JP2003145939A - 光記録媒体 - Google Patents

光記録媒体

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JP2003145939A
JP2003145939A JP2001350777A JP2001350777A JP2003145939A JP 2003145939 A JP2003145939 A JP 2003145939A JP 2001350777 A JP2001350777 A JP 2001350777A JP 2001350777 A JP2001350777 A JP 2001350777A JP 2003145939 A JP2003145939 A JP 2003145939A
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JP2001350777A
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English (en)
Inventor
Tsutomu Sato
勉 佐藤
Tatsuya Tomura
辰也 戸村
Yasunobu Ueno
泰伸 植野
So Noguchi
宗 野口
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Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来の波長域より短波長を発振する半導体レ
ーザーに適用し得るよう、有機溶剤に対する溶解性が高
く、耐光性、保存安定性に優れたホルマザン金属色素を
備える光記録媒体を提供する。 【解決手段】 基板上に直接又は下引き層を介し記録層
を設けてなる光記録媒体であって、前記記録層に、一般
式(I)で示される化合物を少なくとも1種含有する。 【化24】

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ビームを照射す
ることにより、記録材料の透過率、反射率等の光学的な
変化を生じさせ、情報の記録、再生を行ない、かつ追記
が可能な情報記録媒体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】現在、次世代大容量光ディスクとしてD
VD−Rの開発が進められている。記録容量の向上の要
素技術は、記録ピット微小化のための記録材料開発、M
PEG2に代表される画像圧縮技術の採用、記録ピット
読みとりのための半導体レーザの短波長化等の技術開発
が必要である。
【0003】これまで赤色波長域の半導体レーザとして
は、バーコードリーダ、計測器用に670nm体のAl
GaInPレーザダイオードが商品化されているのみで
あったが、光ディスクの高密度化に伴い、赤色レーザが
本格的に光ストレージ市場で使用されつつある。DVD
ドライブの場合、光源として635nm帯と〜655n
m帯のレーザダイオードの2つの波長で規格化されてい
る。高密度記録のためには、波長はより短波長化が望ま
しく、追記メディア用ドライブとしては波長635nm
が好ましい。一方、再生専用のDVD−ROMドライブ
は波長〜655nmで商品化されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、DVD
−Rメディアは、波長〜635nm及び〜650nmで
記録、再生が可能なメディア(DVD−R)で、それに
適用できる耐光性、保存安定性に優れた記録材料が望ま
れている。又、ポリメチン色素中、特にシアニン色素
は、光学特性的には優れており信号特性も満足すべき特
性が得られるものの、耐光性が極めて悪くそれ単独では
実用に耐えず、光安定化能と信号特性を両立するものは
未だ見いだされていない。更に、アゾ金属キレート色素
も信号特性は満足すべき特性が得られるが充分な耐光性
は得られていない。一方、ホルマザン金属キレート色素
は光安定性が極めて高いことが知られ、光記録材料とし
ての応用が試みられてきたが、何れも吸収波長が長く、
DVD−R用記録材料としては適していなかった。又、
シアニン色素の光安定化材としての応用も試みられてい
るが、光安定化機能が効率よく発揮できるためには、主
色素の吸収波長に近接した吸収特性を有するホルマザン
色素が必要となる。その意味で従来のホルマザン金属色
素は吸収波長が長波長であり、充分な光安定化能力を発
揮できていなかった。
【0005】本発明は、従来の波長域より短波長を発振
する半導体レーザーに適用し得るよう、有機溶剤に対す
る溶解性が高く、耐光性、保存安定性に優れたホルマザ
ン金属色素を備える光記録媒体を提供することを目的と
する。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に請求項1記載の発明は、基板上に直接又は下引き層を
介し記録層を設けてなる光記録媒体であって、前記記録
層に、一般式(I)、(II)又は(III)で示され
る化合物を少なくとも1種含有することを最も主要な特
徴とする。
【0007】
【化7】
【0008】式中、R1 、R2 は、−OR10又は−SR
11又は−NR1213を表し、R10、R11は置換されてい
てもよいアルキル基又はアリール基を表し、R12,R13
は置換されていてもよいアルキル基を表す。R3 、R4
は−CNを表し、R5 は炭素数1〜6の直鎖または分岐
のアルキル基を表す。Mは、2価の金属原子を表し、n
は、Mに配位するホルマザン配位子の数を表す。
【0009】
【化8】
【0010】式中、R1 、R2 は、−OR10又は−SR
11又は−NR1213を表し、R10、R11は置換されてい
てもよいアルキル基又はアリール基を表し、R12,R13
は置換されていてもよいアルキル基を表す。R3 、R4
は−CNを表し、R7 は、ハロゲン、アルキル基、アル
コキシ基、チオアルコキシ基、置換アミノ基を表す。M
は、2価の金属原子を表し、nは、M2配位するホルマ
ザン配位子の数を表す。
【0011】
【化9】
【0012】式中、R1 、R2 は、−OR10又は−SR
11又は−NR1213を表し、R10、R11は置換されてい
てもよいアルキル基又はアリール基を表し、R12,R13
は置換されていてもよいアルキル基を表す。R3 、R4
は−CNを表し、R7 は、ハロゲン、アルキル基、アル
コキシ基、チオアルコキシ基、置換アミノ基を表す。M
は、2価の金属原子を表し、nは、M2配位するホルマ
ザン配位子の数を表す。
【0013】また、請求項2記載の発明は、記録層上
に、反射層、保護層及び/又は接着層及び第二の基板を
設けてなる請求項1記載を主要な特徴とする。
【0014】また、請求項3記載の発明は、一般式
(I)、(II)又は(III)中、Mが鉄、コバル
ト、ニッケル、銅、亜鉛、パラジウムで示される請求項
1又は2記載の光記録媒体を主要な特徴とする。
【0015】また、請求項4記載の発明は、記録層が、
一般式(I)、(II)又は(III)で示される化合
物と、550〜630nmに最大吸収波長を有する光吸
収性色素との混合層からなる請求項1、2又は3記載の
光記録媒体を主要な特徴とする。
【0016】また、請求項5記載の発明は、光吸収性色
素がポリメチン色素又はアゾ金属キレート色素であると
共に、一般式(I)、(II)又は(III)で示され
る化合物が前記光吸収性色素の最大吸収波長の−50n
mより長波長側に最大吸収波長を有し、前記光吸収性色
素と、前記一般式(I)、(II)又は(III)で示
される化合物との混合層からなる請求項4記載の光記録
媒体を主要な特徴とする。
【0017】また、請求項6記載の発明は、ポリメチン
色素がシアニン色素である請求項5記載を主要な特徴と
する。
【0018】 また、請求項7記載の発明は、基板上に
直接又は下引き層を介し記録層を設けてなる光記録媒体
であって、前記記録層に、一般式(IV)、(IV)又
は(VI)で示される化合物を少なくとも1種含有する
ことを最も主要な特徴とする。
【0019】
【化10】
【0020】式中、R5 は炭素数1〜4の直鎖または分
岐のアルキル基を表し、Mは2価の銅又はニッケルを表
す。
【0021】
【化11】
【0022】式中、R6 は炭素数1〜4の直鎖または分
岐のアルキル基を表し、Mは2価の銅又はニッケルを表
す。
【0023】
【化12】
【0024】式中、Mは2価の銅又はニッケルを表す。
【0025】また、請求項8記載の発明は、記録層に、
反射層、保護層又は接着層及び第二の基板を設けてなる
請求項7 記載を主要な特徴とする。
【0026】また、請求項9記載の発明は、記録層が、
一般式(IV)又は(V)又は(VI)で示される化合
物と、550〜630nmに最大吸収波長を有する光吸
収性色素との混合層からなる請求項7又は8記載を主要
な特徴とする。
【0027】 また、請求項10記載の発明は、光吸収
性色素がポリメチン色素又はアゾ金属キレート色素であ
ると共に、一般式(IV)又は(V)又は(VI)で示
される化合物が前記光吸収性色素の最大吸収波長の−5
0nmより長波長側に最大吸収波長を有し、前記光吸収
性色素と、前記一般式(IV)又は(V)又は(VI)
で示される化合物との混合層からなる請求項9記載を主
要な特徴とする。
【0028】また、請求項11記載の発明は、ポリメチ
ン色素がシアニン色素である請求項10記載を主要な特
徴とする。
【0029】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態を説明す
る。
【0030】本発明は、発振波長630〜660nm以
下の半導体レーザーを用いる高密度光ディスクシステム
(DVD−R)に適用可能で高耐光性な光記録媒体を作
成し得るよう、特定の構造を有するホルマザン金属色素
を主成分とする光記録媒体を備えている。
【0031】本発明の光記録媒体の構成を説明すると、
光記録媒体の構成は、追記型光ディスクの構造(基板上
に記録層を設けたものを2枚貼り合わせたいわゆるエア
ーサンドイッチ構造)としてもよく、CD−R構造(基
板上に記録層、反射層、保護層)としてもよく、CD−
R構造を貼り合わせた構造でも良い。また、さらにその
上に必要に応じて接着層及び第二の基盤を設けてもよ
い。
【0032】以下、基盤、記録層、下引き層、金属反射
層、保護層、基板面ハードコート層について順に説明す
る。
【0033】(基板)基板を説明すると、基板は、基板
側から記録再生を行なう場合のみ使用レーザーに対して
透明でなければならず、記録層側から記録、再生を行な
う場合基板は透明である必要はない。基板の材料として
は、例えば、ポリエステル、アクリル樹脂、ポリアミ
ド、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、フェ
ノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミドなどのプラスチ
ック又は、ガラス、セラミックあるいは、金属などを用
いることができる。尚、基板の表面にトラッキング用の
案内溝や、案内ピット、さらにアドレス信号などのプリ
フォーマットなどが形成されていても良い。
【0034】(記録層)記録層を説明すると、記録層
は、レーザー光の照射により何らかの光学的変化を生じ
させ、その変化により情報を記録するものであって、こ
の記録層中には一般式(I)又は(II)又は(II
I)で示される化合物を少なくとも1種含有してなるこ
とが必要である。さらにはより好ましい具体的な構造例
として一般式(IV)又は(V)又は(VI)で示され
る化合物を少なくとも1種含有してなることが必要であ
る。
【0035】
【化13】
【0036】
【化14】
【0037】
【化15】
【0038】
【化16】
【0039】
【化17】
【0040】
【化18】
【0041】一般式(I)中、R1 、R2 は、−OR10
又は−SR11又は−NR1213を表し、R10、R11は置
換されていてもよいアルキル基又はアリール基を表し、
12,R13は置換されていてもよいアルキル基を表す。
3 、R4 は−CNを表し、R5は炭素数1〜6の直鎖
または分岐のアルキル基を表す。
【0042】一般式(II)中、R1 、R2 は、−OR
10又は−SR11又は−NR1213を表し、R10、R11
置換されていてもよいアルキル基又はアリール基を表
し、R 12,R13は置換されていてもよいアルキル基を表
す。R3 、R4 は−CNを表し、R6 は炭素数1〜6の
直鎖または分岐のアルキル基を表す。
【0043】一般式(III)中、R1 、R2 は、−O
10又は−SR11又は−NR1213を表し、R10、R11
は置換されていてもよいアルキル基又はアリール基を表
し、R12,R13は置換されていてもよいアルキル基を表
す。R3 、R4 は−CNを表し、R7 は、ハロゲン、ア
ルキル基、アルコキシ基、チオアルコキシ基、置換アミ
ノ基を表す。
【0044】Mは2価の金属原子を表し、nはMに配位
するホルマザン配位子の数を表す。金属原子の具体例
は、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバ
ルト、ニッケル、銅、亜鉛、ジリコニウム、ニオブ、モ
リブデン、テクネニウム、ルテニウム、ロジウム、パラ
ジウム等が挙げられるが、光学特性、保存安定性及び光
安定性の面から、特に鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜
鉛、パラジウムが好ましく、コバルト、ニッケル、銅が
より好ましい。
【0045】一般式(IV)中、R5は炭素数1〜4の
直鎖または分岐のアルキル基を表し、Mは2価の銅又は
ニッケルを表す。
【0046】一般式(IV)中、R6は炭素数1〜4の
直鎖または分岐のアルキル基を表し、Mは2価の銅又は
ニッケルを表す。
【0047】一般式(VI)中、式中、Mは2価の銅又
はニッケルを表す。
【0048】上記ハロゲン原子の具体例は、フッ素、塩
素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。上記アルキル基の具
体例は、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブ
チル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチ
ル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基等
の一級アルキル基、イソブチル基、イソアミル基、2−
メチルブチル基、2−メチルペンチル基、3−メチルペ
ンチル基、4−メチルペンチル基、2−エチルブチル
基、2−メチルヘキシル基、3−メチルヘキシル基、4
−メチルヘキシル基、5−メチルヘキシル基、2−エチ
ルペンチル基、3−エチルペンチル基、2−メチルヘプ
チル基、3−メチルヘプチル基、4−メチルヘプチル
基、5−メチルヘプチル基、2−エチルヘキシル基、3
−エチルヘキシル基、イソプロピル基、sec−ブチル
基、1−エチルプロピル基、1−メチルブチル基、1,
2−ジメチルプロピル基、1−メチルヘプチル基、1−
エチルブチル基、1,3−ジメチルブチル基、1,2−
ジメチルブチル基、1−エチル−2−メチルプロピル
基、1−メチルヘキシル基、1−エチルヘプチル基、1
−プロピルブチル基、1−イソプロピル−2−メチルプ
ロピル基、1−エチル−2−メチルブチル基、1−エチ
ル−2−メチルブチル基、1−プロピル−2−メチルプ
ロピル基、1−メチルヘプチル基、1−エチルヘキシル
基、1−プロピルペンチル基、1−イソプロピルペンチ
ル基、1−イソプロピル−2−メチルブチル基、1−イ
ソプロピル−3−メチルブチル基、1−メチルオクチル
基、1−エチルヘプチル基、1−プロピルヘキシル基、
1−イソブチル−3−メチルブチル基等の二級アルキル
基、ネオペンチル基、tert−ブチル基、tert−
ヘキシル基、tert−アミル基、tert−オクチル
基等の三級アルキル基、シクロヘキシル基、4−メチル
シクロヘキシル基、4−エチルシクロヘキシル基、4−
tert−ブチルシクロヘキシル基、4−(2−エチル
ヘキシル)シクロヘキシル基、ボルニル基、イソボルニ
ル基(アダマンタン基)等のシクロアルキル基等が挙げ
られる。更に、これら一級及び二級アルキル基は、水酸
基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシ基、シアノ
基、置換又は未置換のアリール基、置換又は未置換の複
素環残基等を以て置換されていてもよく、また酸素、硫
黄、窒素等の原子を介して前記のアルキル基で置換され
ていてもよい。酸素を介して置換されているアルキル基
としては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エト
キシメチル基、エトキシエチル基、ブトキシエチル基、
エトキシエトキシエチル基、フェノキシエチル基、メト
キシプロピル基、エトキシプロピル基、ピペリジノ基、
モルホリノ基等が、硫黄を介して置換されているアルキ
ル基としては、メチルチオエチル基、エチルチオエチル
基、エチルチオプロピル基、フェニルチオエチル基等
が、窒素を介して置換されているアルキル基としては、
ジメチルアミノエチル基、ジエチルアミノエチル基、ジ
エチルアミノプロピル基等が挙げられる。
【0049】上記アリール基の具体例は、フェニル基、
ペンタレニル基、インデニル基、ナフチル基、アズレニ
ル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、as−イン
ダセニル基、s−インダセニル基、アセナフタレニル
基、フルオレニル基、フェナレニル基、フェナントラニ
ル基、アントラニル基、フルオラセニル基、アセフェナ
ントラレニル基、アセアントリレン基、トリフェニレニ
ル基、ピレニル基、クリセニル基、ナフタセニル基等が
挙げられる。更に、これらアリール基は、水酸基、ハロ
ゲン原子、ニトロ基、カルボキシ基、シアノ基、置換又
は未置換のアリール基、置換又は未置換の複素環残基等
を以て置換されていてもよく、また酸素、硫黄、窒素等
の原子を介して前記のアルキル基で置換されていてもよ
い。
【0050】上記アルコキシ基の具体例は、酸素原子に
直接置換又は未置換のアルキル基が結合されているもの
であればよく、アルキル基の具体例としては前述の具体
例を挙げることができ、上記アリールオキシ基の具体例
は、酸素原子に直接置換又は未置換のアリール基が結合
されているものであればよく、アリールの具体例として
は前述の具体例を挙げることができる。
【0051】記録層の形成に当たって本発明の色素1
種、又は2種以上の組み合わせで用いても良い。さら
に、本発明の上記色素は光学特性、記録感度、信号特性
などの向上の目的で他の有機色素及び金属、金属化合物
と混合又は積層化して用いても良い。有機色素の例とし
ては、ポリメチン色素、ナフタロシアニン色素、フタロ
シアニン色素、スクアリリウム色素、クロコニウム色
素、ピリリウム色素、ナフトキノン色素、アントラキノ
ン色素(インダンスレン色素)、キサンテン色素、トリ
フェニルメタン色素、アズレン色素、テトラヒドロコリ
ン色素、フェナンスレン色素、トリフェノチアジン色素
及びその金属錯体化合物などが挙げられる。
【0052】金属、金属化合物の例としてはIn、T
e、Bi、Se、Sb、Ge、Sn、Al、Be、Te
2 、SnO、As,Cd、などが挙げられ、それぞれ
を分散混合あるいは積層の形態で用いることができる。
【0053】一方、光安定化材として用いる場合は、5
50nm〜630nmに吸収最大波長を有する光吸収性
色素と、本発明のホルマザン色素とを混合して使用す
る。本発明のホルマザン色素は、上記の光吸収性色素の
最大吸収波長の−50nmより長波長側に吸収を持つこ
とがその効率上好ましい。
【0054】又、550nm〜630nmに吸収最大波
長のある光吸収性色素の好ましい例としては、ポリメチ
ン色素、スクアリリウム色素、クロコニウム色素、ピリ
リウム色素、ナフトキノン色素、アントラキノン色素
(インダンスレン系)、キサンテン色素、トリフェニル
メタン色素、テトラヒドロコリン色素、フェナンスレン
色素、トリフェノチアジン色素、アゾ金属キレート色素
等があり、光学特性からポリメチン色素、アゾ金属キレ
ート色素が特に好ましい。
【0055】上記染料中に高分子材料、例えばアイオノ
マー樹脂、ポリアミド樹脂、ビニル系樹脂、天然高分
子、シリコーン、液状ゴムなどの種々の材料もしくはシ
ランカップリング剤などを分散混合しても良く、特性改
良の目的で安定剤(例えば遷移金属錯体)、分散剤、難
燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性剤、可塑剤などと散
混合しても良い。
【0056】記録層の形成方法としては蒸着、スパッタ
リング、CVDまたは溶剤塗布などの通常の手段によっ
て行うことができる。塗布法を用いる場合には上記染料
などを有機溶剤に溶解して、スプレー、ローラーコーテ
ィグ、ディピング及び、スピンコーティングなどの慣用
のコーティング法によって行うことが出来る。用いられ
る有機溶媒としては一般にメタノール、エタノール、イ
ソプロパノール、などのアルコール類、アセトン、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノン、などのケトン類、
N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセ
トアミドなどのアミド類、ジメチルスルホキシドなどの
スルホキシド類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
エチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテ
ルなどのエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエ
ステル類、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタ
ン、四塩化炭素、トリクロロエタンなどの脂肪族ハロゲ
ン化炭化水素類、ベンゼン、キシレン、モノクロロベン
ゼン、ジクロロベンゼン、などの芳香族類、メトキシエ
タノール、エトキシエタノールなどのセロソルブ類、ヘ
キサン、ペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキ
サンなどの炭化水素類などが挙げられる。記録層の膜厚
は100Å〜10μm好ましくは200Å〜2000Å
が適当である。
【0057】(下引き層)下引き層を説明すると、下引
き層は、接着性の向上、水又はガスなどのバリアー、記
録層の保存安定性の向上、反射率の向上、溶剤からの基
板の保護、案内溝・案内ピット・プレフォーマットの形
成などを目的として使用される。
【0058】接着性の向上に対しては高分子材料例え
ば、アイオノマー樹脂、ポリアミド樹脂、ビニル樹脂、
天然樹脂、天然高分子、シリコーン、液状ゴムなどの種
々の高分子化合物及び、シランカップリング剤などをを
用いることができる。又、水又はガスなどのバリアー、
及び記録層の保存安定性の向上に対しては、上記高分子
材料以外に無機化合物、例えば、SiO、MgF、Si
2 、TiO、ZnO、TiN、SiNなどがあり、さ
らに金属又は半金属例えば、Zn、Cu、Ni、Cr、
Ge、Se、Au、Ag、Al、などを用いることがで
きる。更に、反射率の向上に対しては金属、例えば、A
l、Au、Ag等や、金属光沢を有する有機薄膜、例え
ば、メチン染料、キサンテン系染料などを挙げることが
できる。更に又、溶剤からの基板の保護、及び案内溝・
案内ピット・プレフォーマットの形成などに対しては紫
外線硬化樹脂、熱硬化樹脂、熱可塑性樹脂等を用いるこ
とができる。下引き層の膜厚としては0.01〜30μ
m好ましくは、0.05〜10μmが適当である。
【0059】(金属反射層)金属反射層について説明す
ると、金属反射層は単体で高反射率の得られる腐食され
にくい金属、半金属等が挙げられており、材料例として
はAu、Ag、Cr、Ni、Al、Fe、Snなどが挙
げられるが、反射率、生産性の点からAu、Ag、Al
が最も好ましく、これらの金属、半金属は単独で使用し
ても良く、2種の合金としても良い。膜形成法としては
蒸着、スッパタリングなどが挙げられ、膜厚としては5
0〜5000Å好ましくは100〜3000Åである。
【0060】(保護層、基板面ハードコート層)保護層
及び基板面ハードコート層について説明すると、保護
層、基板面ハードコート層は、記録層(反射吸収層)を
傷、ホコリ、汚れ等から保護すること、記録層(反射吸
収層)の保存安定性の向上、反射率の向上等を目的とし
て使用される。
【0061】これらに対しては、前記下引き層に示した
材料を用いることができる。又、無機材料として、Si
O、SiO2 、なども用いることができ、有機材料とし
てポリメチルアクリレート、ポリカーボネート、エポキ
シ樹脂、ポリスチレン、ポリエステル樹脂、ビニル樹
脂、セルロース、脂肪族炭化水素樹脂、天然ゴム、スチ
レンブタジエン樹脂、クロロプレンゴム、ワックス、ア
ルキッド樹脂、乾性油、ロジン等の熱軟化性、熱溶融性
樹脂も用いることができる。上記材料のうち最も好まし
い例としては生産性に優れた紫外線硬化樹脂である。保
護層又は基板面ハードコート層の膜厚は0.01〜30
μm好ましくは0.05〜10μmが適当である。
【0062】更に、本発明において、前記下引き層、保
護層、及び、基板面ハードコート層には記録層の場合と
同様に、安定剤、分散剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、
界面活性剤、可塑剤等を含有させることができる。
【0063】これにより、本発明のホルマザン金属キレ
ートは、塗布によるコーティングが可能で、耐光性、保
存安定性に優れた高屈折率で高反射率及び高変調度メデ
ィアが提供でき、またポリメチン色素及びアゾ金属キレ
ート色素との混合により、それら単独の場合に比較し耐
光性に優れたメディアが提供できる。
【0064】以下、本発明の実施例及び比較例を示す
が、本発明はこれらに限定されるものではない。ここ
で、化合物例を化学式と表(化合物No)で示す。
【0065】
【化19】
【0066】
【表1】
【0067】
【化20】
【0068】
【表2】
【0069】
【化21】
【0070】
【表3】
【0071】(実施例1)深さ1600Å、半値幅0.
30μm、トラックピッチ0.8μmの案内溝を有する
厚さ0.6mmの射出成形ポリカーボネート基板上に、
化合物例No.2をテトラフルオロプロパノールに溶解
した溶液をスピンナー塗布し厚さ、700Åの有機色素
層を形成し、次いで、スパッタ法により金2000Åの
反射層を設け、さらにその上にアクリル系フォトポリマ
ーにて5μmの保護層を設けた後、厚さ0.6mmの射
出成形ポリカーボネート平基板と貼り合わせ記録媒体と
した。
【0072】(実施例2)実施例1で化合物No.2の
代わりにそれぞれ、化合物No.8を用い、実施例1と
全く同様に記録媒体を得た。
【0073】(実施例3、4、5)実施例1で化合物N
o.2の代わりにそれぞれ、化合物No.2及び13及
び22と(比較化合物−1)との混合色素(重量比5/
5)を用い、実施例1と全く同様に記録媒体を得た。
【0074】(実施例6、7、8)実施例1で化合物N
o.2の代わりにそれぞれ、化合物No.5及び15及
び27と(比較化合物−2)との混合色素(重量比5/
5)を用い、実施例1と全く同様に記録媒体を得た。
【0075】(比較例1、2)実施例1で有機薄膜とし
て、化合物例No.1の代わりに下記比較化合物−1、
2を用いて記録媒体とした。
【0076】
【化22】
【0077】
【化23】
【0078】〈記録条件〉この記録体に発振波長635
nmの半導体レーザー光を用い、トラッキングしながら
EFM信号(線速3.0m/sec、最短マーク長0.
4μm)を記録し、発振波長650nmの半導体レーザ
ーの連続光(再生パワー0.7mWで再生し、反射率、
C/Nを測定し、以下の評価結果を得た。耐光テスト:
タングステンランプ、5万ルクス、20時間照射
【0079】
【表4】
【0080】(実施例9、10)厚さ1.2mmの射出
成形ポリカボネート平板上に、前頁に記載の化合物(比
較化合物−1)と化合物No.2とを重量比(10/
2)及び重量比(10/4)の混合物をテトラフルオロ
プロパノール溶解し、スピンナー塗布して、厚さ100
0Åの有機色素層を形成した。この色素薄膜をタングス
テンランプ、5万ルクス下に置き、色素の吸光度の変化
を測定した。
【0081】(実施例11、12)実施例9、10で化
合物(比較化合物−1)と化合物No.2の代わりに、
化合物(比較化合物−2)と化合物No.27を用い全
く同様に色素薄膜をえた。
【0082】(比較例3)実施例11で化合物(比−
2)のみの色素薄膜としたもの。以下に評価結果を示
す。
【0083】
【表5】
【0084】以上のことから、化合物No.5、8、1
3、15、22でも同様に顕著な光安定化効果あること
ができた。
【0085】
【発明の効果】請求項1記載の発明によれば、一般式
(I)、(II)又は(III)の記録材料により、有
機溶剤に対する溶解性が高く、660nm以下の波長域
のレーザー光で高密度記録、再生が可能で耐光性、保存
安定性に優れたものにすることができる。
【0086】請求項2記載の発明によれば、記録層に、
反射層、保護層又は接着層及び第二の基板を設けること
により、有機溶剤に対する溶解性が高く、660nm以
下の波長域のレーザー光で高密度記録、再生が可能で耐
光性、保存安定性に一層優れたものにすることができ
る。
【0087】請求項3記載の発明によれば、一般式
(I)、(II)又は(III)を、より好ましい記録
材料にすることにより、有機溶剤に対する溶解性が高
く、660nm以下の波長域のレーザー光で高密度記
録、再生が可能で耐光性、保存安定性に極めて優れたも
のにすることができる。
【0088】請求項4記載の発明によれば、光安定化材
を混合することにより、優れた信号性を示し且つ光安定
性を向上させることができる。
【0089】請求項5記載の発明によれば、光安定化材
の好ましいポリメチン色素又はアゾ金属キレート色素を
混合することにより、優れた信号性を示し且つ光安定性
を一層向上させることができる。
【0090】請求項6記載の発明によれば、光安定化材
の更に好ましいシアニン色素を混合することにより、優
れた信号性を示し且つ光安定性を更に一層向上させるこ
とができる。
【0091】請求項7記載の発明によれば、一般式
(I)、(II)又は(III)を、より好ましい記録
材料にすることにより、有機溶剤に対する溶解性が高
く、660nm以下の波長域のレーザー光で高密度記
録、再生が可能で耐光性、保存安定性に一層優れたもの
にすることができる。
【0092】請求項8記載の発明によれば、記録層に、
反射層、保護層又は接着層及び第二の基板を設けること
により、有機溶剤に対する溶解性が高く、660nm以
下の波長域のレーザー光で高密度記録、再生が可能で耐
光性、保存安定性に極めて優れたものにすることができ
る。
【0093】請求項9記載の発明によれば、光安定化材
を混合することにより、優れた信号性を示し且つ光安定
性を一層向上させることができる。
【0094】請求項10記載の発明によれば、好ましい
ポリメチン色素又はアゾ金属キレート色素の光安定化材
を混合することにより、優れた信号性を示し且つ光安定
性を一層向上させることができる。
【0095】請求項11記載の発明によれば、更に好ま
しいシアニン色素を混合することにより、優れた信号性
を示し且つ光安定性を更に一層向上させることができ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 野口 宗 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 Fターム(参考) 2H111 EA03 EA12 EA22 EA25 EA33 EA40 FA12 FA14 FB42 FB43 5D029 JA04 JB47 JC03

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板上に直接又は下引き層を介し記録層
    を設けてなる光記録媒体であって、前記記録層に、一般
    式(I)、(II)又は(III)で示される化合物を
    少なくとも1種含有することを特徴とする光記録媒体。 【化1】 式中、R1 、R2 は、−OR10又は−SR11又は−NR
    1213を表し、R10、R11は置換されていてもよいアル
    キル基又はアリール基を表し、R12,R13は置換されて
    いてもよいアルキル基を表す。R3 、R4 は−CNを表
    し、R5 は炭素数1〜6の直鎖または分岐のアルキル基
    を表す。Mは、2価の金属原子を表し、nは、Mに配位
    するホルマザン配位子の数を表す。 【化2】 式中、R1 、R2 は、−OR10又は−SR11又は−NR
    1213を表し、R10、R11は置換されていてもよいアル
    キル基又はアリール基を表し、R12,R13は置換されて
    いてもよいアルキル基を表す。R3 、R4 は−CNを表
    し、R7 は、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基、チ
    オアルコキシ基、置換アミノ基を表す。Mは、2価の金
    属原子を表し、nは、M2配位するホルマザン配位子の
    数を表す。 【化3】 式中、R1 、R2 は、−OR10又は−SR11又は−NR
    1213を表し、R10、R11は置換されていてもよいアル
    キル基又はアリール基を表し、R12,R13は置換されて
    いてもよいアルキル基を表す。R3 、R4 は−CNを表
    し、R7 は、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基、チ
    オアルコキシ基、置換アミノ基を表す。Mは、2価の金
    属原子を表し、nは、M2配位するホルマザン配位子の
    数を表す。
  2. 【請求項2】 記録層上に、反射層、保護層及び/又は
    接着層及び第二の基板を設けてなることを特徴とする請
    求項1記載の光記録媒体。
  3. 【請求項3】 一般式(I)、(II)又は(III)
    中、Mが鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、パラジウ
    ムで示されることを特徴とする請求項1又は2記載の光
    記録媒体。
  4. 【請求項4】 記録層が、一般式(I)、(II)又は
    (III)で示される化合物と、550〜630nmに
    最大吸収波長を有する光吸収性色素との混合層からなる
    ことを特徴とする請求項1、2又は3記載の光記録媒
    体。
  5. 【請求項5】 光吸収性色素がポリメチン色素又はアゾ
    金属キレート色素であると共に、一般式(I)、(I
    I)又は(III)で示される化合物が前記光吸収性色
    素の最大吸収波長の−50nmより長波長側に最大吸収
    波長を有し、前記光吸収性色素と、前記一般式(I)、
    (II)又は(III)で示される化合物との混合層か
    らなることを特徴とする請求項4記載の光記録媒体。
  6. 【請求項6】 ポリメチン色素がシアニン色素であるこ
    とを特徴とする請求項5記載の光記録媒体。
  7. 【請求項7】 基板上に直接又は下引き層を介し記録層
    を設けてなる光記録媒体であって、前記記録層に、一般
    式(IV)、(IV)又は(VI)で示される化合物を
    少なくとも1種含有することを特徴とする光記録媒体。 【化4】 式中、R5 は炭素数1〜4の直鎖または分岐のアルキル
    基を表し、Mは2価の銅又はニッケルを表す。 【化5】 式中、R6 は炭素数1〜4の直鎖または分岐のアルキル
    基を表し、Mは2価の銅又はニッケルを表す。 【化6】 式中、Mは2価の銅又はニッケルを表す。
  8. 【請求項8】 記録層に、反射層、保護層又は接着層及
    び第二の基板を設けてなることを特徴とする請求項7記
    載の光記録媒体。
  9. 【請求項9】 記録層が、一般式(IV)又は(V)又
    は(VI)で示される化合物と、550〜630nmに
    最大吸収波長を有する光吸収性色素との混合層からなる
    ことを特徴とする請求項7又は8記載の光記録媒体。
  10. 【請求項10】 光吸収性色素がポリメチン色素又はア
    ゾ金属キレート色素であると共に、一般式(IV)又は
    (V)又は(VI)で示される化合物が前記光吸収性色
    素の最大吸収波長の−50nmより長波長側に最大吸収
    波長を有し、前記光吸収性色素と、前記一般式(IV)
    又は(V)又は(VI)で示される化合物との混合層か
    らなることを特徴とする請求項9記載の光記録媒体。
  11. 【請求項11】 ポリメチン色素がシアニン色素である
    ことを特徴とする請求項10記載の光記録媒体。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2023042484A1 (ja) * 2021-09-15 2023-03-23 富士フイルム株式会社 化合物又はその互変異性体、着色組成物、染色物、並びに、染色布及びその製造方法

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US7439008B2 (en) 2004-01-30 2008-10-21 Ricoh Company, Ltd. Optical recording medium, and, method and apparatus for optical recording and reproducing using optical recording medium
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