JP2003081938A - ジフェニルスルホン化合物の製造方法 - Google Patents
ジフェニルスルホン化合物の製造方法Info
- Publication number
- JP2003081938A JP2003081938A JP2001273453A JP2001273453A JP2003081938A JP 2003081938 A JP2003081938 A JP 2003081938A JP 2001273453 A JP2001273453 A JP 2001273453A JP 2001273453 A JP2001273453 A JP 2001273453A JP 2003081938 A JP2003081938 A JP 2003081938A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- sulfone
- mol
- added
- producing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
キシジフェニルスルホンを、選択性よく高収率で製造す
る方法を提供する。 【解決手段】 4,4′−ジヒドロキシジフェニルスル
ホンと一般式(2); R−X (2) (式中、Rは、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数2
〜10のアルケニル基、炭素数3〜10のシクロアルキ
ル基、または芳香環上に置換基を有していてもよいアラ
ルキル基を示す。Xはハロゲン原子を示す。)で表され
るハロゲン化炭化水素化合物を反応させて一般式
(1); 【化1】 (式中、Rは前記と同様である。)で表されるジフェニ
ルスルホン化合物を製造する方法であって、水および水
非混和性有機溶媒中、水酸化カリウムおよび炭酸カリウ
ムの存在下に反応させることを特徴とする一般式(1)
のジフェニルスルホン化合物の製造方法。
Description
色剤として有用なジフェニルスルホン化合物、すなわ
ち、一般式(1);
る。)で表される4−置換ヒドロキシ−4′−ヒドロキ
シジフェニルスルホン(4,4′−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホンのモノエーテル誘導体)の製造方法に関す
る。
置換ヒドロキシ−4′−ヒドロキシジフェニルスルホ
ン)は、感熱記録材料の顕色剤として有用である。
シジフェニルスルホンは、従来の顕色剤に比して発色感
度、保存性、耐光性等に優れていることから、ファクシ
ミリ等の高速記録用あるいは保存性を重視したラベル等
の記録材料として多用されている。そして、この4−ア
ルコキシ−4′−ヒドロキシジフェニルスルホンは、特
開昭58−20493号、特開昭58−82788号、
特開昭60−13852号等において感熱記録紙の顕色
剤として優れていることが開示されている。
1.5〜3.0倍モルのアルカリの存在下で製造するこ
とを特徴とする方法が、国際公開WO91/11433
号に開示されている。また、4−ヒドロキシ−4′−ベ
ンジルオキシジフェニルスルホンを生成する方法であっ
て、原料の塩化ベンジルおよびアルカリ性化合物の使用
量に注目した製造方法が、特開昭59−225157号
公報に開示されている。これらのいずれの製造方法にお
いても、アルカリ性物質の使用量に注目して副生物のジ
置換ジフェニルスルホンの生成抑制と収率向上に改善を
加えているが、充分なものとは言えない。
4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンとアルキル
ハライドとを反応させて4−アルコキシ−4′−ヒドロ
キシジフェニルスルホンを製造する方法において、4,
4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンを溶解したアル
カリ性物質の水溶液および非水混和性有機溶媒との2相
溶媒系に、アルキルハライドを添加し、アルカリ性物質
を添加してpHを7.5〜9.5に保持することを特徴
とする4−アルコキシ−4′−ヒドロキシジフェニルス
ルホンの製造方法が開示されている。しかしながら、反
応途中に数回に分けてアルカリ水溶液とアルキルハライ
ドを添加するという極めて煩雑な操作を行っているにも
かかわらず、この方法によっても、目的物の収率や、副
生物であるジ置換ジフェニルスルホンの生成抑制等にお
いて、不充分である。
−置換ヒドロキシ−4′−ヒドロキシジフェニルスルホ
ンを、選択性よく高収率で製造する方法を提供すること
を目的とする。
を解決すべく鋭意検討した結果、4,4′−ジヒドロキ
シジフェニルスルホンとハロゲン化炭化水素化合物を反
応させて4−置換ヒドロキシ−4′−ヒドロキシジフェ
ニルスルホンを製造する際に、水および水非混和性有機
溶媒中で、水酸化カリウムおよび炭酸カリウムの存在下
に反応させることにより、4−置換ヒドロキシ−4′−
ヒドロキシジフェニルスルホンが選択性よく得られるこ
とを見出し、本発明を完成するに至った。
ジフェニルスルホン化合物の製造方法を提供するもので
ある。 項1. 4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンと
一般式(2); R−X (2) (式中、Rは、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数2
〜10のアルケニル基、炭素数3〜10のシクロアルキ
ル基、または芳香環上に置換基を有していてもよいアラ
ルキル基を示す。Xはハロゲン原子を示す。)で表され
るハロゲン化炭化水素化合物を反応させて一般式
(1);
れるジフェニルスルホン化合物を製造する方法であっ
て、水および水非混和性有機溶媒中、水酸化カリウムお
よび炭酸カリウムの存在下に反応させることを特徴とす
る一般式(1)のジフェニルスルホン化合物の製造方
法。 項2. ハロゲン化炭化水素化合物がイソプロピルハラ
イドである項1に記載の方法。
4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンとハロゲン
化炭化水素化合物(R−X)を反応させて4−置換ヒド
ロキシ−4′−ヒドロキシジフェニルスルホンを製造す
る際に、水と水非混和性有機溶媒との混合溶媒中で、水
酸化カリウムおよび炭酸カリウムの存在下に反応させる
ことにある。
合物は、一般式(2); R−X (2) で表される化合物である。
0のアルキル基、炭素数2〜10のアルケニル基、炭素
数3〜10のシクロアルキル基、または芳香環上に置換
基を有していてもよいアラルキル基を示す。Xはハロゲ
ン原子を示す。
り、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、ヘキシル基等が挙げられる。アルケニル
基は、直鎖状または分枝状であり、例えば、ビニル、1
−プロペニル、アリル、イソプロペニル基等が挙げられ
る。シクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル基等が挙げられる。アラルキル基と
しては、例えば、ベンジル、フェネチル基等が挙げられ
る。
ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素原
子が挙げられる。
プロピルハライドやアリルハライドが好ましい。
ヒドロキシジフェニルスルホンに対するハロゲン化炭化
水素化合物の使用量は、4,4′−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホン1.0モルに対して0.8〜3.0モルで
あるのが好ましく、1.0〜2.0モルであるのがより
好ましい。ハロゲン化炭化水素化合物の使用量が3.0
モルを超えると、ジ置換ジフェニルスルホンが多量に副
生する傾向を示す。また、0.8モル未満だと、目的物
の収率が低下する傾向を示す。
水酸化ナトリウムが使用されているが、ナトリウムに比
べてカリウムの方が、反応の進行がより速やかである。
さらに、水酸化カリウムだけではなく、pH緩衝作用を
有する炭酸カリウムを併用する。両者を併用することに
より、反応途中にアルキルハライドやアルカリ性物質を
添加することなく、簡便な操作で、反応速度を高く維持
し、不純物の副生を抑える等の、単独使用の場合とは顕
著に異なる優れた効果を奏する。
炭酸カリウムの合計使用量は、原料4,4′−ジヒドロ
キシジフェニルスルホン1.0モルに対して0.8〜
3.0モルであるのが好ましく、1.0〜2.0モルで
あるのがより好ましい。また、水酸化カリウムと炭酸カ
リウムの使用割合(モル比)は、炭酸カリウム/水酸化
カリウム=0.01〜2.0であるのが好ましく、0.
1〜1.7であるのがより好ましく、0.2〜1.5で
あるのが特に好ましい。
限定されないが、原料4,4′−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホンに対して0.5〜5重量倍であるのが好まし
く、1〜3重量倍であるのがより好ましい。
媒の使用量も特に限定されないが、原料4,4′−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホンに対して1〜10重量倍で
あるのが好ましく、1〜5重量倍であるのがより好まし
い。
は、水非混和性有機溶媒に対して水が0.1〜10重量
倍であるのが好ましく、0.2〜5重量倍であるのがよ
り好ましく、0.2〜2重量倍であるのが特に好まし
い。
ては、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、クロロベンゼン、o−ジクロロベンゼン、トリクロ
ロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、オクタ
ン、デカン等の脂肪族炭化水素類、メチルイソブチルケ
トン等のケトン類等が挙げられる。これらは、単独であ
るいは2種以上混合して使用することができる。好まし
い水非混和性有機溶媒は、モノクロロベンゼン、o−ジ
クロロベンゼン、トリクロロベンゼン、トルエン、キシ
レン等である。
ら水または水非混和性有機溶媒の還流温度まで任意に選
べるが、反応速度の面から還流温度が好ましい。また、
例えば、低沸点のハロゲン化炭化水素化合物を用いた場
合、より高い沸点の水非混和性有機溶媒を適当量用いる
ことにより、ハロゲン化炭化水素化合物の沸点よりも高
い温度で反応することができ、反応速度および反応率を
高めるのに有効である。
〜30時間であるのが好ましく、5〜20時間であるの
がより好ましい。
によって行うことができる。例えば、反応生成物に、水
と水酸化アルカリ金属を加え、水非混和性有機溶媒を分
液除去した後、水層にさらに水酸化アルカリ金属を加
え、4−置換ヒドロキシ−4′−ヒドロキシジフェニル
スルホンのアルカリ金属塩を析出させ、ろ過、洗浄す
る。次いで、これを水に溶解した後、硫酸で処理し、析
出した結晶をろ過、乾燥して、高純度の4−置換ヒドロ
キシ−4′−ヒドロキシジフェニルスルホンを高収率で
得ることができる。
よって、目的とする4−置換ヒドロキシ−4′−ヒドロ
キシジフェニルスルホンを水非混和性有機溶媒層へ抽出
し、これを冷却した後、析出した結晶をろ過、乾燥して
高純度の目的物を得ることもできる。
る4,4′−ジ置換ヒドロキシジフェニルスルホンの生
成を抑制でき、高純度の4−置換ヒドロキシ−4′−ヒ
ドロキシジフェニルスルホンを、選択性よく高収率で製
造することができる。
さらに詳細に説明するが、これによって本発明が限定さ
れるものではない。
酸化カリウム27.0g(0.48モル)、炭酸カリウ
ム33.3g(0.24モル)および4,4′−ジヒド
ロキシジフェニルスルホン120.0g(0.48モ
ル)を加え、90℃まで昇温し、イソプロピルブロマイ
ド88.6g(0.72モル)を加え、この反応液を1
5時間、90〜100℃で還流させた。最終反応物の組
成をHPLCで分析すると、4−イソプロポキシ−4′
−ヒドロキシジフェニルスルホン/4,4′−ジヒドロ
キシジフェニルスルホン/4,4′−ジイソプロポキシ
ジフェニルスルホン=86.4/11.6/2.0(重
量比)であった。
gおよび水300gを加え、水非混和性有機溶媒を分液
除去した後、水層にさらに水酸化カリウム27.0gを
加え、4−イソプロポキシ−4′−ヒドロキシジフェニ
ルスルホンのカリウム塩を析出させ、ろ過、洗浄した。
次いで、これを水800gに溶解した後、硫酸でpHを
7に調整し、析出した結晶をろ過、乾燥して、4−イソ
プロポキシ−4′−ヒドロキシジフェニルスルホン11
2.3gを得た。HPLCで分析すると、4−イソプロ
ポキシ−4′−ヒドロキシジフェニルスルホン/4,
4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン/4,4′−ジ
イソプロポキシジフェニルスルホン=99.9/0.1
/0(重量比)であり、収率は80.0%であった。
リウム33.7g(0.60モル)、炭酸カリウム4
9.7g(0.36モル)および4,4′−ジヒドロキ
シジフェニルスルホン120.0g(0.48モル)を
加え、90℃まで昇温し、イソプロピルブロマイド10
3.3g(0.84モル)を加え、この反応液を15時
間、約90℃で還流させた。最終反応物の組成をHPL
Cで分析すると、4−イソプロポキシ−4′−ヒドロキ
シジフェニルスルホン/4,4′−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホン/4,4′−ジイソプロポキシジフェニル
スルホン=91.5/5.2/3.3(重量比)であっ
た。
い、4−イソプロポキシ−4′−ヒドロキシジフェニル
スルホン121.0gを得た。HPLCで分析すると、
4−イソプロポキシ−4′−ヒドロキシジフェニルスル
ホン/4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン/
4,4′−ジイソプロポキシジフェニルスルホン=9
9.9/0.1/0(重量比)であり、収率は86.2
%であった。
酸化カリウム33.7g(0.60モル)、炭酸カリウ
ム49.7g(0.36モル)および4,4′−ジヒド
ロキシジフェニルスルホン120.0g(0.48モ
ル)を加え、90℃まで昇温し、アリルクロライド6
4.3g(0.84モル)を加え、この反応液を15時
間、90〜100℃で還流させた。最終反応物の組成を
HPLCで分析すると、4−アリルオキシ−4′−ヒド
ロキシジフェニルスルホン/4,4′−ジヒドロキシジ
フェニルスルホン/4,4′−ジアリルオキシジフェニ
ルスルホン=91.0/5.8/3.2(重量比)であ
った。
ムを加えて4,4′−ジアリルオキシジフェニルスルホ
ンを有機溶媒層に抽出除去し、4−アリルオキシ−4′
−ヒドロキシジフェニルスルホンおよび4,4′−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホンを含む水層にトルエン50
0mlを加えて80℃に加温し、硫酸でpHを約8に調
整し、4−アリルオキシ−4′−ヒドロキシジフェニル
スルホンをトルエン層に抽出して水層を分液除去し、ト
ルエン層を冷却晶析して4−アリルオキシ−4′−ヒド
ロキシジフェニルスルホン118.7gを得た。HPL
Cで分析すると、4−アリルオキシ−4′−ヒドロキシ
ジフェニルスルホン/4,4′−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホン/4,4′−ジアリルオキシジフェニルスル
ホン=99.9/0.1/0(重量比)であり、収率は
85.2%であった。
酸化ナトリウム19.2g(0.48モル)、炭酸ナト
リウム25.4g(0.24モル)および4,4′−ジ
ヒドロキシジフェニルスルホン120.0g(0.48
モル)を加え、90℃まで昇温し、イソプロピルブロマ
イド103.3g(0.84モル)を加え、この反応液
を15時間、90〜100℃で還流させた。最終反応物
の組成をHPLCで分析すると、4−イソプロポキシ−
4′−ヒドロキシジフェニルスルホン/4,4′−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホン/4,4′−ジイソプロポ
キシジフェニルスルホン=53.5/33.4/13.
1(重量比)であった。
ム30.7g(0.77モル)および4,4′−ジヒド
ロキシジフェニルスルホン120.0g(0.48モ
ル)を加え、さらに、イソプロピルブロマイド94.6
g(0.77モル)を加え、80℃で6時間保温した。
次に、水酸化ナトリウム4.0g(0.10モル)とイ
ソプロピルブロマイド12.3g(0.10モル)を追
加し、80℃で8時間保温した。さらに、水酸化ナトリ
ウム1.6g(0.04モル)とイソプロピルブロマイ
ド14.4g(0.12モル)を追加し、80℃で10
時間保温した。最終反応物の組成をHPLCで分析する
と、4−イソプロポキシ−4′−ヒドロキシジフェニル
スルホン/4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン
/4,4′−ジイソプロポキシジフェニルスルホン=7
8.9/13.0/8.1(重量比)であった。
Claims (2)
- 【請求項1】 4,4′−ジヒドロキシジフェニルスル
ホンと一般式(2); R−X (2) (式中、Rは、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数2
〜10のアルケニル基、炭素数3〜10のシクロアルキ
ル基、または芳香環上に置換基を有していてもよいアラ
ルキル基を示す。Xはハロゲン原子を示す。)で表され
るハロゲン化炭化水素化合物を反応させて一般式
(1); 【化1】 (式中、Rは前記と同様である。)で表されるジフェニ
ルスルホン化合物を製造する方法であって、水および水
非混和性有機溶媒中、水酸化カリウムおよび炭酸カリウ
ムの存在下に反応させることを特徴とする一般式(1)
のジフェニルスルホン化合物の製造方法。 - 【請求項2】 ハロゲン化炭化水素化合物がイソプロピ
ルハライドである請求項1に記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001273453A JP4807690B2 (ja) | 2001-09-10 | 2001-09-10 | ジフェニルスルホン化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001273453A JP4807690B2 (ja) | 2001-09-10 | 2001-09-10 | ジフェニルスルホン化合物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003081938A true JP2003081938A (ja) | 2003-03-19 |
JP4807690B2 JP4807690B2 (ja) | 2011-11-02 |
Family
ID=19098671
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001273453A Expired - Lifetime JP4807690B2 (ja) | 2001-09-10 | 2001-09-10 | ジフェニルスルホン化合物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4807690B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111302985A (zh) * | 2020-04-15 | 2020-06-19 | 沈阳感光化工研究院有限公司 | 一种微通道反应器合成4-羟基-4'-异丙氧基-二苯砜化合物的方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5882788A (ja) * | 1981-11-11 | 1983-05-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感熱記録材料 |
JPH0344366A (ja) * | 1989-07-13 | 1991-02-26 | Kyoei Yuki Kk | 3,5,3′,5′―テトラブロモ―4,4′―ジアリルオキシジフェニルスルホンの製造方法 |
JPH03161015A (ja) * | 1989-11-17 | 1991-07-11 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 排ガス処理装置 |
JPH05117223A (ja) * | 1991-10-25 | 1993-05-14 | Mitsui Toatsu Chem Inc | ビス(4−アリルオキシ−3,5−ジブロモフエニル)スルホンの製造方法 |
JPH11180946A (ja) * | 1997-12-24 | 1999-07-06 | Nicca Chem Co Ltd | 4−ヒドロキシ−4’−ベンジルオキシジフェニルスルホンの製造方法 |
-
2001
- 2001-09-10 JP JP2001273453A patent/JP4807690B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5882788A (ja) * | 1981-11-11 | 1983-05-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感熱記録材料 |
JPH0344366A (ja) * | 1989-07-13 | 1991-02-26 | Kyoei Yuki Kk | 3,5,3′,5′―テトラブロモ―4,4′―ジアリルオキシジフェニルスルホンの製造方法 |
JPH03161015A (ja) * | 1989-11-17 | 1991-07-11 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 排ガス処理装置 |
JPH05117223A (ja) * | 1991-10-25 | 1993-05-14 | Mitsui Toatsu Chem Inc | ビス(4−アリルオキシ−3,5−ジブロモフエニル)スルホンの製造方法 |
JPH11180946A (ja) * | 1997-12-24 | 1999-07-06 | Nicca Chem Co Ltd | 4−ヒドロキシ−4’−ベンジルオキシジフェニルスルホンの製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111302985A (zh) * | 2020-04-15 | 2020-06-19 | 沈阳感光化工研究院有限公司 | 一种微通道反应器合成4-羟基-4'-异丙氧基-二苯砜化合物的方法 |
CN111302985B (zh) * | 2020-04-15 | 2021-11-12 | 沈阳感光化工研究院有限公司 | 一种微通道反应器合成4-羟基-4'-异丙氧基-二苯砜化合物的方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4807690B2 (ja) | 2011-11-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0465665B1 (en) | Process for producing diphenyl sulfone compound | |
WO2002057221A1 (fr) | Procede de production d'un compose de diphenylsulfone | |
JP2003081938A (ja) | ジフェニルスルホン化合物の製造方法 | |
JP2009137955A (ja) | シクロアルキルおよびハロアルキルo−アミノフエニルケトン類の改良された製造方法 | |
JP2500532B2 (ja) | ジフェニルスルホン化合物の製造法 | |
JP4465674B2 (ja) | ベンジル(ジフルオロメチル)スルフィド化合物の製造方法 | |
JP3089760B2 (ja) | 4−ベンジルオキシ−4’−ヒドロキシジフェニルスルホンの製造法 | |
TWI659020B (zh) | 3-(烷基磺醯基)吡啶-2-羧酸之製造方法 | |
JPH05255234A (ja) | ジフェニルスルホン化合物の製造方法 | |
JP2000103779A (ja) | アルキルスルホニルベンズアルデヒド類の製造方法 | |
JP2011042662A (ja) | トリブロモメチルスルホニルピリジンの製造方法 | |
JP3174968B2 (ja) | 2−ハロゲノ−6−置換チオベンゾニトリル類の製造法 | |
JP2008231076A (ja) | 4−置換オキシ−4’−ヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法 | |
JP5482233B2 (ja) | ジアリールジスルフィド化合物の製造方法 | |
JP3500504B2 (ja) | 2−ヒドロキシカルバゾールの製造方法 | |
JP4587139B2 (ja) | アミノアルコキシカルボスチリル誘導体の製造方法。 | |
JP3534811B2 (ja) | フェネチルアルコール誘導体の製造方法(3) | |
JP3637612B2 (ja) | フェネチルアルコール誘導体の製造方法 | |
JP3534809B2 (ja) | フェネチルアルコール誘導体の製造方法 | |
JPH0656760A (ja) | 2,5−ジクロロアルキルチオベンゼンの製造法 | |
JP2002348274A (ja) | モノ置換ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法 | |
JPS6317852A (ja) | ニトロフエノキシベンゼンアミン類の製造方法 | |
JP2004075590A (ja) | 4−[4−(アルキルオキシ)フェニルスルフィニル]フェノールおよびその製造方法 | |
KR20050004393A (ko) | 디페닐 술폰 화합물의 제조방법 | |
HU217447B (hu) | Di-(vagy tri)szubsztituált acetofenonszármazékok és eljárás előállításukra |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080808 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110706 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110719 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110809 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140826 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4807690 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |