを別に形成することなく、透明電極１１ａと
バス電極１１ｂとの間に形成されるブラック層１１ｃが
非放電領域まで覆うように形成し、つまり、一回で一体
に形成することにより、コントラストをより向上させる
ことができ、製造コストをダウンさせることができる。
【００７０】なお、同図に示したように、ブラック層と
ブラックマトリックスとを一体に形成することに加え
て、ブラック層上に形成されたバス電極１１ｂを非放電
領域に移動させることにより、輝度を向上させることが
できる。即ち、前述のように、非放電領域を境界にして
１つの放電セル内に存在するバス電極１１ｂ、１１ｂ’
間の距離は、できる限り広くするのが輝度の向上の点か
ら好ましい。
【００７１】従って、放電セル内に存在する２つのバス
電極１１ｂ、１１ｂ’のそれぞれを隣接した非放電領域
の一部に形成させてバス電極１１ｂ間の距離をより広く
することで、輝度を向上させることができる。これにつ
いて図１１を参照して説明する。図１１は、本発明の好
ましい第４の実施形態によるプラズマディスプレイパネ
ルの前面基板の構造を示した図である。
【００７２】同図に示したように、本発明の第４の実施
形態によるプラズマディスプレイパネルの前面基板１０
では、透明電極１１ａとバス電極１１ｂとの間にブラッ
ク層１１ｃが形成されるとともに、ブラック層１１ｃが
放電セル（Ａ）と放電セル（Ｂ）との間の非放電領域に
位置する前面基板１０を全部覆うように形成される。こ
のとき、本発明の第４の実施形態によるプラズマディス
プレイパネルの前面基板１０では、図９のものと比較す
ると、バス電極１１ｂが放電セル（Ａ）内の透明電極１
１ａ上に形成されたブラック層１１ｃの一部から非放電
領域に形成されたブラック層１１ｃの一部にわたって形
成される。ブラック層１１ｃは、図９と同様に、透明電
極１１ａの一部から延長されて非放電領域の全部を覆う
ように形成され、このように形成されたブラック層１１
ｃ上にバス電極１１ｂが非放電領域の一部に移動するよ
うに形成される。従って、図９に示したように、バス電
極が透明電極１１ａ上にのみ形成され、放電セル内に形
成されたバス電極間の距離の拡大に限界があったが、本
発明の第４の実施形態のプラズマディスプレイパネルの
前面基板１０では、図１１に示したように、バス電極１
１ｂを非放電領域の一部に形成されるように移動させる
ことで、放電セル（Ｂ）内のバス電極１１ｂ、１１ｂ’
間の距離をより広くして輝度を向上することができる構
造となっている。
【００７３】前記のような本発明の第４の実施形態によ
るプラズマディスプレイパネルの前面基板の製造方法
は、基本的に図９と同様である。ただし、本発明の第４
の実施形態によるプラズマディスプレイパネルの前面基
板１０を製造する場合は、バス電極形成部分を露光させ
るための第２のフォトマスク３０’を製作するとき、バ
ス電極１１ｂが放電セル内の透明電極１１ａの一部から
非放電領域の一部にまで露光されるように予めパターン
化されている必要がある。従って、このように製作され
た第２のフォトマスク３０’を用いてＡｇペーストが塗
布された前面基板１０を露光させると、本発明の第４の
実施形態によるプラズマディスプレイパネルの前面基板
１０のようなバス電極１１ｂが形成される。
【００７４】非放電領域上に形成されたブラック層１１
ｃは、ブラックマトリックスをも兼ねるようになる。こ
のため、ブラックマトリックスは製造工程時にブラック
層と一体に同時に形成される。
【００７５】このようなプラズマディスプレイパネルの
前面基板において、図１２に示したようにバス電極１１
ｂを非放電領域への移動させた構成の効率、消費電極お
よび輝度の変化を確認するための実験を行った結果は、
下記の表１の通りである。
【００７６】図１２Ａは、従来のバス電極と同様に透明
電極１１ａ上にバス電極の位置を決めた場合であり、図
１２Ｂはバス電極の端を透明電極１１ａの端に一致させ
た場合を示している。図１２Ｃないし図１２Ｆは、バス
電極１１ｂが非放電領域の側の少しずつずらして、非放
電領域の部分を次第に多く含めていく状態のを示してい
る。ここで、バス電極の幅（Ｌ）が一定であるとして、
図１２Ａないし図１２Ｆに示したように、バス電極が次
第に非放電領域に移動される。
【００７７】
【表１】
【００７８】ここで、バス電極の位置が透明電極が１／
８Ｌであるとは、バス電極の一部が非放電領域の一部に
含まれる距離を示す。即ち、バス電極の幅をＬとする
時、バス電極の一部は１／８Ｌ距離だけ非放電領域に移
動されるように形成される。他のバス電極の位置もこれ
と同じ意味を有する。
【００７９】表１に示したように、バス電極の非放電領
域への移動に応じて効率、消費電力および輝度が増加す
ることがわかる。ただし、バス電極が１／８Ｌである場
合、輝度向上の効果が多少劣り、バス電極の位置が７／
８Ｌ以上である場合は、輝度は増加するが、消費電力が
高くなりすぎる。
【００８０】結局、バス電極が非放電領域の一部に１／
８Ｌ〜５／８Ｌの範囲で形成される時、効率、消費電力
および輝度が良くなることがわかる。
【００８１】それで、本発明の第４の実施形態によるプ
ラズマディスプレイパネルの前面基板１０のように、ブ
ラック層１１ｃを透明電極１１ａと非放電領域とに一体
に形成する構造において、バス電極１１ｂの一部が非放
電領域に移動されるように形成することで、輝度を向上
させることができる。
【００８２】なお、プラズマディスプレイパネルの前面
基板の構造においてブラック層とブラックマトリックス
の形成について説明してきたが、前述のように、ブラッ
ク層とブラックマトリックスとを同時に形成するか、ま
たは、一体に形成すると、製造工程を単純化して製造費
用をダウンさせることができる。また、ブラック層がブ
ラックマトリックスと一体に形成されるとき、バス電極
の一部を非放電領域に形成させると、輝度が向上でき
る。
【００８３】しかし、このようなブラック層とブラック
マトリックスとが一体に形成されるとき、既存の導電性
酸化ルテニウム（ＲｕＯ２）のブラックパウダーでブラ
ック層とブラックマトリックスとを形成させると、酸化
ルテニウムの導電性によって隣接セルの間で短絡が発生
し易い。
【００８４】従って、本発明では、既存の導電性酸化ル
テニウムの代わりに、非導電性であるコバルト（Ｃｏ）
系酸化物、クロム（Ｃｒ）系酸化物、マンガン（Ｍｎ）
系酸化物、銅（Ｃｕ）系酸化物、鉄（Ｆｅ）系酸化物、
カーボン（Ｃ）系酸化物などをブラック層およびブラッ
クマトリックスの形成のためのブラックパウダーとして
使用する。
【００８５】導電性酸化物のうち、コバルト（Ｃｏ）系
酸化物をブラック層に含有させ、その厚さを変化させな
がら実験を行った結果を表２に示した。本実験では、同
一の工程および同一のフリットガラスを適用した。
【００８６】
【表２】
【００８７】表２において接着力の強さは、Ｏが強い、
＝が中間、Ｘが弱いことを意味している。また、フリッ
トガラスの含量はブラックペーストに含有される量を意
味し、ブラックペースト内のフリットガラスの含量によ
ってブラック層の厚さが調節される。
【００８８】表２の接触抵抗を測定するための実験構造
は、図１３に示したように、ブラック層４０を５ｃｍの
長さで正方形に形成した後、その上に３ｃｍ幅の長方形
の銀（Ａｇ）電極４１を形成する。次いで、透明電極４
２を銀（Ａｇ）電極４１からブラック層４０を通して延
長されるように形成する。このとき、銀電極４１上の支
点１と透明電極４２上の支点２との間の抵抗を測定す
る。
【００８９】実験の結果、表２に示したように、ブラッ
クペースト内のフリットガラスの含有量が５〜３０重量
％に調節される場合、ブラック層４０の厚さが０．１〜
５ｃｍとなり、接触抵抗は４〜１０ｋΩとなり、初期放
電電圧は１８０〜１８５Ｖを示した。
【００９０】これに対して、ブラックペースト内に含有
されたフリットガラスが３５重量％以上に調節される場
合、ブラック層の厚さは５．８ｃｍ以上となり、このと
き、接触抵抗は２０ｋΩ以上となり、初期放電電圧は２
６１Ｖ以上となることを示している。
【００９１】つまり、非導電性であるコバルト（Ｃｏ）
系酸化物のブラックパウダーを含むブラック層４０は、
厚さが５ｃｍ以下である場合、接触抵抗が１０ｋΩ以下
で、伝導性が比較的良好であるため、透明電極４２とバ
ス電極４１との間に介在されて透明電極４２に流れる電
流をバス電極４１に伝達することができるだけでなく、
このようなコバルト（Ｃｏ）系酸化物のブラックパウダ
ーをブラックマトリックスの形成に使用する場合、ブラ
ックマトリックスの厚さがブラック層の厚さより遥かに
厚くなって接触抵抗が著しく増加し、隣接セルの間に発
生し得る短絡現象を防止することができる。
【００９２】また、一般に、酸化ルテニウム（Ｒｕ
Ｏ２）は高価であるが、非導電性であるコバルト（Ｃ
ｏ）系酸化物、クロム（Ｃｒ）系酸化物、マンガン（Ｍ
ｎ）系酸化物、銅（Ｃｕ）系酸化物、鉄（Ｆｅ）系酸化
物、カーボン系（Ｃ）系酸化物などは価格が安いため、
このような非導電性酸化物のうちの一つをブラック層お
よびブラックマトリックスの形成に使用することによ
り、製造コストをダウンさせることができる。
【００９３】一方、通常、従来のブラック層には導電性
ブラックパウダーである酸化ルテニウム（ＲｕＯ２）の
外に、ブラック層の接着力を向上させるため、約４２５
℃程度の軟化点を有するＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２の
３相系フリットガラスがさらに含まれる。
【００９４】このとき、先に述べた非導電性酸化物のう
ちの一つがブラック層に含まれ、ブラック層の厚さを５
ｃｍ以下に薄くし、４２５℃程度の軟化点を有する Ｐ
ｂＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２の３相系フリットガラスをブ
ラック層に適用させると、ブラック層の接着力が弱くな
って図１４Ａに示したようにブラックマトリックスでは
ピンホールが多数発生し、図１４Ｂに示したように、バ
ス電極と透明電極１１ａとの間に形成されるブラック層
では、気泡が発生されるようになる。
【００９５】従って、このような多数のピンホールおよ
び気泡の発生を防止するため、下記の表３に示したよう
な実験を行った。
【００９６】３相系フリットガラスとして、 ＰｂＯ−
Ｂ２Ｏ３−Ｂｉ２Ｏ３、ＺｎＯ−ＳｉＯ２−Ａｌ
２Ｏ３、または、ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３−ＣａＯ−ＳｉＯ２
のうちの１つまたは２つ以上を混合して使用した。この
とき、フリットガラスの軟化点を４００〜５８０℃に調
節したときの接着力の強さ、ピンホールおよび電極気泡
の発生有無などに関する実験を行った。
【００９７】
【表３】
【００９８】表３において、電極の強さは、Ｏが強い、
＝が中間、Ｘが弱いを意味する。また、ピンホールおよ
び電極気泡の発生有無は、Ｏが多い、＝が中間、Ｘが少
いを意味する。
【００９９】表３に示したように、４５０℃以上の高軟
化点フリットガラスを使用すると、接着力が良好になっ
てピンホールや電極気泡の発生も格段に減少する。
【０１００】
【発明の効果】以上、本発明のプラズマディスプレイパ
ネルおよびその製造方法によると、放電セル内の透明電
極１１ａ上に形成されるブラック層と非放電領域に形成
されるブラックマトリックスとを同一の材料で同時に形
成することによって、製造工程を単純化して製造コスト
をダウンさせることができる。
【０１０１】本発明によるプラズマディスプレイパネル
およびその製造方法によると、放電セル内の透明電極１
１ａ上に形成されるブラック層と非放電領域に形成され
るブラックマトリックスとの間に間隔を置くことなく一
体に形成させて非放電領域を完全に覆うことができき、
製造コストをダウンさせるとともにコントラストをより
向上させることができる。
【０１０２】本発明によるプラズマディスプレイパネル
およびその製造方法によると、放電セル内の各バス電極
を非放電領域の一部にまたがるように形成させることが
でき、放電セル内のバス電極間の距離をより広くして輝
度を向上させることができる。
【０１０３】特に、価格の安いコバルト（Ｃｏ）系酸化
物、クロム（Ｃｒ）系酸化物、マンガン（Ｍｎ）系酸化
物、銅（Ｃｕ）系酸化物、鉄（Ｆｅ）系酸化物、カーボ
ン系（Ｃ）系酸化物のいずれか１つをブラック層および
ブラックマトリックス形成のためのブラックパウダーと
して使用することによって製造コストをダウンさせる効
果を奏する。
【０１０４】また、上記のような非導電性酸化物を用い
てブラック層とブラックマトリックスとを一体に形成す
るとき、隣接した放電セルの間で発生する短絡を防止す
ることができる。
【０１０５】以上、本発明の好ましい実施形態では、ブ
ラックパウダーとしてコバルト（Ｃｏ）系酸化物を、フ
リットガラスとしてＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３−Ｂｉ２Ｏ３、Ｚ
ｎＯ−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３、または、ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ
３−ＣａＯ−ＳｉＯ２を例にして説明したが、本発明は
これに限定されるものではなく、当業者によって種々変
形して実施することができる。また、このような種々の
変形は本発明の権利範囲に属するのは言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
【図１】一般のプラズマディスプレイパネルの構造を示
す図である。
【図２】図１のプラズマディスプレイパネルにおける前
面基板の構造を示す図である。
【図３Ａ】図２のプラズマディスプレイパネルにおける
前面基板の製造方法を示す図である。
【図３Ｂ】図２のプラズマディスプレイパネルにおける
前面基板の製造方法を示す図である。
【図３Ｃ】図２のプラズマディスプレイパネルにおける
前面基板の製造方法を示す図である。
【図３Ｄ】図２のプラズマディスプレイパネルにおける
前面基板の製造方法を示す図である。
【図３Ｅ】図２のプラズマディスプレイパネルにおける
前面基板の製造方法を示す図である。
【図３Ｆ】図２のプラズマディスプレイパネルにおける
前面基板の製造方法を示す図である。
【図３Ｇ】図２のプラズマディスプレイパネルにおける
前面基板の製造方法を示す図である。
【図４】本発明の好ましい第１の実施形態に係るプラズ
マディスプレイパネルの前面基板の構造を示す図であ
る。
【図５Ａ】図４のプラズマディスプレイパネルにおける
前面基板の製造方法を示す図である。
【図５Ｂ】図４のプラズマディスプレイパネルにおける
前面基板の製造方法を示す図である。
【図５Ｃ】図４のプラズマディスプレイパネルにおける
前面基板の製造方法を示す図である。
【図５Ｄ】図４のプラズマディスプレイパネルにおける
前面基板の製造方法を示す図である。
【図５Ｅ】図４のプラズマディスプレイパネルにおける
前面基板の製造方法を示す図である。
【図５Ｆ】図４のプラズマディスプレイパネルにおける
前面基板の製造方法を示す図である。
【図６】図５のプラズマディスプレイパネルの前面基板
の製造時において、バス電極へのアンダーカット発生を
示す図である。
【図７Ａ】バス電極のアンダーカット現象を解決するた
めのプラズマディスプレイパネルの前面基板の製造方法
を示す図である。
【図７Ｂ】バス電極のアンダーカット現象を解決するた
めのプラズマディスプレイパネルの前面基板の製造方法
を示す図である。
【図７Ｃ】バス電極のアンダーカット現象を解決するた
めのプラズマディスプレイパネルの前面基板の製造方法
を示す図である。
【図７Ｄ】バス電極のアンダーカット現象を解決するた
めのプラズマディスプレイパネルの前面基板の製造方法
を示す図である。
【図７Ｅ】バス電極のアンダーカット現象を解決するた
めのプラズマディスプレイパネルの前面基板の製造方法
を示す図である。
【図７Ｆ】バス電極のアンダーカット現象を解決するた
めのプラズマディスプレイパネルの前面基板の製造方法
を示す図である。
【図８】本発明の好ましい第２の実施形態によるプラズ
マディスプレイパネルの前面基板の構造を示す図であ
る。
【図９】本発明の好ましい第３の実施形態によるプラズ
マディスプレイパネルの前面基板の構造を示す図であ
る。
【図１０Ａ】図９のプラズマディスプレイパネルの前面
基板の製造方法を示す図である。
【図１０Ｂ】図９のプラズマディスプレイパネルの前面
基板の製造方法を示す図である。
【図１０Ｃ】図９のプラズマディスプレイパネルの前面
基板の製造方法を示す図である。
【図１０Ｄ】図９のプラズマディスプレイパネルの前面
基板の製造方法を示す図である。
【図１０Ｅ】図９のプラズマディスプレイパネルの前面
基板の製造方法を示す図である。
【図１０Ｆ】図９のプラズマディスプレイパネルの前面
基板の製造方法を示す図である。
【図１１】本発明の好ましい第４の実施形態によるプラ
ズマディスプレイパネルの前面基板の構造を示す図であ
る。
【図１２Ａ】図１１のプラズマディスプレイパネルの前
面基板においてバス電極の位置を非放電領域へ次第に移
動させることを示す図である。
【図１２Ｂ】図１１のプラズマディスプレイパネルの前
面基板においてバス電極の位置を非放電領域へ次第に移
動させることを示す図である。
【図１２Ｃ】図１１のプラズマディスプレイパネルの前
面基板においてバス電極の位置を非放電領域へ次第に移
動させることを示す図である。
【図１２Ｄ】図１１のプラズマディスプレイパネルの前
面基板においてバス電極の位置を非放電領域へ次第に移
動させることを示す図である。
【図１２Ｅ】図１１のプラズマディスプレイパネルの前
面基板においてバス電極の位置を非放電領域へ次第に移
動させることを示す図である。
【図１２Ｆ】図１１のプラズマディスプレイパネルの前
面基板においてバス電極の位置を非放電領域へ次第に移
動させることを示す図である。
【図１３】本発明の第１ないし第４の実施形態によるプ
ラズマディスプレイパネルの製造時に形成されるブラッ
ク層の接触抵抗を測定するための構造を示す図である。
【図１４】従来の４２５℃程度の軟化点を有するフリッ
トガラスによるピンホールまたは気泡発生の現象を示す
図である。
【符号の説明】
１０ 前面基板 １１ａ 透明電極 １１ｂ、１１ｂ’ バス電極 １１ｃ ブラック層 １４ ブラックマトリックス ３０、３０( フォトマスク
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (31)優先権主張番号 ２００１−６９０１１ (32)優先日 平成13年11月６日(2001．11．6) (33)優先権主張国 韓国（ＫＲ） (31)優先権主張番号 ２００１−６９０１２ (32)優先日 平成13年11月６日(2001．11．6) (33)優先権主張国 韓国（ＫＲ） (72)発明者 チョイ，テ・ワン 大韓民国・ギョンサンブク−ド・チルゴク −グン・ソクジョク−ミョン・ジュングリ −ブヨン・（番地なし）・アパートメント 111−312 (72)発明者 パク，スン・テ 大韓民国・ギョンサンブク−ド・グミ− シ・ソンジュン−ドン 183・ドンヤンハ ンシン アパートメント・106−1402 (72)発明者 キム，スン・ハク 大韓民国・ギョンサンブク−ド・チルゴク −グン・ナミュル−リ・ソクジョク−ミョ ン・（番地なし）・ウバンシンチョンジ− タウン 107−10 (72)発明者 カン，ソク・ドン 大韓民国・ギョンサンブク−ド・グミ− シ・グピョン−ドン・（番地なし）・ブヨ ン アパートメント 201−1205 (72)発明者 キム，サン・テ 大韓民国・デグ−シ・ナム−ク・デミョン ９−ドン・559−７ (72)発明者 ベエ，ヒョン・キュン 大韓民国・デグ−シ・ナム−ク・ボンドゥ ク ３−ドン 1329−２・デドク マンシ ョン 106−402 Ｆターム(参考） 5C027 AA01 AA02 5C040 FA01 GB02 GC05 GC18 GC19 GH05 GH06 GH07 JA02 JA15 JA21 JA22 KA03 KA09 MA03 MA26

Claims (32)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 前面基板と、この前面基板と一定の間隔
    をおいて配置される後面基板と、前記前面基板上に平行
    に配列される複数の維持電極と、前記後面基板上に前記
    維持電極に交差する方向に配列される複数のデータ電極
    と、前記前面基板および後面基板の間に一定の間隔で配
    置され、放電セルを区画する複数の隔壁とを含むプラズ
    マディスプレイパネルにおいて、 前記維持電極のそれぞれが、透明電極と、前記透明電極
    の上に配置されるバス電極とからなり、前記透明電極と
    前記バス電極との間にはコントラスト向上のためのブラ
    ック層が形成され、 前記ブラック層が、前記全面基板の放電セルの間の非放
    電領域を完全に覆うように形成されることを特徴とする
    プラズマディスプレイパネル。
  2. 【請求項２】 前記非放電領域に形成されたブラック層
    が、ブラックマトリックスであることを特徴とする請求
    項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
  3. 【請求項３】 前記バス電極が、放電セル内の透明電極
    上に形成されたブラック層にのみ形成されることを特徴
    とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
  4. 【請求項４】 前記バス電極が、放電セル内の透明電極
    上に形成されたブラック層の一部から前記非放電領域に
    形成されたブラック層の一部にわたって形成されること
    を特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパ
    ネル。
  5. 【請求項５】 前記バス電極の長さをＬとすると、前記
    非放電領域に形成されたブラック層に接するバス電極の
    幅が、１／８Ｌ〜５／８Ｌの範囲であることを特徴とす
    る請求項４に記載のプラズマディスプレイパネル。
  6. 【請求項６】 前記ブラック層が、コバルト（Ｃｏ）系
    酸化物、クロム（Ｃｒ）系酸化物、マンガン（Ｍｎ）系
    酸化物、銅（Ｃｕ）系酸化物、鉄（Ｆｅ）系酸化物、カ
    ーボン（Ｃ）系酸化物のうちの少なくとも１つで構成さ
    れるブラックパウダーを含むことを特徴とする請求項１
    に記載のプラズマディスプレイパネル。
  7. 【請求項７】 前記ブラック層が、ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３−
    Ｂｉ２Ｏ３、ＺｎＯ−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３、ＰｂＯ−
    Ｂ２Ｏ３−ＣａＯ−ＳｉＯ２のうちの少なくとも１つを
    含む４５０℃以上の高軟化点のフリットガラスを含むこ
    とを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイ
    パネル。
  8. 【請求項８】 前記フリットガラスの含量が、５〜３０
    重量％の範囲であることを特徴とする請求項７に記載の
    プラズマディスプレイパネル。
  9. 【請求項９】 前記ブラック層の厚さが、０．１〜５μ
    ｍであることを特徴とする請求項１に記載のプラズマデ
    ィスプレイパネル。
  10. 【請求項１０】 前面基板と、この前面基板と一定の間
    隔をおいて配置される後面基板と、前記前面基板上に平
    行に配列される複数の維持電極と、前記後面基板上に前
    記維持電極に交差する方向に配列される複数のデータ電
    極と、前記前面基板および後面基板の間に一定の間隔で
    配置され、放電セルを区画する複数の隔壁とを含むプラ
    ズマディスプレイパネルにおいて、 前記維持電極のそれぞれが、透明電極と、この透明電極
    上に配置されるバス電極とからなり、前記透明電極と前
    記バス電極との間にはコントラスト向上のためのブラッ
    ク層が形成され、 前記放電セルの間にはブラックマトリックスが形成さ
    れ、 前記ブラック層および前記ブラックマトリックスが、前
    記前面基板の表面からほぼ同一の高さで形成されるとと
    もに同一の材料で構成されることを特徴とするプラズマ
    ディスプレイパネル。
  11. 【請求項１１】 前記ブラック層およびブラックマトリ
    ックスが、同一の工程で同時に形成されることを特徴と
    する請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネル。
  12. 【請求項１２】 前記ブラック層が、前記ブラックマト
    リックスと狭い間隔で離隔され、前記放電セル間の非放
    電領域の一部にまで延長するように形成されることを特
    徴とする請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネ
    ル。
  13. 【請求項１３】 前記ブラック層が、コバルト（Ｃｏ）
    系酸化物、クロム（Ｃｒ）系酸化物、マンガン（Ｍｎ）
    系酸化物、銅（Ｃｕ）系酸化物、鉄（Ｆｅ）系酸化物、
    カーボン（Ｃ）系酸化物のうちの少なくとも１つで構成
    されるブラックパウダーを含むことを特徴とする請求項
    １０に記載のプラズマディスプレイパネル。
  14. 【請求項１４】 前記ブラック層が、ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３
    −Ｂｉ２Ｏ３、ＺｎＯ−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３、ＰｂＯ
    −Ｂ２Ｏ３−ＣａＯ−ＳｉＯ２のうちの少なくとも１つ
    を含む４５０℃以上の高軟化点のフリットガラスを含む
    ことを特徴とする請求項１０に記載のプラズマディスプ
    レイパネル。
  15. 【請求項１５】 前記フリットガラスの含量が、５〜３
    ０重量％の範囲であることを特徴とする請求項１４に記
    載のプラズマディスプレイパネル。
  16. 【請求項１６】 前記ブラック層の厚さが、０．１〜５
    μｍであることを特徴とする請求項１０に記載のプラズ
    マディスプレイパネル。
  17. 【請求項１７】 前面基板と、この前面基板と一定の間
    隔をおいて配置される後面基板と、前記前面基板上に平
    行に配列されて透明電極およびバス電極が対をなす複数
    の維持電極と、前記後面基板上に前記維持電極に交差す
    る方向に配列される複数のデータ電極と、前記前面基板
    および後面基板の間に一定の間隔で配置され、放電セル
    を区画する複数の隔壁とを含むプラズマディスプレイパ
    ネルの製造方法において、 前記前面基板上に複数の透明電極を平行に形成するステ
    ップと、 前記複数の透明電極が形成された前面基板の全面にブラ
    ックペーストを塗布して乾燥させるステップと、 第１のフォトマスクを用いてブラック層形成部分を露光
    するステップと、 前記露光されたブラックペースト上にバス電極ペースト
    を塗布して乾燥させるステップと、 第２のフォトマスクを用いてバス電極形成部分を露光す
    るステップと、 前記露光された前面基板を現像し、焼成してブラック層
    およびバス電極を形成するステップと、 前記ブラック層およびバス電極が形成された前面基板の
    全面に誘電体ペーストを塗布して乾燥させるステップ
    と、を含むことをプラズマディスプレイパネルの製造方
    法。
  18. 【請求項１８】 前記第１のフォトマスクが、前記ブラ
    ック層が１つの放電セル内の透明電極から放電セル間の
    非放電領域を経由して、隣接した他の放電セル内の透明
    電極にまで形成されるようにパターニングされているこ
    とを特徴とする請求項１７に記載のプラズマディスプレ
    イパネルの製造方法。
  19. 【請求項１９】 前記非放電領域に形成されたブラック
    層が、ブラックマトリックスであることを特徴とする請
    求項１８に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方
    法。
  20. 【請求項２０】 前記第２のフォトマスクが、前記バス
    電極が１つの放電セル内の透明電極上に形成されたブラ
    ック層と同じ大きさで形成されるようにパターニングさ
    れていることを特徴とする請求項１７に記載のプラズマ
    ディスプレイパネルの製造方法。
  21. 【請求項２１】 前記第２のフォトマスクが、前記バス
    電極が１つの放電セル内の透明電極上に形成されたブラ
    ック層の一部から前記非放電領域に形成されたブラック
    層の一部にわたって形成されるようにパターニングされ
    ていることを特徴とする請求項１７に記載のプラズマデ
    ィスプレイパネルの製造方法。
  22. 【請求項２２】 前記ブラック層が、コバルト（Ｃｏ）
    系酸化物、クロム（Ｃｒ）系酸化物、マンガン（Ｍｎ）
    系酸化物、銅（Ｃｕ）系酸化物、鉄（Ｆｅ）系酸化物、
    カーボン（Ｃ）系酸化物のうちの少なくとも１つで構成
    されるブラックパウダーを含むことを特徴とする請求項
    １７に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
  23. 【請求項２３】 前面基板と、この前面基板と一定の間
    隔をおいて配置される後面基板と、前記前面基板上に平
    行に配列されて透明電極およびバス電極が対をなす複数
    の維持電極と、前記後面基板上に前記維持電極に交差す
    る方向に配列される複数のデータ電極と、前記前面基板
    および後面基板の間に一定の間隔で配置され、放電セル
    を区画する複数の隔壁とを含むプラズマディスプレイパ
    ネルの製造方法において、 前記前面基板上に複数の透明電極を平行に形成するステ
    ップと、 前記複数の透明電極が形成された前面基板の全面にブラ
    ックペーストを塗布して乾燥させるステップと、 第１のフォトマスクを用いてブラックマトリックス形成
    部分を露光するステップと、 前記露光されたブラックペースト上にバス電極ペースト
    を塗布して乾燥させるステップと、 第２のフォトマスクを用いてバス電極形成部分を露光す
    るステップと、 前記露光された前面基板を現像し、焼成してブラックマ
    トリックスおよびバス電極を形成するステップと、 前記ブラックマトリックスおよびバス電極が形成された
    前面基板の全面に誘電体ペーストを塗布して乾燥させる
    ステップと、を含むことを特徴とするプラズマディスプ
    レイパネルの製造方法。
  24. 【請求項２４】 前記透明電極と前記バス電極との間に
    ブラック層が形成されることを特徴とする請求項２３に
    記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
  25. 【請求項２５】 前記ブラック層が、１つの放電セル内
    に形成された透明電極から延長され、前記１つの放電セ
    ルと隣接した他の放電セル間の非放電領域の一部にまで
    形成されることを特徴とする請求項２４に記載のプラズ
    マディスプレイパネルの製造方法。
  26. 【請求項２６】 前記ブラック層が、コバルト（Ｃｏ）
    系酸化物、クロム（Ｃｒ）系酸化物、マンガン（Ｍｎ）
    系酸化物、銅（Ｃｕ）系酸化物、鉄（Ｆｅ）系酸化物、
    カーボン（Ｃ）系酸化物のうちの少なくとも１つで構成
    されるブラックパウダーを含むことを特徴とする請求項
    ２４に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
  27. 【請求項２７】 前記バス電極形成部分を露光させる
    時、前記ブラック層が同時に形成されることを特徴とす
    る請求項２３に記載のプラズマディスプレイパネルの製
    造方法。
  28. 【請求項２８】 前面基板と、この前面基板と一定の間
    隔をおいて配置される後面基板と、前記前面基板上に平
    行に配列されて透明電極およびバス電極が対をなす複数
    の維持電極と、前記後面基板上に前記維持電極に交差す
    る方向に配列される複数のデータ電極と、前記前面基板
    および後面基板との間に一定の間隔で配置され、放電セ
    ルを区画する複数の隔壁とを含むプラズマディスプレイ
    パネルの製造方法において、 前記前面基板上に複数の透明電極を平行に形成するステ
    ップと、 前記複数の透明電極が形成された前面基板の全面にブラ
    ックペーストを塗布して乾燥させるステップと、 第１のフォトマスクを用いてブラック層およびブラック
    マトリックス形成部分を露光するステップと、 前記露光されたブラックペースト上にバス電極ペースト
    を塗布して乾燥させるステップと、 第２のフォトマスクを用いてバス電極形成部分を露光す
    るステップと、 前記露光された前面基板を現像し、焼成してブラックマ
    トリックスおよびバス電極を形成するステップと、 前記ブラックマトリックスおよびバス電極が形成された
    前面基板の全面に誘電体ペーストを塗布して乾燥させる
    ステップと、を含むことを特徴とするプラズマディスプ
    レイパネルの製造方法。
  29. 【請求項２９】 前記ブラック層が、前記透明電極と前
    記バス電極との間に形成されることを特徴とする請求項
    ２８に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
  30. 【請求項３０】 前記ブラック層が、１つの放電セル内
    に形成された透明電極から延長され、前記１つの放電セ
    ルと隣接した他の放電セル間の非放電領域の一部にまで
    形成されることを特徴とする請求項２８に記載のプラズ
    マディスプレイパネルの製造方法。
  31. 【請求項３１】 前記ブラック層および前記ブラックマ
    トリックスが同時に形成されることを特徴とする請求項
    ２８に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
  32. 【請求項３２】 前記ブラック層が、コバルト（Ｃｏ）
    系酸化物、クロム（Ｃｒ）系酸化物、マンガン（Ｍｎ）
    系酸化物、銅（Ｃｕ）系酸化物、鉄（Ｆｅ）系酸化物、
    カーボン（Ｃ）系酸化物のうちの少なくとも１つで構成
    されるブラックパウダーを含むことを特徴とする請求項
    ２８に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
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